JP7060979B2 - 基板接続構造および基板接続構造の製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本実施の形態に係る基板接続構造10の構成を示す平面図である。図2は、図1に示す基板接続構造10をI-I線に沿って切断した状態を示す断面図である。図3は、図1に示す基板接続構造10をII-II線に沿って切断した状態を示す断面図である。
以上のような構成の基板接続構造10の製造方法について、以下に説明する。
(1)第1工程:片面基板60への下側開口部24aに対応する部分の形成(第1開口形成工程に対応)
まず、図4に示すように、片面基板60を準備する。この片面基板60は、導体層21と第1被覆層22とを有している。また、第1被覆層22には、下側開口部24aが形成されている。下側開口部24aは、たとえば予め金型等で打ち抜いた第1被覆層22に対して、導体層21を貼り合わせるようにしても良い。また、導体層21と第1被覆層22とが貼り合わされた片面基板60に対して、レーザ光を照射して下側開口部24aに対応する部分を除去しても良い。
次に、図5に示すように、導体層21に対して、スリット25を形成する。この場合、スリット25は、たとえばパンチとダイスを備える金型にて打ち抜くことで形成しても良く、エッチングにより形成しても良く、レーザ加工によって形成しても良い。
また、図6に示すように、上述した導体層21へのスリット25の形成に前後して、片面基板60に対してフィルム状の第2被覆層23を貼り合わせる。この第2被覆層23には、図6に示すように、上側開口部24bが形成されていない状態で貼り合わされる。そして、貼り合わせの後に、図7に示すように、第2被覆層23において上側開口部24bに対応する部分を除去して、上側開口部24bを形成する。この場合、上述の貼り合わせ後に、たとえば上側開口部24bに対応する部分にレーザ光を照射して、上側開口部24bを形成しても良い。なお、片面基板60に第2被覆層23を貼り合わせる場合、その貼り合わせ後に、導体層21に対してスリット25を形成するようにしても良い。
図8に示すように、上述した開口部24およびスリット25の形成後に、金属板30を導体層21の下方側(Z2側)に設置する。その状態で、導体層21を金属板30に押し付ける。このとき、開放導体層21aの幅方向(Y方向)の両端側にスリット25が存在することで、開放導体層21aは金属板30側(Z2側)に容易に移動可能となっている。また、上述のような押し付け状態とした後に、図9に示すように、接合部50を形成する。この接合部50は、上述のように溶接や超音波接合等により形成することが可能である。なお、溶接としては、たとえばレーザ溶接、ガス溶接、抵抗溶接、アーク溶接、電子ビーム溶接等、種々の溶接を用いることが可能である。なお、レーザ溶接としては、たとえばYAGレーザ、炭酸ガスレーザ、半導体レーザ等、種々の手法を用いることが可能である。
上述した接合部50を形成した後に、耐水封止部40を形成する。この場合、たとえば液状の耐水樹脂を供給するディスペンサのノズルを、いずれか一方のスリット25に近接させるようにする。すると、液状の耐水樹脂は、開口部24の内壁で囲まれた部位に貯留される。このとき、液状の耐水樹脂は、一方のスリット25からテーパ部21a2と金属板30との間の空隙部26に入り込むように回り込む。それにより、開口部24には液状の耐水樹脂が全体的に充填される状態となる(充填工程に対応)。そして、充填後に液状の耐水樹脂を硬化させることで、耐水封止部40を形成する(封止工程に対応)。
以上のような構成の基板接続構造10は、電気的な絶縁性を備える樹脂を材質とし、周囲が内壁で囲まれた状態で貫通する下側開口部24a(第1開口部)を備える第1被覆層22を備え、また、基板接続構造10は、電気的な絶縁性を備える樹脂を材質とし、周囲が内壁で囲まれ、かつ厚み方向(Z方向)において下側開口部24a(第1開口部)と位置合わせされることで下側開口部24a(第1開口部)との間で一体的な開口部24を形成する上側開口部24b(第2開口部)を備える第2被覆層23とを備える。また、基板接続構造10は、少なくとも電気的な導電性を備えると共に、一方側の面が第1被覆層22で覆われ、かつ他方側の面が第2被覆層23で覆われると共に、下側開口部24a(第1開口部)と上側開口部24b(第2開口部)とが連通するように貫通するスリット25を備える導体層21を備えている。また、基板接続構造10は、第1被覆層22のうち導体層21とは反対側に配置される金属板30(金属部材)を備えている。
以上、本発明の一実施の形態について説明したが、本発明はこれ以外にも種々変形可能となっている。以下、それについて述べる。
Claims (5)
- 電気的な絶縁性を備える樹脂を材質とし、周囲が内壁で囲まれた状態で貫通する第1開口部を備える第1被覆層と、
電気的な絶縁性を備える樹脂を材質とし、周囲が内壁で囲まれ、かつ厚み方向において前記第1開口部と位置合わせされることで前記第1開口部との間で一体的な開口部を形成する第2開口部を備える第2被覆層と、
少なくとも電気的な導電性を備えると共に、一方側の面が前記第1被覆層で覆われ、かつ他方側の面が前記第2被覆層で覆われると共に、前記第1開口部と前記第2開口部とが連通するように貫通するスリットを備える導体層と、
前記第1被覆層のうち前記導体層とは反対側に配置される金属部材と、
前記導体層のうち前記第1開口部に位置する開放導体層を前記金属部材側に変形させた状態で前記金属部材と前記導体層とを電気的に導通する状態で接合させた接合部と、
耐水性を備える樹脂を材質とすると共に、前記接合部を形成する前記開放導体層を覆う状態で前記開口部を封止する耐水封止部と、
を備え、
前記耐水封止部は、前記第2被覆層のうち前記導体層とは反対側に位置する表面よりも隆起して設けられていて、
前記耐水封止部には、前記第2被覆層のうち前記導体層とは反対側に位置する表面に差し掛かると共に該表面との間で接着力を及ぼす封止フランジ部が設けられている、
ことを特徴とする基板接続構造。 - 請求項1記載の基板接続構造であって、
前記開口部は矩形状に設けられていると共に、
前記スリットは、矩形状を構成する4つの辺のうち向かう合う一組の辺に沿うように一対設けられている、
ことを特徴とする基板接続構造。 - 請求項2記載の基板接続構造であって、
前記開放導体層は、前記金属部材に対して接する底部を備え、この底部に前記接合部が形成されていると共に、
前記開放導体層のうち延伸方向の両端側には、前記導体層のうち前記第1被覆層および前記第2被覆層で覆われている内部導体層と前記底部とを接続すると共に前記底部から前記内部導体層に向かうにつれて徐々に前記金属部材から離間するテーパ部が設けられていて、
前記金属部材とテーパ部との間の空隙部が前記耐水封止部で充填されている、
ことを特徴とする基板接続構造。 - 電気的な絶縁性を備える樹脂を材質とする第1被覆層と、少なくとも電気的な導電性を備えると共に、一方側の面が前記第1被覆層で覆われる導体層とを備える片面基板に、前記第1被覆層の一部を除去して、周囲が内壁で囲まれた状態で貫通する第1開口部を形成する第1開口形成工程と、
前記導体層のうち前記第1開口部に露出している開放導体層を貫通するスリットを形成するスリット形成工程と、
前記スリット形成工程に前後して、電気的な絶縁性を備える樹脂を材質とする第2被覆層を、前記導体層のうち前記第1被覆層とは反対側に貼り合わせる貼り合わせ工程と、
前記貼り合わせ工程に前後して、周囲が内壁で囲まれると共に厚み方向において前記第1開口部と位置合わせされることで第1開口部との間で一体的な開口部となる第2開口部を前記第2被覆層に対して形成する第2開口形成工程と、
前記スリット形成工程、前記貼り合わせ工程および前記第2開口形成工程の後に、前記第1被覆層のうち前記導体層とは反対側に金属部材を配置すると共に、前記導体層のうち前記第1開口部に位置する開放導体層を前記金属部材側に変形させた状態で前記金属部材と前記導体層とを電気的に導通する状態で接合させて接合部を形成する接合部形成工程と、
前記接合部形成工程の後に、前記開放導体層が覆われる状態で前記開口部に液状の耐水樹脂が充填される充填工程と、
前記充填工程の後に、液状の前記耐水樹脂を硬化させて、前記第2被覆層のうち前記導体層とは反対側に位置する表面よりも隆起して設けられる耐水封止部を形成する封止工程と、
を備え、
前記充填工程では、前記第2被覆層のうち前記導体層とは反対側に位置する表面に差し掛かるように液状の前記耐水樹脂が充填されると共に、
前記封止工程では、前記表面に差し掛かった液状の前記耐水樹脂が硬化することで、前記表面との間で接着力を及ぼす封止フランジ部が形成される、
ことを特徴とする基板接続構造の製造方法。 - 請求項4記載の基板接続構造の製造方法であって、
前記第1開口形成工程および前記第2開口形成工程では、前記第1開口部および前記第2開口部を矩形状に形成し、
前記スリット形成工程では、前記スリットは、矩形状の前記第1開口部を構成する4つの辺のうち向かう合う一組の辺に沿うように一対形成されている、
ことを特徴とする基板接続構造の製造方法。
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