JP7104682B2 - Fpicフィルム、これを含むフレキシブルプリント回路基板及びその製造方法 - Google Patents
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Description
C<A<B
A+C<B
C<D<A<B
C<A<B
C<A<B
A+C<B
C<D<A<B
ポリエーテルアミン(Huntsman Co. Jeffamine ED-900)92.12g、下記化1-1で表される化合物0.957g、下記化2-1で表される化合物7.75g、及びn-メチルピロリドン(NMP)210gを25℃の温度で60分間混合してジアミン混合物を製造した。製造したジアミン混合物に、下記化4で表される化合物35.31gを投入して15分間攪拌した後、下記化5で表される化合物を4.86g投入して、4時間の間攪拌してポリアミック酸溶液を製造した。
準備例1で製造したポリイミド樹脂1.84g、(メタ)アクリレート成分を5重量%含むポリウレタン樹脂(Samwha paint Co., 0103-C)8.38g、ヒドロキシケトン系光開始剤(Irgacure、Irg-184D)0.26g、熱硬化性樹脂であるクレゾールノボラック系エポキシ(Kukdo Chem. Co., YDCN-7P)1.03g、第1のアクリルオリゴマー樹脂である二官能性アクリルオリゴマー樹脂(Miwon Co., Miramer WS2100)3.08g、第2のアクリルオリゴマー樹脂であるイソシアネート基を含むアクリルオリゴマー樹脂(Miwon Co., SC7100NT)0.51g、及び溶媒であるMEK(methyl ethyl ketone)4.91gを混合して感光性接着樹脂を製造した。
実施例1と同し方法でFPICフィルムを製造した。ただし、表1及び表2に記載されたように、それぞれ第1のアクリルオリゴマー及び第2のアクリルオリゴマーの使用含量を異にしてFPICフィルムを製造した。
実施例1と同し方法でFPICフィルムを製造した。ただし、第1のアクリルオリゴマーとして二官能性アクリルオリゴマー樹脂の代わりにNIPPON KAYAKU社のアクリルオリゴマー樹脂製品であるR-712を使用してFPICフィルムを製造した。
実施例1と同し方法でFPICフィルムを製造した。ただし、第2のアクリルオリゴマーとしてイソシアネート基を含むアクリルオリゴマー樹脂の代わりにエポキシ(メタ)アクリレート樹脂(Daicel-Orunekusu、EA-1020)を使用してFPICフィルムを製造した。
準備例1で製造したポリイミド樹脂1.84g、(メタ)アクリレート成分を5重量%含むポリウレタン樹脂(Samwha paint Co., 0103-C)8.38g、ヒドロキシケトン系光開始剤(Irgacure、Irg-184D)0.26g、熱硬化性樹脂であるクレゾールノボラック系エポキシ(Kukdo Chem. Co., YDCN-7P)1.03g、第1のアクリルオリゴマー樹脂である二官能性アクリルオリゴマー樹脂(Miwon Co., Miramer WS2100)3.59g及び溶媒であるMEK(methyl ethyl ketone)4.91gを混合して感光性接着樹脂を製造した。
準備例1で製造したポリイミド樹脂1.84g、(メタ)アクリレート成分を5重量%含むポリウレタン樹脂(Samwha paint Co., 0103-C)8.38g、ヒドロキシケトン系光開始剤(Irgacure、Irg-184D)0.26g、熱硬化性樹脂であるクレゾールノボラック系エポキシ(Kukdo Chem. Co., YDCN-7P)1.03g、第2のアクリルオリゴマー樹脂であるイソシアネート基を含むアクリルオリゴマー樹脂(Miwon Co., SC7100NT)3.59g及び溶媒であるMEK(methyl ethyl ketone)4.91gを混合して感光性接着樹脂を製造した。
実施例1と同し方法でFPICフィルムを製造した。ただし、表4に記載されたように、それぞれ、光開始剤の使用含量を異にしてFPICフィルムを製造した。
実施例1と同し方法でFPICフィルムを製造した。ただし、ヒドロキシケトン系光開始剤の代わりにオキシム系光開始剤(Basf、OXE-01)を使用してFPICフィルムを製造した。
実施例1と同し方法でFPICフィルムを製造した。ただし、ヒドロキシケトン系光開始剤の代わりにモノアシルホスフィン系光開始剤(Basf、Darocur TPO)を使用してFPICフィルムを製造した。
準備例1で製造したポリイミド樹脂1.84g、(メタ)アクリレート成分を5重量%含むポリウレタン樹脂(Samwha paint Co., 0103-C)8.38g、熱硬化性樹脂であるクレゾールノボラック系エポキシ(Kukdo Chem. Co., YDCN-7P)1.03g、第1のアクリルオリゴマー樹脂である二官能性アクリルオリゴマー樹脂(Miwon Co., Miramer WS2100)3.08g、第2のアクリルオリゴマー樹脂であるイソシアネート基を含むアクリルオリゴマー樹脂(Miwon Co., SC7100NT)0.51g、及び溶媒であるMEK(methyl ethyl ketone)4.91gを混合して感光性接着樹脂を製造した。
実施例1と同し方法でFPICフィルムを製造した。ただし、表5に記載されたように、それぞれ、光開始剤の使用含量を異にしてFPICフィルムを製造した。
前記実施例及び比較例で製造されたFPICフィルムを、次のような物性評価法に基づいて評価を行い、その結果を表1~5に示した。
実施例及び比較例で製造されたFPICフィルムの離型PETを除去した後、一面に回路パターンが形成されているCCL(Copper Clad Laminate)面にラミネート加工(Roll Lami. 60℃)を行った。その後、FPICフィルムの光学PET部分にHole 50、100、200μmのサイズで露光Maskを適用し、マイダスシステムを用いて(MDA-400S Aligner 200mJ/cm2)露光処理した。その後、弱アルカリ現像液(Na2CO3 1wt%、35℃、Dipping)で現像を行って、現像性の可否を評価した。また、現像後、光学顕微鏡を用いて回路パターンを観察したとき、未露光部を完全に除去できたライン幅間のスペース幅の最小幅(単位:μm)を測定することにより、解像度を測定した。解像度の評価は、数値が小さいほど良好な値である。
実施例及び比較例で製造されたFPICフィルムの離型PETを除去した後、一面にMIT L/S=50/50μm回路パターンが形成されているCCL(Copper Clad Laminate)面にラミネート加工(Roll Lami. 60℃)を行った。その後、マイダスシステムを用いて(MDA-400S Aligner 200mJ/cm2)露光処理した。CURE OVENで175℃の温度で2時間の間完全硬化(full cure)させて試験片を準備した。
荷重:500gf
角度:角対向135°
速度:175回/分
先端:R0.38mm円筒
実施例及び比較例で製造されたFPICフィルムの離型PETを除去した後、一面に回路パターンが形成されているCCL(Copper Clad Laminate)面にラミネート加工(Roll Lami. 60℃)を行った。その後、FPICフィルムの光学PETの部分にHole 50、100、200μmのサイズで露光Maskを適用し、マイダスシステムを用いて(MDA-400S Aligner 200mJ/cm2)露光処理した。その後、CURE OVENで175℃の温度で2時間の間完全硬化(full cure)させて試験片を準備した。
(1)評価規格:IPCTM-650 2.4.13
(2)試料形状:15mm×30mm
(3)調湿条件:温度22.5℃ないし23.5℃、湿度39.5%ないし40.5%の環境下で24時間放置。
実施例及び比較例で製造されたFPICフィルムの離型PETを除去した後、一面に回路パターンが形成されているCCL(Copper Clad Laminate)面にラミネート加工(Roll Lami. 60℃)を行った。その後、FPICフィルムの光学PET部分にHole 50、100、200μmのサイズで露光Maskを適用し、マイダスシステムを用いて(MDA-400S Aligner 200mJ/cm2)露光処理した。その後、CURE OVENで175℃の温度で2時間の間完全硬化(full cure)させて試験片を準備した。
実施例及び比較例で製造されたFPICフィルムの離型PETを除去した後、一面に回路パターンが形成されているCCL(Copper Clad Laminate)面にラミネート加工(Roll Lami. 60℃)を行った。その後、マイダスシステムを用いて(MDA-400S Aligner 200mJ/cm2)露光処理した。その後、CURE OVENで175℃の温度で2時間の間完全硬化(full cure)させて試験片を準備した。
実施例及び比較例で製造されたFPICフィルムの離型PETを除去した後、Copperの厚さ30μmにL/S=60~160μmの間隔で回路パターンが形成されているCCL(Copper Clad Laminate)面にラミネート加工(Roll Lami. 60℃)を行った。その後、光学顕微鏡を用いてパターン間の空隙、回路の浮き上がりの可否を目視で観察して充填特性を判断した。
実施例及び比較例で製造されたFPICフィルムの離型PETを除去した後、一面にL/S=50/50μmで回路パターンが形成されているCCL(Copper Clad Laminate)面にラミネート加工(Roll Lami. 60℃)を行った。その後、マイダスシステムを用いて(MDA-400S Aligner 200mJ/cm2)露光処理した。その後、CURE OVENで175℃の温度で2時間の間完全硬化(full cure)させて試験片を準備した。
実施例及び比較例で製造されたFPICフィルムの離型PETを除去した後、一面に回路パターンが形成されているCCL(Copper Clad Laminate)面にラミネート加工(Roll Lami. 60℃)を行った。その後、マイダスシステムを用いて(MDA-400S Aligner 200mJ/cm2)露光処理した。その後、CURE OVENで175℃の温度で2時間の間完全硬化(full cure)させて試験片を準備した。
Claims (13)
- 感光性接着樹脂の硬化物を含む感光性接着層を含み、
前記硬化物は、B-ステージ(B-stage)状態の硬化物であり、
前記感光性接着樹脂は、アルカリ可溶性及び光硬化性であるポリウレタン樹脂と、熱硬化性樹脂と、アルカリ可溶性及び非光硬化性ポリイミド樹脂と、水溶性及び光硬化性の第1のアクリルオリゴマー樹脂と、前記ポリイミド樹脂のカルボキシ基と結合してポリイミド樹脂にUV反応性を付与する第2のアクリルオリゴマー樹脂と、及び光開始剤とを含み、
前記感光性接着樹脂は、ポリイミド樹脂100重量部に対して、光開始剤9.8~18.4重量部を含み、
前記第1のアクリルオリゴマー樹脂は、二官能性アクリルオリゴマー樹脂であり、
前記第2のアクリルオリゴマー樹脂は、イソシアネート基を含むアクリルオリゴマー樹脂であり、下記関係式3を満たすことを特徴とする、
FPICフィルム。
[関係式3]
C<D<A<B
(前記関係式3において、Aは、前記アルカリ可溶性及び非光硬化性ポリイミド樹脂の含量、Bは、前記アルカリ可溶性及び光硬化性であるポリウレタン樹脂の含量、Cは、前記光開始剤の含量、Dは、前記熱硬化性樹脂の含量を示す。) - 前記第1のアクリルオリゴマー樹脂及び第2のアクリルオリゴマー樹脂は、1:0.11~0.22重量比で含むことを特徴とする、
請求項1に記載のFPICフィルム。 - 前記感光性接着樹脂は、ポリイミド樹脂100重量部に対して、第1のアクリルオリゴマー樹脂117~218重量部及び第2のアクリルオリゴマー樹脂19~37重量部を含むことを特徴とする、
請求項1に記載のFPICフィルム。 - 前記感光性接着樹脂は、ポリイミド樹脂100重量部に対して、ポリウレタン樹脂318~593重量部を含むことを特徴とする、
請求項1に記載のFPICフィルム。 - 前記感光性接着樹脂は、ポリイミド樹脂100重量部に対して、熱硬化性樹脂39~73重量部を含むことを特徴とする、
請求項1に記載のFPICフィルム。 - 前記光開始剤は、ヒドロキシケトン系光開始剤及びオキシム系光開始剤の中から選ばれた1種以上を含むことを特徴とする、
請求項1に記載のFPICフィルム。 - 前記感光性接着層は、10~40μmの厚さを有することを特徴とする、
請求項1に記載のFPICフィルム。 - 前記FPICフィルムは、
前記感光性接着層の一面に積層されたベースフィルムと、
前記感光性接着層の他面に積層された離型フィルムと、をさらに含むことを特徴とする、
請求項1に記載のFPICフィルム。 - 請求項1のFPICフィルムの製造方法であって、
ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、熱硬化性樹脂、第1のアクリルオリゴマー樹脂、第2のアクリルオリゴマー樹脂、光開始剤、及び溶媒を混合して感光性接着樹脂を製造する第1の段階と、
前記感光性接着樹脂をベースフィルムの一面に塗布し、乾燥してベースフィルムの一面に感光性接着層を形成する第2の段階と、を含み、
前記感光性接着樹脂は、ポリイミド樹脂100重量部に対して、光開始剤9.8~18.4重量部を含み、
前記第1のアクリルオリゴマー樹脂は、二官能性アクリルオリゴマー樹脂であり、
前記第2のアクリルオリゴマー樹脂は、イソシアネート基を含むアクリルオリゴマー樹脂であり、
前記ポリイミド樹脂は、アルカリ可溶性及び非光硬化性であり、前記第1のアクリルオリゴマー樹脂は、水溶性及び光硬化性であり、前記第2のアクリルオリゴマー樹脂は、前記ポリイミド樹脂のカルボキシ基と結合してポリイミド樹脂にUV反応性を付与することを特徴とする、
FPICフィルムの製造方法。 - 請求項1ないし請求項8のいずれか一項に記載のFPICフィルムを含むことを特徴とする、フレキシブルプリント回路基板。
- 前記フレキシブルプリント回路基板は、携帯電話、カメラ、ノートパソコン、及びウェアラブル機器のうち少なくとも一つに使用されることを特徴とする、
請求項10に記載のフレキシブルプリント回路基板。 - 一面にネガティブ(negative)型の回路パターンが形成されたフレキシブルプリント回路基板を準備する第1の段階と、
前記回路パターンが形成された方向にフレキシブルプリント回路基板及び回路パターンをカバーリング(covering)しながらフレキシブルプリント回路基板に請求項1のFPICフィルムを接着させる第2の段階と、
前記FPICフィルムの一面にマスク(Mask)を配置し、前記FPICフィルムが接着された方向にフレキシブルプリント回路基板を露光(light exposure)する第3の段階と、
前記露光したフレキシブルプリント回路基板をアルカリ水溶液に浸漬させて現像する第4の段階と、
を含むことを特徴とする、
フレキシブルプリント回路基板の製造方法。 - 前記現像したフレキシブルプリント回路基板を完全に硬化させる第5の段階、
をさらに含むことを特徴とする、
請求項12に記載のフレキシブルプリント回路基板の製造方法。
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