JP7068199B2 - 量子ドット発光素子 - Google Patents

量子ドット発光素子 Download PDF

Info

Publication number
JP7068199B2
JP7068199B2 JP2018564920A JP2018564920A JP7068199B2 JP 7068199 B2 JP7068199 B2 JP 7068199B2 JP 2018564920 A JP2018564920 A JP 2018564920A JP 2018564920 A JP2018564920 A JP 2018564920A JP 7068199 B2 JP7068199 B2 JP 7068199B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
light emitting
alkylene
compounds
quantum dot
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018564920A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2019522873A (ja
JP2019522873A5 (ja
Inventor
アナトリー・エヌ・ソコロフ
ブライアン・グッドフェロー
ロバート・デイヴィッド・グリッグ
リアム・ピー・スペンサー
ジョン・ダブリュ・クレイマー
デイビッド・ディー・ドボア
スクリット・ムコッパッダーエ
ピーター・トレフォナス・サード
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rohm and Haas Electronic Materials LLC
Original Assignee
Rohm and Haas Electronic Materials LLC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from PCT/CN2016/087409 external-priority patent/WO2018000176A1/en
Priority claimed from PCT/CN2016/087413 external-priority patent/WO2018000179A1/en
Priority claimed from PCT/CN2016/104856 external-priority patent/WO2018082086A1/en
Priority claimed from PCT/CN2016/112579 external-priority patent/WO2018119729A1/en
Application filed by Rohm and Haas Electronic Materials LLC filed Critical Rohm and Haas Electronic Materials LLC
Publication of JP2019522873A publication Critical patent/JP2019522873A/ja
Publication of JP2019522873A5 publication Critical patent/JP2019522873A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7068199B2 publication Critical patent/JP7068199B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/10OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
    • H10K50/11OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers
    • H10K50/115OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers comprising active inorganic nanostructures, e.g. luminescent quantum dots
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/10OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
    • H10K50/14Carrier transporting layers
    • H10K50/15Hole transporting layers
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/10Organic polymers or oligomers
    • H10K85/111Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
    • H10K85/115Polyfluorene; Derivatives thereof
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/10Transparent electrodes, e.g. using graphene
    • H10K2102/101Transparent electrodes, e.g. using graphene comprising transparent conductive oxides [TCO]
    • H10K2102/103Transparent electrodes, e.g. using graphene comprising transparent conductive oxides [TCO] comprising indium oxides, e.g. ITO
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/301Details of OLEDs
    • H10K2102/351Thickness
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/301Details of OLEDs
    • H10K2102/361Temperature
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/10OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
    • H10K50/17Carrier injection layers
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/805Electrodes
    • H10K50/81Anodes
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/805Electrodes
    • H10K50/82Cathodes
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/12Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/60Forming conductive regions or layers, e.g. electrodes

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

本開示は、電子デバイス、特に、量子ドット発光ダイオードに関する。
量子ドット発光ダイオード(QLED)は、量子ドット(QD)と呼ばれることもある半導体ナノ粒子の発光層と組み合わせて、複数の有機および無機層を使用するエレクトロルミネセントデバイスである。QLED内の量子ドット層は、電気入力がデバイスに印加されると発光することができる。したがって、QLEDは、ディスプレイおよび一般照明用途の光源として使用することができる。QLEDの1つの制限は、量子ドット層への効率的な電荷注入が可能な、適切な正孔輸送層(HTL)に欠けることである。量子ドットへの不十分な電荷注入は、動作電圧が高く、光発生効率の低いQLEDデバイスをもたらす。
したがって、高輝度および高色純度、最小限の電力消費、および高信頼性を有する改善されたQLEDデバイスを可能にする、新しい正孔輸送材料に対する絶えざる要望がある。
本発明は、i)II-VI族化合物、II-V族化合物、III-VI族化合物、III-V族化合物、IV-VI族化合物、I-III-VI族化合物、II-IV-VI族化合物、II-IV-V族化合物、およびそれらの任意の組み合わせからなる群から選ばれる半導体材料で製造された少なくとも1つの半導体ナノ粒子の発光層と、ii)正孔注入層または正孔輸送層用ポリマーと含む、量子ドット発光ダイオードを提供しこのポリマーは、重合単位として、a)重合性基と、b)式NArArArを有する電気活性基(式中、Ar、ArおよびArは、独立に、C-C50芳香族置換基である)と、c)重合性基と電気活性基とを連結するリンカー基とを含む第1のモノマー構造を有する少なくとも1つ以上のモノマーを含んでいる。
本発明の量子ドット発光素子は、陽極層、適宜1つ以上の正孔注入層、1つ以上の正孔輸送層、適宜1つ以上の電子ブロッキング層、発光層、適宜1つ以上の正孔ブロッキング層、適宜1つ以上の電子輸送層、適宜1つ以上の電子注入層、および陰極を備える。
発光層は、少なくとも1つの半導体ナノ粒子を含む。
正孔注入層または正孔輸送層のいずれか、もしくは正孔注入層および正孔輸送層の両方、もしくは正孔注入層または/および正孔輸送層のいずれか、または両方として機能する層は、以下に記載のポリマーを含む。
発光層
QLEDの発光層は、半導体ナノ粒子を含む。いくつかの実施形態では、半導体ナノ粒子が、元素半導体、二元半導体、三元半導体、または四元半導体を含むことができる。半導体は、必要に応じて、5つ以上の要素を含むことができる。いくつかの実施形態では、半導体ナノ粒子の組成は、IV族化合物、II-VI族化合物、II-V族化合物、III-VI族化合物、III-V族化合物、IV-VI族化合物、I-III-VI族化合物、II-IV-VI族化合物、II-IV-V族化合物、またはそれらの任意の組み合わせを含むことができる。いくつかの実施形態では、半導体ナノ粒子の組成は、例えば、ZnOおよびYiOなどの金属酸化物を含むことができる。いくつかの実施形態では、半導体ナノ粒子の組成は、例えば、メチルアンモニウム鉛トリハライドなどのペロブスカイト材料を含むことができる。いくつかの実施形態では、半導体ナノ粒子は、CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、InP、CuInSe、またはそれらの任意の組み合わせを含むことができる。いくつかの実施形態では、半導体ナノ粒子はヘテロ接合を含むことができる。いくつかの実施形態では、半導体ナノ粒子は、ある距離において、組成が第1の組成から第2の組成に移行する、傾斜組成を含むことができる。
半導体ナノ粒子は、ドーピングしなくてもよく、Eu、Er、Tb、Tm、Dyなどの希土類元素および/またはMn、CuおよびAgなどの遷移金属元素、またはそれらの任意の組合せでドーピングしてもよい。
いくつかの実施形態では、半導体ナノ粒子は、長さが100ナノメートル以下、長さが50ナノメートル以下、または長さが20ナノメートル以下の少なくとも1つの寸法を有する。いくつかの実施形態では、発光層中の半導体ナノ粒子のサイズは分布を有していることがあり得る。いくつかの実施形態では、半導体ナノ粒子のサイズの分布は、単峰性または多峰性であり得る。いくつかの実施形態では、半導体ナノ粒子は等方性の次元、または非等方性の次元を有する。
いくつかの実施形態では、半導体ナノ粒子は、追加の材料(「シェル」として知られる)が半導体ナノ粒子の内側部分の外側にコーティングされるコア-シェル構造を有することができる。シェルは、半導体または絶縁体で構成することができる。いくつかの実施形態では、シェルの組成は、IV族化合物、II-VI族化合物、II-V族化合物、III-VI族化合物、III-V族化合物、IV-VI族化合物、I-III-VI族化合物、II-IV-VI族化合物、II-IV-V族化合物、またはそれらの任意の組み合わせを含むことができる。別の実施形態では、シェルの組成は、ZnOおよびTiOなどの金属酸化物を含むことができる。別の実施形態では、シェルの組成は、メチルアンモニウム鉛トリハライドなどのペロブスカイト材料を含むことができる。いくつかの実施形態では、シェルの組成は、CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、InP、CuInSe2、またはそれらの任意の組合せを含むことができる。いくつかの実施形態では、シェルは、単一の層または複数の層を含むことができる。いくつかの実施形態では、シェルは、ある距離において、組成が第1の組成から第2の組成に移行する傾斜組成を含むことができる。いくつかの実施形態では、組成は、半導体ナノ粒子の内側部分からシェルまで連続的に傾斜することができる。いくつかの実施形態では、シェルは、100ナノメートル以下、50ナノメートル以下、またはさらには5ナノメートル以下の厚さを有することができる。
様々な溶媒への分散を可能にしたり、ナノ粒子間の凝集および融合を制御したりするために、半導体ナノ粒子の表面に、アルキルホスフィン、アルキルホスフィンオキシド、アミン、カルボン酸など、および/またはエンドキャッピング無機分子のような、リガンドと呼ばれることがある分子を移入することができる。
リガンド分子は、量子ドットの最外層と共有結合または非共有結合の相互作用を生じることができる官能基を介して、量子ドットに共有結合または非共有結合で結合することができる。いくつかの実施形態では、官能基は、ホスフィン、ホスフィンオキシド、カルボン酸、アミンおよびアルコールを含むが、これらに限定されないリストから選ぶことができる。いくつかの実施形態では、第1の官能基が量子ドット表面と相互作用し、第2の官能基が、隣接する量子ドット上のリガンドと相互作用するように、第2の官能基がリガンド上に存在することができる。
いくつかの実施形態では、リガンド分子上の官能基が、飽和アルキル基、不飽和アルキル基、芳香族基、直鎖アルキル基、非直鎖アルキル基、分岐アルキル基、エーテル基、またはアミン基などの、しかしこれらに限定されない、有機置換基を有することができる。いくつかの実施形態では、リガンド層は、1つ以上の種類の分子の混合物からなっていてもよい。リガンド層は、本発明の実施形態に従って、任意の所望の厚さを有することができる。いくつかの実施形態では、リガンド層は、15ナノメートル以下、または10ナノメートル以下、もしくは、さらには、3ナノメートル以下の厚さを有する。いくつかの実施形態では、リガンド分子は、量子ドットの表面上に、完全な単分子層または準単分子層を形成する。
いくつかの実施形態では、半導体ナノ粒子は1次元であってもよい。1次元ナノ粒子は、特徴的な厚さ寸法(例えば、円形断面の直径、もしくは正方形または矩形断面の対角線)が、直径で、1nm~1000ナノメートル(nm)、好ましくは2nm~50nm、より好ましくは5nm~20nm(例えば、約6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、または20nm)である断面を有する。ナノロッドは、特徴的な寸法が上述の範囲内にある円形の断面積を有する剛性ロッドである。ナノワイヤまたはナノウィスカは曲線状をしており、様々な曲がりくねった、または虫のはったような形状を有する。ナノリボンは、4つまたは5つの直線辺によって境界が定められる横断面を有する。このような横断面の例として、正方形、矩形、平行六面体、菱面体などがある。ナノチューブは、ナノロッドの全長を横切る実質的に同心の穴を有し、それによりチューブ状になっている。これらの1次元ナノ粒子のアスペクト比は2以上、好ましくは5以上、より好ましくは10以上である。
1次元ナノ粒子は、10~100ナノメートル、好ましくは12~50ナノメートル、より好ましくは14~30ナノメートルの長さを有する。1次元ナノ粒子は、2~10ナノメートル、好ましくは3~7ナノメートルの直径を有することができる。1次元ナノ粒子は、約2以上、好ましくは約4以上のアスペクト比を有する。
例示的な一実施形態では、半導体ナノ粒子は、1次元ナノ粒子と接する単一のエンドキャップまたは複数のエンドキャップを一端または両端に配設した1次元ナノ粒子を含んでいる。一実施形態では、エンドキャップも互いに接する。エンドキャップは、1次元ナノ粒子を不動態化する働きをする。ナノ粒子は、少なくとも1つの軸に関して対称または非対称であり得る。ナノ粒子は、組成、エンドキャップの組成、幾何学構造および電子構造、または組成および構造の両方において、非対称であってもよい。
一実施形態では、ナノ粒子は、その長手方向軸に沿って対向する端部の各々にエンドキャップを含む1次元ナノ粒子を含んでいる。各エンドキャップは異なる組成を有し、それにより、複数のヘテロ接合をナノ粒子に提供する。別の実施形態では、ナノ粒子は、その長手方向軸に沿って対向する端部の各々にエンドキャップを含み、さらに1次元ナノ粒子の径方向面上、またはエンドキャップ上に配設されたノードをさらに含む、1次元ナノ粒子を含んでいる。径方向面は、ロッドの横方向面とも呼ばれる。エンドキャップの1つが他のエンドキャップと、またはノードの少なくとも1つと異なる組成を有する限り、エンドキャップは、互いに類似または異なる組成を有することができ、および/またはノードは、互いに類似または異なる組成を有することができる。
一実施形態では、複数のエンドキャップは、第1のエンドキャップと、第1のエンドキャップを部分的または完全に取り囲む第2のエンドキャップとを含む。エンドキャップは3次元ナノ粒子であり、その少なくとも1つは、1次元ナノ粒子に直接接する。各エンドキャップは、1次元ナノ粒子と接しても、接しなくてもよい。第1のエンドキャップおよび第2エンドキャップは、互いに異なる組成を有することができる。ノードもまた、エンドキャップよりもサイズが小さくても、大きくてもよい3次元ナノ粒子である。
「ヘテロ接合」という用語は、別の半導体材料と直接接する1つの半導体材料を有する構造を意味する。
1次元ナノ粒子、第1のエンドキャップおよび第2のエンドキャップはそれぞれ半導体を含む。ナノロッドと第1のエンドキャップとの間の界面は、第1のヘテロ接合を提供し、第1のエンドキャップと第2のエンドキャップとの間の界面は、第2のヘテロ接合を提供する。このようにして、ナノ粒子は、複数のヘテロ接合を含むことができる。
一実施形態では、1次元ナノ粒子が第1のエンドキャップと接するヘテロ接合は、タイプIまたは準タイプIIのバンド整列を有する。別の実施形態では、第2のエンドキャップが第1のエンドキャップに接するポイントは、タイプIまたは準タイプIIのバンド整列を有する。
第1のエンドキャップと第2のエンドキャップとは互いに化学的に異なっており、Si、Ge、Pb、SiGe、ZnO、TiO、ZnS、ZnSe、ZnTe、CdO、CdS、CdSe、CdTe、MgO、MgS、MgSe、MgTe、HgO、HgS、HgSe、HgTe、AlN、AlP、AlAs、AlSb、GaN、GaP、GaAs、GaSb、InN、InP、InAs、InSb、TlN、TIP、TlAs、TlSb、TlSb、PbS、PbSe、PbTeなど、およびこれらの半導体の少なくとも1つを含む組み合わせからなる群から選ばれる。例示的な実施形態では、第1のエンドキャップはCdTeまたはCdSeであり、第2のエンドキャップはZnSeである。
1次元ナノ粒子、第1のエンドキャップおよび/または第2のエンドキャップの組成およびサイズ(直径または長さ)を変えることにより、エネルギーバンドギャップおよびバンドオフセットを変化させることができる。エネルギーバンドギャップを変化させることにより、ナノ粒子の発光の波長、効率および強度を変化させることができる。一実施形態では、第1のエンドキャップと1次元ナノ粒子との間の伝導帯オフセットは、第1のエンドキャップと第2のエンドキャップとの間の伝導帯オフセットよりもはるかに大きく、第1のエンドキャップと1次元ナノ粒子との間の価電子帯オフセットは、第1のエンドキャップと第2のエンドキャップとの間のものよりはるかに小さい。別の実施形態では、第1のエンドキャップと1次元ナノ粒子との間の伝導帯オフセットは、第1のエンドキャップと第2のエンドキャップとの間のものよりもはるかに小さく、第1のエンドキャップと1次元ナノ粒子との間の価電子帯オフセットは、第1のエンドキャップと第2のエンドキャップとの間のものよりはるかに小さい。さらに別の実施形態では、第1のエンドキャップによって形成される2つのヘテロ接合のうちの一方は、他よりも小さい伝導帯オフセットおよび大きい価電子帯オフセットを有し、他方は、他より大きい伝導帯オフセットおよび小さい価電子帯オフセットを有する。
一実施形態では、ナノ粒子は2つのタイプのヘテロ接合を含んでおり、タイプIIの互い違いのバンドオフセットが電子および正孔の効率的な注入を可能にする一方で、タイプIのオフセットが、高効率の発光のための再結合中心を画定する。
一実施形態では、ナノ粒子を用いて層または膜を形成することができる。一実施形態では、層が不規則になることがある。別の実施形態では、層が液晶性を有することができる。別の実施形態では、層が、1次元の順序付けを含むことができる。別の実施形態では、層が、2次元または3次元の順序付けを含むことができる。別の実施形態では、ナノ粒子が自己集合して、膜内で格子状になることができる。
いくつかの実施形態では、異方性ナノ粒子を、デバイス内の層内に整列させることができる。一実施形態では、異方性ナノ粒子を、粒子の1次元軸が層の表面に対して垂直になるように、整列させることができる。別の実施形態では、異方性ナノ粒子を、層の平面内に整列させることができる。別の実施形態では、異方性粒子を、複数の異方性粒子の1次元軸が同じ方向に整列するように、整列させることができる。
正孔注入/輸送層用ポリマー
例示的な一実施形態では、ポリマーは、重合単位として、a)重合性基と、b)式NArArArを有する電気活性基(式中、Ar、ArおよびArは、独立に、C-C50芳香族置換基である)と、c)重合性基と電気活性基とを連結するリンカー基とを含む第1のモノマー構造を有する少なくとも1つ以上のモノマーを含む。
別の実施形態では、ポリマーは、第2のモノマー構造を有する少なくとも1つ以上のモノマーをさらに含む。
ポリマーは、少なくとも5,000、好ましくは少なくとも10,000、好ましくは少なくとも20,000、かつ好ましくは10,000,000以下、好ましくは1,000,000以下、好ましくは500,000以下、好ましくは400,000以下、好ましくは300,000以下、好ましくは200,000以下、好ましくは100,000以下のMwを有する。好ましくは、ポリマーは、芳香環を少なくとも5個、好ましくは少なくとも6個、かつ好ましくは20個以下、好ましくは15個以下含む電気活性基を少なくとも50%(好ましくは少なくとも60%、好ましくは少なくとも70%、好ましくは少なくとも80%、好ましくは少なくとも90%)含み、この特性を有しない他のモノマーも存在してもよい。環状部分の全ての環原子が芳香系の一部であれば、2つ以上の縮合環を含む環状部分は、単一の芳香環であると考えられる。例えば、ナフチル、カルバゾリルおよびインドリルは単一の芳香環であると考えられるが、フルオレンの9位の炭素原子は芳香系の一部ではないので、フルオレニルは、2つの芳香環を含むと考えられる。好ましくは、ポリマーは、トリアリールアミン、カルバゾール、インドール、ビフェニルおよびフルオレン環系の少なくとも1つを含む電気活性基を少なくとも50%(好ましくは少なくとも70%)含む。
本発明の重合性基は、(好ましくは芳香環に結合している)エテニル基、ベンゾシクロブテン、アクリレートまたはメタクリレート基、トリフルオロビニルエーテル、シンナメート/カルコン、ジエン、エトキシエチンおよび3-エトキシ-4-メチルシクロブタ-2-エノンから選ぶことができる。好ましい重合性基は、以下の構造の少なくとも1つを含む。
Figure 0007068199000001
式中、「R~R12」基は、独立に、水素、重水素、C-C30アルキル、ヘテロ原子置換C-C30アルキル、C-C30アリール、ヘテロ原子置換C-C30アリールであり、または樹脂構造の別の部分、好ましくは水素、重水素、C-C20アルキル、ヘテロ原子置換C-C20アルキル、C-C20アリール、ヘテロ原子置換C-C20アリールを表し、または樹脂構造の別の部分、好ましくは水素、重水素、C-C10アルキル、ヘテロ原子置換C-C10アルキル、C-C10アリール、ヘテロ原子置換C-C10アリールを表しす、または樹脂構造の別の部分、好ましくは水素、重水素、C-Cアルキル、ヘテロ原子置換C-Cアルキルを表し、または樹脂構造の別の部分を表す。本発明の好ましい一実施形態では、「R~R12」基は、縮合環構造を形成するように連結され得る。
さらに別の実施形態では、重合性基の例として以下が含まれる:
Figure 0007068199000002
好ましくは、重合性基は、以下、
Figure 0007068199000003
から選ばれる。
一実施形態では、本発明の電気活性基は、式NArArAr(式中、Ar、ArおよびArは、独立に、C-C50芳香族置換基である)を有する。
Ar~Arの好適な例は、
Figure 0007068199000004
を含む。
好ましくは、式NArArArの電気活性基が、合計4~20個、好ましくは少なくとも5個、好ましくは少なくとも6個、かつ好ましくは18個以下、好ましくは15個以下、好ましくは13個以下の芳香環を含む。好ましくは、Ar、ArおよびArの各々は、独立に、炭素原子を少なくとも10個、好ましくは少なくとも12個、かつ好ましくは45個以下、好ましくは42個以下、好ましくは40以下、含む。好ましい実施形態では、ArおよびArの各々は、独立に、炭素原子を少なくとも10個、好ましくは少なくとも15個、好ましくは少なくとも20個、かつ好ましくは45個以下、好ましくは42個以下、好ましくは40個以下、含み、Arは、炭素原子を35個以下、好ましくは25個以下、好ましくは15個以下、含む。例えば、C-Cヒドロカルビル置換基などの脂肪族炭素原子、または非芳香環炭素原子(例えば、フルオレンの9位の炭素)は、Ar置換基の炭素原子の総数に含まれる。Ar基はヘテロ原子、好ましくはN、OまたはS、好ましくはN、を含んでいてもよく、好ましくは、Ar基は、窒素以外のヘテロ原子を含まない。好ましくは、式NArArArの化合物中に、リンカー基が1つだけ存在する。好ましくは、Ar基が、ビフェニリル、フルオレニル、フェニレニル、カルバゾリルおよびインドリルのうちの1つ以上を含む。
Ar置換基のうちの1つの中の1つの窒素原子がトリアリールアミン窒素原子である場合、Ar、ArおよびArの基は、どの窒素原子が式NArArAr中の窒素原子と考えられるかに応じて、異なる方法で定義することができる。この場合、窒素原子およびAr基は、特許請求の範囲の制限を満たすと解釈されるべきである。
好ましくは、Ar、ArおよびArは、窒素原子を合計で5個以下、好ましくは4個以下、好ましくは3個以下、含む。
式NArArArを有する電気活性基の適切な例は、以下を含む:
Figure 0007068199000005
Figure 0007068199000006
Figure 0007068199000007
Figure 0007068199000008
Figure 0007068199000009
Figure 0007068199000010
Figure 0007068199000011
別の実施形態では、ポリマーは、以下のリストから選ばれる第2のモノマーを含む。
Figure 0007068199000012
Figure 0007068199000013
好ましくは、ポリマーは、第2のモノマーを50%未満、好ましくは40%未満、好ましくは30%未満、好ましくは20%未満、好ましくは10%未満、含む。
第2のモノマーは、5,000未満、好ましくは3,000未満、好ましくは2,000未満、および好ましくは1,000未満のMを有する。
本発明の重合性基と電気活性基とは、共有結合、-O-、-アルキレン-、-アリーレン-、-アルキレン-アリーレン-、-アリーレン-アルキレン-、-O-アルキレン-、-O-アリーレン-、-O-アルキレン-アリーレン-、-O-アルキレン-O-、-O-アルキレン-O-アルキレン-O-、-O-アリーレン-O-、-O-アルキレン-アリーレン-O-、-O-(CHCH-O)-(式中、nは2~20までの整数である)、-O-アルキレン-O-アルキレン-、-O-アルキレン-O-アリーレン-、-O-アリーレン-O-、-O-アリーレンーO-アルキレン-、および-O-アリーレン-O-アリーレンからなる群より選ばれるリンカー基を介して結合される。
一実施形態では、リンカー基は、酸素原子に結合した少なくとも1つのベンジル性炭素原子を有するアリールオキシリンカーである。好ましくは、アリールオキシリンカーは、エーテル、エステルまたはベンジルアルコールである。好ましくは、アリールオキシリンカーは、酸素原子に結合した2つのベンジル性炭素原子を有する。ベンジル性炭素原子は、芳香環の一部ではなく、炭素原子数5~30(好ましくは5~20)の芳香環、好ましくはベンゼン環、の環炭素に結合した炭素原子である。別の実施形態では、リンカー基は、エテニル基に結合したアルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリールリンカーである。
一実施形態では、リンカー基は、以下のリストから選ばれる構造を含む。
Figure 0007068199000014
ポリマーは適宜、p型ドーパントをさらに含むことができ、このドーパントは、pKa≦4の有機ブレンステッド酸、正の芳香族イオンおよびアニオンを含むルイス酸、またはpKa≦2pの有機ブレンステッド酸のアンモニウム塩またはピリジニウム塩、もしくは有機スルホン酸のエステルである熱酸発生剤(TAG)でもよい。
一実施形態では、有機ブレンステッド酸はpKa≦2、好ましくは≦0を有する。好ましくは、有機ブレンステッド酸は、芳香族、アルキルまたはペルフルオロアルキルスルホン酸、カルボン酸、プロトン化されたエーテル、または式ArSOCHArの化合物(式中、Arはフェニル、アルキルフェニルまたはトリフルオロメチルフェニルであり、Arはニトロフェニルである)である。
一実施形態では、正の芳香族イオンは、炭素原子を7~50個、好ましくは7~40個、有する。好ましい実施形態では、正の芳香族イオンは、トロピリウムイオンまたは式
Figure 0007068199000015
を有するイオンである(式中、Aは1つ以上の芳香環上の置換基で、H、D、CN、CFまたは(Ph)C+(Phを介して結合)であり、XはC、Si、GeまたはSnである)。好ましくは、XはCである。好ましくは、Aは、3つの環全てにおいて同じである。
一実施形態では、アニオンは、式
Figure 0007068199000016
を有するテトラアリールボレートである(式中、Rは、FおよびCFから選ばれる、0~5個の非水素置換基を表す)。好ましくは、Rは、4つの環の各々上の5つの置換基、好ましくは5つのフルオロ置換基を表す。
好ましくは、本発明に用いる酸触媒として、ブレンステッド酸、ルイス酸、または以下のリストから選ばれるTAGが含まれる。一実施形態では、TAGは、≦280℃の分解温度を有する。
Figure 0007068199000017
特に好ましいTAGは、有機アンモニウム塩、好ましくは以下のリストから選ばれるピリジニウム塩である。
Figure 0007068199000018
状況に応じて、トリチル塩、アンモニウム塩、ヨードニウム塩、トロピリウム塩、イミダゾリウム塩、ホスホニウム塩、オキソニウム塩、およびそれらの混合物を含む中性およびイオン性化合物から選ばれる1種以上のp型ドーパントをさらに、ポリマーに混ぜてもよい。好ましくは、イオン性化合物は、トリチルボレート、アンモニウムボレート、ヨードニウムボレート、トロピリウムボレート、イミダゾリウムボレート、ホスホニウムボレート、オキソニウムボレート、およびそれらの混合物から選ばれる。本開示において用いられるp型ドーパントの好適な例には、以下の化合物(p-1)~(p-15)が含まれる。
Figure 0007068199000019
好ましくは、p型ドーパントは、以下の化合物(p-1)である:
Figure 0007068199000020
本開示において、p型ドーパントは、ポリマーの全重量に対して、1重量%以上、3重量%以上、5重量%以上、または、さらには、7重量%以上、かつ20重量%以下、15重量%以下、12重量%以下、または、さらには、10重量%以下の量で存在する。
状況に応じて、p型ドーパントは、別個の層として存在してもよい。理論によって制限されることなく、p型ドーパントは、ポリマーの堆積後にポリマー中に拡散させてもよい。状況に応じて、熱処理によってp型ドーパントの拡散を加速してもよい。
基板上にポリマーをコーティングするための溶液を作製する場合、好ましくは、溶媒は、ガスクロマトグラフィー質量分析法(GC/MS)による測定で、少なくとも99.8重量%、好ましくは少なくとも99.9重量%の純度を有する。好ましくは、溶媒は、1.2未満、より好ましくは1.0未満のRED値(CHEMCOMP v2.8.50223.1を用いたハンセン溶解度パラメーターから計算した(ポリマーに対する)相対エネルギー差)を有する。好ましい溶媒には、芳香族炭化水素および芳香族-脂肪族エーテルが含まれ、好ましくは、これらが6~20個の炭素原子を有する。アニソール、メシチレン、キシレンおよびトルエンが、特に好ましい溶媒である。
好ましくは、本発明のポリマーは、基板上の薄層として存在する。好ましくは、本発明に従って製造されるポリマー膜の厚さは、1nm~100ミクロン、好ましくは少なくとも10nm、好ましくは少なくとも30nm、かつ好ましくは10ミクロン以下、好ましくは1ミクロン以下、好ましくは300nm以下である。
本発明のポリマーは、有機電子デバイスの製造で使用されることが知られている、または提案されている様々な種類の溶液処理技術のいずれかによって堆積させることができる。例えば、ポリマー溶液は、インクジェット印刷、ノズル印刷、オフセット印刷、転写印刷、またはスクリーン印刷などの印刷プロセスを用いて、または、例えば、スプレーコーティング、スピンコーティング、またはディップコーティングなどのコーティングプロセスを使用して、堆積させることができる。溶液が堆積した後、溶媒が除去される。この除去は、真空乾燥および/または加熱などの従来の方法を用いて行うことができる。膜は、好ましくは、溶液プロセス、好ましくはスピンコーティングまたはインクジェットプロセスによって基板上に形成される。
膜がスピンコーティングによって製造される場合、スピンコーティングされた膜の厚さは、主に溶液中の固形分およびスピン速度によって決定される。例えば、2、5、8および10wt%のポリマーを2000rpmのスピン速度で処理した場合、調合された溶液はそれぞれ、30、90、160および220nmの膜厚をもたらす。
表面上にポリマー組成をコーティングすることによって形成されたポリマー層は、50~150℃(好ましくは80~120℃)の温度で、好ましくは5分間未満の間ベーキングし、続いて120~280℃、好ましくは少なくとも140℃、好ましくは少なくとも160℃、好ましくは少なくとも170℃、かつ好ましくは230℃以下、好ましくは215℃以下の温度で熱架橋させることができる。好ましくは、湿った膜は、ベーキングおよびアニーリング後に5%以下収縮する。好ましくは、高温雰囲気への暴露時間は2分以上、より好ましくは5分以上である。好ましくは、雰囲気が不活性であり、より好ましくは、雰囲気が1重量%以下の酸素ガスを含み、より好ましくは、雰囲気が99重量%以上の窒素を含む。
ポリマー薄層をさらに架橋させてもよい。架橋は、層溶液を、熱および/またはUV光、ガンマ線またはX線を含む化学線に暴露することによって行うことができる。架橋は、熱または照射により分解し、架橋反応を開始させるフリーラジカルまたはイオンを発生する開始剤の存在下で行うことができる。架橋は、デバイスの製造中に現場で実施することができる。架橋後、架橋からなるポリマー層は、好ましくは、光、正電荷、負電荷または励起子への暴露により反応性または分解性となる残留部分を含まない。
好ましくは、ポリマー層は溶媒による溶解に対して耐性がある(溶媒耐性は「溶媒直交性」と呼ばれることがある)。溶媒耐性は、本発明のポリマー組成を含有するQLEDの層を作製した後、本発明の組成を含有する層に次の層を塗布することができるので有用である。多くの場合、後続の層は、溶液プロセスによって塗布される。後続の溶液プロセスにおける溶媒は、本発明の組成を含む層を溶解しない、または著しく劣化させないことが望ましい。溶液堆積および架橋のプロセスを繰り返して、複数の層を形成することができる。
本発明のポリマー組成がHTL中に存在する場合、好ましくは、溶液プロセスによってHTLを形成する。後続の層をHTLに塗布することができ、この後続の層は普通、発光層である。後続の層が溶液プロセスによって塗布される場合、好ましくは、HTLは、後続の層を塗布する溶液プロセスにおいて使用される溶媒への溶解に耐性である。
例示的な有機電子デバイスは、デバイス内の発光層として、半導体ナノ粒子を含む。このデバイスは、基板、第1の電極、正孔注入層、(本明細書に開示されるような)正孔輸送層、ナノ粒子、電子輸送層、および第2の電極を含む。基板は、一般に、光学的に透明な電気絶縁性ガラス、または光学的に透明な電気絶縁性ポリマーを含む。第1の電極は、光学的に透明な導電性ポリマーまたは金属酸化物を含むことができる。第1の電極の例として、酸化インジウムスズ、酸化スズ、ポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン等の膜がある。正孔注入層に使用するのに好適な正孔注入材料は、2つのイオノマーのポリマー混合物であるPEDOT:PSS(ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)/ポリ(スチレンスルホネート)である。電子輸送層は、酸化亜鉛または酸化チタンのナノ粒子を含む。(陰極として機能する)第2の電極は金属膜を含み、その一例がアルミニウム膜である。第1の電極、正孔注入層、電子輸送層および第2の電極には、他の材料を用いてもよい。
一実施形態では、表示装置は、単一色(単一波長)または複数色(異なる波長を有する光)の光を発することができる、画素化発光ダイオードであってもよい。例えば、画素化発光ダイオードは、白色光を発することができる、または組み合わせて白色光を生成することができる赤色光、緑色光および青色光を発することができる。この品物を使用して、可視光スペクトル全体の光を生成することができる。
一実施形態では、表示装置は、色変換層を有することができる。色変換層は、デバイス内の閉じ込められた光を抽出するのを助けるとともに、より効率的な色変換を達成するために有効光路を増大させるのを助ける、周期的なナノ球を含むことができる。
本明細書で開示される材料は、フラットディスプレイ、湾曲ディスプレイ、および透明ディスプレイ、ならびに多層ディスプレイに使用することができる。
本明細書に開示される材料は、例えば、白色照明、赤色照明、コンフォーマル光コーティング、色調整照明、看板照明などのような照明として使用することができる。
以下の実施例は、本開示の実施形態を示す。部およびパーセンテージは全て、別段の指示がない限り、重量による。
溶媒および試薬は全て、例えば、Sigma-Aldrich、TCIおよびAlfa Aesarなどの商用ベンダーから入手可能であり、入手可能な最高の純度で使用される、および/または必要に応じて、使用前に再結晶される。乾燥溶媒は、社内の精製/分配システム(ヘキサン、トルエン、およびテトラヒドロフラン)から得たか、またはSigma-Aldrichから購入した。「水に敏感な化合物」を含むすべての実験は、「オーブン乾燥」したガラス器具、窒素雰囲気下、またはグローブボックス中で行われる。
実施例では、以下の標準的な分析装置および方法を使用する。
ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)
ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)を用いて、ポリマーの分子量を分析する。2mgのHTLポリマーを1mLのTHFに溶解した。この溶液を0.20μmのポリテトラフルオロエチレン(PTFE)シリンジフィルターで濾過し、50μlの濾液をGPCシステムに注入した。以下の分析条件を使用した:ポンプ:公称流量1.0mL/分のWaters(商標)e2695セパレーションモジュール、溶離液:Fisher Scientific HPLCグレードのTHF(安定化)、インジェクター:Waters e2695セパレーションモジュール、カラム:40℃に保たれたPolymer Laboratories Inc.の2つの5μm混合Cカラム、検出器:Shodex RI-201示差屈折率(DRI)検出器、校正:Polymer Laboratories Inc.の17ポリスチレン標準物質、3742kg/mol~0.58kg/molの範囲で3次多項式曲線に適合する。
核磁気共鳴(NMR)
H-NMRスペクトル(500MHzまたは400MHz)を、30℃で、Varian VNMRS-500またはVNMRS-400分光計で得た。化学シフトは、CDCl中のテトラメチルシラン(TMS)(6:000)を基準とする。
液体クロマトグラフィー-質量分析(LC/MS)
通常の液体クロマトグラフィー/質量分析(LC/MS)の研究は以下のよう実施した。「テトラヒドロフラン(THF)中の1mg/ml溶液」として、試料の1μlアリコートを、Agilent 6520四重極飛行時間型(Q-TOF)MSシステムに連結されたAgilent 1200SLバイナリ液体クロマトグラフィー(LC)システム上に、PIモードで動作するデュアルエレクトロスプレーインターフェース(ESI)を介して、注入する。以下の分析条件を使用する:カラム:Agilent Eclipse XDB-C18、4.6*50mm、1.7μm、カラムオーブン温度:30℃、溶媒A:THF、溶媒B:水/アセトニトリル(v/v、95/5)中の0.1%ギ酸、勾配:0~6分で溶媒Aを40~80%、9分間保持、流量:0.3mL/分、UV検出器:ダイオードアレイ、254nm、MS条件:キャピラリー電圧:3900kV(Neg)、3500kV(Pos)、モード:NegおよびPos、スキャン:100-2000amu、レート:1秒/スキャン、脱溶媒和温度:300℃。
HTL1モノマーの合成
Figure 0007068199000021
4-(3-(4-([1,1’-ビフェニル]-4-イル(9,9-ジメチル-9H-フルオレン-2-イル)アミノ)フェニル)-9H-カルバゾール-9-イル)ベンズアルデヒドの合成:丸底フラスコに、N-(4-(9H-カルバゾール-3-イル)フェニル)-N-([1,1’-ビフェニル]-4-イル)-9,9-ジメチル-9H-フルオレン-2-アミン(2.00g、3.318mmol、1.0当量)、4-ブロモベンズアルデヒド(0.737g、3.982mmol、1.2当量)、CuI(0.126g、0.664mmol、0.2当量)、炭酸カリウム(1.376g、9.954mmol、3.0当量)、および18-クラウン-6(86mg、10mol%)を添加した。フラスコを窒素でフラッシュし、還流冷却器に接続した。乾燥した10.0mLの脱気1,2-ジクロロベンゼンを加え、混合物を48時間還流した。冷却した溶液をNHCl水溶液でクエンチし、ジクロロメタンで抽出した。合わせた有機画分を乾燥させ、溶媒を蒸留により除去した。粗残留物をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン/クロロホルム勾配)により精製し、明るい黄色の固体生成物(2.04g)を得た。生成物は以下の特性を有した:H-NMR(500MHz、CDCl)δ10.13(s、1H)、8.37(d、J=2.0Hz、1H)、8.20(dd、J=7.7、1.0Hz、1H)、8.16(d、J=8.2Hz、2H)、7.83(d、J=8.1Hz、2H)、7.73-7.59(m、7H)、7.59-7.50(m、4H)、7.50-7.39(m、4H)、7.39-7.24(m、10H)、7.19-7.12(m、1H)、1.47(s、6H)。13C-NMR(126MHz、CDCl):δ190.95、155.17、153.57、147.21、146.98、146.69、143.38、140.60、140.48、139.28、138.93、135.90、135.18、134.64、134.46、133.88、131.43、128.76、127.97、127.81、126.99、126.84、126.73、126.65、126.54、126.47、125.44、124.56、124.44、124.12、123.98、123.63、122.49、120.96、120.70、120.57、119.47、118.92、118.48、110.05、109.92、46.90、27.13。
Figure 0007068199000022
(4-(3-(4-[1,1’-ビフェニル]-4-イル(9,9-ジメチル-9H-フルオレン-2-イル)アミノ)フェニル)-9H-カルバゾール-9-イル)フェニル)メタノールの合成:丸底フラスコに窒素のブランケット下で式1(4.36g、6.17mmol、1.00当量)を添加した。この材料を40mLの1:1のTHF:EtOHに溶解した。水素化ホウ素(0.280g、7.41mmol、1.20当量)を少しずつ添加し、材料を3時間撹拌した。反応混合物を1M HClで慎重にクエンチし、生成物をジクロロメタンの一部で抽出した。合わせた有機画分を飽和重炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、MgSOで乾燥させ、濃縮して粗残留物を得た。この材料をクロマトグラフィー(ヘキサン/ジクロロメタン勾配)で精製し、白色固体生成物(3.79g)を得た。この生成物は以下の特性を有した:HNMR(500MHz、CDCl):δ8.35(s、1H)、8.19(dt、J=7.8、1.1Hz、1H)、7.73-7.56(m、11H)、7.57-7.48(m、2H)、7.48-7.37(m、6H)、7.36-7.23(m、9H)、7.14(s、1H)、4.84(s、2H)、1.45(s、6H)。13C-NMR(126MHz、CDCl)δ155.13、153.56、147.24、147.02、146.44、141.27、140.60、140.11、140.07、138.94、136.99、136.33、135.06、134.35、132.96、128.73、128.44、127.96、127.76、127.09、126.96、126.79、126.62、126.48、126.10、125.15、124.52、123.90、123.54、123.49、122.46、120.66、120.36、120.06、119.43、118.82、118.33、109.95、109.85、64.86、46.87、27.11。
Figure 0007068199000023
N-([1,1´-ビフェニル]-4-イル)-9,9-ジメチル-N-(4-(9-(4-(((4-ビニルベンジル)オキシ)メチル)フェニル)-9H-カルバゾール-3-イル)フェニル)-9H-フルオレン-2-アミンの合成:窒素充填グローブボックス内で、100mL丸底フラスコに、(4-(3-(4-([1,1´-ビフェニル]-4-イル(9,9-ジメチル-9H-フルオレン-2-イル)アミノ)フェニル)-9H-カルバゾール-9-イル)フェニル)メタノール(4.40g、6.21mmol、1.00当量)および35mLのTHFを添加した。水素化ナトリウム(0.224g、9.32mmol、1.50当量))を少しずつ加え、混合物を30分間撹拌した。還流冷却器を取り付け、ユニットを密封し、グローブボックスから取り出した。塩化4-ビニルベンジル(1.05mL、7.45mmol、1.20当量)を注入し、混合物を、出発物質が消費されるまで還流した。反応混合物を冷却し(氷浴)、イソプロパノールで慎重にクエンチした。飽和NHClを加え、生成物を酢酸エチルで抽出した。合わせた有機画分をブラインで洗浄し、MgSOで乾燥し、濾過し、濃縮し、シリカクロマトグラフィーで精製した。この生成物は以下の特性を有した:H-NMR(400MHz、CDCl):δ8.35(s、1H)、8.18(dt、J=7.8、1.0Hz、1H)、7.74-7.47(m、14H)、7.47-7.35(m、11H)、7.35-7.23(m、9H)、7.14(s、1H)、6.73(dd、J=17.6、10.9Hz、1H)、5.76(dd、J=17.6、0.9Hz、1H)、5.25(dd、J=10.9、0.9Hz、1H)、4.65(s、4H)、1.45(s、6H)。13C-NMR(101MHz、CDCl):δ155.13、153.56、147.25、147.03、146.43、141.28、140.61、140.13、138.94、137.64、137.63、137.16、137.00、136.48、136.37、135.06、134.35、132.94、129.21、128.73、128.05、127.96、127.76、126.96、126.94、126.79、126.62、126.48、126.33、126.09、125.14、124.54、123.89、123.54、123.48、122.46、120.66、120.34、120.04、119.44、118.82、118.31、113.92、110.01、109.90、72.33、71.61、46.87、27.11。
HTL2モノマーの合成
Figure 0007068199000024
4´-((9,9-ジメチル-9H-フルオレン-2-イル)(4-(1-メチル-2-フェニル-1H-インドール-3-イル)フェニル)アミノ)-[1,1’-ビフェニル]-4-カルバルデヒドの合成:N-(4-ブロモフェニル)-9,9-ジメチル-N-(4-(1-メチル-2-フェニル-1H-インドール-3-イル)フェニル)-9H-フルオレン-2-アミン(1)(12.9g、20mmol)、(4-ホルミルフェニル)ボロン酸(1.07g、30mmol)、Pd(PPh(693mg、1155.3%)、2M KCO(4.14g、30mmol、HO 15mL)および45mLのTHFの混合物を、窒素雰囲気下、80℃で12時間加熱した。室温に冷却した後、溶媒を真空下で除去し、残留物をジクロロメタンで抽出した。室温に冷却した後、溶媒を真空下で除去し、次いで水を加えた。混合物をCHClで抽出した。有機層を集め、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。濾過後、濾液を蒸発させて溶媒を除去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、淡黄色固体を得た(収率75%)。MS(ESI):671.80[M+H]。1H-NMR(CDCl、400MHz、TMS、ppm):δ10.03(s、1H)、7.94(d、2H)、7.75(d、2H)、7.64(m、2H)、7.55(d、2H)、7.41(m、9H)、7.23(m、8H)、7.09(m、3H)、3.69(s、3H)、1.43(s、6H)。
(4´-((9,9-ジメチル-9H-フルオレン-2-イル)(4-(1-メチル-2-フェニル-1H-インドール-3-イル)フェニル)アミノ)-[1,1´-ビフェニル]-4-イル)メタノールの合成:4´-((9,9-ジメチル-9H-フルオレン-2-イル)(4-(1-メチル-2-フェニル-1H-インドール-3-イル)フェニル)アミノ)-[1,1´-ビフェニル]-4-カルバルデヒド(10g、15mmol)を50mLのTHFおよび50mLのエタノールに溶解させた溶液に、40℃でNaBH(2.26g、60mmol)を窒素雰囲気下で添加した。この溶液を室温で2時間撹拌した。次いで、塩酸水溶液をpHが5になるまで添加し、添加をさらに30分間維持した。溶媒を真空下で除去し、残渣をジクロロメタンで抽出した。次いで、生成物を溶媒の除去により得て、それ以上精製することなく次の工程に使用した(収率:95%)。MS(ESI):673.31[M+H]
9,9-ジメチル-N-(4-(1-メチル-2-フェニル-1H-インドール-3-イル)フェニル)-N-(4´-(((4-ビニルベンジル)オキシ)メチル)-[1,1´-ビフェニル]-4-イル)-9H-フルオレン-2-アミンの合成:(4´-((9,9-ジメチル-9H-フルオレン-2-イル)(4-(1-メチル-2-フェニル-1H-インドール-3-イル)フェニル)アミノ)-[1,1´-ビフェニル]-4-イル)メタノール(9.0g、13.4mmol)を50mLの乾燥DMFに溶解させた溶液にNaH(482mg、20.1mmol)を加え、混合物を室温で1時間撹拌した。そして、塩化4-ビニルベンジル(3.05g、20.1mmol)を上記溶液にシリンジで加えた。この混合物を50℃に24時間加熱した。水でクエンチした後、混合物を水に注いでDMFを除去した。残渣をろ過し、得られた固体をジクロロメタンで溶解し、水で洗浄した。溶媒を真空下で除去し、残渣をジクロロメタンで抽出した。次いで、生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより得た(収率90%)。MS(ESI):789.38[M+H]。1H-NMR(CDCl、400MHz、TMS、ppm):δ7.59(d、4H)、7.48(m、2H)、7.40(m、18H)、7.22(m、8H)、6.71(dd、1H)、5.77(d、1H)、5.25(d、1H)、4.58(s、4H)、3.67(s、3H)、1.42(s、6H)。
HTL3モノマーの合成
Figure 0007068199000025
4´-([1,1´-ビフェニル]-4-イル(9,9-ジメチル-9H-フルオレン-2-イル)アミノ)-[1,1´-ビフェニル]-4-カルバルデヒドの合成:熱電対、N入口付き冷却器、およびセプタムを取り付けた1Lの3口丸底フラスコに、[1](20g、38.7mmol、1当量)、4-ホルミルフェニルボロン酸(6.42g、42.6mmol、1.1当量)、テトラヒドロフラン(315mL)および2M KCO水溶液(58mL)を加えた。この混合物を撹拌し、Nで30分間スパージした。Pd(dppf)Cl(0.55g、0.75mmol、0.02当量)を加え、反応物を21時間加熱還流した。テトラヒドロフランを留去し、反応物を水(300mL)で希釈し、ジクロロメタン(2×300mL)で抽出した。合わせた有機相をMgSOで乾燥させ、濾過し、シリカ上に濃縮した。この材料を勾配溶離剤(1カラム体積のヘキサンを、8カラム体積にわたって、1:1のヘキサン:ジクロロメタン比まで増やした後、10カラム体積の間この1:1の比を維持する)を用いてクロマトグラフィーにかけた。合わせた画分を濃縮して、明るい黄色の固体(15.2g、72%、純度99.5%)を得た。
H NMR(400MHz、CD6)δ9.74(s、1H)、7.61(2H、dd、J=8Hz、2Hz)、7.55(2H、dd、J=20Hz、2.4Hz)、7.50-7.46(5H、複数のピーク)、7.37-7.11(15H、複数のピーク)、1.28(s、6H)。
13C NMR(101MHz、CD6)δ190.64、155.70、153.83、148.64、147.24、147.05、146.04、140.76、139.10、136.52、135.61、135.38、133.68、130.22、129.01、128.43、128.36、127.39、127.18、127.12、126.95、126.94、124.93、124.44、123.82、122.74、121.29、119.88、119.61、46.95z、26.93。
N-([1,1´-ビフェニル]-4-イル)-9,9-ジメチル-N-(4´-ビニル-[1,1´-ビフェニル]-4-イル)-9H-フルオレン-2-アミンの合成:熱電対、N入口付き冷却器、およびセプタムを取り付けた500mLの丸底フラスコ3口丸底フラスコに、メチルトリフェニルホスホニウムブロミド(18.44g、51.6mmol、2当量)および乾燥テトラヒドロフラン(148mL)を添加した。カリウムtert-ブトキシド(6.8g、60.6mmol、2.3当量)を加え、混合物を15分間撹拌した。4´-([1,1´-ビフェニル]-4-イル(9,9-ジメチル-9H-フルオレン-2-イル)アミノ)-[1,1´-ビフェニル]-4-カルバルデヒド[9](14.03g、25.9mmol、1当量)を乾燥テトラヒドロフラン(74mL)に溶解し、臭化メチルトリフェニルホスホニウム溶液に添加した。反応物を室温で16時間撹拌した。水(4mL)を加え、混合物をシリカのプラグを通して濾過した。パッドをジクロロメタン(423g)ですすぎ、濾液をシリカに吸着させ、勾配溶離剤(1カラム体積のヘキサンを、19カラム体積にわたって、80:20のヘキサン:ジクロロメタン比まで増やした後、10カラム体積の間この80:20の比を維持する)を使用するクロマトグラフィーで精製した。合わせた画分を濃縮して黄色油状固体を得、これをメタノールで粉砕して白色固体(10.57g、76%、純度99.8%)を生成した。
H NMR(400MHz、CD6)δ7.55-7.43(複数ピーク、11H)、7.33-7.10(複数ピーク、13H)、6.63(1H、dd、J=20Hz、12Hz)、5.66(1H、dd、J=20Hz、1.2Hz)、5.11(1H、dd、J=12Hz、1.2Hz)、1.27(s、6H)。
13C NMR(101MHz、CD6)δ155.61、153.85、147.66、147.57、147.39、140.91、140.28、139.25、136.82、136.51、136.04、135.41、135.19、128.98、128.28、128.02、127.78、127.34、127.04、127.02、126.98、126.94、124.60、124.52、124.15、122.71、121.23、119.81、119.30、113.42、46.93、26.94。
HTL4モノマーの合成
Figure 0007068199000026
4-(3,6-ビス(4-([1,1´-ビフェニル]-4-イル(9,9-ジメチル-9H-フルオレン-2-イル)アミノ)フェニル)-9H-カルバゾール-9-イル)ベンズアルデヒドの合成:4-(3,6-ジブロモ-9H-カルバゾール-9-イル)ベンズアルデヒド(6.00g、17.74mmol)、N-([1,1´-ビフェニル]-4-イル)-9,9-ジメチル-N-(4-(4,4,5,5-テトラメチル-1,3,2-ジオキサボロラン-2-イル)フェニル)-9H-フルオレン-2-アミン(15.70g、35.49mmol)、Pd(PPh(0.96g)、7.72gのKCO、100mLのTHF、および30mLのHOの混合物を、窒素下で一晩80℃で加熱した。室温に冷却した後、溶媒を真空下で除去し、残渣をジクロロメタンで抽出した。次いで、溶離剤として石油エーテルおよびジクロロメタンを用いて、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより生成物を得、所望の生成物を提供した(14.8g、収率92%)。H NMR(CDCl、ppm):10.14(s、1H)、8.41(d、2H)、8.18(d、2H)、7.86(d、2H)、7.71(dd、2H)、7.56-7.68(m、14H)、7.53(m、4H)、7.42(m、4H)、7.26-735(m、18H)、7.13-7.17(d、2H)、1.46(s、12H)。
(4-(3,6-ビス(4-([1,1´-ビフェニル]-4-イル(9,9-ジメチル-9H-フルオレン-2-イル)アミノ)フェニル)-9H-カルバゾール-9-イル)フェニル)メタノールの合成:4-(3,6-ビス(4-([1,1´-ビフェニル]-4-イル(9,9-ジメチル-9H-フルオレン-2-イル)アミノ)フェニル)-9H-カルバゾール-9-イル)ベンズアルデヒド(10.0g、8.75mmol)を80mLのTHFおよび30mLのエタノールに溶解した。NaBH(1.32g、35.01mmol)を窒素雰囲気下で2時間かけて添加した。次いで、塩酸水溶液をpHが5になるまで加え、混合物を30分間撹拌し続けた。溶媒を真空下で除去し、残渣をジクロロメタンで抽出した。次いで、生成物を真空下で乾燥し、さらに精製することなく次の工程に使用した。
N,N´-((9-(4-(((4-ビニルベンジル)オキシ)メチル)フェニル)-9H-カルバゾール-3,6-ジイル)ビス(4,1-フェニレン))ビス(N-([1,1´-ビフェニル]-4-イル)-9,9-ジメチル-9H-フルオレン-2-アミン)の合成:0.45gの60%NaHを、(4-(3,6-ビス(4-([1,1´-ビフェニル]-4-イル(9,9-ジメチル-9H-フルオレン-2-イル)アミノ)フェニル)-9H-カルバゾール-9-イル]フェニル)メタノール100gの乾燥DMF溶液100mLに添加した。室温で1時間撹拌した後、2.00gの1-(クロロメチル)-4-ビニルベンゼンをシリンジで加えた。この溶液をN下で60℃で撹拌し、TLCで追跡した。出発物質を消費した後、溶液を冷却し、氷水に注いだ。濾過し、水、エタノールおよび石油エーテルでそれぞれ洗浄した後、粗生成物を得、50℃の真空オーブンで一晩乾燥させ、次いでジクロロメタンおよび石油エーテルの溶離剤のグラーズエボリューション(1:3~1:1)を用いるフラッシュシリカクロマトグラフィーにより精製した。粗生成物を、酢酸エチルからの再結晶、および99.8%の純度を可能にするカラムクロマトグラフィーによりさらに精製した。ESI-MS(m/z、Ion):1260.5811、(M+H)H NMR(CDCi、ppm):8.41(s、2H)、7.58-7.72(m、18H)、7.53(d、4H)、7.38-7.50(m、12H)、7.25-7.35(m、16H)、7.14(d、2H)、6.75(q、1H)、5.78(d、1H)、5.26(d、1H)、4.68(s、4H)、1.45(s、12H)。
HTLポリマーの調製:
グローブボックス中で、モノマー(1.00当量)をアニソール(電子グレード、0.25M)に溶解した。この混合物を70℃に加熱し、AIBN溶液(トルエン中0.20M、5mol%)を注入した。この混合物を、モノマーが完全に消費されるまで、少なくとも24時間攪拌した(2.5mol%のAIBN溶液を添加して転化を完結させることができる)。このポリマーをメタノール(10倍量のアニソール)で沈殿させ、濾過により単離した。濾過した固体をメタノールの追加部分ですすいだ。濾過した固体をアニソールに再溶解し、沈殿/濾過手順をさらに2回繰り返した。単離した固体を50℃で一晩真空オーブンに入れ、残留溶媒を除去した。
HTLポリマーの構造および分子量(MW)
:数平均MW、M:重量平均MW、M:Z平均MW、Mz+1:Z+1平均MW。PDI=M/M:多分散性
Figure 0007068199000027
QLEDデバイスの製造
QLEDデバイスを、以下のように構築した。画素化されたスズドープ酸化インジウム(ITO)電極(Ossila Inc.)を有するガラス基板(20mm×15mm)を使用した。このITOを、酸素プラズマを用いて処理した。正孔注入層(HIL)は、Sigma-Aldrichから入手可能なPlexcore(商標)OC RG-1200(ポリ(チオフェン-3-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]-2,5-ジイル)であった。HIL溶液を0.45ミクロンのポリフッ化ビニリデン(PVDF)シリンジフィルターで濾過し、20μLの溶液を回転している基板上に滴下して、動的スピンコーティングによって層中に堆積させた。約40nmの膜厚を達成するためのスピン速度は約2000RPMであった。電極の部分を覆った堆積膜の一部を、発泡スワブを用いてトルエンで除去した。次いで、デバイスを不活性雰囲気中のホットプレート上で、150℃で30分間アニールした。
正孔輸送層(HTL)を形成するために、高温(<100℃)で電子グレードのアニソール(2%w/w)に各HTLポリマーを個別に溶解して完全に溶解させ、0.2μmのポリテトラフルオロエチレン(PTFE)フィルタを通過させた。20μLの溶液を回転している基板上に滴下し、動的スピンコーティングによって材料を層中に堆積させた。スピン速度(約2000RPM)を各材料について調整して、約40nmの膜厚を達成した。電極の部分を覆った堆積膜の一部を、発泡スワブを用いてトルエンで除去した。次いで、デバイスを不活性雰囲気中のホットプレート上で、205℃で10分間アニールした。ポリ[(9,9-ジオクチルフルオレニル-2,7-ジイル)-co-(4,40-(N-(4-sec-ブチルフェニル))ジフェニルアミン)](TFB)と、2,3,5,6-テトラフルオロ-7,7,8,8-テトラシアノキノジメタン(F4TCNQ)との50:50混合物からなる、よく研究された文献のHTLを、参考として使用した。
発光層は以下のリストから選んだ。20μLの溶液を回転している基板上に滴下し、各材料を動的スピンコーティングによって層中に堆積させた。スピン速度(約2000~4000RPM)を各材料について調整して、約5~15nmの膜厚を達成した。電極の部分を覆った堆積膜の一部を、発泡スワブを用いてトルエンで除去した。次いで、デバイスを不活性雰囲気中のホットプレート上で、180℃で10分間アニールした。
使用した発光層材料は以下の通りであった:
1)CdSe/ZnS(520nmで発光)、
2)InP/ZnS(620nmで発光)、および
3)CdS/CdSe/ZnSe DHNR(600nmで発光)。
CdSe/ZnSおよびInP/ZnSは、カタログ番号748021および776777としてそれぞれAldrichから購入した。量子ドットは、~20mg/mlの濃度でトルエン中に分散させて、そのまま使用した。
DHNRは以下の手順に従って合成した。
工業用トリオクチルホスフィンオキシド(90%)、工業用トリオクチルホスフィン(TOP)(90%)、工業用オレイン酸(90%)、工業用オクタデセン(90%)、CdO(99.5%)、酢酸亜鉛(99.99%)、S粉末(99.998%)、およびSe粉末(99.99%)は、Sigma Aldrichから入手した。N-オクタデシルホスホン酸(ODPA)は、PCI Synthesisから入手した。ACSグレードのクロロホルム、およびメタノールは、Fischer Scientificから入手した。すべての化学物質は、受け取ったまま使用した。
CdSナノロッドの合成:確立された方法14と同様の方法で、CdSナノロッドを調製した。反応は、N2雰囲気下で、標準のシュレンク管で行った。まず、50mlの3口丸底フラスコ内で、2.0g(5.2mmol)のトリオクチルホスフィンオキシド、0.67g(2.0mmol)のODPA、および0.13g(2.0mmol)のCdOを真空下で、150℃で30分間脱気し、次いで攪拌しながら350℃に加熱した。Cd-ODPA複合体が350℃で形成されると、フラスコ内の褐色の溶液は、典型的には1時間後に光学的に透明で無色になった。次いで、溶液を冷却し、150℃で10分間脱気して、OおよびHOを含む錯体形成の副生成物を除去した。脱気後、溶液をN雰囲気下で350℃に再加熱した。1.5mlのTOPに溶解した16mg(0.5mmol)のSを含むS前駆体を、シリンジでフラスコに迅速に注入した。その結果、反応混合物が330℃に急冷され、CdSの成長が実行された。15分後、250℃まで冷却してCdSナノロッドの成長を終了させ、CdSナノロッド上のCdSeの成長を実行した。CdSナノロッドのアリコートを採取し、キャラクタリゼーションのために、メタノールおよびブタノールで沈殿させて洗浄した。下記のようにN雰囲気下に維持した同じ反応フラスコにSe前駆体をゆっくり添加して、CdS/CdSeヘテロ構造を形成した。
CdS/CdSeナノロッドヘテロ構造の合成:ロッド-ロッド-ロッド形ナノロッドヘテロ構造のワンポット合成を、確立された方法と同様の方法で行った。CdSナノロッドの形成に続いて、1.0mlのTOPに溶解したSeを20mg(0.25mmol)含有するSe前駆体を250℃で、シリンジポンプを介して、4mlh-1の速度でゆっくり注入した(総注入時間~15分)。次いで、空気ジェットにより急冷する前に、反応混合物を250℃で、さらに5分間撹拌した。CdS/CdSeナノロッドヘテロ構造のアリコートを採取し、分析のために、メタノールおよびブタノールで沈殿させて洗浄した。最終反応混合物をクロロホルムに溶解し、2000RPMで遠心分離した。沈殿物を、次の工程のために、クロロホルムに再溶解した。このCdS/CdSeナノロッドヘテロ構造の溶液は、10倍に希釈したときに、CdSバンドエッジ吸収ピークで0.75の光学密度(1cm光路長のキュベット内)を有した。
CdS/CdSe/ZnSe DHNRの合成:CdS/CdSe/ZnSe DHNRは、ZnSeをCdS/CdSeナノロッドへテロ構造上に成長させることにより合成した。Zn前駆体のために、6mLのオクタデセン、2mLのオレイン酸、および0.18g(1.0mmol)の酢酸亜鉛を150℃で30分間脱気した。N雰囲気下で、この混合物を250℃に加熱し、その結果、1時間後にオレイン酸亜鉛が形成された。50℃に冷却した後、2mlの予め調製したCdS/CdSe原液をオレイン酸亜鉛溶液に注入した。クロロホルムを真空下、70℃で30分間蒸発させた。ZnSeの成長は、2.0mlのTOPに溶解した39mg(0.50mmol)のSeを含むSe前駆体を、250℃で反応混合物にゆっくりと注入することによって開始された。CdS/CdSeナノロッドヘテロ構造上のZnSeの厚さは、注入されるSeの量によって制御した。所望の量のSe前駆体を注入した後、加熱マントルを除去することによって、ZnSeの成長を終了させた。クロロホルムとメタノールの混合物(体積比1:1)で2回洗浄した後、CdS/CdSe/ZnSe DHNRを(~30mgml-1)で最終的にトルエンに分散させさせた。
ZnOの合成:電子輸送層(ETL)としてZnOを使用した。公開された文献の手順に従って、ZnOを合成した。簡単に言えば、メタノール(65ml)に水酸化カリウム(1.48g)が溶解した溶液を、メタノール(125ml)に酢酸亜鉛二水和物(2.95g)が溶解した溶液に加え、反応混合物を60℃で2時間撹拌した。次いで、この混合物を室温に冷却し、沈殿物をメタノールで2回洗浄した。この沈殿物を1-ブタノールに懸濁させて、最終的なZnO溶液を形成した。20μLの溶液を、回転している基板上に滴下し、動的スピンコーティングによってZnOを層内に堆積させた。スピン速度、約2000RPMを調整して、約30nmの膜厚を達成した。電極の部分を覆った堆積膜の一部を、発泡スワブを用いてブタノールで除去した。次いで、デバイスを不活性雰囲気中のホットプレート上で、120℃で10分間アニールした。
アルミニウムの100nm層を、陰極シャドーマスクを通して、黒鉛るつぼから高真空下で熱蒸発させることによって堆積させた。
QLEDデバイスは以下のように試験した。Ossila Inc.のカスタムテストボードを使用して、Nグローブボックス内のカプセル化されていないデバイスで電流-電圧-光(JVL)データを収集した。ボードは、1)X100 Xtralien(商標)精密試験ソース、および2)スマートPVおよびOLEDボードを含んでおり、これらのコンポーネントを使用して、電流と光出力を測定しながら、0.1V単位で-2V~7Vの電圧範囲でOLEDデバイスを試験した。光出力は、明所視眼の感度を模擬したアイレスポンスフォトダイオード(Centronic Eシリーズ)を使用して測定した。デバイスは、基板上の試験チャンバの内部に配置し、フォトダイオードアセンブリで覆った。電気的接触は、スマートボードアセンブリ内の一連のバネ作動型金プローブによってITO電極に対して行った。フォトダイオードは、ITO基板の上3mmの距離に配置した。JVLデータから、1000cd/mの輝度に達するのに必要な電圧、1000cd/mでのQLEDの電流効率(単位cd/A)、およびQLED内で10mA/cmの電流に達するのに必要な駆動電圧を含む、重要なデバイスパラメータが決定された。測定されたフォトダイオード電流に幾何学的因子を適用して、フォトダイオードと基板との間の距離(3mm)、および基板上の各画素からの相対位置を明らかにした。
結果と分析
以下に列挙するHTLポリマーで実施例の量子ドット発光ダイオードを製造した。実施例のダイオードは、CdSe/ZnS、InP/ZnSおよびDHNRで構成される量子ドットを含むすべての試験において、満足できる性能を発揮した。例示的なデバイスは、以下の表に列挙されているように、520nmから600nmまで、および620nmまでの範囲の量子ドット発光で満足できる性能を発揮することが示された。例示的なデバイスは、球形および棒状の量子ドットで満足できる性能を発揮することが示された。HTL化合物は、参考例と比較して、QLEDデバイスの効率および駆動電圧の向上をもたらした。
Figure 0007068199000028
Figure 0007068199000029
Figure 0007068199000030

Claims (10)

  1. i)II-VI族化合物、II-V族化合物、III-VI族化合物、III-V族化合物、IV-VI族化合物、I-III-VI族化合物、II-IV-VI族化合物、II-IV-V族化合物、およびそれらの任意の組み合わせからなる群から選ばれる半導体材料で製造された少なくとも1つの半導体ナノ粒子の発光層と、ii)正孔注入層または正孔輸送層用ポリマーとを含む量子ドット発光素子であって、前記ポリマーが、重合単位として、a)エテニル基、トリフルオロビニルエーテル、シンナメートもしくはカルコン、ジエン、エトキシエチン、および3-エトキシ-4-メチルシクロブタ-2-エノンから選ばれる重合性基と、b)式NArArArを有する電気活性基(式中、Ar、ArおよびArは、独立に、C-C50芳香族置換基である)と、c)前記重合性基と前記電気活性基とを連結するリンカー基とを含む第1のモノマー構造を有する少なくとも1つ以上のモノマーを含む、量子ドット発光素子。
  2. 前記ポリマーが少なくとも5,000、かつ10,000,000以下の分子量を有す
    る、請求項1に記載の量子ドット発光素子。
  3. 式NArArArを有する前記電気活性基が、以下、
    Figure 0007068199000031
    Figure 0007068199000032
    Figure 0007068199000033
    を含む、請求項1に記載の量子ドット発光素子。
  4. 前記ポリマーが、以下、
    Figure 0007068199000034
    Figure 0007068199000035
    から選ばれる第2のモノマーをさらに含む、請求項1に記載の量子ドット発光素子。
  5. 前記リンカー基が、共有結合、-O-、-アルキレン-、-アリーレン-、-アルキレン-アリーレン-、-アリーレン-アルキレン-、-O-アルキレン-、-O-アリーレン-、-O-アルキレン-アリーレン-、-O-アルキレン-O-、-O-アルキレン-O-アルキレン-O-、-O-アリーレン-O-、-O-アルキレン-アリーレン-O-、-O-(CHCH-O)-(式中、nは2~20までの整数である)、-O-アルキレン-O-アルキレン-、-O-アルキレン-O-アリーレン-、-O-アリーレン-O-、-O-アリーレン-O-アルキン-、および-O-アリーレン-O-アリーレンからなる群から選ばれる、請求項1に記載の量子ドット発光素子。
  6. 前記ポリマーがp型ドーパントをさらに含む、請求項1に記載の量子ドット発光素子。
  7. 前記半導体ナノ粒子が、希土類元素、遷移金属元素またはそれらの任意の組み合わせでドーピングされる、請求項1に記載の量子ドット発光素子。
  8. 前記半導体ナノ粒子が、前記半導体ナノ粒子の内部の外側に追加の材料がコーティングされたコア-シェル構造を有し、前記追加の材料が、IV族化合物、II-VI族化合物、II-V族化合物、III-VI族化合物、III-V族化合物、IV-VI族化合物、I-III-VI族化合物、II-IV-VI族化合物、II-IV-V族化合物、またはそれらの任意の組み合わせからなる群から選ばれる、請求項1に記載の量子ドット発光素子。
  9. 前記半導体ナノ粒子が、長さが100ナノメートル以下の少なくとも1つの寸法を有する、請求項1に記載の量子ドット発光素子。
  10. 前記半導体ナノ粒子が、1次元ナノ粒子と接する単一のエンドキャップまたは複数のエンドキャップを一端または両端に配設した前記1次元ナノ粒子を含んでいる、請求項1に記載の量子ドット発光素子。
JP2018564920A 2016-06-28 2017-06-26 量子ドット発光素子 Active JP7068199B2 (ja)

Applications Claiming Priority (11)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNPCT/CN2016/087413 2016-06-28
PCT/CN2016/087409 WO2018000176A1 (en) 2016-06-28 2016-06-28 Process for making an organic charge transporting film
CNPCT/CN2016/087409 2016-06-28
PCT/CN2016/087413 WO2018000179A1 (en) 2016-06-28 2016-06-28 Process for making an organic charge transporting film
US201662417539P 2016-11-04 2016-11-04
US62/417,539 2016-11-04
PCT/CN2016/104856 WO2018082086A1 (en) 2016-11-07 2016-11-07 Polymeric charge transfer layer and organic electronic device comprising the same
CNPCT/CN2016/104856 2016-11-07
PCT/CN2016/112579 WO2018119729A1 (en) 2016-12-28 2016-12-28 Organic compound and electronic device comprising an organic layer comprising the organic compound
CNPCT/CN2016/112579 2016-12-28
PCT/US2017/039191 WO2018005318A1 (en) 2016-06-28 2017-06-26 Quantum dot light emitting devices

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2019522873A JP2019522873A (ja) 2019-08-15
JP2019522873A5 JP2019522873A5 (ja) 2021-07-29
JP7068199B2 true JP7068199B2 (ja) 2022-05-16

Family

ID=59270192

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018564920A Active JP7068199B2 (ja) 2016-06-28 2017-06-26 量子ドット発光素子

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10818860B2 (ja)
EP (1) EP3475995B1 (ja)
JP (1) JP7068199B2 (ja)
KR (1) KR102329405B1 (ja)
CN (1) CN109328402B (ja)
WO (1) WO2018005318A1 (ja)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102556011B1 (ko) * 2018-01-23 2023-07-14 삼성디스플레이 주식회사 반도체 나노 결정과, 이를 포함하는 표시 장치 및 유기발광 표시 장치
KR102428980B1 (ko) 2018-01-24 2022-08-03 주식회사 엘지화학 중합체, 이를 포함하는 코팅 조성물 및 이를 이용한 유기 발광 소자
KR102295248B1 (ko) 2018-01-24 2021-08-27 주식회사 엘지화학 중합체, 이를 포함하는 코팅 조성물 및 이를 이용한 유기 발광 소자
EP3680261B1 (en) 2018-02-28 2023-04-19 Lg Chem, Ltd. Polymer, coating composition comprising same, and organic light emitting element using same
WO2019168366A1 (ko) * 2018-02-28 2019-09-06 주식회사 엘지화학 중합체, 이를 포함하는 코팅 조성물 및 이를 이용한 유기 발광 소자
WO2020027589A1 (ko) * 2018-07-31 2020-02-06 주식회사 엘지화학 신규한 고분자 및 이를 포함하는 유기 발광 소자
KR102153086B1 (ko) * 2018-07-31 2020-09-07 주식회사 엘지화학 신규한 고분자 및 이를 포함하는 유기 발광 소자
KR102209914B1 (ko) * 2018-08-17 2021-02-01 주식회사 엘지화학 중합체, 이를 포함하는 코팅 조성물 및 이를 이용한 유기 발광 소자
KR102576153B1 (ko) * 2018-09-21 2023-09-06 주식회사 엘지화학 신규한 공중합체 및 이를 포함하는 유기 발광 소자
KR102611142B1 (ko) * 2018-09-21 2023-12-06 주식회사 엘지화학 신규한 고분자 및 이를 이용한 유기발광 소자
WO2020262855A1 (ko) * 2019-06-28 2020-12-30 주식회사 엘지화학 중합체, 이를 포함하는 코팅 조성물 및 이를 이용한 유기 발광 소자
KR102382573B1 (ko) * 2019-08-23 2022-04-05 주식회사 엘지화학 유기 발광 소자
WO2021040328A1 (ko) * 2019-08-23 2021-03-04 주식회사 엘지화학 유기 발광 소자
KR102436755B1 (ko) * 2019-09-19 2022-08-26 주식회사 엘지화학 중합체, 단량체, 이를 포함하는 코팅 조성물, 이를 이용한 유기 발광 소자 및 이를 이용한 유기 발광 소자의 제조 방법
US20220389127A1 (en) * 2019-09-19 2022-12-08 Lg Chem, Ltd. Polymer, Monomer, Coating Composition Comprising Same, Organic Light Emitting Device Using Same, and Method for Manufacturing Organic Light Emitting Device By Using Same
KR102436753B1 (ko) * 2019-09-27 2022-08-26 주식회사 엘지화학 중합체, 단량체, 이를 포함하는 코팅 조성물, 이를 이용한 유기 발광 소자 및 이를 이용한 유기 발광 소자의 제조 방법
CN110718648A (zh) * 2019-10-18 2020-01-21 南昌航空大学 基于无机空穴传输材料钙钛矿量子点发光二极管的原位合成制作方法
WO2021152720A1 (ja) * 2020-01-29 2021-08-05 シャープ株式会社 発光素子、および、発光素子の製造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011503286A (ja) 2007-11-06 2011-01-27 エイチシーエフ パートナーズ リミテッド パートナーシップ 電子装置における使用のためのホール輸送ポリマー
WO2011039911A1 (ja) 2009-10-02 2011-04-07 シャープ株式会社 有機el照明装置及びその製造方法
JP2012509278A (ja) 2008-11-18 2012-04-19 プレックストロニクス インコーポレーティッド アミノベンゼン組成物ならびに関連する素子および方法
JP2014195073A (ja) 2013-03-15 2014-10-09 Dow Global Technologies Llc マルチヘテロ接合ナノ粒子、その製造方法および同ナノ粒子を含む物品

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2516930A (en) * 2013-08-07 2015-02-11 Cambridge Display Tech Ltd Organic Light-Emitting Device
US9836699B1 (en) * 2015-04-27 2017-12-05 Rigetti & Co. Microwave integrated quantum circuits with interposer
CN105482119B (zh) * 2016-01-25 2018-01-30 吉林大学 具有光电活性的双氟单体及用于制备聚芳醚砜类高分子聚合物

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011503286A (ja) 2007-11-06 2011-01-27 エイチシーエフ パートナーズ リミテッド パートナーシップ 電子装置における使用のためのホール輸送ポリマー
JP2012509278A (ja) 2008-11-18 2012-04-19 プレックストロニクス インコーポレーティッド アミノベンゼン組成物ならびに関連する素子および方法
WO2011039911A1 (ja) 2009-10-02 2011-04-07 シャープ株式会社 有機el照明装置及びその製造方法
JP2014195073A (ja) 2013-03-15 2014-10-09 Dow Global Technologies Llc マルチヘテロ接合ナノ粒子、その製造方法および同ナノ粒子を含む物品

Also Published As

Publication number Publication date
US20190334106A1 (en) 2019-10-31
CN109328402A (zh) 2019-02-12
US10818860B2 (en) 2020-10-27
JP2019522873A (ja) 2019-08-15
KR20190020072A (ko) 2019-02-27
WO2018005318A1 (en) 2018-01-04
EP3475995B1 (en) 2022-12-21
CN109328402B (zh) 2022-02-18
EP3475995A1 (en) 2019-05-01
KR102329405B1 (ko) 2021-11-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7068199B2 (ja) 量子ドット発光素子
CN107210366B (zh) 包含激子缓冲层的钙钛矿发光器件以及制造其的方法
Xing et al. Inkjet-printed quantum dot light-emitting diodes with an air-stable hole transport material
TWI614277B (zh) 溶解度變化的組成物、電洞輸送材料組成物及使用這些組成物而成的有機電子元件
JP5567656B2 (ja) 電気活性材料
JP6204453B2 (ja) 緑色発光材料
KR101564129B1 (ko) 전기활성 재료
JP5059874B2 (ja) 導電性ポリマーを製造するための誘導体化モノマー、およびこのようなポリマーで製造されたデバイス
JP2010528426A (ja) 有機発光ダイオードの形成方法、およびその方法によって製造されたデバイス
JP2014507401A (ja) 電子技術応用のためのトリアジン誘導体
JP2007531762A (ja) 電荷輸送材料として使用するトリアリールアミン化合物
JP2008526768A (ja) 有機金属錯体
KR101924661B1 (ko) 전기활성 재료
CN113087711B (zh) 有机电致发光材料和器件
KR20180030220A (ko) 정공 수송 물질
KR20180066115A (ko) 가교성 정공 수송 물질
KR20180096705A (ko) 전하 수송 염, 전자 소자 및 그의 제조 방법
KR20190004354A (ko) 전기 활성 물질
Wang et al. Improving Perovskite Green Quantum Dot Light-Emitting Diode Performance by Hole Interface Buffer Layers
KR20170045130A (ko) 전기활성 재료
KR102425127B1 (ko) 양자점 발광 소자
TWI808948B (zh) 量子點發光裝置
KR20180002707A (ko) 전기 활성 물질
CN109153771B (zh) 导电聚合物组合物中的二杂胺
KR102599321B1 (ko) 신규 유기 전계발광재료 및 그 소자

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20181220

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20190318

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200522

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210319

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210612

A524 Written submission of copy of amendment under article 19 pct

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524

Effective date: 20210612

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210806

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20211027

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20211227

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220408

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220428

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7068199

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150