JP7061948B2 - 半導体装置、および、半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
以下、本実施の形態の半導体装置について説明する。
本実施の形態の半導体装置について説明する。なお、以下の説明においては、以上に記載された実施の形態で説明された構成要素と同様の構成要素については同じ符号を付して図示し、その詳細な説明については適宜省略するものとする。
図7は、本実施の形態の半導体装置の構成の例を示す断面図である。図7に例が示されるように、本実施の形態の半導体装置は、セル部1Cと、セル部1Cを平面視において囲むインターフェイス部3Cと、インターフェイス部3Cを平面視において囲む終端部2Bとを備える。図7は、図5におけるB-B’断面図の他の例に対応する。
本実施の形態の半導体装置、および、半導体装置の製造方法について説明する。なお、以下の説明においては、以上に記載された実施の形態で説明された構成要素と同様の構成要素については同じ符号を付して図示し、その詳細な説明については適宜省略するものとする。
図8は、本実施の形態の半導体装置の構成の例を示す断面図である。図8に例が示されるように、本実施の形態の半導体装置は、セル部1Dと、セル部1Dを平面視において囲むインターフェイス部3Dと、インターフェイス部3Dを平面視において囲む終端部2Dとを備える。図8は、図5におけるB-B’断面図の他の例に対応する。
図9は、図6に示された構成、図7に示された構成、図2に示された構成および図1に示された構成それぞれにおける、C-C’断面での濃度分布を示す図である。図9において、縦軸はC-C’断面における濃度分布を示し、横軸はセル部から終端部へ向かう座標上の位置を示す。また、図9において、図6に示された構成の濃度分布および図7に示された構成の濃度分布は実線で示され、図2に示された構成の濃度分布は太線で示され、図1に示された構成の濃度分布は点線で示される。また、比較のため、図6に示された構成、図7に示された構成および図2に示された構成では、同様の電界緩和構造10が用いられていることを前提とする。
ここで、半導体装置としてのIGBTの静耐圧印加中の等価回路を示す。図10は、IGBTの静耐圧印加中の等価回路を示す図である。
図12は、図6に示された構成、図7に示された構成、図2に示された構成および図1に示された構成それぞれのC-C’断面における、最適なリサーフ注入量の条件下での電界分布を示す図である。図12において、縦軸はC-C’断面における電界分布[V/cm]を示し、横軸はセル部から終端部へ向かう座標上の位置を示す。また、図12において、図6に示された構成の電界分布および図7に示された構成の電界分布は点線で示され、図2に示された構成の電界分布は実線で示され、図1に示された構成の電界分布は太線で示される。
図13は、図6に示された構成、図7に示された構成、図2に示された構成および図1に示された構成それぞれの、BVおよびIc(break)に対するリサーフ注入量の依存性を示す図である。図13において、左の縦軸はBV(目標の静耐圧で規格化された電圧)を示し、右の縦軸はIc(break)(最大Ic(break)で規格化された電流)を示し、横軸はリサーフ注入量を示す。また、図13において、図6に示された構成および図7に示された構成のBVに対する注入量依存性は三角印で結ばれる実線で示され、図6に示された構成および図7に示された構成のIc(break)に対する注入量依存性は三角印で結ばれる点線で示され、図2に示された構成のBVに対する注入量依存性は丸印で結ばれる実線で示され、図2に示された構成のIc(break)に対する注入量依存性は丸印で結ばれる点線で示され、図1に示された構成のBVに対する注入量依存性は四角印で結ばれる実線で示され、図1に示された構成のIc(break)に対する注入量依存性は四角印で結ばれる点線で示される。
図14は、ターンオフ遮断動作中の、図6に示された構成、図7に示された構成および図2に示された構成に示された構成それぞれのF-F’断面における、ピーク温度と電界分布とを示す図である。図14において、左の縦軸は温度を示し、右の縦軸はF-F’断面における電界分布[V/cm]を示し、横軸はセル部から終端部へ向かう座標上の位置を示す。また、図14において、図6に示された構成のピーク温度および電界分布は実線で示され、図7に示された構成のピーク温度および電界分布は点線で示され、図2に示された構成のピーク温度および電界分布は太線で示される。
図15および図16は、P型のバッファ領域7の製造方法を簡易的に示す断面図である。
次に、以上に記載された実施の形態によって生じる効果の例を示す。なお、以下の説明においては、以上に記載された実施の形態に例が示された具体的な構成に基づいて当該効果が記載されるが、同様の効果が生じる範囲で、本願明細書に例が示される他の具体的な構成と置き換えられてもよい。
以上に記載された実施の形態では、それぞれの構成要素の材質、材料、寸法、形状、相対的配置関係または実施の条件などについても記載する場合があるが、これらはすべての局面においてひとつの例であって、本願明細書に記載されたものに限られることはないものとする。
Claims (7)
- 第1の導電型の半導体基板と、
前記半導体基板の表層において素子構造が形成される領域である活性領域を平面視において囲み、かつ、前記半導体基板の表層に形成される、第2の導電型のウェル領域と、
前記ウェル領域を平面視において囲み、かつ、前記半導体基板の表層に形成される、第2の導電型のバッファ領域と、
前記ウェル領域の上面および前記バッファ領域の上面に形成される絶縁膜と、
前記絶縁膜の上面に形成される電極と、
前記バッファ領域を平面視において囲み、かつ、前記半導体基板の表層に形成される、第2の導電型の電界緩和構造とを備え、
前記バッファ領域は、前記ウェル領域と接触して形成され、
前記バッファ領域の不純物濃度は、前記活性領域から離れるにつれて小さくなり、
前記電極の前記活性領域から遠い側の端部は、前記バッファ領域の前記活性領域から遠い側の端部よりも前記活性領域に近い箇所に位置し、
前記電界緩和構造は、それぞれが前記バッファ領域を平面視において囲み、かつ、前記半導体基板の表層に形成される、第2の導電型の複数のリサーフ層を備え、
前記活性領域に最も近い前記リサーフ層は、前記バッファ領域に接触し、
前記活性領域に近い方から少なくとも2つの前記リサーフ層同士は、互いに接触し、
前記絶縁膜は、前記バッファ領域の上面において部分的に形成され、
前記バッファ領域は、前記電極と接続される、
半導体装置。 - それぞれの前記リサーフ層は、
前記バッファ領域を平面視において囲み、かつ、前記半導体基板の表層に形成される、第2の導電型の拡散層と、
前記拡散層の表層に形成され、かつ、前記拡散層よりも不純物濃度が高い、第2の導電型の注入層とを備え、
前記活性領域に最も近い前記リサーフ層の前記拡散層は、前記バッファ領域に接触し、
前記活性領域に近い方から少なくとも2つの前記リサーフ層の前記拡散層同士は、互いに接触し、
前記注入層同士の間の領域である層間領域の幅は、前記層間領域の位置が前記活性領域から離れるにつれて大きくなり、
前記活性領域に最も近い前記リサーフ層を除く複数の前記リサーフ層の前記注入層の幅は、前記注入層の位置が前記活性領域から離れるにつれて小さくなり、
それぞれの前記層間領域の幅と、前記層間領域の前記活性領域から遠い側の端部に接触する対応する前記注入層の幅と合わせたセットの長さが、すべての前記セットで等しい、
請求項1に記載の半導体装置。 - 第1の導電型の半導体基板と、
前記半導体基板の表層において素子構造が形成される領域である活性領域を平面視において囲み、かつ、前記半導体基板の表層に形成される、第2の導電型のウェル領域と、
前記ウェル領域を平面視において囲み、かつ、前記半導体基板の表層に形成される、第2の導電型のバッファ領域と、
前記ウェル領域の上面および前記バッファ領域の上面に形成される絶縁膜と、
前記絶縁膜の上面に形成される電極と、
前記バッファ領域を平面視において囲み、かつ、前記半導体基板の表層に形成される、第2の導電型の電界緩和構造とを備え、
前記バッファ領域は、前記ウェル領域と接触して形成され、
前記バッファ領域の不純物濃度は、前記活性領域から離れるにつれて小さくなり、
前記電極の前記活性領域から遠い側の端部は、前記バッファ領域の前記活性領域から遠い側の端部よりも前記活性領域に近い箇所に位置し、
前記電界緩和構造は、それぞれが前記バッファ領域を平面視において囲み、かつ、前記半導体基板の表層に形成される、第2の導電型の複数のリサーフ層を備え、
前記活性領域に最も近い前記リサーフ層は、前記バッファ領域に接触し、
前記活性領域に近い方から少なくとも2つの前記リサーフ層同士は、互いに接触し、
それぞれの前記リサーフ層は、
前記バッファ領域を平面視において囲み、かつ、前記半導体基板の表層に形成される、第2の導電型の拡散層と、
前記拡散層の表層に形成され、かつ、前記拡散層よりも不純物濃度が高い、第2の導電型の注入層とを備え、
前記活性領域に最も近い前記リサーフ層の前記拡散層は、前記バッファ領域に接触し、
前記活性領域に近い方から少なくとも2つの前記リサーフ層の前記拡散層同士は、互いに接触し、
前記注入層同士の間の領域である層間領域の幅は、前記層間領域の位置が前記活性領域から離れるにつれて大きくなり、
前記活性領域に最も近い前記リサーフ層を除く複数の前記リサーフ層の前記注入層の幅は、前記注入層の位置が前記活性領域から離れるにつれて小さくなり、
それぞれの前記層間領域の幅と、前記層間領域の前記活性領域から遠い側の端部に接触する対応する前記注入層の幅と合わせたセットの長さが、すべての前記セットで等しく、
前記注入層の不純物濃度をNC6[cm-3]とし、前記ウェル領域の不純物濃度をNC5[cm-3]とする場合、以下の関係を満たす、
- 第1の導電型の半導体基板と、
前記半導体基板の表層において素子構造が形成される領域である活性領域を平面視において囲み、かつ、前記半導体基板の表層に形成される、第2の導電型のウェル領域と、
前記ウェル領域を平面視において囲み、かつ、前記半導体基板の表層に形成される、第2の導電型のバッファ領域と、
前記ウェル領域の上面および前記バッファ領域の上面に形成される絶縁膜と、
前記絶縁膜の上面に形成される電極と、
前記バッファ領域を平面視において囲み、かつ、前記半導体基板の表層に形成される、第2の導電型の電界緩和構造とを備え、
前記バッファ領域は、前記ウェル領域と接触して形成され、
前記バッファ領域の不純物濃度は、前記活性領域から離れるにつれて小さくなり、
前記電極の前記活性領域から遠い側の端部は、前記バッファ領域の前記活性領域から遠い側の端部よりも前記活性領域に近い箇所に位置し、
前記電界緩和構造は、それぞれが前記バッファ領域を平面視において囲み、かつ、前記半導体基板の表層に形成される、第2の導電型の複数のリサーフ層を備え、
前記活性領域に最も近い前記リサーフ層は、前記バッファ領域に接触し、
前記活性領域に近い方から少なくとも2つの前記リサーフ層同士は、互いに接触し、
それぞれの前記リサーフ層は、
前記バッファ領域を平面視において囲み、かつ、前記半導体基板の表層に形成される、第2の導電型の拡散層と、
前記拡散層の表層に形成され、かつ、前記拡散層よりも不純物濃度が高い、第2の導電型の注入層とを備え、
前記活性領域に最も近い前記リサーフ層の前記拡散層は、前記バッファ領域に接触し、
前記活性領域に近い方から少なくとも2つの前記リサーフ層の前記拡散層同士は、互いに接触し、
前記注入層同士の間の領域である層間領域の幅は、前記層間領域の位置が前記活性領域から離れるにつれて大きくなり、
前記活性領域に最も近い前記リサーフ層を除く複数の前記リサーフ層の前記注入層の幅は、前記注入層の位置が前記活性領域から離れるにつれて小さくなり、
それぞれの前記層間領域の幅と、前記層間領域の前記活性領域から遠い側の端部に接触する対応する前記注入層の幅と合わせたセットの長さが、すべての前記セットで等しく、
前記注入層の下面が形成される深さをD6[μm]とし、前記ウェル領域の下面が形成される深さをD5[μm]とする場合、以下の関係を満たす、
- 第1の導電型の半導体基板と、
前記半導体基板の表層において素子構造が形成される領域である活性領域を平面視において囲み、かつ、前記半導体基板の表層に形成される、第2の導電型のウェル領域と、
前記ウェル領域を平面視において囲み、かつ、前記半導体基板の表層に形成される、第2の導電型のバッファ領域と、
前記ウェル領域の上面および前記バッファ領域の上面に形成される絶縁膜と、
前記絶縁膜の上面に形成される電極と、
前記バッファ領域を平面視において囲み、かつ、前記半導体基板の表層に形成される、第2の導電型の電界緩和構造とを備え、
前記バッファ領域は、前記ウェル領域と接触して形成され、
前記バッファ領域の不純物濃度は、前記活性領域から離れるにつれて小さくなり、
前記電極の前記活性領域から遠い側の端部は、前記バッファ領域の前記活性領域から遠い側の端部よりも前記活性領域に近い箇所に位置し、
前記電界緩和構造は、それぞれが前記バッファ領域を平面視において囲み、かつ、前記半導体基板の表層に形成される、第2の導電型の複数のリサーフ層を備え、
前記活性領域に最も近い前記リサーフ層は、前記バッファ領域に接触し、
前記活性領域に近い方から少なくとも2つの前記リサーフ層同士は、互いに接触し、
それぞれの前記リサーフ層は、
前記バッファ領域を平面視において囲み、かつ、前記半導体基板の表層に形成される、第2の導電型の拡散層と、
前記拡散層の表層に形成され、かつ、前記拡散層よりも不純物濃度が高い、第2の導電型の注入層とを備え、
前記活性領域に最も近い前記リサーフ層の前記拡散層は、前記バッファ領域に接触し、
前記活性領域に近い方から少なくとも2つの前記リサーフ層の前記拡散層同士は、互いに接触し、
前記注入層同士の間の領域である層間領域の幅は、前記層間領域の位置が前記活性領域から離れるにつれて大きくなり、
前記活性領域に最も近い前記リサーフ層を除く複数の前記リサーフ層の前記注入層の幅は、前記注入層の位置が前記活性領域から離れるにつれて小さくなり、
それぞれの前記層間領域の幅と、前記層間領域の前記活性領域から遠い側の端部に接触する対応する前記注入層の幅と合わせたセットの長さが、すべての前記セットで等しく、
前記バッファ領域の幅をW7[μm]とし、前記注入層の不純物濃度をNC6[cm-3]とし、前記ウェル領域の不純物濃度をNC5[cm-3]とし、不純物の熱拡散係数をcとする場合、以下の関係を満たす、
- 前記半導体基板の下面に形成される第1の導電型の半導体層と、
前記半導体層の下面に形成される第2の導電型のコレクタ層とをさらに備え、
前記コレクタ層は、平面視において前記活性領域と重なる領域にのみ形成される、
請求項1から請求項5のうちのいずれか1項に記載の半導体装置。 - 第1の導電型の半導体基板の表層において素子構造が形成される領域である活性領域を平面視において囲む第2の導電型のウェル領域を、前記半導体基板の表層に形成し、
前記ウェル領域を平面視において囲む第2の導電型のバッファ領域を、前記半導体基板の表層に形成し、
前記ウェル領域の上面および前記バッファ領域の上面に、絶縁膜を形成し、
前記絶縁膜の上面に、電極を形成し、
前記バッファ領域を平面視において囲む第2の導電型の電界緩和構造を、前記半導体基板の表層に形成し、
前記バッファ領域は、前記ウェル領域と接触して形成され、
前記バッファ領域の不純物濃度は、前記活性領域から離れるにつれて小さくなり、
前記電極の前記活性領域から遠い側の端部は、前記バッファ領域の前記活性領域から遠い側の端部よりも前記活性領域に近い箇所に位置し、
前記電界緩和構造は、それぞれが前記バッファ領域を平面視において囲み、かつ、前記半導体基板の表層に形成される、第2の導電型の複数のリサーフ層を備え、
前記活性領域に最も近い前記リサーフ層は、前記バッファ領域に接触し、
前記活性領域に近い方から少なくとも2つの前記リサーフ層同士は、互いに接触し、
前記絶縁膜は、前記バッファ領域の上面において部分的に形成され、
前記バッファ領域は、前記電極と接続される、
半導体装置の製造方法。
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