JP7077223B2 - 精密なナノスケール製造のための汎用性のある方法 - Google Patents
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Description
本願は、2015年10月15日に出願された、「精密なシステム及びナノスケール薄膜のプログラム可能な堆積のための方法」と題された米国仮特許出願番号第62/242、147号の優先権を主張し、参照することにより、全体としてここに援用する。
本発明は、全米科学財団によって与えられた承認番号ECCS1120823に基づいて、米国政府の支援によってなされたものである。米国政府は、本発明における一定の権利を有する。
ネットワークは、銅伝送ケーブル、光伝送ファイバ、無線伝送、ルータ、ファイアウォール、スイッチ、ゲートウェイ・コンピュータおよび/またはエッジ・サーバを含むことができる。各計算/処理装置内のネットワーク・アダプタ・カードまたはネットワーク・インタフェースは、ネットワークからコンピュータ可読プログラム命令を受信し、コンピュータ可読プログラム命令を、それぞれの計算/処理装置内のコンピュータ可読記憶媒体に記憶するために転送する。
Claims (42)
- 薄膜を堆積させるための方法であって、
1つ以上のインクジェットにより、公称(nominally)非平面基板の上の複数の位置に、前駆体液体有機物の液滴を分配する工程と;
スーパーストレートおよび前記基板の間に生じる間隙を閉じることにより、前記液滴が、前記基板および前記スーパーストレートの間に捕捉された連続した膜を形成する工程と;
前記前駆体液体有機物の前記液滴の前記分配の前の逆最適化ルーチンによって予め定められた時間、前記スーパーストレート、前記連続した膜、および、前記基板を展開させることにより、一定時間の経過後に、前記スーパーストレート、前記連続した膜、および、前記基板の一時的な非平衡状態を生じさせる工程と;
前記連続した膜を硬化させて、それを固体に固化させる工程と;
前記スーパーストレートを前記固体から分離することにより、前記基板上にポリマー膜を残す工程と;
を有し、
前記スーパーストレートの形状は、前記基板の形状と一致している、方法。 - 前記基板が:球面、非球面、円環面と、円筒面と、円錐部と、自由形状面のうちの1つを含有する、請求項1に記載の方法。
- 前記基板を二次元の目に仮想的に分割する工程であって、
各前記二次元の目には、インクジェットの最適な噴射範囲を超えない高低差があり、
各前記二次元の目は、二次元の目に対応する液滴パターンを分配する前記インクジェットにより、個々の基板として扱われる工程をさらに有する、請求項1に記載の方法。 - 前記基板上に単一の連続的な所望のインクジェットパターンを生成するために、前記インクジェットの前記最適噴射範囲を超えないように、かつ、各前記二次元の目に対応する不連続な前記インクジェット液滴パターンと、隣接する二次元の目のインクジェット液滴パターンとを一体化するように、前記基板および前記インクジェットの調整された相対運動を用いる、工程をさらに有する、請求項3に記載の方法。
- 前記公称非平面基板の上の前記複数の位置は、逆最適化フレームワークに由来する、請求項1に記載の方法。
- 前記基板とある基準面との間の座標フレームを整列させて、前記前駆体液体有機物の前記液滴が正しい位置に分配されることを確かにする工程をさらに有する、請求項1に記載の方法。
- 前記基板または前記スーパーストレートの背面が、前記背面の面積の全体よりも小さい面積を覆うチャックにより保持される、請求項1に記載の方法。
- 前記基板または前記スーパーストレートの背面が、実質的に前記背面の面積の全体である面積を覆うチャックにより保持される、請求項1に記載の方法。
- 前記基板または前記スーパーストレートの背面が湾曲しており、
前記基板または前記スーパーストレートをチャックにより保持することが、
前記基板または前記スーパーストレートの裏側と相補的なプロファイルを有するチャックを用いること、前記背面を同一平面上の領域においてチャックにより保持すること、平坦な背面を追加すること、および、前記平坦な背面をチャックにより保持すること、のうちの1つを使用して行われる、請求項1に記載の方法。 - 前記基板または前記スーパーストレートは、同一のチャックが、同一の前記基板または前記スーパーストレートの異なる表面を保持することが可能であり、かつ、真空を提供するいくつかの領域と、加圧空気を提供する他の領域とに独立して制御されている、多領域チャックを用いて背面をチャックにより保持され、
前記チャックの1つ以上の領域は、前記基板又は前記スーパーストレートの背面側の部分との間の真空に従事し、前記チャックの1つ以上の他の領域は前記基板または前記スーパーストレートを加圧する、請求項1に記載の方法。 - 前記スーパーストレートが、引張降伏または座屈破壊に遭遇することなく最適な曲げ剛性を達成するために適切に張力制御されたロール・ツー・ロール膜であり、
前記張力は、液滴の併合中は高く制御され、前記液滴の併合の後には低く制御される、請求項1に記載の方法。 - 前記ロール・ツー・ロール膜は、1つ基板から他の基板への汚染欠陥の伝播を最小にするために、クリーンなスーパーストレート領域をもたらすように、ロールを回転させて前進される、請求項11に記載の方法。
- 前記スーパーストレートは、前記基板と相補的な形状を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記スーパーストレートは、より厚い裏当てに付着またはコーティングされた薄膜で構成されている、請求項1に記載の方法。
- 前記薄膜は、前記薄膜の全面積にわたって延在していない前記より厚い裏当てに取り付けられている、請求項14に記載の方法。
- 前記1つまたはそれ以上のインクジェットのうちの少なくとも1つのインクジェットは、は、垂直方向に個別に調整可能な多数のノズルを有するプラットフォームからなる、請求項1に記載の方法。
- 非平面な基板からの非平面なスーパーストレートの分離を助けるために、ハンドルがスーパーストレートのチャックに取り付けられている、請求項1に記載の方法。
- 前記スーパーストレートは、光化学アブレーションを用いて除去される犠牲膜を有する、請求項1に記載の方法。
- 分配される液体の体積が、
前記基板および前記スーパーストレートの間に捕捉される前の液体の蒸発プロファイルと、
固化中に引き起こされる前記連続した膜に及ぶ収縮効果と、
後処理中における、エッチング液に由来する不均一なエッチングの痕跡と、
のうちの1つを含む、所望される出力からモデルまたは系を逸脱させ得る、前記モデルまたは系における望ましくない特徴または入力(parasitic)を補償する、請求項1に記載の方法。 - 一時的な非平衡状態は、体積分布が前記基板上に分配される流体液滴の体積分布の関数である膜厚プロファイルを生成する、請求項1に記載の方法。
- 前記基板は、二次元の目に離散化され、
各二次元の目に分配される液滴の位置及び体積は、実際の膜厚プロファイルの関数と所望の膜厚プロファイルの関数との間の誤差を最小化するための逆最適化を用いて求める、請求項1に記載の方法。 - 前記基板に分配される液滴の位置及び体積は、実際の膜厚プロファイルの関数と所望の膜厚プロファイルの関数との間の誤差を最小化するための逆最適化を用いて求める、請求項1に記載の方法。
- 前記逆最適化は、所望の特性と実際の特性との間の誤差を最小化するための機能的最適化ルーチンを用いて増強される、請求項22に記載の方法。
- 前記逆最適化は、液滴体積または液滴位置に関連する離散変数を有する、請求項22に記載の方法。
- 非平面表面の存在下での前記逆最適化は、重力の影響をパラメータとして含む、請求項22に記載の方法。
- 前記重力の影響は、前記スーパーストレートの膜厚を200ミクロン以下にすることにより最小化される、請求項25に記載の方法。
- 前記重力の影響は、スーパーストレート-流体-基板サンドイッチを、重力誘起粘毛細管充填(gravity-induced visco-capillary filling)を克服するのに十分に高い周波数で回転させることによって最小化される、請求項25に記載の方法。
- 前記逆最適化の一部として線形化モデルを用いる工程をさらに有する、請求項22に記載の方法。
- 前記ポリマー膜は、光または熱硬化によって固化される、請求項1に記載の方法。
- 前記ポリマー膜が、膜厚プロファイルを前記ポリマー膜の下層の機能性膜または前記基板へ転写するためにエッチングされる、請求項1に記載の方法。
- 分配される液滴の最小体積は、ピエゾ・ジェットまたは電気流体力学・ジェットのいずれかを用いた、10ピコリットル未満である、請求項1に記載の方法。
- 分配される液滴の最小体積は、ピエゾ・ジェットまたは電気流体力学・ジェットのいずれかを用いた、1ピコリットル未満である、請求項1に記載の方法。
- 薄膜を堆積させるための前記方法は、自己の、所望される出力からモデルまたは系を逸脱させ得る、前記モデルまたは系における望ましくない特徴または入力の誤差を生じさせることなく、前記基板上の低空間周波数の凹凸および中空間周波数の凹凸(topography)を補正することにより、光学システムにおける誤差を補正するために利用される、請求項1に記載の方法。
- 薄膜を堆積させるための前記方法は、改良されたアルバレズ・レンズの2つの精密光学素子を作るために適用される、請求項1に記載の方法。
- 薄膜を堆積させるための前記方法は、コンシューマー向け眼鏡のための自由形状面を作り出すために適用される、請求項1に記載の方法。
- 薄膜を堆積させるための前記方法は、低次のゼルニケ多項式光学収差を補償するために適用される、請求項1に記載の方法。
- 薄膜を堆積させるための前記方法は、高次のゼルニケ多項式光学収差を補償するために適用される、請求項1に記載の方法。
- 薄膜を堆積させるための方法であって、
既に固化された組成物に実質的に浸透しない液体固化性組成物の液滴を、噴射システムを用いて、基板上に所定の方法で堆積させる工程と;
前記基板およびスーパーストレートの間に捕捉された連続した膜を形成するように前記液滴を併合する方法で、前記基板および前記スーパーストレートの間隙を閉じる工程であって、前記スーパーストレートは、局所的に滑らかであり、最適な曲げ剛性を有する工程と;
を有し、
前記スーパーストレートの形状は、前記基板の形状と一致しており、
前記曲げ剛性が、前記液滴が安定して併合されるために必要な最低値よりも高く、かつ、前記連続した膜の急速な平衡化を確実に阻止するために必要な最高値よりも低い範囲内であることにより、液体の膜厚プロファイルの更なる展開を防ぐ能力をもたらす方法。 - 前記液体固化性組成物は、その上に堆積される液体固化性組成物と実質的に同一である、請求項38に記載の方法。
- 前記液体固化性組成物は、その上に堆積される液体固化性組成物と異なる、請求項38に記載の方法。
- 非平面基板上にパターニングするための方法であって、
非平面基板の表面上に流体組成物の多数の離散した部分を塗布する工程と;
パターニングされたテンプレートおよび前記基板の間隙を閉じ、実質的に気泡を含まない流体層に至る工程と;
前記流体層を固化する工程と;
前記パターニングされたテンプレートを、前記基板からから分離し、前記非平面基板上にパターンを残す工程と;
を有し、
前記スーパーストレートの形状は、前記基板の形状と一致している、方法。 - 非平面基板上にパターニングするための前記方法は、ナノフォトニック構造を有する光学的表面を得ると同時に、低空間周波数の凹凸および中空間周波数の凹凸の誤差を補正するために適用される、請求項41に記載の方法。
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