JP7056107B2 - 塗布膜形成方法及び塗布膜形成装置 - Google Patents
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Description
前記基板保持部に保持された基板の表面に塗布液のミストを吐出する吐出工程と、
前記凹凸パターンをなす凹部内で前記塗布液を流動させて当該凹部の側壁を当該塗布液で被覆するために、前記基板を傾斜した状態で回転させるか、あるいは前記基板の傾斜角度を変更する被覆工程と、
前記塗布液を乾燥させて塗布膜を形成する工程と、
を備え、
前記被覆工程は、前記基板を傾斜した状態で回転させる工程であることを特徴とする。
1 基板処理装置
10 制御部
2 レジスト膜形成モジュール
21 スピンチャック
22 回転機構
31 カップ
37 傾斜変更機構
41 レジスト供給ノズル
Claims (9)
- 表面に凹凸パターンが形成された基板を基板保持部に保持する工程と、
前記基板保持部に保持された基板の表面に塗布液のミストを吐出する吐出工程と、
前記凹凸パターンをなす凹部内で前記塗布液を流動させて当該凹部の側壁を当該塗布液で被覆するために、前記基板を傾斜した状態で回転させるか、あるいは前記基板の傾斜角度を変更する被覆工程と、
前記塗布液を乾燥させて塗布膜を形成する工程と、
を備え、
前記被覆工程は、前記基板を傾斜した状態で回転させる工程であることを特徴とする塗布膜形成方法。 - 前記吐出工程は、傾斜した状態で回転する前記基板に前記ミストを吐出する工程を含むことを特徴とする請求項1記載の塗布膜形成方法。
- 前記被覆工程は、前記吐出工程が行われるときよりも傾斜が大きい状態で前記基板を回転させる工程を含むことを特徴とする請求項2記載の塗布膜形成方法。
- 前記吐出工程は、水平な状態の基板に前記ミストを吐出する工程であることを特徴とする請求項3記載の塗布膜形成方法。
- 表面に凹凸パターンが形成された基板を基板保持部に保持する工程と、
前記基板保持部に保持された基板の表面に塗布液のミストを吐出する吐出工程と、
前記凹凸パターンをなす凹部内で前記塗布液を流動させて当該凹部の側壁を当該塗布液で被覆するために、前記基板を傾斜した状態で回転させるか、あるいは前記基板の傾斜角度を変更する被覆工程と、
前記塗布液を乾燥させて塗布膜を形成する工程と、
を備え、
前記被覆工程は基板の傾斜角度を変更する工程であり、
当該基板の傾斜の向きを変更する工程を含むことを特徴とする塗布膜形成方法。 - 表面に凹凸パターンが形成された基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持された前記基板の表面に、乾燥して塗布膜を形成するための塗布液のミストを吐出する塗布液吐出ノズルと、
前記凹凸パターンを形成する凹部内で前記塗布液を流動させて当該凹部の側壁を当該塗布液で被覆するために設けられる、前記基板を傾斜した状態で回転させる回転機構及び基板の傾斜角度を変更する傾斜変更機構と、
を備え、
前記傾斜変更機構は、回転可能な前記基板の傾斜角度を変更するように構成され、
前記基板への前記ミストの供給後は、当該基板への前記ミストの供給中よりも傾斜が大きい状態で前記基板を回転させるように制御信号を出力する制御部を備える塗布膜形成装置。 - 前記塗布液吐出ノズルは、前記回転機構により傾斜した状態で回転する基板に前記ミストを供給するために、側方に開口した吐出孔を備えることを特徴とする請求項6記載の塗布膜形成装置。
- 前記ミストの供給中において、前記基板は水平な状態であることを特徴とする請求項6または7記載の塗布膜形成装置。
- 前記傾斜変更機構が設けられ、
当該傾斜変更機構は、基板の傾斜の向きを変更することを特徴とする請求項6ないし8のいずれか一つに記載の塗布膜形成装置。
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