JP7047171B1 - 積層体 - Google Patents
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Abstract
Description
[1] 抗菌成分(K)を含有する基材(s)と、撥水層(r)とを含む積層体であって、
前記撥水層(r)が、連結基を介して又は連結基を介さずに加水分解性基又はヒドロキシ基が結合しているケイ素原子を有する有機ケイ素化合物(A)の硬化層であり、
基材(s)に設けられた撥水層(r)を含む積層部の厚みが1nm以上50nm以下である積層体。
[2] 加水分解性基又はヒドロキシ基が結合したケイ素原子を有する有機ケイ素化合物(C)を含む[1]に記載の積層体。
[3] 撥水層(r)と基材(s)との間に、層(c)が設けられており、
層(c)が加水分解性基又はヒドロキシ基が結合したケイ素原子を有する有機ケイ素化合物(C)を含む[1]又は[2]に記載の積層体。
[4] 基材(s)と撥水層(r)とが直接積層されており、
撥水層(r)が加水分解性基又はヒドロキシ基が結合したケイ素原子を有する有機ケイ素化合物(C)を含む[1]又は[2]に記載の積層体。
[5] 抗菌成分(K)が、金属イオンを含む[1]~[4]のいずれかに記載の積層体。
[6] 抗菌成分(K)が、4級アンモニウム塩を含む[1]~[5]のいずれかに記載の積層体。
[7] 4級アンモニウム塩が、式(k1)で表される化合物である[6]に記載の積層体。
[式(k1)中、
Rk1~Rk3は、それぞれ独立して、炭素数1~30の炭化水素基を表し、
Rk4及びRk5は、それぞれ独立して、炭素数1~4のアルキル基を表し、Rk5が複数存在する場合は複数のRk5がそれぞれ異なっていてもよく、
Yk1及びYk2は、それぞれ独立して、単結合又は炭素数1~10の2価の炭化水素基を表し、
Ak1及びAk2は、それぞれ独立して、加水分解性基又はヒドロキシ基を表し、Ak1が複数存在する場合は複数のAk1がそれぞれ異なっていてもよく、Ak2が複数存在する場合は複数のAk2がそれぞれ異なっていてもよく、
Zk1は、加水分解性基、ヒドロキシ基、炭素数1~4のアルキル基、又は式(ki)で表される基であり、
k3は、1又は2を表し、
k4は、0~2の整数を表し、
k5は、0~10の整数を表し、
nは、Zk1が加水分解性基、ヒドロキシ基、又は炭素数1~4のアルキル基である場合は1を、Zk1が式(ki)で表される基である場合には2を表し、
Xは、ハロゲン原子を表す。
[式(ki)中、Rk17~Rk19は、それぞれ独立して、炭素数1~30の炭化水素基を表し、*は、結合手を表す。]]
[8] 有機ケイ素化合物(A)が、フルオロポリエーテル構造を有する化合物である[1]~[7]のいずれかに記載の積層体。
[9] 有機ケイ素化合物(A)が、式(a1)で表される化合物である[1]~[8]のいずれかに記載の積層体。
上記式(a1)中、
Rfa26、Rfa27、Rfa28、及びRfa29は、それぞれ独立して、1個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数1~20のフッ化アルキル基又はフッ素原子であり、Rfa26が複数存在する場合は複数のRfa26がそれぞれ異なっていてもよく、Rfa27が複
数存在する場合は複数のRfa27がそれぞれ異なっていてもよく、Rfa28が複数存在する場合は複数のRfa28がそれぞれ異なっていてもよく、Rfa29が複数存在する場合は複数のRfa29がそれぞれ異なっていてもよく、
R25及びR26は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~4のアルキル基、又は1個以上の水素原子がハロゲン原子に置換された炭素数1~4のハロゲン化アルキル基であり、一つの炭素原子に結合するR25及びR26の少なくとも一方は水素原子であり、R25が複数存在する場合は複数のR25がそれぞれ異なっていてもよく、R26が複数存在する場合は複数のR26がそれぞれ異なっていてもよく、
R27及びR28は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1~4のアルキル基、又は単結合であり、R27が複数存在する場合は複数のR27がそれぞれ異なっていてもよく、R28が複数存在する場合は複数のR28がそれぞれ異なっていてもよく、
R29及びR30は、それぞれ独立して、炭素数1~20のアルキル基であり、R29が複数存在する場合は複数のR29がそれぞれ異なっていてもよく、R30が複数存在する場合は複数のR30がそれぞれ異なっていてもよく、
M7は、-O-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-、-NR-、-NRC(=
O)-、-C(=O)NR-、-CH=CH-、又は-C6H4-であり、前記Rは水素原子、炭素数1~4のアルキル基又は炭素数1~4の含フッ素アルキル基であり、M7が複
数存在する場合は複数のM7がそれぞれ異なっていてもよく、
M5は、水素原子、フッ素原子又は炭素数1~4のアルキル基であり、M5が複数存在する場合は複数のM5がそれぞれ異なっていてもよく、
M10は、水素原子、又はハロゲン原子であり、
M8及びM9は、それぞれ独立して、加水分解性基、ヒドロキシ基、又は-(CH2)e7
-Si(OR14)3であり、e7は1~5であり、R14はメチル基又はエチル基であり、
M8が複数存在する場合は複数のM8がそれぞれ異なっていてもよく、M9が複数存在する
場合は複数のM9がそれぞれ異なっていてもよく、
f21、f22、f23、f24、及びf25はそれぞれ独立して0~600の整数であり、f21、f22、f23、f24、及びf25の合計値は13以上であり、
f26は、0~20の整数であり、
f27は、それぞれ独立して、0~2の整数であり、
g2、g3は、それぞれ独立して、1~3の整数であり、
M10-、-Si(M9)g3(R30)3-g3、f21個の-{C(R25)(R26)}-単位
(Ua1)、f22個の-{C(Rfa26)(Rfa27)}-単位(Ua2)、f23個の-{Si(R27)(R28)}-単位(Ua3)、f24個の-{Si(Rfa28)(Rfa29)}-単位(Ua4)、f25個の-M7-単位(Ua5)、及びf26個の-[C(M5){(CH2)f27-Si(M8)g2(R29)3-g2}]-単位(Ua6)は、M10-が式(a1)にお
ける一方の末端であり、-Si(M9)g3(R30)3-g3が他方の末端であり、少なくとも
一部でフルオロポリエーテル構造を形成する順で並び、-O-が-O-と連続しない限り、それぞれの単位が任意の順で並んで結合する。
[10] 有機ケイ素化合物(C)が、アミノ基又はアミン骨格を有する化合物である[2]~[9]のいずれかに記載の積層体。
[11] 有機ケイ素化合物(C)が、式(c1)~(c3)のいずれかで表される化合物又は2以上の式(c3)で表される化合物が下記X31~X34の少なくともいずれかで縮合して結合した化合物である[2]~[10]のいずれかに記載の積層体。
上記式(c1)中、
Rx11、Rx12、Rx13、Rx14は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が1~4のアルキル基であり、Rx11が複数存在する場合は複数のRx11がそれぞれ異なっていてもよく、Rx12が複数存在する場合は複数のRx12がそれぞれ異なっていてもよく、Rx13が複数
存在する場合は複数のRx13がそれぞれ異なっていてもよく、Rx14が複数存在する場合は複数のRx14がそれぞれ異なっていてもよく、
Rfx11、Rfx12、Rfx13、Rfx14は、それぞれ独立して、1個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数1~20のアルキル基又はフッ素原子であり、Rfx11が複
数存在する場合は複数のRfx11がそれぞれ異なっていてもよく、Rfx12が複数存在する場合は複数のRfx12がそれぞれ異なっていてもよく、Rfx13が複数存在する場合は複数のRfx13がそれぞれ異なっていてもよく、Rfx14が複数存在する場合は複数のRfx14
がそれぞれ異なっていてもよく、
Rx15は、炭素数が1~20のアルキル基であり、Rx15が複数存在する場合は複数のRx15がそれぞれ異なっていてもよく、
X11は、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、X11が複数存在する場合は複数のX11がそれぞれ異なっていてもよく、
Y11は、-NH-、又は-S-であり、Y11が複数存在する場合は複数のY11がそれぞれ異なっていてもよく、
Z11は、ビニル基、α-メチルビニル基、スチリル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、アミノ基、イソシアネート基、イソシアヌレート基、エポキシ基、ウレイド基、又はメルカプト基であり、
p1は、1~20の整数であり、p2、p3、p4は、それぞれ独立して、0~10の整数であり、p5は、0~10の整数であり、
p6は、1~3の整数であり、
Z11がアミノ基でない場合は-NH-であるY11を少なくとも1つ有し、Y11が全て-S-である場合又はp5が0である場合はZ11がアミノ基であり、
Z11-、-Si(X11)p6(Rx15)3-p6、p1個の-{C(Rx11)(Rx12)}-単
位(Uc11)、p2個の-{C(Rfx11)(Rfx12)}-単位(Uc12)、p3個の-{Si(Rx13)(Rx14)}-単位(Uc13)、p4個の-{Si(Rfx13)(Rfx14)
}-単位(Uc14)、p5個の-Y11-単位(Uc15)は、Z11-が式(c1)で表される化合物の一方の末端となり、-Si(X11)p6(Rx15)3-p6が他方の末端となり、-O
-が-O-と連結しない限り、それぞれの単位(Uc11)~単位(Uc15)が任意の順で並んで結合する。
上記式(c2)中、
Rx20及びRx21は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が1~4のアルキル基であり、Rx20が複数存在する場合は複数のRx20がそれぞれ異なっていてもよく、Rx21が複
数存在する場合は複数のRx21がそれぞれ異なっていてもよく、
Rfx20及びRfx21は、それぞれ独立して、1個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数1~20のアルキル基又はフッ素原子であり、Rfx20が複数存在する場合は
複数のRfx20がそれぞれ異なっていてもよく、Rfx21が複数存在する場合は複数のRfx21がそれぞれ異なっていてもよく、
Rx22及びRx23はそれぞれ独立して、炭素数が1~20のアルキル基であり、Rx22及
びRx23が複数存在する場合は複数のRx22及びRx23がそれぞれ異なっていてもよく、
X20及びX21はそれぞれ独立して、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、X20及びX21が複数存在する場合は複数のX20及びX21がそれぞれ異なっていてもよく、
p20は、それぞれ独立して1~30の整数であり、p21は、それぞれ独立して0~30の整数であり、p20又はp21を付して括弧でくくられた繰り返し単位の少なくとも1つは、アミン骨格-NR100-に置き換わっており、前記アミン骨格におけるR100は水素原子又はアルキル基であり、
p22及びp23はそれぞれ独立して、1~3の整数であり、
p20個の-{C(Rx20)(Rx21)}-単位(Uc21)、p21個の-{C(Rfx20)(Rfx21)}-単位(Uc22)は、p20個の単位(Uc21)又はp21個の単位(Uc22)が連続である必要はなく、それぞれの単位(Uc21)及び単位(Uc22)が任意の順で並んで結合し、式(c2)で表される化合物の一方の末端が-Si(X20)p22(Rx22)3-p22となり、他方の末端が-Si(X21)p23(Rx23)3-p23となる。
上記式(c3)中、
Z31、Z32は、それぞれ独立に、加水分解性基及びヒドロキシ基以外の、反応性官能基であり、
Rx31、Rx32、Rx33、Rx34は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が1~4のアルキル基であり、Rx31が複数存在する場合は複数のRx31がそれぞれ異なっていてもよく、Rx32が複数存在する場合は複数のRx32がそれぞれ異なっていてもよく、Rx33が複数
存在する場合は複数のRx33がそれぞれ異なっていてもよく、Rx34が複数存在する場合は複数のRx34がそれぞれ異なっていてもよく、
Rfx31、Rfx32、Rfx33、Rfx34は、それぞれ独立して、1個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数1~20のアルキル基又はフッ素原子であり、Rfx31が複
数存在する場合は複数のRfx31がそれぞれ異なっていてもよく、Rfx32が複数存在する場合は複数のRfx32がそれぞれ異なっていてもよく、Rfx33が複数存在する場合は複数のRfx33がそれぞれ異なっていてもよく、Rfx34が複数存在する場合は複数のRfx34
がそれぞれ異なっていてもよく、
Y31は、-NH-、-N(CH3)-又は-O-であり、Y31が複数存在する場合は複
数のY31がそれぞれ異なっていてもよく、
X31、X32、X33、X34は、それぞれ独立に、-ORc(Rcは、水素原子、炭素数1~4のアルキル基、又はアミノC1-3アルキルジC1-3アルコキシシリル基である)であり、X31が複数存在する場合は複数のX31がそれぞれ異なっていてもよく、X32が複数存在する場合は複数のX32がそれぞれ異なっていてもよく、X33が複数存在する場合は複数のX33がそれぞれ異なっていてもよく、X34が複数存在する場合は複数のX34がそれぞれ異なっていてもよく、
p31は、0~20の整数であり、p32、p33、p34は、それぞれ独立して、0~10の整数であり、p35は、0~5の整数であり、p36は、1~10の整数であり、p37は0又は1であり、
Z31及びZ32の少なくとも一方がアミノ基であるか、又はY31の少なくとも一つが-NH-又は-N(CH3)-であるという条件を満たし、かつ式(c3)で表される化合物
の一方の末端がZ31-であり、他方の末端がZ32-であり、-O-が-O-と連結しない限り、p31個の-{C(Rx31)(Rx32)}-単位(Uc31)、p32個の-{C(R
fx31)(Rfx32)}-単位(Uc32)、p33個の-{Si(Rx33)(Rx34)}-単
位(Uc33)、p34個の-{Si(Rfx33)(Rfx34)}-単位(Uc34)、p35個の-Y31-単位(Uc35)、p36個の-{Si(X31)(X32)-O}-単位(Uc36)、p37個の-{Si(X33)(X34)}-単位(Uc37)がそれぞれ任意の順で並んで
結合して構成される。
[12] 撥水層(r)表面における水接触角が、105°以上であり、且つ下記要件(α)及び(β)からなる群から選ばれる少なくとも1つの要件を満たす[1]~[11]のいずれかに記載の積層体。
(α)JIS Z 2801:2010に準拠した抗菌活性試験を行った際の黄色ブドウ球菌に対する抗菌活性値が0.1以上。
(β)JIS Z 2801:2010に準拠した抗菌活性試験を行った際の大腸菌に対する抗菌活性値が0.1以上。
[13] 撥水層(r)表面における動摩擦係数が、0.1以下である[1]~[12]のいずれかに記載の積層体。
[14] 直径6mmの円当たり荷重1000gをかけて、前記積層体の撥水層(r)表面を1500往復擦る耐摩耗試験を行った後の撥水層(r)表面における水接触角が75°以上である[1]~[13]のいずれかに記載の積層体。
[15] 250g/cm2の圧力をかけて、前記積層体の撥水層(r)表面をスチール
ウールで擦る摩耗試験を、撥水層(r)表面に剥がれ又は傷が目視にて確認されるまで行った際、撥水層(r)表面をスチールウールが往復する回数が100回以上である[1]~[14]のいずれかに記載の積層体。
[16] [1]~[15]のいずれかに記載の積層体を含むウインドウフィルム又はタッチパネルディスプレイ。
以上50nm以下である積層体である。
基材(s)の材質は特に限定されず、有機系材料、無機系材料のいずれでもよく、また基材の形状は平面、曲面のいずれであってもよいし、これらが組み合わさった形状でもよい。有機系材料としては、アクリル樹脂、アクリロニトリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂(例えば、ポリエチレンテレフタレート等)、スチレン樹脂、セルロース樹脂、ポリオレフィン樹脂、ビニル系樹脂(例えば、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ビニルベンジルクロライド系樹脂、ポリビニルアルコール等)、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ビニルエーテル系樹脂、及びこれら共重合体などの熱可塑性樹脂;フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂等が挙げられる。無機系材料としては、鉄、シリコン、銅、亜鉛、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、ランタン等の金属、これらの金属酸化物、又はこれら金属を含む合金、セラミックス、ガラスなどが挙げられる。これらの中でも有機系材料が好ましい。
層(s1)の材質は、上述した有機系材料及び無機系材料のいずれであってもよいが、有機系材料であることが好ましく、中でもアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ビニルベンジルクロライド系樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、及びウレタン樹脂から選択される少なくとも1種であることがより好ましく、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂がさらに好ましく、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。
層(s2)としては、活性エネルギー線硬化型樹脂及び熱硬化型の樹脂よりなる群(X1)から選択される少なくとも1種から形成される層が挙げられる。前記活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることができるエネルギー線と定義される。活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、X線、α線、β線、γ線及び電子線などを挙げることができる。前記活性エネルギー線硬化型樹脂には、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、オキセタン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニルベンジルクロライド系樹脂、ビニル系樹脂(ポリエチレン、塩化ビニル系樹脂など)、スチレン系樹脂、フェノール系樹脂、ビニルエーテル系樹脂もしくはシリコーン系樹脂又はこれらの混合樹脂等の紫外線硬化型樹脂や、電子線硬化型樹脂が含まれ、特に紫外線硬化型樹脂が好ましい。また、層(s2)としては、チタン酸化物、ジルコニウム酸化物、アルミニウム酸化物、ニオブ酸化物、タンタル酸化物、ランタン酸化物、及びSiO2よりなる群(X2)から選択される少なくとも1種から形成される層を挙げること
もできる。群(X1)としては、特にアクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、スチレン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリアミド系樹脂、フェノール系樹脂、及びエポキシ系樹脂が好ましい。層(s2)の厚みは、例えば0.1nm以上100μm以下であり、好ましくは1nm以上60μm以下、より好ましくは1nm以上10μm以下である。
を示す層であることが好ましい。反射防止層(ar)は、シリカから形成される層を含むことが好ましい。
とNb2O5が交互に積層され、層(s1)と反対側の最外層がSiO2である構造が好ま
しい。反射防止層(ar)は、例えば蒸着法によって形成することができる。反射防止層(ar)の厚みは、例えば0.5nm以上、1000nm以下である。
層体の浸水や昇温等の環境変化による有機系抗菌成分の急激なブリードアウトを抑制でき、基材における有機系抗菌成分の保持が容易になると考えられる。
[式(k1)中、
Rk1~Rk3は、それぞれ独立して、炭素数1~30の炭化水素基を表し、
Rk4及びRk5は、それぞれ独立して、炭素数1~4のアルキル基を表し、Rk5が複数存在する場合は複数のRk5がそれぞれ異なっていてもよく、
Yk1及びYk2は、それぞれ独立して、単結合又は炭素数1~10の2価の炭化水素基を表し、
Ak1及びAk2は、それぞれ独立して、加水分解性基又はヒドロキシ基を表し、Ak1が複数存在する場合は複数のAk1がそれぞれ異なっていてもよく、Ak2が複数存在する場合は複数のAk2がそれぞれ異なっていてもよく、
Zk1は、加水分解性基、ヒドロキシ基、炭素数1~4のアルキル基、又は式(ki)で表される基であり、
k3は、1又は2を表し、
k4は、0~2の整数を表し、
k5は、0~10の整数を表し、
nは、Zk1が加水分解性基、ヒドロキシ基、又は炭素数1~4のアルキル基である場合は1を、Zk1が式(ki)で表される基である場合には2を表し、
Xは、ハロゲン原子を表す。
[式(ki)中、Rk17~Rk19は、それぞれ独立して、炭素数1~30の炭化水素基を表し、*は、結合手を表す。]]
が短鎖アルキル基であり、Rk17~Rk19の内いずれか1つが長鎖アルキル基であり、残りの2つが短鎖アルキル基であることが好ましい。
長鎖アルキル基の主鎖(最長直鎖)の炭素数は、5以上であることが好ましく、より好ましくは8以上、更に好ましくは12以上であり、また25以下であることが好ましく、より好ましくは20以下である。
短鎖アルキル基の主鎖(最長直鎖)の炭素数は、4以下であることが好ましく、より好ましくは1又は2であり、特に好ましくは1である。
Rk19の内いずれか1つが炭素数5~25(好ましくは、12~25)の直鎖状アルキル
基であり、残りの2つが炭素数1~4(好ましくは1~2)の直鎖状アルキル基であることがより好ましい。
[式(k1-1)中、
Rk11~Rk16は、それぞれ独立して、炭素数1~30の炭化水素基を表し、
Yk11及びYk12は、それぞれ独立して、単結合又は炭素数1~10の2価の炭化水素基を表し、
Ak11~Ak14は、それぞれ独立して、加水分解性基又はヒドロキシ基を表し、Ak13が
複数存在する場合は複数のAk13がそれぞれ異なっていてもよく、Ak14が複数存在する場合は複数のAk14がそれぞれ異なっていてもよく、
k13は、0~10の整数を表し、
Xは、ハロゲン原子を表す。]
~Rk19で表される炭素数1~30の炭化水素基として説明した基と同様の基が挙げられ
、その好ましい態様も同様である。
Rk13の内いずれか1つが炭素数5~25(好ましくは、12~25)の直鎖状アルキル
基であり、残りの2つが炭素数1~4(好ましくは1~2)の直鎖状アルキル基であることがより好ましい。
Rk16の内いずれか1つが炭素数5~25(好ましくは、12~25)の直鎖状アルキル
基であり、残りの2つが炭素数1~4(好ましくは1~2)の直鎖状アルキル基であることがより好ましい。
[式(k1-2)中、
Rk21~Rk23は、それぞれ独立して、炭素数1~30の炭化水素基を表し、
Rk24は、炭素数1~4のアルキル基を表し、Rk24が複数存在する場合は複数のRk24
がそれぞれ異なっていてもよく、
Yk21は、単結合又は炭素数1~10の2価の炭化水素基を表し、
Ak21は、加水分解性基又はヒドロキシ基を表し、Ak21が複数存在する場合は複数のAk21がそれぞれ異なっていてもよく、
k21は、1~3の整数を表し、
Xは、ハロゲン原子を表す。]
~Rk19で表される炭素数1~30の炭化水素基として説明した基と同様の基が挙げられ
、その好ましい態様も同様である。
る炭素数1~4のアルキル基として説明した基と同様の基が挙げられ、その好ましい態様も同様である。
る炭素数1~10の2価の炭化水素基として説明した基と同様の基が挙げられ、その好ましい態様も同様である。
基として説明した基と同様の基が挙げられ、その好ましい態様も同様である。
Rk23の内いずれか1つが炭素数5~25(好ましくは、12~25)の直鎖状アルキル
基であり、残りの2つが炭素数1~4(好ましくは1~2)の直鎖状アルキル基であることがより好ましい。
ことが好ましく、アルコキシ基又はヒドロキシ基であることがより好ましく、炭素数1~4のアルコキシ基又はヒドロキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基又はエトキシ基であることが特に好ましい。
結合又は炭素数1~10の直鎖状アルキレン基であることがより好ましく、単結合又は炭素数2~8(特に炭素数2~5)の直鎖状アルキレン基であることが更に好ましく、炭素数2~5の直鎖状アルキレン基であることが特に好ましい。
特に抗菌成分(K)が無機系抗菌成分である場合、無機系抗菌成分の含有量は、基材(s)100質量%中、0.001質量%以上であることが好ましく、より好ましくは0.005質量%以上、更に好ましくは0.01質量%以上であり、また、50質量%以下であることが好ましく、より好ましくは10質量%以下、更に好ましくは5質量%以下である。また基材(s)が、層(s1)及び層(s2)を含む場合、層(s1)及び層(s2
)の両層における無機系抗菌成分の含有量を上記範囲に調整してもよいが、どちらか一方の層における無機系抗菌成分の含有量を上記範囲に調整することが好ましく、層(s2)における無機系抗菌成分の含有量を上記範囲に調整することが特に好ましい。
また、抗菌成分(K)が有機系抗菌成分である場合、有機系抗菌成分の含有量は、基材(s)100質量%中、0.001質量%以上であることが好ましく、より好ましくは0.005質量%以上、更に好ましくは0.01質量%以上、特に好ましくは0.1質量%以上であり、また、50質量%以下であることが好ましく、より好ましくは25質量%以下、更に好ましくは10質量%以下である。また基材(s)が、層(s1)及び層(s2)を含む場合、層(s1)及び層(s2)の両層における有機系抗菌成分の含有量を上記範囲に調整してもよいが、どちらか一方の層における有機系抗菌成分の含有量を上記範囲に調整することが好ましく、層(s2)における有機系抗菌成分の含有量を上記範囲に調整することが特に好ましい。
フィルム(富士フイルム株式会社製)、ダイセル抗ウイルスハードコートフィルムS BV01、ダイセル抗ウイルスハードコートフィルムS BV02(株式会社ダイセル製)等が挙げられる。
撥水層(r)は、連結基を介して又は連結基を介さずに加水分解性基又はヒドロキシ基が結合しているケイ素原子を有する有機ケイ素化合物(A)の硬化層である。撥水層(r)が有機ケイ素化合物(A)の硬化層であることにより、薄膜であっても良好な撥水性を付与することができ、好ましくは薄膜であっても良好な撥水性、並びに耐摩耗性及び耐擦傷性などの耐久性を付与することができる。有機ケイ素化合物(A)の硬化層は、通常、有機ケイ素化合物(A)の混合組成物を塗布して硬化させることにより得られ、すなわち撥水層(r)は、有機ケイ素化合物(A)の混合組成物の硬化層であるといえる。以下、有機ケイ素化合物(A)の混合組成物を、撥水層形成用組成物という場合がある。
有機ケイ素化合物(A)は、連結基を介して又は連結基を介さずに加水分解性基又はヒドロキシ基(以下、両者を合わせて、反応性基(h3)と呼ぶ)が結合しているケイ素原子を有する化合物である。前記反応性基(h3)は、加水分解・脱水縮合反応を通じて、有機ケイ素化合物(A)同士;有機ケイ素化合物(A)と他の単量体;又は有機ケイ素化合物(A)と撥水層形成用組成物が塗布される面の活性水素(水酸基など);と共に縮合反応を通じて結合する作用を有する。前記加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲ
ン原子、シアノ基、アセトキシ基、イソシアネート基等が挙げられる。前記反応性基(h3)は、アルコキシ基又はハロゲン原子であることが好ましく、炭素数が1~4であるアルコキシ基又は塩素原子であることがより好ましく、メトキシ基又はエトキシ基が特に好ましい。
、好ましくは1~10である)、CF3(CF2)m-(CH2)n-、CF3(CF2)m-C6H4-(mはいずれも1~10であり、好ましくは3~7であり、nはいずれも1~5であり、好ましくは2~4である)が挙げられ、CF3(CF2)p-又はCF3(CF2)m-(CH2)n-が好ましい。
数が1~4のアルキル基)、H、NCOなどが結合できる。
上記式(a1)中、
Rfa26、Rfa27、Rfa28、及びRfa29は、それぞれ独立して、1個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数1~20のフッ化アルキル基又はフッ素原子であり、Rfa26が複数存在する場合は複数のRfa26がそれぞれ異なっていてもよく、Rfa27が複
数存在する場合は複数のRfa27がそれぞれ異なっていてもよく、Rfa28が複数存在する場合は複数のRfa28がそれぞれ異なっていてもよく、Rfa29が複数存在する場合は複数のRfa29がそれぞれ異なっていてもよく、
R25及びR26は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~4のアルキル基、又は1個以上の水素原子がハロゲン原子に置換された炭素数1~4のハロゲン化アルキル基であり、一つの炭素原子に結合するR25及びR26の少なくとも一方は水素原子であり、R25が複数存在する場合は複数のR25がそれぞれ異なっていてもよく、R26が複数存在する場合は複数のR26がそれぞれ異なっていてもよく、
R27及びR28は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1~4のアルキル基、又は単結合であり、R27が複数存在する場合は複数のR27がそれぞれ異なっていてもよく、R28が複数存在する場合は複数のR28がそれぞれ異なっていてもよく、
R29及びR30は、それぞれ独立して、炭素数1~20のアルキル基であり、R29が複数存在する場合は複数のR29がそれぞれ異なっていてもよく、R30が複数存在する場合は複数のR30がそれぞれ異なっていてもよく、
M7は、-O-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-、-NR-、-NRC(=
O)-、-C(=O)NR-、-CH=CH-、又は-C6H4-(フェニレン基)であり、前記Rは水素原子、炭素数1~4のアルキル基又は炭素数1~4の含フッ素アルキル基であり、M7が複数存在する場合は複数のM7がそれぞれ異なっていてもよく、
M5は、水素原子、フッ素原子又は炭素数1~4のアルキル基であり、M5が複数存在する場合は複数のM5がそれぞれ異なっていてもよく、
M10は、水素原子、又はハロゲン原子であり、
M8及びM9は、それぞれ独立して、加水分解性基、ヒドロキシ基、又は-(CH2)e7
-Si(OR14)3であり、e7は1~5であり、R14はメチル基又はエチル基であり、
M8が複数存在する場合は複数のM8がそれぞれ異なっていてもよく、M9が複数存在する
場合は複数のM9がそれぞれ異なっていてもよく、
f21、f22、f23、f24、及びf25はそれぞれ独立して0~600の整数であり、f21、f22、f23、f24、及びf25の合計値は13以上であり、
f26は、0~20の整数であり、
f27は、それぞれ独立して、0~2の整数であり、
g2、g3は、それぞれ独立して、1~3の整数であり、
M10-、-Si(M9)g3(R30)3-g3、f21個の-{C(R25)(R26)}-単位
(Ua1)、f22個の-{C(Rfa26)(Rfa27)}-単位(Ua2)、f23個の-{Si(R27)(R28)}-単位(Ua3)、f24個の-{Si(Rfa28)(Rfa29)}-単位(Ua4)、f25個の-M7-単位(Ua5)、及びf26個の-[C(M5){(CH2)f27-Si(M8)g2(R29)3-g2}]-単位(Ua6)は、M10-が式(a1)にお
ける一方の末端であり、-Si(M9)g3(R30)3-g3が他方の末端であり、少なくとも
一部でフルオロポリエーテル構造を形成する順で並び、-O-が-O-と連続しない限り、それぞれの単位が任意の順で並んで結合する。任意の順で並んで結合するとは、各繰り返し単位が連続して上記式(a1)に記載の通りの順に並ぶ意味に限定されないことを意味し、またf21個の単位(Ua1)が連続して結合している必要はなく、途中に他の単位を介して結合していてもよく、合計でf21個あればよいことを意味する。f22~f26で括られる単位(Ua2)~(Ua6)についても同様である。
キサン結合を形成することができる。
R25及びR26は、好ましくはそれぞれ独立して、水素原子、又はフッ素原子であり、一つの炭素原子に結合するR25及びR26の少なくとも一方は水素原子であり、より好ましくはいずれも水素原子である。
R27及びR28は、好ましくはそれぞれ独立して、水素原子、又は炭素数1~2のアルキル基であり、より好ましくはすべて水素原子である。
R29及びR30は、炭素数1~5のアルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数1~2のアルキル基である。
M7は、好ましくは、-C(=O)-O-、-O-、-O-C(=O)-であり、より
好ましくはすべて-O-である。
M5は、好ましくは水素原子又は炭素数1~2のアルキル基であり、より好ましくはす
べて水素原子である。
M10は、好ましくはフッ素原子である。
M8及びM9は、好ましくはそれぞれ独立して、アルコキシ基、ハロゲン原子であり、メトキシ基、エトキシ基、塩素原子がより好ましく、特にメトキシ基、又はエトキシ基が好ましい。
好ましくは、f21、f23、及びf24は、それぞれf22の1/2以下であり、より好ましくは1/4以下であり、更に好ましくはf23又はf24は0であり、特に好ましくはf23及びf24は0である。
f25は、好ましくはf21、f22、f23、f24の合計値の1/5以上であり、f21、f22、f23、f24の合計値以下である。
f21は0~20が好ましく、より好ましくは0~15であり、更に好ましくは1~15であり、特に2~10が好ましい。f22は、5~600が好ましく、8~600がより好ましく、更に好ましくは20~200であり、一層好ましくは30~200であり、より一層好ましくは35~180であり、最も好ましくは40~180である。f23及びf24は、0~5が好ましく、より好ましくは0~3であり、更に好ましくは0である。f25は4~600が好ましく、より好ましくは4~200であり、更に好ましくは10~200であり、一層好ましくは30~60である。f21、f22、f23、f24、f25の合計値は、20~600が好ましく、20~250がより好ましく、50~230が更に好ましい。f26は、好ましくは0~18であり、より好ましくは0~15であり、更に好ましくは0~10であり、一層好ましくは0~5である。f27は、好まし
くは0~1であり、より好ましくは0である。g2及びg3は、それぞれ独立して2~3が好ましく、3がより好ましい。
塩素原子(特にメトキシ基又はエトキシ基)であり、M5が水素原子であり、M10がフッ
素原子であり、f21が1~10(好ましくは2~7)、f22が30~200(より好ましくは40~180)、f23及びf24が0、f25が30~60、f26が0~6であり、f27が0~1(特に好ましくは0)であり、g2及びg3が3である化合物(a11)を有機ケイ素化合物(A)として用いることが好ましい。
上記式(a2)中、
Rfa1は、両端が酸素原子である2価のフルオロポリエーテル構造であり、
R11、R12、及びR13は、それぞれ独立して炭素数1~20のアルキル基であり、R11が複数存在する場合は複数のR11がそれぞれ異なっていてもよく、R12が複数存在する場合は複数のR12がそれぞれ異なっていてもよく、R13が複数存在する場合は複数のR13がそれぞれ異なっていてもよく、
E1、E2、E3、E4、及びE5は、それぞれ独立して水素原子又はフッ素原子であり、
E1が複数存在する場合は複数のE1がそれぞれ異なっていてもよく、E2が複数存在する
場合は複数のE2がそれぞれ異なっていてもよく、E3が複数存在する場合は複数のE3が
それぞれ異なっていてもよく、E4が複数存在する場合は複数のE4がそれぞれ異なっていてもよく、E5が複数存在する場合は複数のE5がそれぞれ異なっていてもよく、
G1及びG2は、それぞれ独立して、シロキサン結合を有する2~10価のオルガノシロキサン基であり、
J1、J2、及びJ3は、それぞれ独立して、加水分解性基、ヒドロキシ基又は-(CH2)e7-Si(OR14)3であり、e7は1~5であり、R14はメチル基又はエチル基であ
り、J1が複数存在する場合は複数のJ1がそれぞれ異なっていてもよく、J2が複数存在
する場合は複数のJ2がそれぞれ異なっていてもよく、J3が複数存在する場合は複数のJ3がそれぞれ異なっていてもよく、
L1及びL2は、それぞれ独立して、酸素原子、窒素原子、ケイ素原子又はフッ素原子を含んでいてもよい炭素数1~12の2価の連結基であって、-{C(R25)(R26)}-単位(Ua1)、-{C(Rfa26)(Rfa27)}-単位(Ua2)、-{Si(R27)(R28)}-単位(Ua3)又は-M7-単位(Ua5)の一つ以上が任意の順で並んで結合した
連結基であり(R25、R26、R27、R28、Rfa26、Rfa27、M7は上記式(a1)にお
けるものと同じ)、
a10及びa14は、それぞれ独立して0又は1であり、
a11及びa15は、それぞれ独立して0又は1であり、
a12及びa16は、それぞれ独立して0~9であり、
a13は、0~4であり、
a11が0の時、又はa11が1であってG1が2価の時はd11は1であり、a11
が1であってG1が3~10価のときは、d11はG1の価数より一つ少ない数であり、
a15が0の時、又はa15が1であってG2が2価の時はd12が1であり、a15
が1であってG2が3~10価のときは、d12はG2の価数より一つ少ない数であり、
a21及びa23は、それぞれ独立して0~2であり、
e1、e2、及びe3は、それぞれ独立して1~3である。
(CF2-CF(CF3)O)e6-が好ましい。e4、及びe5は、いずれも15~80であり、e6は3~60である。また、Rfa1は、pモルのパーフルオロプロピレングリコールとqモルのパーフルオロメタンジオールがランダムに脱水縮合した構造の両末端の水酸基から水素原子が外れて残った基であることも好ましく、p+qが15~80であり、Rfa1としてはこの態様が最も好ましい。
あることが好ましい。
り、E1、E2、及びE3がいずれも水素原子であり、E4が水素原子であり、E5がフッ素
原子であり、J1、J2、及びJ3がいずれもメトキシ基又はエトキシ基(特にメトキシ基
)であり、a10が1であり、a11が0であり、a12が0~7(好ましくは0~5)であり、a13が2であり、a14が1であり、a15が0であり、a16が0~6(特に0)であり、a21及びa23が、それぞれ独立して、0又は1であり(より好ましくはa21及びa23がいずれも0)、d11が1であり、d12が1であり、e1~e3がいずれも3である化合物(a21)を用いることが好ましい。
、E2、E3がいずれも水素原子であり、E5がフッ素原子であり、J2が-(CH2)e7-
Si(OCH3)3であり、e7が2~4であり、a10が1であり、a11が0であり、a12が0であり、a13が2であり、a14が1であり、a15が0であり、a16が0であり、d11が1であり、d12が1であり、e2が3である化合物(a22)を用いることも好ましい。
撥水層(r)は、上記した有機ケイ素化合物(A)由来の構造とともに、下記式(b1)で表される有機ケイ素化合物(B)由来の構造を有していてもよい。有機ケイ素化合物(A)由来の構造とともに、有機ケイ素化合物(B)由来の構造を有する撥水層(r)は、前記撥水層形成用組成物として、更に有機ケイ素化合物(B)が混合された混合組成物を塗布して硬化させることにより得ることができる。
Rfb10は、1個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数1~20のアルキル
基又はフッ素原子であり、
Rb11、Rb12、Rb13、Rb14は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が1~4のアルキル基であり、Rb11が複数存在する場合は複数のRb11がそれぞれ異なっていてもよく、Rb12が複数存在する場合は複数のRb12がそれぞれ異なっていてもよく、Rb13が複数
存在する場合は複数のRb13がそれぞれ異なっていてもよく、Rb14が複数存在する場合は複数のRb14がそれぞれ異なっていてもよく、
Rfb11、Rfb12、Rfb13、Rfb14は、それぞれ独立して、1個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数1~20のアルキル基又はフッ素原子であり、Rfb11が複
数存在する場合は複数のRfb11がそれぞれ異なっていてもよく、Rfb12が複数存在する場合は複数のRfb12がそれぞれ異なっていてもよく、Rfb13が複数存在する場合は複数のRfb13がそれぞれ異なっていてもよく、Rfb14が複数存在する場合は複数のRfb14
がそれぞれ異なっていてもよく、
Rb15は、炭素数が1~20のアルキル基であり、Rb15が複数存在する場合は複数のRb15がそれぞれ異なっていてもよく、
A1は、-O-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-、-NR-、-NRC(=
O)-、又は-C(=O)NR-であり、前記Rは水素原子、炭素数1~4のアルキル基又は炭素数1~4の含フッ素アルキル基であり、A1が複数存在する場合は複数のA1がそれぞれ異なっていてもよく、
A2は、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、A2が複数存在する場合は複数のA2が
それぞれ異なっていてもよく、
b11、b12、b13、b14、b15は、それぞれ独立して0~100の整数であり、
cは、1~3の整数であり、
Rfb10-、-Si(A2)c(Rb15)3-c、b11個の-{C(Rb11)(Rb12)}-
単位(Ub1)、b12個の-{C(Rfb11)(Rfb12)}-単位(Ub2)、b13個の-{Si(Rb13)(Rb14)}-単位(Ub3)、b14個の-{Si(Rfb13)(Rfb14)}-単位(Ub4)、b15個の-A1-単位(Ub5)は、Rfb10-が式(b1)で表される化合物の一方の末端となり、-Si(A2)c(Rb15)3-cが他方の末端となり、フルオロポリエーテル構造を形成せず、かつ-O-が-O-乃至-Fと連結しない限り、それぞれの単位(Ub1)~単位(Ub5)が任意の順で並んで結合する。
数1~5)のパーフルオロアルキル基が好ましい。
トキシ基、イソシアネート基等が挙げられる。
メトキシ基、エトキシ基、塩素原子である。
くは20以下である。
fb12)}b12-が末端となり、C6F13-となるように定められる。
CjF2j+1-Si-(OC2H5)3(jは1~12の整数)が挙げられ、この中で特にC4
F9-Si-(OC2H5)3、C6F13-Si-(OC2H5)3、C7F15-Si-(OC2H5)3、C8F17-Si-(OC2H5)3が好ましい。また、CF3CH2O(CH2)kSiCl3、CF3CH2O(CH2)kSi(OCH3)3、CF3CH2O(CH2)kSi(OC2H5)3、CF3(CH2)2Si(CH3)2(CH2)kSiCl3、CF3(CH2)2Si(C
H3)2(CH2)kSi(OCH3)3、CF3(CH2)2Si(CH3)2(CH2)kSi(
OC2H5)3、CF3(CH2)6Si(CH3)2(CH2)kSiCl3、CF3(CH2)6Si(CH3)2(CH2)kSi(OCH3)3、CF3(CH2)6Si(CH3)2(CH2)k
Si(OC2H5)3、CF3COO(CH2)kSiCl3、CF3COO(CH2)kSi(OCH3)3、CF3COO(CH2)kSi(OC2H5)3が挙げられる(kはいずれも5~20であり、好ましくは8~15である)。また、CF3(CF2)m-(CH2)nSiCl3、CF3(CF2)m-(CH2)nSi(OCH3)3、CF3(CF2)m-(CH2)nSi(OC2H5)3を挙げることもできる(mはいずれも1~10であり、好ましくは3~7で
あり、nはいずれも1~5であり、好ましくは2~4である)。CF3(CF2)p-(C
H2)q-Si-(CH2CH=CH2)3を挙げることもできる(pはいずれも2~10で
あり、好ましくは2~8であり、qはいずれも1~5であり、好ましくは2~4である)。更に、CF3(CF2)p-(CH2)qSiCH3Cl2、CF3(CF2)p-(CH2)qSiCH3(OCH3)2、CF3(CF2)p-(CH2)qSiCH3(OC2H5)2が挙げられる(pはいずれも2~10であり、好ましくは3~7であり、qはいずれも1~5であり、好ましくは2~4である)。
)由来の構造とは、有機ケイ素化合物(B)及び有機ケイ素化合物(B)が脱水縮合した後の残基を指す。
本発明の積層体には、有機ケイ素化合物(C)が含まれていることが好ましく、該有機ケイ素化合物(C)は撥水層(r)に含まれていてもよい。特に、本発明の積層体が積層体(2)である場合には、撥水層(r)に有機ケイ素化合物(C)が含まれていることが好ましい。撥水層(r)に有機ケイ素化合物(C)が含まれていることにより、基材(s)への撥水層(r)の密着性が良好となり、その結果積層体の耐摩耗性が向上し得る。撥水層(r)が有機ケイ素化合物(C)を含む場合、撥水層(r)は、通常、有機ケイ素化合物(A)、有機ケイ素化合物(C)、及び任意に用いられる有機ケイ素化合物(B)が混合された撥水層形成用組成物を塗布して硬化させることにより得られる。
合物又は2以上の式(c3)で表される化合物がX31~X34の少なくともいずれかで縮合して結合した化合物であることが好ましい。
Rx11、Rx12、Rx13、Rx14は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が1~4のアルキル基であり、Rx11が複数存在する場合は複数のRx11がそれぞれ異なっていてもよく、Rx12が複数存在する場合は複数のRx12がそれぞれ異なっていてもよく、Rx13が複数
存在する場合は複数のRx13がそれぞれ異なっていてもよく、Rx14が複数存在する場合は複数のRx14がそれぞれ異なっていてもよく、
Rfx11、Rfx12、Rfx13、Rfx14は、それぞれ独立して、1個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数1~20のアルキル基又はフッ素原子であり、Rfx11が複
数存在する場合は複数のRfx11がそれぞれ異なっていてもよく、Rfx12が複数存在する場合は複数のRfx12がそれぞれ異なっていてもよく、Rfx13が複数存在する場合は複数のRfx13がそれぞれ異なっていてもよく、Rfx14が複数存在する場合は複数のRfx14
がそれぞれ異なっていてもよく、
Rx15は、炭素数が1~20のアルキル基であり、Rx15が複数存在する場合は複数のRx15がそれぞれ異なっていてもよく、
X11は、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、X11が複数存在する場合は複数のX11がそれぞれ異なっていてもよく、
Y11は、-NH-、又は-S-であり、Y11が複数存在する場合は複数のY11がそれぞれ異なっていてもよく、
Z11は、ビニル基、α-メチルビニル基、スチリル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、アミノ基、イソシアネート基、イソシアヌレート基、エポキシ基、ウレイド基、又はメルカプト基であり、
p1は、1~20の整数であり、p2、p3、p4は、それぞれ独立して、0~10の整数であり、p5は、0~10の整数であり、
p6は、1~3の整数であり、
Z11がアミノ基でない場合は-NH-であるY11を少なくとも1つ有し、Y11が全て-S-である場合又はp5が0である場合はZ11がアミノ基であり、
Z11-、-Si(X11)p6(Rx15)3-p6、p1個の-{C(Rx11)(Rx12)}-単
位(Uc11)、p2個の-{C(Rfx11)(Rfx12)}-単位(Uc12)、p3個の-{Si(Rx13)(Rx14)}-単位(Uc13)、p4個の-{Si(Rfx13)(Rfx14)
}-単位(Uc14)、p5個の-Y11-単位(Uc15)は、Z11-が式(c1)で表される化合物の一方の末端となり、-Si(X11)p6(Rx15)3-p6が他方の末端となり、-O
-が-O-と連結しない限り、それぞれの単位(Uc11)~単位(Uc15)が任意の順で並んで結合する。
がフッ素原子に置換された炭素数1~10のアルキル基又はフッ素原子であることが好ましい。
X12は、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、X12が複数存在する場合は複数のX12がそれぞれ異なっていてもよく、
Y12は、-NH-であり、
Z12は、アミノ基、又はメルカプト基であり、
Rx16は、炭素数が1~20のアルキル基であり、Rx16が複数存在する場合は複数のRx16がそれぞれ異なっていてもよく、
pは、1~3の整数であり、qは2~5の整数であり、rは0~5の整数であり、sは0又は1であり、
sが0である場合は、Z12はアミノ基である。
素数が1~4のアルコキシ基又はヒドロキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基、エトキシ基、又はヒドロキシ基であることが特に好ましい。
ルキル基であることがより好ましい。
上記式(c2)中、
Rx20及びRx21は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が1~4のアルキル基であり、Rx20が複数存在する場合は複数のRx20がそれぞれ異なっていてもよく、Rx21が複
数存在する場合は複数のRx21がそれぞれ異なっていてもよく、
Rfx20及びRfx21は、それぞれ独立して、1個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数1~20のアルキル基又はフッ素原子であり、Rfx20が複数存在する場合は
複数のRfx20がそれぞれ異なっていてもよく、Rfx21が複数存在する場合は複数のRfx21がそれぞれ異なっていてもよく、
Rx22及びRx23はそれぞれ独立して、炭素数が1~20のアルキル基であり、Rx22及
びRx23が複数存在する場合は複数のRx22及びRx23がそれぞれ異なっていてもよく、
X20及びX21はそれぞれ独立して、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、X20及びX21が複数存在する場合は複数のX20及びX21がそれぞれ異なっていてもよく、
p20は、1~30の整数であり、p21は、0~30の整数であり、p20又はp21を付して括弧でくくられた繰り返し単位の少なくとも1つは、アミン骨格-NR100-
に置き換わっており、前記アミン骨格におけるR100は水素原子又はアルキル基であり、
p22及びp23はそれぞれ独立して、1~3の整数であり、
p20個の-{C(Rx20)(Rx21)}-単位(Uc21)、p21個の-{C(Rfx20)(Rfx21)}-単位(Uc22)は、p20個の単位(Uc21)又はp21個の単位(Uc22)が連続である必要はなく、それぞれの単位(Uc21)及び単位(Uc22)が任意の順で並んで結合し、式(c2)で表される化合物の一方の末端が-Si(X20)p22(Rx22)3-p22となり、他方の末端が-Si(X21)p23(Rx23)3-p23となる。
0又はp21を付して括弧でくくられた繰り返し単位のいずれかが前記アミン骨格に置き換わっていればよいが、p20を付して括弧でくくられた繰り返し単位の一部であることが好ましい。前記アミン骨格は、複数存在してもよく、その場合のアミン骨格の数は、1~10であることが好ましく、1~5であることがより好ましく、2~5であることが更に好ましい。また、この場合、隣り合うアミン骨格の間に-{C(Rx20)(Rx21)}p200-を有することが好ましく、p200は、1~10であることが好ましく、1~5であることがより好ましい。p200は、p20の総数に含まれる。
H-(R100が水素原子)であることが好ましい。
及びX21がメトキシ基である。
X22及びX23は、それぞれ独立して、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、X22及び
X23が複数存在する場合は複数のX22及びX23がそれぞれ異なっていてもよく、
Rx24及びRx25は、それぞれ独立して、炭素数が1~20のアルキル基であり、Rx24
及びRx25が複数存在する場合は複数のRx24及びRx25がそれぞれ異なっていてもよく、
-CwH2w-は、その一部のメチレン基の少なくとも1つがアミン骨格-NR100-に置き換わっており、R100は水素原子又はアルキル基であり、
wは1~30の整数であり(ただし、アミン骨格に置き換わったメチレン基の数を除く)、
p24及びp25は、それぞれ独立して、1~3の整数である。
10であることが好ましく、1~5であることがより好ましく、2~5であることが更に好ましい。また、この場合、隣り合うアミン骨格の間にアルキレン基を有することが好ましい。前記アルキレン基の炭素数は、1~10であることが好ましく、1~5であることがより好ましい。隣り合うアミン骨格の間のアルキレン基の炭素数は、wの総数に含まれる。
H-(R100が水素原子)であることが好ましい。
Z31、Z32は、それぞれ独立に、加水分解性基及びヒドロキシ基以外の、反応性官能基である。反応性官能基としては、ビニル基、α-メチルビニル基、スチリル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、アミノ基、エポキシ基、ウレイド基、又はメルカプト基が挙げられる。Z31、Z32としては、アミノ基、メルカプト基、又はメタクリロイル基が好ま
しく、特にアミノ基が好ましい。
存在する場合は複数のRx33がそれぞれ異なっていてもよく、Rx34が複数存在する場合は複数のRx34がそれぞれ異なっていてもよい。Rx31、Rx32、Rx33、Rx34は、水素原子
又は炭素数が1~2のアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
数存在する場合は複数のRfx31がそれぞれ異なっていてもよく、Rfx32が複数存在する場合は複数のRfx32がそれぞれ異なっていてもよく、Rfx33が複数存在する場合は複数のRfx33がそれぞれ異なっていてもよく、Rfx34が複数存在する場合は複数のRfx34
がそれぞれ異なっていてもよい。Rfx31、Rfx32、Rfx33、Rfx34は、1個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数1~10のアルキル基又はフッ素原子であることが好ましい。
数のY31がそれぞれ異なっていてもよい。Y31は-NH-であることが好ましい。
キル基である-ORcであることが好ましく、Rcは水素原子がより好ましい。
つ式(c3)で表される化合物の一方の末端がZ31-であり、他方の末端がZ32-であり、-O-が-O-と連結しない限り、p31個の-{C(Rx31)(Rx32)}-単位(Uc31)、p32個の-{C(Rfx31)(Rfx32)}-単位(Uc32)、p33個の-{Si(Rx33)(Rx34)}-単位(Uc33)、p34個の-{Si(Rfx33)(Rfx34)
}-単位(Uc34)、p35個の-Y31-単位(Uc35)、p36個の-{Si(X31)(X32)-O}-単位(Uc36)、p37個の-{Si(X33)(X34)}-単位(Uc37)がそれぞれ任意の順で並んで結合して構成される。p31個の単位(Uc31)は、単位(
Uc31)が連続して結合している必要はなく、途中に他の単位を介して結合していてもよ
く、合計でp31個であればよい。p32~p37で括られる単位(Uc32)~単位(Uc37)についても同様である。
子、又は炭素数1~2のアルキル基である-ORcであることが好ましく、Rcが水素原子であることがより好ましい。Y31は-NH-であることが好ましい。p41~p44は、1以上が好ましく、また5以下が好ましく、4以下がより好ましい。p45、p46はいずれも0であることが好ましい。
有機ケイ素化合物(C3’)は、2以上の前記有機ケイ素化合物(C3)が前記X31~X34の少なくともいずれかで縮合して結合した化合物であり、2以上の前記有機ケイ素化合物(C3)は、鎖状に結合してもよいし、環状に結合してもよい。有機ケイ素化合物(C3’)は、例えば、有機ケイ素化合物(C3)から形成される化合物である。
下記式(c31-1)の*1及び*2には、それぞれ、下記式(c31-2)のp31、p32、p33、p34、p35、(p36)-1、p37で括られた単位の少なくとも1種が任意の順で結合し末端がZ-である基が結合しており、複数の前記構造(c31-1)ごとに、*1及び*2に結合する基は異なっていてもよく、
複数の前記構造(c31-1)が鎖状に結合しているときの末端となる*3は水素原子であり、*4はヒドロキシ基である。
Zは、加水分解性基及びヒドロキシ基以外の、反応性官能基であり、
Rx31、Rx32、Rx33、Rx34、Rfx31、Rfx32、Rfx33、Rfx34、Y31、X31、X32、X33、X34、p31~p37は、前記式(c3)中のこれら符号と同義である。
ましく、より好ましくは40質量%以下、更に好ましくは30質量%以下である。ここで、有機ケイ素化合物(C)由来の構造とは、有機ケイ素化合物(C)及び有機ケイ素化合物(C)が脱水縮合した後の残基を指す。
特に、本発明の積層体が積層体(2)である場合に、有機ケイ素化合物(C)由来の構造を上記範囲に調整することが好ましい。また、本発明の積層体が積層体(1)である場合、有機ケイ素化合物(C)由来の構造は、撥水層(r)中、5質量%以下であることが好ましく、1質量%以下であることがより好ましく、有機ケイ素化合物(C)由来の構造が含まれないことが特に好ましい。
積層体の薄片化の方法としては、厚み100nm以下の超薄切片に加工できればよく、集束イオンビーム加工法、ウルトラミクロトーム法、クライオウルトラミクロトーム加工法等が挙げられる。例えば集束イオンビーム加工法を用いる場合、イオン源はGaであることが好ましく、加速電圧は30kV程度とすることが好ましい。
STEM観察の際は、加速電圧は20kv~30kV、電流値は50pA~100pA、倍率は50万~100万倍とすることが好ましい。なお、STEM観察において、撥水層(r)と外界との界面を分かりやすくするために、薄片化の前に、撥水層(r)の上面を、フェルトペン等にて黒塗りしてから測定してもよい。
好ましくは3以上)用意し、エリプソメーターを用いて撥水層(r)の厚みを各々測定する。また該サンプルに対してXPS測定を行い、撥水層(r)に由来する特定の元素量と層(c)に由来する特定の元素量の比を求め、撥水層(r)の厚みに対する上記比の検量線を作成する。そして、実際に得られた積層体についてXPS測定を行うことにより、撥水層(r)に由来する特定の元素量と層(c)に由来する特定の元素量の比を求め、上記の検量線に従って、撥水層(r)の厚みを算出することができる。
本発明の積層体において、基材(s)と撥水層(r)との間に層(c)が設けられていてもよい。本発明の積層体が層(c)を含む場合、すなわち積層体(1)である場合、加水分解性基又はヒドロキシ基が結合したケイ素原子を有する有機ケイ素化合物(C)は、層(c)に含まれることが好ましい。層(c)に有機ケイ素化合物(C)が含まれている場合、層(c)は撥水層(r)のプライマー層として機能することができ、基材(s)への撥水層(r)の密着性が良好となり、その結果積層体の耐摩耗性が向上し得る。層(c)に含まれる有機ケイ素化合物(C)としては、上記で説明した有機ケイ素化合物(C)と同様であり、その好ましい態様も同一である。
記範囲を満たすことが好ましい。
本発明の積層体の撥水層(r)表面を測定したときに、金属及びフッ素原子が観察される場合、観察される金属とフッ素原子の物質量比(金属/フッ素原子)は、0.0001以上であることが好ましく、より好ましくは0.001以上であり、また、1以下が好ましく、より好ましくは0.5以下、更に好ましくは0.1以下である。金属としては、前記金属イオン(K2)由来の金属が挙げられる。また、フッ素原子としては、例えば、前記有機ケイ素化合物(A)由来のフッ素原子、及び前記有機ケイ素化合物(B)由来のフッ素原子が挙げられる。従って、撥水層(r)表面を測定したときの金属とフッ素原子の物質量比(金属/フッ素原子)を上記範囲とすることにより、より良好な撥水性及び抗菌性の両立が可能となる。なお、上記撥水層(r)表面の測定には、X線光電子分光法(XPS)やSTEM-EDSを用いることができる。
触角(1500回後接触角)は、例えば75°以上、好ましくは100°以上、より好ましくは105°以上、更に好ましくは110°以上であり、また例えば120°以下である。上記耐摩耗試験において、擦る際には、弾性体(好ましくは消しゴム)で擦ることが好ましい。耐摩耗試験のストローク距離は、例えば40mmであり、擦る速度は40往復/分として、ストローク領域の略中央で接触角を測定すればよい。荷重を負荷する際には、直径6mmの円の面積当たり1000gの荷重を掛けることと同等の圧力がかかっていればよい。
擦る摩耗試験を、撥水層(r)表面に剥がれ又は傷が目視にて確認されるまで行った際、撥水層(r)表面をスチールウールが往復する回数が、例えば100回以上であり、好ましくは300回以上、より好ましくは500回以上、更に好ましくは3000回以上、特に好ましくは4000回以上であり、また例えば10000回以下である。
次に、本発明の積層体の製造方法について説明する。
本発明の積層体が積層体(1)である場合、積層体(1)を製造する方法は、(i)基
材(s)上に層(c)形成用組成物を塗布する工程と、(ii)前記層(c)形成用組成物の塗布層を硬化させる工程と、(iii)前記層(c)形成用組成物の塗布面に、撥水層形
成用組成物(以下、積層体(1)を製造するのに用いられる撥水層形成用組成物を撥水層形成用組成物(1)と呼ぶ。)を塗布する工程と、(iv)前記撥水層形成用組成物(1)の塗布層を硬化させる工程を含み、前記層(c)形成用組成物の塗布層から前記層(c)を形成し、前記撥水層形成用組成物(1)の塗布層から前記撥水層(r)を形成する。
ケトン系溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどが挙げられる。
エーテル系溶剤としては、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサンなどが挙げられる。
炭化水素系溶剤としては、ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素系溶剤、シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。
エステル系溶剤としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチルなどが挙げられる。
成物の調製時に調整できる。また有機ケイ素化合物(C)の量は、組成物の分析結果から算出してもよい。組成物の分析結果から特定する方法としては、例えば、組成物に含まれる各化合物の種類は、組成物をガスクロマトグラフィー質量分析法や液体クロマトグラフィー質量分析法等により分析し、得られた分析結果をライブラリ検索することで特定でき、また組成物に含まれる各化合物の量は、検量線法を用いて上記分析結果から算出することができる。なお、本明細書において、各成分の量、質量比又はモル比の範囲を記載している場合、該範囲は、組成物の調製時に調整できる。
組成物(1)が有機ケイ素化合物(A)の縮合物を含むことも挙げられ、該縮合物としては、例えば、有機ケイ素化合物(A)が有する-SiOH基又は加水分解で生じた有機ケイ素化合物(A)の-SiOH基(SiとOHが連結基を介して結合していてもよい)が、有機ケイ素化合物(A)由来の-SiOH基(SiとOHが連結基を介して結合していてもよい)、又は他の化合物由来の-SiOH基と脱水縮合して形成された脱水縮合物が挙げられる。
標)7200(3M社製、分子量約264)が挙げられる。フッ素化アミン系溶剤としては、アンモニアの水素原子の少なくとも1つがフルオロアルキル基で置換されたアミンが好ましく、アンモニアの全ての水素原子がフルオロアルキル基(特にパーフルオロアルキル基)で置換された第三級アミンが好ましく、具体的にはトリス(ヘプタフルオロプロピル)アミンが挙げられ、フロリナート(登録商標)FC-3283(3M社製、分子量約521)がこれに該当する。フッ素化炭化水素系溶剤としては、1,1,1,3,3-ペンタフルオロブタン、パーフルオロヘキサンなどのフッ素化脂肪族炭化水素系溶剤、1,3-ビス(トリフルオロメチルベンゼン)などのフッ素化芳香族炭化水素系溶剤が挙げられる。1,1,1,3,3-ペンタフルオロブタンとしては、例えばソルブ55(ソルベックス社製)等が挙げられる。
本発明の積層体が積層体(2)である場合、積層体(2)を製造する方法は、(i)基
材(s)上に撥水層形成用組成物(以下、積層体(2)を製造するのに用いられる撥水層形成用組成物を撥水層形成用組成物(2)と呼ぶ。)を塗布する工程と、(ii)前記撥水層形成用組成物(2)を硬化させる工程を含む。
ケイ素化合物(A)以外の成分が混合されている場合には、前記有機ケイ素化合物(A)と他の成分とを混合することにより得られる。前記撥水層形成用組成物(2)は、混合後、例えば保管中に反応が進んだものも含む。反応が進んだ例としては、例えば、前記撥水層形成用組成物(2)が、有機ケイ素化合物(A)の加水分解物、有機ケイ素化合物(A)の脱水縮合物、有機ケイ素化合物(C)の加水分解物、又は有機ケイ素化合物(C)の脱水縮合物を含むことが挙げられる。
)の塗布面に易接着処理を施すことにより、撥水層(r)と基材(s)との密着性がより向上できる。
本発明の積層体は、表示装置に好適に用いられ、特にフレキシブル表示装置に好適に用いられる。本発明の積層体は、好ましくは表示装置において前面板として用いることができ、該前面板はウインドウフィルムと称されることがある。
ウインドウフィルムは、表示装置(好ましくはフレキシブル画像表示装置)の視認側に配置され、その他の構成要素を外部からの衝撃又は温湿度等の環境変化から保護する役割を担っている。このような保護層としてはガラスを使用してもよく、フレキシブル画像表示装置においては、ウインドウフィルムはガラスのようにリジッドで堅いものではなく、フレキシブルな特性を有する材料を使用してもよい。従って、本発明の積層体をフレキシブル表示装置におけるウインドウフィルムとして用いる場合には、基材(s)はフレキシブルな透明基材からなる層を有することが好ましく、基材(s)が、少なくとも一方の面にハードコート層が積層されている複層構造を有してもよい。
ビニル類、ポリ塩化ビニリデン類、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等のポリエステル類、ナイロン等のポリアミド類、ポリイミド類、ポリアミドイミド類、ポリエーテルイミド類、ポリエーテルスルホン類、ポリスルホン類、ポリビニルアルコール類、ポリビニルアセタール類、ポリウレタン類、エポキシ樹脂類などの高分子で形成されたフィルムであってもよく、未延伸1軸又は2軸延伸フィルムを使用することができる。これらの高分子はそれぞれ単独又は2種以上混合して使用することができる。好ましくは、前記記載の透明基材の中でも透明性及び耐熱性に優れたポリアミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム又はポリイミドフィルム、ポリエステル系フィルム、オレフィン系フィルム、アクリルフィルム、セルロース系フィルムが好ましい。高分子フィルムの中には、シリカ等の無機粒子、有機微粒子、ゴム粒子等を分散させることも好ましい。さらに、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤などの配合剤を含有させてもよい。前記透明基材の厚さは5μm以上200μm以下、好ましくは20μm以上100μm以下である。特にフレキシブル画像表示装置に用いる場合、前記透明基材の厚さは5μm以上60μm以下が好ましい。
りやすく、低毒性であり、得られたハードコート層のカチオン重合性化合物から得られるネットワーク形成速度を早め、ラジカル重合性化合物と混在する領域でも未反応のモノマーを膜中に残さずに独立したネットワークを形成する等の利点がある。
前記ハードコート組成物には重合開始剤をさらに含むことができる。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等であり、適宜選択して用いることができる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。
活性エネルギー線ラジカル重合開始剤としては、分子の分解でラジカルが生成されるType1型ラジカル重合開始剤と、3級アミンと共存して水素引き抜き型反応でラジカルを生成するType2型ラジカル重合開始剤があり、それぞれ単独で又は併用して使用することもできる。
本発明の表示装置(好ましくはフレキシブル表示装置)は、上記の通り、偏光板、中でも円偏光板を備えることが好ましい。円偏光板は、直線偏光板にλ/4位相差板を積層す
ることにより、右又は左円偏光成分のみを透過させる機能を有する機能層である。たとえば外光を右円偏光に変換して有機ELパネルで反射されて左円偏光となった外光を遮断し、有機ELの発光成分のみを透過させることで反射光の影響を抑制して画像を見やすくするために用いられる。円偏光機能を達成するためには、直線偏光板の吸収軸とλ/4位相差板の遅相軸は理論上45度である必要があるが、実用的には45±10度である。直線偏光板とλ/4位相差板は必ずしも隣接して積層される必要はなく、吸収軸と遅相軸の関係が前述の範囲を満足していればよい。全波長において完全な円偏光を達成することが好ましいが実用上は必ずしもその必要はないので本発明における円偏光板は楕円偏光板をも包含する。直線偏光板の視認側にさらにλ/4位相差フィルムを積層して、出射光を円偏光とすることで偏光サングラスをかけた状態での視認性を向上させることも好ましい。
前記二色性色素化合物は、前記液晶性化合物とともに配向して二色性を示す色素であって、重合性官能基を有していてもよく、また、二色性色素自身が液晶性を有していてもよい。
液晶偏光組成物に含まれる化合物のいずれかは重合性官能基を有する。前記液晶偏光組成物はさらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。
前記液晶偏光層は、配向膜上に液晶偏光組成物を塗布して液晶偏光層を形成することに
より製造される。液晶偏光層は、フィルム型偏光子に比べて厚さを薄く形成することができ、その厚さは好ましくは0.5μm以上10μm以下、より好ましくは1μm以上5μm以下である。
前記液晶偏光層は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。
前記延伸型位相差板の厚さは、好ましくは200μm以下、より好ましくは1μm以上100μm以下である。延伸型位相差板の厚さが前記の範囲にあると、該延伸型位相差板の柔軟性が低下し難い傾向にある。
前記液晶組成物は、ネマチック、コレステリック、スメクチック等の液晶状態を示す液晶性化合物を含む。前記液晶性化合物は、重合性官能基を有する。
前記液晶組成物は、さらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。
前記液晶塗布型位相差板は、前記液晶偏光層と同様に、液晶組成物を下地上に塗布、硬化して液晶位相差層を形成することで製造することができる。液晶塗布型位相差板は、延伸型位相差板に比べて厚さを薄く形成することができる。前記液晶偏光層の厚さは、好ま
しくは0.5μm以上10μm以下、より好ましくは1μm以上5μm以下である。
前記液晶塗布型位相差板は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。
また、他の方法としてはλ/2位相差板と組合せることで広帯域λ/4位相差板を得る技術も知られている(例えば、特開平10-90521号公報など)。λ/2位相差板もλ/4位相差板と同様の材料方法で製造される。延伸型位相差板と液晶塗布型位相差板の組合せは任意であるが、どちらも液晶塗布型位相差板を用いることにより厚さを薄くすることができる。
前記円偏光板には斜め方向の視認性を高めるために、正のCプレートを積層する方法が知られている(例えば、特開2014-224837号公報など)。正のCプレートは、液晶塗布型位相差板であっても延伸型位相差板であってもよい。該位相差板の厚さ方向の位相差は、好ましくは-200nm以上-20nm以下、より好ましくは-140nm以上-40nm以下である。
本発明の積層体を備える表示装置(好ましくはフレキシブル表示装置)は、上記の通り、タッチセンサを備えることが好ましい。タッチセンサは入力手段として用いられる。タッチセンサとしては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等様々な様式が挙げられ、好ましくは静電容量方式が挙げられる。
静電容量方式タッチセンサは活性領域及び前記活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される領域(表示部)に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は表示装置で画面が表示されない領域(非表示部)に対応する領域である。タッチセンサは、好ましくはフレキシブルな特性を有する基板と、前記基板の活性領域に形成された感知パターンと、前記基板の非活性領域に形成され、前記感知パターンとパッド部を介して外部の駆動回路と接続するための各センシングラインを含むことができる。フレキシブルな特性を有する基板としては、前記ウインドウフィルムの透明基板と同様の材料が使用できる。タッチセンサの基板は、靱性が2,000MPa%以上のものがタッチセンサのクラック抑制の面から好ましい。より好ましくは靱性が2,000MPa%以上、30,000MPa%以下である。ここで、靭性は、高分子材料の引張実験を通じて得られる応力(MPa)-ひずみ(%)曲線(Stress-strain curve)で破壊点までの曲線の下部面積として定義される。
しては、例えば、インジウムスズ酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、亜鉛酸化物(ZnO)、インジウム亜鉛スズ酸化物(IZTO)、インジウムガリウム亜鉛酸化物(IGZO)、カドミウムスズ酸化物(CTO)、PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene))、炭素ナノチューブ(CNT)、グラフェン、金属ワイヤなどが挙げられ、好ましくはITOが挙げられる。これらは単独又は2種以上混合して使用できる。金属ワイヤに使用される金属は特に限定されず、例えば、銀、金、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、チタン、テレニウム、クロムなどが挙げられ、これらは単独又は2種以上混合して使用することができる。
ブリッジ電極は感知パターン上部に絶縁層を介して前記絶縁層上部に形成されることができ、基板上にブリッジ電極が形成されており、その上に絶縁層及び感知パターンを形成することができる。前記ブリッジ電極は感知パターンと同じ素材で形成することもでき、モリブデン、銀、アルミニウム、銅、パラジウム、金、白金、亜鉛、スズ、チタン又はこれらのうちの2種以上の合金で形成することもできる。
第1パターンと第2パターンは電気的に絶縁されなければならないので、感知パターンとブリッジ電極の間には絶縁層が形成される。該絶縁層は、第1パターンの継ぎ手とブリッジ電極との間にのみ形成することや、感知パターン全体を覆う層として形成することもできる。感知パターン全体を覆う層の場合、ブリッジ電極は絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して第2パターンを接続することができる。
前記光硬化性有機バインダーは、本発明の効果を損ねない範囲で、例えば、アクリレート系単量体、スチレン系単量体、カルボン酸系単量体などの各単量体の共重合体を含むことができる。前記光硬化性有機バインダーは、例えば、エポキシ基含有繰り返し単位、アクリレート繰り返し単位、カルボン酸繰り返し単位などの互いに異なる各繰り返し単位を含む共重合体であってもよい。
前記無機粒子としては、例えば、ジルコニア粒子、チタニア粒子、アルミナ粒子などが挙げられる。
前記光硬化組成物は、光重合開始剤、重合性モノマー、硬化補助剤などの各添加剤をさらに含むこともできる。
前記表示装置(好ましくはフレキシブル画像表示装置)用積層体を形成する各層(ウインドウフィルム、円偏光板、タッチセンサ)並びに各層を構成するフィルム部材(直線偏光板、λ/4位相差板等)は接着剤によって接合することができる。該接着剤としては、水系接着剤、有機溶剤系、無溶剤系接着剤、固体接着剤、溶剤揮散型接着剤、湿気硬化型接着剤、加熱硬化型接着剤、嫌気硬化型、活性エネルギー線硬化型接着剤、硬化剤混合型接着剤、熱溶融型接着剤、感圧型接着剤(粘着剤)、再湿型接着剤等、通常使用されている接着剤等が使用でき、好ましくは水系溶剤揮散型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤を使用できる。接着剤層の厚さは、求められる接着力等に応じて適宜調節することができ、好ましくは0.01~500μm、より好ましくは0.1~300μmである。前記表示装置(好ましくはフレキシブル画像表示装置)用積層体には、複数の接着層が存在するが、それぞれの厚さや種類は、同じであっても異なっていてもよい。
前記カチオン重合性化合物は、ハードコート組成物におけるカチオン重合性化合物と同じ化合物を用いることができる。
活性エネルギー線硬化組成物に用いられるカチオン重合性化合物としては、エポキシ化合物が特に好ましい。接着剤組成物としての粘度を下げるために単官能の化合物を反応性希釈剤として含むことも好ましい。
活性エネルギー線組成物は、さらに重合開始剤を含むことができる。該重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等が挙げられ、これらは適宜選択して用いられる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。ハードコート組成物の記載の中で活性エネルギー線照射によりラジカル重合又はカチオン重合の内の少なくともいずれか開始することができる開始剤を使用することができる。
前記活性エネルギー線硬化組成物はさらに、イオン捕捉剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、密着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動粘度調整剤、可塑剤、消泡剤溶剤、添加剤、溶剤を含むことができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤によって2つの被接着層を接着する場合、前記活性エネルギー線硬化組成物を被接着層のいずれか一方又は両方に塗布後、貼合し、いずれかの被着層又は両方の被接着層に活性エネルギー線を照射して硬化させることにより、接着することができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合、その接着層の厚さは、好ましくは0.01~20μm、より好ましくは0.1~10μmである。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を複数の接着層形成に用いる場合、それぞれの層の厚さや種類は同じであっても異なっていてもよい。
されてもよいし、別途基材に形成したものを転写することもできる。接着前の粘着面をカバーするためには離型フィルムを使用することも好ましい。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合、その接着層の厚さは、好ましくは0.1~500μm、より好ましくは1~300μmである。前記粘着剤を複数層用いる場合には、それぞれの層の厚さや種類は同じであっても異なっていてもよい。
前記遮光パターンは、前記表示装置(好ましくはフレキシブル画像表示装置)のベゼル又はハウジングの少なくとも一部として適用することができる。遮光パターンによって前記表示装置(好ましくはフレキシブル画像表示装置)の辺縁部に配置される配線が隠されて視認されにくくすることで、画像の視認性が向上する。前記遮光パターンは単層又は複層の形態であってもよい。遮光パターンのカラーは特に制限されることはなく、黒色、白色、金属色などの多様なカラーであってもよい。遮光パターンはカラーを具現するための顔料と、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーンなどの高分子で形成することができる。これらの単独又は2種類以上の混合物で使用することもできる。前記遮光パターンは、印刷、リソグラフィ、インクジェットなど各種の方法にて形成することができる。遮光パターンの厚さは、好ましくは1~100μm、より好ましくは2~50μmである。また、遮光パターンの厚さ方向に傾斜等の形状を付与することも好ましい。
有機ケイ素化合物(C)として下記式で示す、特開2012-197330号公報に記載のN-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシランとクロロプロピルトリメトキシシランの反応物(商品名;X-12-5263HP、信越化学工業株式会社製)を0.25質量%、溶剤(E)として酢酸ブチルを99.75質量%混合した溶液を、室温で撹拌し、層(c)形成用組成物を得た。また、ポリエチレンテレフタレート基材(s1)に、抗菌成分(K)として銀イオンを含むハードコート層(s2)が積層された基材(s)(株式会社ダイセル製 ダイセル抗ウイルスハードコートフィルムS BV01、厚み:50μm)を用意し、大気圧プラズマ装置(富士機械製造株式会社製)を用いて前記基材(s)のハードコート層(s2)面を活性化処理した。その後、該基材(s)におけるハードコート層(s2)上に、前記で得られた層(c)形成用組成物を、株式会社MIKASA製OPTICOAT MS-A100(バーコーター)、#2のバーを用い、0.5ml、100mm/secの条件で塗布し、100℃で30秒乾燥させ、層(c)が形成された積層中間体を得た。
)の割合は0.05質量%であった。積層中間体における層(c)上に撥水層形成用組成物を、株式会社アピロス製スプレーコーターを用いて塗布した。スプレーコートの条件は、スキャン速度:600mm/sec、ピッチ:5mm、液量:6cc/min、アトマイジングエアー:350kPa、ギャップ:70mmである。100℃で30秒乾燥させ、撥水層を形成させた。なお、有機ケイ素化合物(A)として使用した化合物(a10)は、上述の化合物(a11)及び(a21)の要件を満たすとともに、好ましい態様も含めた式(a3)の要件を満たす化合物である。後述の「(7)層(c)の厚み」の測定法、及び後述の「(8)撥水層(r)の厚み」の測定法にて求められた積層部の厚みは5.0nm以上15.0nm以下の範囲内であった。
ポリエチレンテレフタレート基材(s1)に、抗菌成分(K)として銀イオンを含むハードコート層(s2)が積層された基材(s)(株式会社ダイセル製 ダイセル抗ウイルスハードコートフィルムS BV02、厚み:50μm)を用いた以外は、実施例1と同様にして積層体を作製した。後述の「(7)層(c)の厚み」、及び後述の「(8)撥水層(r)の厚み」の測定法にて求められた層(c)及び撥水層(r)の厚みはそれぞれ5.9nm及び4.1nmであり、積層部の厚みは10.0nm(5.9nm+4.1nm)であった。
東レ株式会社製ポリエチレンテレフタレート製基材U483(s1)(厚み50μm)に4級アンモニウム塩を含有するアクリル系ハードコート(s2)(厚み5μm)を備えた基材(s)を用いた以外は、実施例1と同様にして積層体を作製した。後述の「(7)層(c)の厚み」、及び後述の「(8)撥水層(r)の厚み」の測定法にて求められた層(c)及び撥水層(r)の厚みはそれぞれ9.1nm及び4.5nmであり、積層部の厚みは13.6nm(9.1nm+4.5nm)であった。
ダイセル抗ウイルスハードコートフィルムS BV02を用いた以外は、実施例1と同様の方法で層(c)を形成した。その後、積層中間体の端を折り曲げることにより内側に凹部を形成し、その中に実施例1と同様の撥水層形成用組成物を4ml流し入れた。さらに100℃で15分乾燥することにより撥水層(r)を形成した。後述する「(9)積層部の厚み」に記載の方法で積層部の厚みを測定したところ、40.0nmであった。
ダイセル抗ウイルスハードコートフィルムS BV02を用いた以外は、実施例1と同様の方法で層(c)を形成した。その後、フッ素樹脂を含有する撥水スプレー(アズワン社製、品番:62-3807-13)を吹きかけ、室温で一晩放置することにより撥水層(r)を形成した。後述する「(9)積層部の厚み」に記載の方法で積層部の厚み測定したところ110nmであった。
得られた積層体の撥水層側表面に、3μLの水滴を滴下し、接触角測定装置(協和界面科学社製、DM700)を用い、液滴法(解析方法:θ/2法)にて、水の接触角を測定した。結果を表1に示す。
得られた積層体の撥水層側表面に、minoan製消しゴムを具備したスクラッチ装置
を用い、消しゴムが積層体に接した状態(接触面:直径6mmの円)で荷重1000gをかけ、消しゴムを40r/minの速度(一分間に40往復する速度)、ストローク40mmで積層体上を往復させ、耐摩耗試験を行った。消しゴムが積層体を1500回、及び3000回往復した後の水の接触角を各々測定した。結果を表1に示す。
新東科学株式会社製トライボギア(表面性測定機 TYPE:38)の一定荷重測定を使用し、人工皮革を用い、測定条件は下記条件として、撥水層(r)側表面の動摩擦係数を測定した。結果を表1に示す。
荷重変換機 :1.961mV/V
荷重 :200g
移動距離 :50mm
移動速度 :100mm/min
サンプリング個数 :3010
マジックはじきの評価方法としては、皮膜の上に、マジック(サクラ製ペンタッチ油性
中字)を用いて丸を3点描き、その後、ワイピングクロスのザビーナ(登録商標)で拭き
取った。マジック痕が3点とも拭き取れた場合は◎、2点ふき取れた場合は○、拭き取れない点があった場合は×とした。結果を表1に示す。
スチールウール♯0000(ボンスター社製)を具備したスチールウール試験機(大栄精機社製)を用い、スチールウールが積層体の表面(撥水層(r))に接した状態で、250g/cm2の圧力をかけて摩耗試験を行い、目視にて、剥がれ・傷が確認されるまで
試験を繰り返し、剥がれ・傷が確認された際の試験回数で耐擦傷性を評価した。試験回数は1回1往復とした。なお、剥がれ・傷の有無の確認は、LED照明下にて行った。結果を表1に示す。
JIS Z 8722に準拠し、コニカミノルタ製測色計(CM-3700A、光源:D65)を使用し、積層体の撥水層(r)側表面を光源側に向け、ヘイズを測定した結果を表1に示す。
層(c)形成用組成物を塗布、乾燥させた積層中間体に対して、上面にサインペンで黒塗りし、FIB-SEMで超薄切片を作製し、断面方向から走査透過電子顕微鏡(STEM)で観察することにより層(c)の厚みを測定した。
<FIB加工条件>
装置名:HeliosG4UX(日本FEI社製)
イオン源:Ga
加速電圧:30kV
試料厚み:100nm以下
<STEM測定条件>
装置名:HeliosG4UX(日本FEI社製)
加速電圧:23kV
電流値:50pA
倍率:100万倍
撥水層(r)の膜厚は下記の記載に従い、X線光電子分光法(XPS)を用いて測定した。まず、大気圧プラズマ処理したガラス基板上に実施例1と同様の方法で層(c)、撥水層(r)を作製した。その際、撥水層形成用組成物を塗布量4点変えて塗布し、層(c)の厚みが同じで、撥水層(r)の膜厚が違う積層体を合計4種類作製した。
次にエリプソメーターを用いて各撥水層(r)の膜厚を測定した。また、同層に対してXPS法を用いてF元素の量、及びF元素に結合している以外のC元素の量を測定して、その比(F/C(C-F以外))を算出し、撥水層(r)の膜厚に対する検量線を作成した。この場合、F元素の量は撥水層(r)に由来し、F元素と結合したC元素以外のC元素の量は層(c)に由来している。
次に実施例で作製した積層体について、XPS測定を実施し、上記で作製した検量線に従って撥水層(r)の膜厚を算出した。
<XPS測定条件>
装置名:Thermofisher Scientific製 K-alpha
X線源:モノクロAl Kα
出力:72W(12kV, 6mA)
スポットサイズ:400μm
パスエネルギー:50eV
Dwell time:50ms
モード(元素):ナロー(F,C)
中和銃:on
基材上の一部にテープを貼ってマスキングしたうえで層(c)及び撥水層(r)、又は撥水層(r)のみの形成を行い、テープを剥がすことにより積層部の膜厚に相当する段差を形成した。その後、触針式薄膜段差計を用いて積層部の膜厚を測定した。
装置名:DektakXT(ブルカー社製)
range:6.5μm
stylus type:Radius 2μm
stylus force:3mg
speed:100μm/s
実施例1及び実施例3の積層体における抗菌性試験は、一般財団法人ボーケン品質評価機構において試験した。試験方法は、JIS Z 2801:2010(フィルム密着法)に基づいて行った。試験菌株は黄色ブドウ球菌及び大腸菌とし、菌液接種量を0.4mL(被覆フィルムの表面積:16cm2)とした。また、標準サンプルとして、ポリエチ
レンテレフタレート基材(東洋紡株式会社製「コスモシャイン(登録商標)A4360」、厚み:50μm)を使用した。実施例1において、標準サンプルに対して黄色ブドウ球菌の抗菌活性値が2.7、また標準サンプルに対して大腸菌の抗菌活性値が5.0であり、良好な抗菌性を有していた。また、実施例3において、黄色ブドウ球菌の抗菌活性値が3.2であり良好な抗菌活性値を有していた。
実施例2、4及び比較例1の積層体における抗菌性試験は、菌を変更する以外はJIS
Z 2801:2010(フィルム密着法)と同様の方法にて行い、試験菌株は表皮ブドウ球菌とし、菌液接種量を0.4mL(被覆フィルムの表面積:16cm2)とした。
また、標準サンプルとして、ポリエチレンテレフタレート基材(東洋紡株式会社製「コスモシャイン(登録商標)A4360」、厚み:50μm)を使用した。実施例2において基材(s)のみ(すなわち、ダイセル抗ウイルスハードコートフィルムS BV02のみ)の場合は、標準サンプルに対して抗菌活性値は2.2であったのに対し、実施例2の積
層体の抗菌活性値は2.5であり、層(c)及び撥水層(r)を積層した場合でも、同等またはそれ以上の抗菌性を有していた。
実施例4において、積層体の抗菌活性値は2.3であった。
比較例1において、積層体の抗菌活性値は0.8であり、撥水層(r)を積層することにより、基材(s)の有する抗菌活性値が阻害されていた。
Claims (15)
- 抗菌成分(K)を含有する基材(s)と、撥水層(r)とを含む積層体であって、
前記抗菌成分(K)が、金属イオン又は4級アンモニウム塩を含み、
前記基材(s)が層(s1)及び層(s2)を含み、
前記層(s2)がアクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、スチレン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリアミド系樹脂、フェノール系樹脂、及びエポキシ系樹脂よりなる群から選択される少なくとも1種から形成される層であり、
前記抗菌成分(K)が層(s2)に含有されており、
前記撥水層(r)が、連結基を介して又は連結基を介さずに加水分解性基又はヒドロキシ基が結合しているケイ素原子を有する有機ケイ素化合物(A)の硬化層であり、
基材(s)に設けられた撥水層(r)を含む積層部の厚みが1nm以上50nm以下である積層体。 - 前記層(s2)の厚みが、1nm以上10μm以下である請求項1に記載の積層体。
- 加水分解性基又はヒドロキシ基が結合したケイ素原子を有する有機ケイ素化合物(C)を含む請求項1又は2に記載の積層体。
- 撥水層(r)と基材(s)との間に、層(c)が設けられており、
層(c)が加水分解性基又はヒドロキシ基が結合したケイ素原子を有する有機ケイ素化合物(C)を含む請求項1~3のいずれかに記載の積層体。 - 基材(s)と撥水層(r)とが直接積層されており、
撥水層(r)が加水分解性基又はヒドロキシ基が結合したケイ素原子を有する有機ケイ素化合物(C)を含む請求項1~3のいずれかに記載の積層体。 - 4級アンモニウム塩が、式(k1)で表される化合物である請求項1~5のいずれかに記載の積層体。
[式(k1)中、
Rk1~Rk3は、それぞれ独立して、炭素数1~30の炭化水素基を表し、
Rk4及びRk5は、それぞれ独立して、炭素数1~4のアルキル基を表し、Rk5が複数存在する場合は複数のRk5がそれぞれ異なっていてもよく、
Yk1及びYk2は、それぞれ独立して、単結合又は炭素数1~10の2価の炭化水素基を表し、
Ak1及びAk2は、それぞれ独立して、加水分解性基又はヒドロキシ基を表し、Ak1が複数存在する場合は複数のAk1がそれぞれ異なっていてもよく、Ak2が複数存在する場合は複数のAk2がそれぞれ異なっていてもよく、
Zk1は、加水分解性基、ヒドロキシ基、炭素数1~4のアルキル基、又は式(ki)で表される基であり、
k3は、1又は2を表し、
k4は、0~2の整数を表し、
k5は、0~10の整数を表し、
nは、Zk1が加水分解性基、ヒドロキシ基、又は炭素数1~4のアルキル基である場合は1を、Zk1が式(ki)で表される基である場合には2を表し、
Xは、ハロゲン原子を表す。
[式(ki)中、Rk17~Rk19は、それぞれ独立して、炭素数1~30の炭化水素基を表し、*は、結合手を表す。]] - 有機ケイ素化合物(A)が、フルオロポリエーテル構造を有する化合物である請求項1~6のいずれかに記載の積層体。
- 有機ケイ素化合物(A)が、式(a1)で表される化合物である請求項1~7のいずれかに記載の積層体。
上記式(a1)中、
Rfa26、Rfa27、Rfa28、及びRfa29は、それぞれ独立して、1個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数1~20のフッ化アルキル基又はフッ素原子であり、Rfa26が複数存在する場合は複数のRfa26がそれぞれ異なっていてもよく、Rfa27が複数存在する場合は複数のRfa27がそれぞれ異なっていてもよく、Rfa28が複数存在する場合は複数のRfa28がそれぞれ異なっていてもよく、Rfa29が複数存在する場合は複数のRfa29がそれぞれ異なっていてもよく、
R25及びR26は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~4のアルキル基、又は1個以上の水素原子がハロゲン原子に置換された炭素数1~4のハロゲン化アルキル基であり、一つの炭素原子に結合するR25及びR26の少なくとも一方は水素原子であり、R25が複数存在する場合は複数のR25がそれぞれ異なっていてもよく、R26が複数存在する場合は複数のR26がそれぞれ異なっていてもよく、
R27及びR28は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1~4のアルキル基、又は単結合であり、R27が複数存在する場合は複数のR27がそれぞれ異なっていてもよく、R28が複数存在する場合は複数のR28がそれぞれ異なっていてもよく、
R29及びR30は、それぞれ独立して、炭素数1~20のアルキル基であり、R29が複数存在する場合は複数のR29がそれぞれ異なっていてもよく、R30が複数存在する場合は複数のR30がそれぞれ異なっていてもよく、
M7は、-O-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-、-NR-、-NRC(=O)-、-C(=O)NR-、-CH=CH-、又は-C6H4-であり、前記Rは水素原子、炭素数1~4のアルキル基又は炭素数1~4の含フッ素アルキル基であり、M7が複数存在する場合は複数のM7がそれぞれ異なっていてもよく、
M5は、水素原子、フッ素原子又は炭素数1~4のアルキル基であり、M5が複数存在する場合は複数のM5がそれぞれ異なっていてもよく、
M10は、水素原子、又はハロゲン原子であり、
M8及びM9は、それぞれ独立して、加水分解性基、ヒドロキシ基、又は-(CH2)e7-Si(OR14)3であり、e7は1~5であり、R14はメチル基又はエチル基であり、M8が複数存在する場合は複数のM8がそれぞれ異なっていてもよく、M9が複数存在する場合は複数のM9がそれぞれ異なっていてもよく、
f21、f22、f23、f24、及びf25はそれぞれ独立して0~600の整数であり、f21、f22、f23、f24、及びf25の合計値は13以上であり、
f26は、0~20の整数であり、
f27は、それぞれ独立して、0~2の整数であり、
g2、g3は、それぞれ独立して、1~3の整数であり、
M10-、-Si(M9)g3(R30)3-g3、f21個の-{C(R25)(R26)}-単位(Ua1)、f22個の-{C(Rfa26)(Rfa27)}-単位(Ua2)、f23個の-{Si(R27)(R28)}-単位(Ua3)、f24個の-{Si(Rfa28)(Rfa29)}-単位(Ua4)、f25個の-M7-単位(Ua5)、及びf26個の-[C(M5){(CH2)f27-Si(M8)g2(R29)3-g2}]-単位(Ua6)は、M10-が式(a1)における一方の末端であり、-Si(M9)g3(R30)3-g3が他方の末端であり、少なくとも一部でフルオロポリエーテル構造を形成する順で並び、-O-が-O-と連続しない限り、それぞれの単位が任意の順で並んで結合する。 - 有機ケイ素化合物(C)が、アミノ基又はアミン骨格を有する化合物である請求項3~8のいずれかに記載の積層体。
- 有機ケイ素化合物(C)が、式(c1)~(c3)のいずれかで表される化合物又は2以上の式(c3)で表される化合物が下記X31~X34の少なくともいずれかで縮合して結合した化合物である請求項3~9のいずれかに記載の積層体。
上記式(c1)中、
Rx11、Rx12、Rx13、Rx14は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が1~4のアルキル基であり、Rx11が複数存在する場合は複数のRx11がそれぞれ異なっていてもよく、Rx12が複数存在する場合は複数のRx12がそれぞれ異なっていてもよく、Rx13が複数存在する場合は複数のRx13がそれぞれ異なっていてもよく、Rx14が複数存在する場合は複数のRx14がそれぞれ異なっていてもよく、
Rfx11、Rfx12、Rfx13、Rfx14は、それぞれ独立して、1個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数1~20のアルキル基又はフッ素原子であり、Rfx11が複数存在する場合は複数のRfx11がそれぞれ異なっていてもよく、Rfx12が複数存在する場合は複数のRfx12がそれぞれ異なっていてもよく、Rfx13が複数存在する場合は複数のRfx13がそれぞれ異なっていてもよく、Rfx14が複数存在する場合は複数のRfx14がそれぞれ異なっていてもよく、
Rx15は、炭素数が1~20のアルキル基であり、Rx15が複数存在する場合は複数のRx15がそれぞれ異なっていてもよく、
X11は、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、X11が複数存在する場合は複数のX11がそれぞれ異なっていてもよく、
Y11は、-NH-、又は-S-であり、Y11が複数存在する場合は複数のY11がそれぞれ異なっていてもよく、
Z11は、ビニル基、α-メチルビニル基、スチリル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、アミノ基、イソシアネート基、イソシアヌレート基、エポキシ基、ウレイド基、又はメルカプト基であり、
p1は、1~20の整数であり、p2、p3、p4は、それぞれ独立して、0~10の整数であり、p5は、0~10の整数であり、
p6は、1~3の整数であり、
Z11がアミノ基でない場合は-NH-であるY11を少なくとも1つ有し、Y11が全て-S-である場合又はp5が0である場合はZ11がアミノ基であり、
Z11-、-Si(X11)p6(Rx15)3-p6、p1個の-{C(Rx11)(Rx12)}-単位(Uc11)、p2個の-{C(Rfx11)(Rfx12)}-単位(Uc12)、p3個の-{Si(Rx13)(Rx14)}-単位(Uc13)、p4個の-{Si(Rfx13)(Rfx14)}-単位(Uc14)、p5個の-Y11-単位(Uc15)は、Z11-が式(c1)で表される化合物の一方の末端となり、-Si(X11)p6(Rx15)3-p6が他方の末端となり、-O-が-O-と連結しない限り、それぞれの単位(Uc11)~単位(Uc15)が任意の順で並んで結合する。
上記式(c2)中、
Rx20及びRx21は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が1~4のアルキル基であり、Rx20が複数存在する場合は複数のRx20がそれぞれ異なっていてもよく、Rx21が複数存在する場合は複数のRx21がそれぞれ異なっていてもよく、
Rfx20及びRfx21は、それぞれ独立して、1個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数1~20のアルキル基又はフッ素原子であり、Rfx20が複数存在する場合は複数のRfx20がそれぞれ異なっていてもよく、Rfx21が複数存在する場合は複数のRfx21がそれぞれ異なっていてもよく、
Rx22及びRx23はそれぞれ独立して、炭素数が1~20のアルキル基であり、Rx22及びRx23が複数存在する場合は複数のRx22及びRx23がそれぞれ異なっていてもよく、
X20及びX21はそれぞれ独立して、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、X20及びX21が複数存在する場合は複数のX20及びX21がそれぞれ異なっていてもよく、
p20は、それぞれ独立して1~30の整数であり、p21は、それぞれ独立して0~30の整数であり、p20又はp21を付して括弧でくくられた繰り返し単位の少なくとも1つは、アミン骨格-NR100-に置き換わっており、前記アミン骨格におけるR100は水素原子又はアルキル基であり、
p22及びp23はそれぞれ独立して、1~3の整数であり、
p20個の-{C(Rx20)(Rx21)}-単位(Uc21)、p21個の-{C(Rfx20)(Rfx21)}-単位(Uc22)は、p20個の単位(Uc21)又はp21個の単位(Uc22)が連続である必要はなく、それぞれの単位(Uc21)及び単位(Uc22)が任意の順で並んで結合し、式(c2)で表される化合物の一方の末端が-Si(X20)p22(Rx22)3-p22となり、他方の末端が-Si(X21)p23(Rx23)3-p23となる。
上記式(c3)中、
Z31、Z32は、それぞれ独立に、加水分解性基及びヒドロキシ基以外の、反応性官能基であり、
Rx31、Rx32、Rx33、Rx34は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が1~4のアルキル基であり、Rx31が複数存在する場合は複数のRx31がそれぞれ異なっていてもよく、Rx32が複数存在する場合は複数のRx32がそれぞれ異なっていてもよく、Rx33が複数存在する場合は複数のRx33がそれぞれ異なっていてもよく、Rx34が複数存在する場合は複数のRx34がそれぞれ異なっていてもよく、
Rfx31、Rfx32、Rfx33、Rfx34は、それぞれ独立して、1個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数1~20のアルキル基又はフッ素原子であり、Rfx31が複数存在する場合は複数のRfx31がそれぞれ異なっていてもよく、Rfx32が複数存在する場合は複数のRfx32がそれぞれ異なっていてもよく、Rfx33が複数存在する場合は複数のRfx33がそれぞれ異なっていてもよく、Rfx34が複数存在する場合は複数のRfx34がそれぞれ異なっていてもよく、
Y31は、-NH-、-N(CH3)-又は-O-であり、Y31が複数存在する場合は複数のY31がそれぞれ異なっていてもよく、
X31、X32、X33、X34は、それぞれ独立に、-ORc(Rcは、水素原子、炭素数1~4のアルキル基、又はアミノC1-3アルキルジC1-3アルコキシシリル基である)であり、X31が複数存在する場合は複数のX31がそれぞれ異なっていてもよく、X32が複数存在する場合は複数のX32がそれぞれ異なっていてもよく、X33が複数存在する場合は複数のX33がそれぞれ異なっていてもよく、X34が複数存在する場合は複数のX34がそれぞれ異なっていてもよく、
p31は、0~20の整数であり、p32、p33、p34は、それぞれ独立して、0~10の整数であり、p35は、0~5の整数であり、p36は、1~10の整数であり、p37は0又は1であり、
Z31及びZ32の少なくとも一方がアミノ基であるか、又はY31の少なくとも一つが-NH-又は-N(CH3)-であるという条件を満たし、かつ式(c3)で表される化合物の一方の末端がZ31-であり、他方の末端がZ32-であり、-O-が-O-と連結しない限り、p31個の-{C(Rx31)(Rx32)}-単位(Uc31)、p32個の-{C(Rfx31)(Rfx32)}-単位(Uc32)、p33個の-{Si(Rx33)(Rx34)}-単位(Uc33)、p34個の-{Si(Rfx33)(Rfx34)}-単位(Uc34)、p35個の-Y31-単位(Uc35)、p36個の-{Si(X31)(X32)-O}-単位(Uc36)、p37個の-{Si(X33)(X34)}-単位(Uc37)がそれぞれ任意の順で並んで結合して構成される。 - 撥水層(r)表面における水接触角が、105°以上であり、且つ下記要件(α)及び(β)からなる群から選ばれる少なくとも1つの要件を満たす請求項1~10のいずれかに記載の積層体。
(α)JIS Z 2801:2010に準拠した抗菌活性試験を行った際の黄色ブドウ球菌に対する抗菌活性値が0.1以上。
(β)JIS Z 2801:2010に準拠した抗菌活性試験を行った際の大腸菌に対する抗菌活性値が0.1以上。 - 撥水層(r)表面における動摩擦係数が、0.1以下である請求項1~11のいずれかに記載の積層体。
- 直径6mmの円当たり荷重1000gをかけて、前記積層体の撥水層(r)表面を1500往復擦る耐摩耗試験を行った後の撥水層(r)表面における水接触角が75°以上である請求項1~12のいずれかに記載の積層体。
- 250g/cm2の圧力をかけて、前記積層体の撥水層(r)表面をスチールウールで擦る摩耗試験を、撥水層(r)表面に剥がれ又は傷が目視にて確認されるまで行った際、撥水層(r)表面をスチールウールが往復する回数が100回以上である請求項1~13のいずれかに記載の積層体。
- 請求項1~14のいずれかに記載の積層体を含むウインドウフィルム又はタッチパネルディスプレイ。
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