WO2022168633A1

WO2022168633A1 - 積層体

Info

Publication number: WO2022168633A1
Application number: PCT/JP2022/002173
Authority: WO
Inventors: 拓哉松浦; 友宏伊藤; 彩香櫻井; 知典宮本
Original assignee: 住友化学株式会社
Priority date: 2021-02-05
Filing date: 2022-01-21
Publication date: 2022-08-11
Also published as: JP2022120796A; TW202239603A

Abstract

基材（ｓ）、抗菌層（ｋ）、及び撥水層（ｒ）をこの順に含み、前記抗菌層（ｋ）が、加水分解性基又はヒドロキシ基が結合したケイ素原子を有する有機ケイ素化合物（Ｃ）と抗菌成分（Ｋ）の混合組成物の硬化層である積層体。

Description

積層体

　本発明は、積層体に関する。

　タッチパネルディスプレイ等の表示装置、光学素子、半導体素子、建築材料、自動車や建物の窓ガラス等の種々の分野において、基材の表面に撥水性を付与することが求められている。そのため、様々な撥水性の皮膜が、撥水コーティング、又は撥水撥油コーティングなどとして用いられている。

　撥水性の皮膜は、通常、基材の上に形成して用いられ、撥水性皮膜形成用組成物を基材に塗布するに際しては、基材に予めプライマー層などの他の層を形成した後に、前記組成物を塗布して撥水コーティング又は撥水撥油コーティングを形成する場合がある。

　例えば特許文献１には、表面の少なくとも一部が有機材料からなる基材と、前記有機材料からなる表面上に設けられるプライマー層と、前記プライマー層上に設けられる撥水層と、を有する撥水性物品であって、前記プライマー層は、加水分解性シリル基と、反応性有機基とを有する第１のシラン化合物を用いて形成される層であり、前記撥水層は、ペルフルオロポリエーテル基と、加水分解性シリル基とを有する第２のシラン化合物を用いて形成される層であることを特徴とする撥水性物品が開示されており、当該撥水性物品によれば、撥水性に優れるとともに、該撥水性について、耐摩耗性等の耐久性に優れることが開示されている。

国際公開第２０１８／２０７８１１号パンフレット

　近年、様々な菌による汚染の問題に対する関心が高まっており、上述の種々の分野等においても、良好な撥水性に加えて、抗菌性を有することが求められている。そこで本発明は、良好な撥水性及び抗菌性を両立する積層体の提供を目的とする。

　上記課題を解決した本発明は、以下の通りである。
［１］　基材（ｓ）、抗菌層（ｋ）、及び撥水層（ｒ）をこの順に含み、
　前記抗菌層（ｋ）が、加水分解性基又はヒドロキシ基が結合したケイ素原子を有する有機ケイ素化合物（Ｃ）と抗菌成分（Ｋ）の混合組成物の硬化層である積層体。
［２］　抗菌成分（Ｋ）が、４級アンモニウム塩を含む［１］に記載の積層体。
［３］　前記４級アンモニウム塩が、式（ｋ１）で表される化合物である［２］に記載の積層体。

［式（ｋ１）中、
　Ｒ^k1～Ｒ^k3は、それぞれ独立して、炭素数１～３０の炭化水素基を表し、
　Ｒ^k4及びＲ^k5は、それぞれ独立して、炭素数１～４のアルキル基を表し、Ｒ^k5が複数存在する場合は複数のＲ^k5がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｙ^k1及びＹ^k2は、それぞれ独立して、単結合又は炭素数１～１０の２価の炭化水素基を表し、
　Ａ^k1及びＡ^k2は、それぞれ独立して、加水分解性基又はヒドロキシ基を表し、Ａ^k1が複数存在する場合は複数のＡ^k1がそれぞれ異なっていてもよく、Ａ^k2が複数存在する場合は複数のＡ^k2がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｚ^k1は、加水分解性基、ヒドロキシ基、炭素数１～４のアルキル基、又は式（ｋｉ）で表される基であり、
　ｋ３は、１又は２を表し、
　ｋ４は、０～２の整数を表し、
　ｋ５は、０～１０の整数を表し、
　ｎは、Ｚ^k1が加水分解性基、ヒドロキシ基、又は炭素数１～４のアルキル基である場合は１を、Ｚ^k1が式（ｋｉ）で表される基である場合には２を表し、
　Ｘは、ハロゲン原子を表す。

［式（ｋｉ）中、Ｒ^k17～Ｒ^k19は、それぞれ独立して、炭素数１～３０の炭化水素基を表し、＊は、結合手を表す。］］
［４］　有機ケイ素化合物（Ｃ）が、アミノ基又はアミン骨格を有する化合物である［１］～［３］のいずれかに記載の積層体。
［５］　有機ケイ素化合物（Ｃ）が、式（ｃ１）～（ｃ３）のいずれかで表される化合物である［１］～［４］のいずれかに記載の積層体。

　上記式（ｃ１）中、
　Ｒ^x11、Ｒ^x12、Ｒ^x13、Ｒ^x14は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１～４のアルキル基であり、Ｒ^x11が複数存在する場合は複数のＲ^x11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x12が複数存在する場合は複数のＲ^x12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x13が複数存在する場合は複数のＲ^x13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x14が複数存在する場合は複数のＲ^x14がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｒｆ^x11、Ｒｆ^x12、Ｒｆ^x13、Ｒｆ^x14は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^x11が複数存在する場合は複数のＲｆ^x11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x12が複数存在する場合は複数のＲｆ^x12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x13が複数存在する場合は複数のＲｆ^x13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x14が複数存在する場合は複数のＲｆ^x14がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｒ^x15は、炭素数が１～２０のアルキル基であり、Ｒ^x15が複数存在する場合は複数のＲ^x15がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｘ¹¹は、加水分解性基であり、Ｘ¹¹が複数存在する場合は複数のＸ¹¹がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｙ¹¹は、－ＮＨ－、又は－Ｓ－であり、Ｙ¹¹が複数存在する場合は複数のＹ¹¹がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｚ¹¹は、ビニル基、α－メチルビニル基、スチリル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、アミノ基、イソシアネート基、イソシアヌレート基、エポキシ基、ウレイド基、又はメルカプト基であり、
　ｐ１は、１～２０の整数であり、ｐ２、ｐ３、ｐ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり、ｐ５は、０～１０の整数であり、
　ｐ６は、１～３の整数であり、
　Ｚ¹¹がアミノ基でない場合は－ＮＨ－であるＹ¹¹を少なくとも１つ有し、Ｙ¹¹が全て－Ｓ－である場合又はｐ５が０である場合はＺ¹¹がアミノ基であり、
　Ｚ¹¹－、－Ｓｉ（Ｘ¹¹）_p6（Ｒ^x15）_3-p6、ｐ１個の－｛Ｃ（Ｒ^x11）（Ｒ^x12）｝－単位（Ｕ_c11）、ｐ２個の－｛Ｃ（Ｒｆ^x11）（Ｒｆ^x12）｝－単位（Ｕ_c12）、ｐ３個の－｛Ｓｉ（Ｒ^x13）（Ｒ^x14）｝－単位（Ｕ_c13）、ｐ４個の－｛Ｓｉ（Ｒｆ^x13）（Ｒｆ^x14）｝－単位（Ｕ_c14）、ｐ５個の－Ｙ¹¹－単位（Ｕ_c15）は、Ｚ¹¹－が式（ｃ１）で表される化合物の一方の末端となり、－Ｓｉ（Ｘ¹¹）_p6（Ｒ^x15）_3-p6が他方の末端となり、－Ｏ－が－Ｏ－と連結しない限り、それぞれの単位（Ｕ_c11）～単位（Ｕ_c15）が任意の順で並んで結合する。

　上記式（ｃ２）中、
　Ｒ^x20及びＲ^x21は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１～４のアルキル基であり、Ｒ^x20が複数存在する場合は複数のＲ^x20がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x21が複数存在する場合は複数のＲ^x21がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｒｆ^x20及びＲｆ^x21は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^x20が複数存在する場合は複数のＲｆ^x20がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x21が複数存在する場合は複数のＲｆ^x21がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｒ^x22及びＲ^x23はそれぞれ独立して、炭素数が１～２０のアルキル基であり、Ｒ^x22及びＲ^x23が複数存在する場合は複数のＲ^x22及びＲ^x23がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｘ²⁰及びＸ²¹はそれぞれ独立して、加水分解性基であり、Ｘ²⁰及びＸ²¹が複数存在する場合は複数のＸ²⁰及びＸ²¹がそれぞれ異なっていてもよく、
　ｐ２０は、それぞれ独立して１～３０の整数であり、ｐ２１は、それぞれ独立して０～３０の整数であり、ｐ２０又はｐ２１を付して括弧でくくられた繰り返し単位の少なくとも１つは、アミン骨格－ＮＲ¹⁰⁰－に置き換わっており、前記アミン骨格におけるＲ¹⁰⁰は水素原子又はアルキル基であり、
　ｐ２２及びｐ２３はそれぞれ独立して、１～３の整数であり、
　ｐ２０個の－｛Ｃ（Ｒ^x20）（Ｒ^x21）｝－単位（Ｕ_c21）、ｐ２１個の－｛Ｃ（Ｒｆ^x20）（Ｒｆ^x21）｝－単位（Ｕ_c22）は、ｐ２０個の単位（Ｕ_c21）又はｐ２１個の単位（Ｕ_c22）が連続である必要はなく、それぞれの単位（Ｕ_c21）及び単位（Ｕ_c22）が任意の順で並んで結合し、式（ｃ２）で表される化合物の一方の末端が－Ｓｉ（Ｘ²⁰）_p22（Ｒ^x22）_3-p22となり、他方の末端が－Ｓｉ（Ｘ²¹）_p23（Ｒ^x23）_3-p23となる。

　上記式（ｃ３）中、
　Ｚ³¹、Ｚ³²は、それぞれ独立に、加水分解性基及びヒドロキシ基以外の、反応性官能基であり、
　Ｒ^x31、Ｒ^x32、Ｒ^x33、Ｒ^x34は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１～４のアルキル基であり、Ｒ^x31が複数存在する場合は複数のＲ^x31がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x32が複数存在する場合は複数のＲ^x32がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x33が複数存在する場合は複数のＲ^x33がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x34が複数存在する場合は複数のＲ^x34がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｒｆ^x31、Ｒｆ^x32、Ｒｆ^x33、Ｒｆ^x34は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^x31が複数存在する場合は複数のＲｆ^x31がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x32が複数存在する場合は複数のＲｆ^x32がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x33が複数存在する場合は複数のＲｆ^x33がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x34が複数存在する場合は複数のＲｆ^x34がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｙ³¹は、－ＮＨ－、－Ｎ（ＣＨ₃）－又は－Ｏ－であり、Ｙ³¹が複数存在する場合は複数のＹ³¹がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｘ³¹、Ｘ³²、Ｘ³³、Ｘ³⁴は、それぞれ独立に、－ＯＲ^c（Ｒ^cは、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、又はアミノＣ_1-3アルキルジＣ_1-3アルコキシシリル基である）であり、Ｘ³¹が複数存在する場合は複数のＸ³¹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｘ³²が複数存在する場合は複数のＸ³²がそれぞれ異なっていてもよく、Ｘ³³が複数存在する場合は複数のＸ³³がそれぞれ異なっていてもよく、Ｘ³⁴が複数存在する場合は複数のＸ³⁴がそれぞれ異なっていてもよく、
　ｐ３１は、０～２０の整数であり、ｐ３２、ｐ３３、ｐ３４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり、ｐ３５は、０～５の整数であり、ｐ３６は、１～１０の整数であり、ｐ３７は０又は１であり、
　Ｚ³¹及びＺ³²の少なくとも一方がアミノ基であるか、又はＹ³¹の少なくとも一つが－ＮＨ－又は－Ｎ（ＣＨ₃）－であるという条件を満たし、かつ式（ｃ３）で表される化合物の一方の末端がＺ³¹－であり、他方の末端がＺ³²－であり、－Ｏ－が－Ｏ－と連結しない限り、ｐ３１個の－｛Ｃ（Ｒ^x31）（Ｒ^x32）｝－単位（Ｕ_c31）、ｐ３２個の－｛Ｃ（Ｒｆ^x31）（Ｒｆ^x32）｝－単位（Ｕ_c32）、ｐ３３個の－｛Ｓｉ（Ｒ^x33）（Ｒ^x34）｝－単位（Ｕ_c33）、ｐ３４個の－｛Ｓｉ（Ｒｆ^x33）（Ｒｆ^x34）｝－単位（Ｕ_c34）、ｐ３５個の－Ｙ³¹－単位（Ｕ_c35）、ｐ３６個の－｛Ｓｉ（Ｘ³¹）（Ｘ³²）－Ｏ｝－単位（Ｕ_c36）、ｐ３７個の－｛Ｓｉ（Ｘ³³）（Ｘ³⁴）｝－単位（Ｕ_c37）がそれぞれ任意の順で並んで結合して構成される。
［６］　撥水層（ｒ）が、フルオロポリエーテル構造を有する有機ケイ素化合物（Ａ）の硬化層である［１］～［５］のいずれかに記載の積層体。
［７］　有機ケイ素化合物（Ａ）が、式（ａ１）で表される化合物である［６］に記載の積層体。

　上記式（ａ１）中、
　Ｒｆ^a26、Ｒｆ^a27、Ｒｆ^a28、及びＲｆ^a29は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のフッ化アルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^a26が複数存在する場合は複数のＲｆ^a26がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^a27が複数存在する場合は複数のＲｆ^a27がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^a28が複数存在する場合は複数のＲｆ^a28がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^a29が複数存在する場合は複数のＲｆ^a29がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｒ²⁵及びＲ²⁶は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、又は１個以上の水素原子がハロゲン原子に置換された炭素数１～４のハロゲン化アルキル基であり、一つの炭素原子に結合するＲ²⁵及びＲ²⁶の少なくとも一方は水素原子であり、Ｒ²⁵が複数存在する場合は複数のＲ²⁵がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ²⁶が複数存在する場合は複数のＲ²⁶がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｒ²⁷及びＲ²⁸は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、又は単結合であり、Ｒ²⁷が複数存在する場合は複数のＲ²⁷がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ²⁸が複数存在する場合は複数のＲ²⁸がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｒ²⁹及びＲ³⁰は、それぞれ独立して、炭素数１～２０のアルキル基であり、Ｒ²⁹が複数存在する場合は複数のＲ²⁹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ³⁰が複数存在する場合は複数のＲ³⁰がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｍ⁷は、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＲ－、－ＮＲＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、又は－Ｃ₆Ｈ₄－であり、前記Ｒは水素原子、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数１～４の含フッ素アルキル基であり、Ｍ⁷が複数存在する場合は複数のＭ⁷がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｍ⁵は、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～４のアルキル基であり、Ｍ⁵が複数存在する場合は複数のＭ⁵がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｍ¹⁰は、水素原子、又はハロゲン原子であり、
　Ｍ⁸及びＭ⁹は、それぞれ独立して、加水分解性基、ヒドロキシ基、又は－（ＣＨ₂）_e7－Ｓｉ（ＯＲ¹⁴）₃であり、ｅ７は１～５であり、Ｒ¹⁴はメチル基又はエチル基であり、Ｍ⁸が複数存在する場合は複数のＭ⁸がそれぞれ異なっていてもよく、Ｍ⁹が複数存在する場合は複数のＭ⁹がそれぞれ異なっていてもよく、
　ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４、及びｆ２５はそれぞれ独立して０～６００の整数であり、ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４、及びｆ２５の合計値は１３以上であり、
　ｆ２６は、０～２０の整数であり、
　ｆ２７は、それぞれ独立して、０～２の整数であり、
　ｇ２１は１～３の整数、ｇ２２は０～２の整数、ｇ２１＋ｇ２２≦３であり、
　ｇ３１は１～３の整数、ｇ３２は０～２の整数、ｇ３１＋ｇ３２≦３であり、
　Ｍ¹⁰－、－Ｓｉ（Ｍ⁹）_g31（Ｈ）_g32（Ｒ³⁰）_3-g31-g32、ｆ２１個の－｛Ｃ（Ｒ²⁵）（Ｒ²⁶）｝－単位（Ｕ_a1）、ｆ２２個の－｛Ｃ（Ｒｆ^a26）（Ｒｆ^a27）｝－単位（Ｕ_a2）、ｆ２３個の－｛Ｓｉ（Ｒ²⁷）（Ｒ²⁸）｝－単位（Ｕ_a3）、ｆ２４個の－｛Ｓｉ（Ｒｆ^a28）（Ｒｆ^a29）｝－単位（Ｕ_a4）、ｆ２５個の－Ｍ⁷－単位（Ｕ_a5）、及びｆ２６個の－［Ｃ（Ｍ⁵）｛（ＣＨ₂）_f27－Ｓｉ（Ｍ⁸）_g21（Ｈ）_g22（Ｒ²⁹）_3-g21-g22｝］－単位（Ｕ_a6）は、Ｍ¹⁰－が式（ａ１）における一方の末端であり、－Ｓｉ（Ｍ⁹）_g31（Ｈ）_g32（Ｒ³⁰）_3-g31-g32が他方の末端であり、少なくとも一部でフルオロポリエーテル構造を形成する順で並び、－Ｏ－が－Ｏ－と連続しない限り、それぞれの単位が任意の順で並んで結合する。
［８］　有機ケイ素化合物（Ｃ）が、アミノ基又はアミン骨格を有する化合物であり、
　抗菌成分（Ｋ）が、カチオン系界面活性剤を含み、
　前記撥水層（ｒ）表面を測定したときに観察される、カチオン系界面活性剤由来のカチオンと有機ケイ素化合物（Ｃ）が有するアミノ基又はアミン骨格由来の窒素原子（Ｎ^c）の物質量比（カチオン／Ｎ^c）が０．０１以上、５以下である［１］～［７］のいずれかに記載の積層体。
［９］　有機ケイ素化合物（Ｃ）に対する、抗菌成分（Ｋ）の質量比が、０．１以上５０以下である［１］～［８］のいずれかに記載の積層体。
［１０］　［１］～［９］のいずれかに記載の積層体を含むウインドウフィルム又はタッチパネルディスプレイ。

　本発明によれば、良好な撥水性及び抗菌性を両立する積層体を提供できる。

　本発明の積層体は、基材（ｓ）、抗菌層（ｋ）、及び撥水層（ｒ）をこの順に含む積層体であって、前記抗菌層（ｋ）が、加水分解性基又はヒドロキシ基が結合したケイ素原子を有する有機ケイ素化合物（Ｃ）と抗菌成分（Ｋ）の混合組成物の硬化層であることにより、本発明の積層体は、良好な撥水性及び抗菌性（好ましくは抗菌性及び抗ウイルス性）を両立することができる。また、本発明によれば、好ましくは耐摩耗性が良好な積層体を提供することも可能である。

　なお、本明細書において、「抗菌性」とは、細菌やカビ菌等の菌の増殖を防ぐことを意味するだけでなく、菌を死滅ないし低減させる意味も包含するものとする。菌としては、例えば、大腸菌、黄色ぶどう球菌、表皮ぶどう球菌、連鎖球菌、肺炎球菌、インフルエンザ菌、百日咳菌、腸炎菌、肺炎桿菌、緑膿菌、ビブリオ、ＭＲＳＡなどが挙げられる。

　また、「抗ウイルス性」とは、ウイルスの一部を不活性化することを意味し、具体的には、ウイルス感染価を抑制することを意味する。ウイルスとしては、例えば、ライノウイルス、ポリオウイルス、ロタウイルス、口蹄疫ウイルス、ノロウイルス、エンテロウイルス、ヘパトウイルス、アストロウイルス、サポウイルス、Ｅ型肝炎ウイルス、Ａ型、Ｂ型、及びＣ型インフルエンザウイルス、パラインフルエンザウイルス、ムンプスウイルス（おたふくかぜ）、麻疹ウイルス、ヒトメタニューモウイルス、ＲＳウイルス、ニパウイルス、ヘンドラウイルス、黄熱ウイルス、デングウイルス、日本脳炎ウイルス、ウエストナイルウイルス、Ｂ型及びＣ型肝炎ウイルス、東部及び西部馬脳炎ウイルス、オニョンニョンウイルス、風疹ウイルス、ラッサウイルス、フニンウイルス、マチュポウイルス、グアナリトウイルス、サビアウイルス、クリミアコンゴ出血熱ウイルス、スナバエ熱、ハンタウイルス、シンノンブレウイルス、狂犬病ウイルス、エボラウイルス、マーブルグウイルス、コウモリリッサウイルス、ヒトＴ細胞白血病ウイルス、ヒト免疫不全ウイルス、ヒトコロナウイルス、ＳＡＲＳコロナウイルス、ヒトポルボウイルス、ポリオーマウイルス、ヒトパピローマウイルス、アデノウイルス、ヘルペスウイルス、水痘帯状発疹ウイルス、ＥＢウイルス、サイトメガロウイルス、天然痘ウイルス、サル痘ウイルス、牛痘ウイルス、モラシポックスウイルス、パラポックスウイルスなどが含まれ、本発明の積層体は、エンベロープを有するウイルスに対してより有用である。

　以下、基材（ｓ）、抗菌層（ｋ）、撥水層（ｒ）について順に説明する。

　１．基材（ｓ）
　基材（ｓ）の材質は特に限定されず、有機系材料、無機系材料のいずれでもよく、また基材の形状は平面、曲面のいずれであってもよいし、これらが組み合わさった形状でもよい。有機系材料としては、アクリル樹脂、アクリロニトリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート等）、スチレン樹脂、セルロース樹脂、ポリオレフィン樹脂、ビニル系樹脂（例えば、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ビニルベンジルクロライド系樹脂、ポリビニルアルコール等）、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ビニルエーテル系樹脂、及びこれら共重合体などの熱可塑性樹脂；フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂等が挙げられる。無機系材料としては、鉄、シリコン、銅、亜鉛、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、ランタン等の金属、これらの金属酸化物、又はこれら金属を含む合金、セラミックス、ガラスなどが挙げられる。これらの中でも有機系材料が好ましい。

　基材（ｓ）には、無機粒子、有機粒子、ゴム粒子を分散させることも好ましく、また顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤などの配合剤を含有させてもよい。

　基材（ｓ）の厚みは、例えば５μｍ以上であり、１０μｍ以上が好ましく、より好ましくは２０μｍ以上、更に好ましくは３０μｍ以上であり、５００μｍ以下であってよく、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１５０μｍ以下、更に好ましくは１００μｍ以下、特に好ましくは６０μｍ以下である。

　基材（ｓ）は、単層であってもよく、２層以上の複層となっていてもよい。基材（ｓ）が複層である場合、基材（ｓ）は、母体となる層（ｓ１）上に、層（ｓ１）とは異なる層（ｓ２）が設けられた複層構造を有することが好ましい。基材（ｓ）が、層（ｓ１）及び層（ｓ２）を含む場合、本発明の積層体は、層（ｓ１）、層（ｓ２）、抗菌層（ｋ）、撥水層（ｒ）の順に積層されていることが好ましい。

１－１．層（ｓ１）
　層（ｓ１）の材質は、上述した有機系材料及び無機系材料のいずれであってもよいが、有機系材料であることが好ましく、中でもアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ビニルベンジルクロライド系樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、及びウレタン樹脂から選択される少なくとも１種であることがより好ましく、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂がさらに好ましく、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。

　層（ｓ１）の厚みは、例えば５μｍ以上であり、１０μｍ以上が好ましく、より好ましくは２０μｍ以上、更に好ましくは３０μｍ以上であり、５００μｍ以下であってよく、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１５０μｍ以下、更に好ましくは１００μｍ以下、特に好ましくは６０μｍ以下である。

１－２．層（ｓ２）
　層（ｓ２）としては、活性エネルギー線硬化型樹脂及び熱硬化型の樹脂よりなる群（Ｘ１）から選択される少なくとも１種から形成される層が挙げられる。前記活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることができるエネルギー線と定義される。活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線及び電子線などを挙げることができる。前記活性エネルギー線硬化型樹脂には、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、オキセタン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニルベンジルクロライド系樹脂、ビニル系樹脂（ポリエチレン、塩化ビニル系樹脂など）、スチレン系樹脂、フェノール系樹脂、ビニルエーテル系樹脂もしくはシリコーン系樹脂又はこれらの混合樹脂等の紫外線硬化型樹脂や、電子線硬化型樹脂が含まれ、特に紫外線硬化型樹脂が好ましい。群（Ｘ１）としては、特にアクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、スチレン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリアミド系樹脂、フェノール系樹脂、及びエポキシ系樹脂が好ましい。また、層（ｓ２）としては、チタン酸化物、ジルコニウム酸化物、アルミニウム酸化物、ニオブ酸化物、タンタル酸化物、ランタン酸化物、及びＳｉＯ₂よりなる群（Ｘ２）から選択される少なくとも１種から形成される層を挙げることもできる。層（ｓ２）の厚みは、例えば０．１ｎｍ以上１００μｍ以下であり、好ましくは１ｎｍ以上６０μｍ以下、より好ましくは１ｎｍ以上１０μｍ以下である。

　層（ｓ２）が、前記群（Ｘ１）から選択される少なくとも１種から形成される層を有する場合、層（ｓ２）は表面硬度を有するハードコート層（ｈｃ）として機能することができ、基材（ｓ）に耐擦傷性を付与することができる。ハードコート層（ｈｃ）の硬度は通常、鉛筆硬度でＢ以上であり、好ましくはＨＢ以上、さらに好ましくはＨ以上、ことさら好ましくは２Ｈ以上である。層（ｓ２）がハードコート層（ｈｃ）を含む場合、すなわち層（ｓ２）がハードコート層の機能を有する場合、ハードコート層（ｈｃ）は単層構造であってもよく、多層構造であってもよい。ハードコート層（ｈｃ）は、例えば前記した紫外線硬化型樹脂を含むことが好ましく、特にアクリル系樹脂又はシリコーン系樹脂を含むことが好ましく、高硬度を発現するためには、アクリル系樹脂を含むことが好ましい。また、基材（ｓ）と撥水層（ｒ）の密着性が良好となる傾向が見られることから、エポキシ系樹脂を含むことも好ましい。なお、群（Ｘ１）を構成する活性エネルギー線硬化型樹脂及び熱硬化型の樹脂を形成する具体的な方法については、後述の表示装置の欄で説明するが、例えば、活性エネルギー線或いは熱エネルギーを照射して架橋構造を形成する反応性材料を含む組成物を層（ｓ１）上に塗布し、硬化することによって、層（ｓ２）を形成できる。

　層（ｓ２）がハードコート層（ｈｃ）を含む場合、ハードコート層（ｈｃ）は添加剤を含んでいてもよい。添加剤は限定されることはなく、無機系微粒子、有機系微粒子、又はこれらの混合物が挙げられる。添加剤としては、紫外線吸収剤、シリカ、アルミナ等の金属酸化物、ポリオルガノシロキサン等の無機フィラーを挙げることができる。無機フィラーを含むことによって、基材（ｓ）と撥水層（ｒ）のとの密着性を向上できる。ハードコート層（ｈｃ）の厚みは、例えば１μｍ以上１００μｍ以下、好ましくは３μｍ以上５０μｍ以下、より好ましくは５μｍ以上２０μｍ以下である。前記ハードコート層（ｈｃ）の厚みが１μｍ以上の場合、十分な耐擦傷性を確保することができ、１００μｍ以下の場合、耐屈曲性を確保でき、その結果硬化収縮によるカール発生の抑制が可能となる。

　層（ｓ２）が、前記群（Ｘ２）から選択される少なくとも１種から形成される層を有する場合、層（ｓ２）は入射した光の反射を防止する反射防止層（ａｒ）として機能することができる。層（ｓ２）が反射防止層（ａｒ）を含む場合、反射防止層（ａｒ）は、３８０～７８０ｎｍの可視光領域において、反射率が５．０％以下程度に低減された反射特性を示す層であることが好ましい。反射防止層（ａｒ）は、シリカから形成される層を含むことが好ましい。

　反射防止層（ａｒ）の構造は特に限定されず、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。多層構造の場合、低屈折率層と高屈折率層とを交互に積層した構造が好ましく、積層数は合計で２～２０であることが好ましい。高屈折率層を構成する材料としては、チタン酸化物、ジルコニウム酸化物、アルミニウム酸化物、ニオブ酸化物、タンタル酸化物又はランタン酸化物が挙げられ、低屈折率層を構成する材料としてはシリカが挙げられる。多層構造の反射防止層としては、ＳｉＯ₂（シリカ）とＺｒＯ₂、又は、ＳｉＯ₂とＮｂ₂Ｏ₅が交互に積層され、層（ｓ１）と反対側の最外層がＳｉＯ₂である構造が好ましい。反射防止層（ａｒ）は、例えば蒸着法によって形成することができる。反射防止層（ａｒ）の厚みは、例えば０．５ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下である。

　層（ｓ２）は、ハードコート層（ｈｃ）を含んでいてもよく、反射防止層（ａｒ）を含んでいてもよく、ハードコート層（ｈｃ）及び反射防止層（ａｒ）の両方を含んでいてもよいが、少なくともハードコート層（ｈｃ）を含むことが好ましい。層（ｓ２）が、ハードコート層（ｈｃ）及び反射防止層（ａｒ）の両方を含む場合、反射防止層（ａｒ）が撥水層（ｒ）側に積層されていることが好ましい。

２．抗菌層（ｋ）
　抗菌層（ｋ）は、加水分解性基又はヒドロキシ基が結合したケイ素原子を有する有機ケイ素化合物（Ｃ）と抗菌成分（Ｋ）の混合組成物（以下、抗菌層形成用組成物という場合がある。）の硬化層であり、すなわち、抗菌層（ｋ）は、有機ケイ素化合物（Ｃ）及び抗菌成分（Ｋ）由来の構造を有する。抗菌層形成用組成物には、上記有機ケイ素化合物（Ｃ）及び抗菌成分（Ｋ）以外の成分が混合されていてもよい。本発明の積層体が、上記抗菌層（ｋ）を介して基材（ｓ）と撥水層（ｒ）が積層されていることにより、良好な抗菌性及び撥水性を両立可能な積層体を作製できる。

　有機ケイ素化合物（Ｃ）は、上述の通り、加水分解性基又はヒドロキシ基が結合したケイ素原子を有する化合物である。有機ケイ素化合物（Ｃ）が有する－ＳｉＯＨ基又はケイ素原子に結合した加水分解性基の加水分解で生じた有機ケイ素化合物（Ｃ）の－ＳｉＯＨ基が、有機ケイ素化合物（Ｃ）由来の－ＳｉＯＨ基、他の化合物由来の－ＳｉＯＨ基、又は積層体において抗菌層（ｋ）が形成される面の活性水素（水酸基など）と脱水縮合するため、抗菌層（ｋ）は、有機ケイ素化合物（Ｃ）由来の縮合構造を有することが好ましい。

　抗菌成分（Ｋ）は、後述するように好ましい態様において、分子内に、加水分解性基又はヒドロキシ基が結合するケイ素原子を１以上含有する化合物である。抗菌成分（Ｋ）が有する－ＳｉＯＨ基又は加水分解で生じた抗菌成分（Ｋ）の－ＳｉＯＨ基が、抗菌成分（Ｋ）由来の－ＳｉＯＨ基、他の化合物由来の－ＳｉＯＨ基、又は積層体において抗菌層（ｋ）が形成される面の活性水素（水酸基など）と脱水縮合するため、抗菌層（ｋ）は、抗菌成分（Ｋ）由来の縮合構造を有することが好ましい。

２－１．有機ケイ素化合物（Ｃ）
　有機ケイ素化合物（Ｃ）は、加水分解性基又はヒドロキシ基（以下、両者を合わせて、反応性基（ｈ１）と呼ぶ）が結合したケイ素原子を有する化合物である。抗菌層（ｋ）が、抗菌成分（Ｋ）と共に有機ケイ素化合物（Ｃ）が混合された抗菌層形成用組成物の硬化層であることにより、抗菌層（ｋ）は撥水層（ｒ）のプライマー層として機能することができ、基材（ｓ）への撥水層（ｒ）の密着性が良好となり、その結果積層体の耐摩耗性が向上し得る。

　前記ケイ素原子の数は１以上１０以下が好ましく、より好ましくは１以上５以下、さらに好ましくは２以上５以下である。前記加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アセトキシ基、イソシアネート基等が挙げられ、アルコキシ基が好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基がより好ましい。前記ケイ素原子には、アルコキシ基又はヒドロキシ基が結合していることが好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基又はヒドロキシ基が結合していることがより好ましく、メトキシ基又はヒドロキシ基が結合していることが特に好ましい。

　１つのケイ素原子に結合する反応性基（ｈ１）の数は、１以上であればよく、２又は３であってもよいが、２又は３であるのが好ましい。２つ以上の反応性基（ｈ１）がケイ素原子に結合している場合、異なる反応性基（ｈ１）がケイ素原子に結合していてもよいが、同じ反応性基（ｈ１）がケイ素原子に結合しているのが好ましい。

　有機ケイ素化合物（Ｃ）は、前記ケイ素原子に加えて、アミノ基又はアミン骨格を有する化合物であることが好ましい。有機ケイ素化合物（Ｃ）としては、アミン骨格を１つ以上有するものが好ましい。なお、前記アミン骨格とは、－ＮＲ¹⁰－で表され、Ｒ¹⁰は水素原子又はアルキル基である。Ｒ¹⁰は水素原子又は炭素数１～５のアルキル基であることが好ましい。また有機ケイ素化合物（Ｃ）中に複数個のアミン骨格が含まれる場合、複数のアミン骨格は同一であってもよいし、異なっていてもよい。

　有機ケイ素化合物（Ｃ）としては、下記式（ｃ１）～（ｃ３）のいずれかで表される化合物であることが好ましい。

　２－１－１．下記式（ｃ１）で表される有機ケイ素化合物（Ｃ）（以下、有機ケイ素化合物（Ｃ１））

　Ｒ^x11、Ｒ^x12、Ｒ^x13、及びＲ^x14は、水素原子であることが好ましい。

　Ｒｆ^x11、Ｒｆ^x12、Ｒｆ^x13、及びＲｆ^x14は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～１０のアルキル基又はフッ素原子であることが好ましい。

　Ｒ^x15は、炭素数が１～５のアルキル基であることが好ましい。

　Ｘ¹¹は、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、又はイソシアネート基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基又はエトキシ基であることが特に好ましい。

　Ｙ¹¹は、－ＮＨ－であることが好ましい。

　Ｚ¹¹は、メタクリロイル基、アクリロイル基、メルカプト基又はアミノ基であることが好ましく、メルカプト基又はアミノ基がより好ましく、アミノ基が特に好ましい。

　ｐ１は１～１５が好ましく、より好ましくは２～１０である。ｐ２、ｐ３及びｐ４は、それぞれ独立して、０～５が好ましく、より好ましくは全て０～２である。ｐ５は、０～５が好ましく、より好ましくは０～３、さらに好ましくは１～３である。ｐ６は、２～３が好ましく、より好ましくは３である。

　有機ケイ素化合物（Ｃ）としては、上記式（ｃ１）において、Ｒ^x11及びＲ^x12がいずれも水素原子であり、Ｙ¹¹が－ＮＨ－であり、Ｘ¹¹がアルコキシ基（特にメトキシ基又はエトキシ基）であり、Ｚ¹¹がアミノ基又はメルカプト基であり、ｐ１が１～１０であり、ｐ２、ｐ３及びｐ４がいずれも０であり、ｐ５が０～５（特に１～３）であり、ｐ６が３である化合物を用いることが好ましい。

　なお、ｐ１個の単位（Ｕ_c11）は、単位（Ｕ_c11）が連続して結合している必要はなく、途中に他の単位を介して結合していてもよく、合計でｐ１個であればよい。ｐ２～ｐ５で括られる単位（Ｕ_c12）～単位（Ｕ_c15）についても同様である。

　有機ケイ素化合物（Ｃ１）は、下記式（ｃ１－２）で表されることが好ましい。

　上記式（ｃ１－２）中、
　Ｘ¹²は、加水分解性基であり、Ｘ¹²が複数存在する場合は複数のＸ¹²がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｙ¹²は、－ＮＨ－であり、
　Ｚ¹²は、アミノ基、又はメルカプト基であり、
　Ｒ^x16は、炭素数が１～２０のアルキル基であり、Ｒ^x16が複数存在する場合は複数のＲ^x16がそれぞれ異なっていてもよく、
　ｐは、１～３の整数であり、ｑは２～５の整数であり、ｒは０～５の整数であり、ｓは０又は１であり、
　ｓが０である場合は、Ｚ¹²はアミノ基である。

　Ｘ¹²は、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、又はイソシアネート基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、炭素数が１～４のアルコキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基又はエトキシ基であることが特に好ましい。

　Ｚ¹²は、アミノ基であることが好ましい。

　Ｒ^x16は、炭素数が１～１０のアルキル基であることが好ましく、炭素数が１～５のアルキル基であることがより好ましい。

　ｐは、２～３の整数であることが好ましく、３であることがより好ましい。

　ｓが１である場合にはｑが２～３の整数であり、ｒが２～４の整数であることが好ましく、ｓが０である場合には、ｑとｒの合計が１～５であることが好ましい。

　２－１－２．下記式（ｃ２）で表される有機ケイ素化合物（Ｃ）（以下、有機ケイ素化合物（Ｃ２））

　上記式（ｃ２）中、
　Ｒ^x20及びＲ^x21は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１～４のアルキル基であり、Ｒ^x20が複数存在する場合は複数のＲ^x20がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x21が複数存在する場合は複数のＲ^x21がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｒｆ^x20及びＲｆ^x21は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^x20が複数存在する場合は複数のＲｆ^x20がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x21が複数存在する場合は複数のＲｆ^x21がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｒ^x22及びＲ^x23はそれぞれ独立して、炭素数が１～２０のアルキル基であり、Ｒ^x22及びＲ^x23が複数存在する場合は複数のＲ^x22及びＲ^x23がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｘ²⁰及びＸ²¹はそれぞれ独立して、加水分解性基であり、Ｘ²⁰及びＸ²¹が複数存在する場合は複数のＸ²⁰及びＸ²¹がそれぞれ異なっていてもよく、
　ｐ２０は、１～３０の整数であり、ｐ２１は、０～３０の整数であり、ｐ２０又はｐ２１を付して括弧でくくられた繰り返し単位の少なくとも１つは、アミン骨格－ＮＲ¹⁰⁰－に置き換わっており、前記アミン骨格におけるＲ¹⁰⁰は水素原子又はアルキル基であり、
　ｐ２２及びｐ２３はそれぞれ独立して、１～３の整数であり、
　ｐ２０個の－｛Ｃ（Ｒ^x20）（Ｒ^x21）｝－単位（Ｕ_c21）、ｐ２１個の－｛Ｃ（Ｒｆ^x20）（Ｒｆ^x21）｝－単位（Ｕ_c22）は、ｐ２０個の単位（Ｕ_c21）又はｐ２１個の単位（Ｕ_c22）が連続である必要はなく、それぞれの単位（Ｕ_c21）及び単位（Ｕ_c22）が任意の順で並んで結合し、式（ｃ２）で表される化合物の一方の末端が－Ｓｉ（Ｘ²⁰）_p22（Ｒ^x22）_3-p22となり、他方の末端が－Ｓｉ（Ｘ²¹）_p23（Ｒ^x23）_3-p23となる。

　Ｒ^x20及びＲ^x21は、水素原子であることが好ましい。

　Ｒｆ^x20及びＲｆ^x21は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～１０のアルキル基又はフッ素原子であることが好ましい。

　Ｒ^x22及びＲ^x23は、炭素数が１～５のアルキル基であることが好ましい。

　Ｘ²⁰及びＸ²¹は、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、又はイソシアネート基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基又はエトキシ基であることが特に好ましい。

　アミン骨格－ＮＲ¹⁰⁰－は、上記の通り分子内に少なくとも１つ存在すればよく、ｐ２０又はｐ２１を付して括弧でくくられた繰り返し単位のいずれかが前記アミン骨格に置き換わっていればよいが、ｐ２０を付して括弧でくくられた繰り返し単位の一部であることが好ましい。前記アミン骨格は、複数存在してもよく、その場合のアミン骨格の数は、１～１０であることが好ましく、１～５であることがより好ましく、２～５であることがさらに好ましい。また、この場合、隣り合うアミン骨格の間に－｛Ｃ（Ｒ^x20）（Ｒ^x21）｝_p200－を有することが好ましく、ｐ２００は、１～１０であることが好ましく、１～５であることがより好ましい。ｐ２００は、ｐ２０の総数に含まれる。

　アミン骨格－ＮＲ¹⁰⁰－において、Ｒ¹⁰⁰がアルキル基である場合、炭素数は５以下であることが好ましく、３以下であることがより好ましい。アミン骨格－ＮＲ¹⁰⁰－は、－ＮＨ－（Ｒ¹⁰⁰が水素原子）であることが好ましい。

　ｐ２０は、アミン骨格に置き変わった繰り返し単位の数を除いて、１～１５が好ましく、より好ましくは１～１０である。

　ｐ２１は、アミン骨格に置き変わった繰り返し単位の数を除いて、０～５が好ましく、より好ましくは０～２である。

　ｐ２２及びｐ２３は、２～３が好ましく、より好ましくは３である。

　有機ケイ素化合物（Ｃ２）としては、上記式（ｃ２）において、Ｒ^x20及びＲ^x21がいずれも水素原子であり、Ｘ²⁰及びＸ²¹がアルコキシ基（特にメトキシ基又はエトキシ基）であり、ｐ２０を付して括弧でくくられた繰り返し単位が、少なくとも１つアミン骨格－ＮＲ¹⁰⁰－に置き換わっており、Ｒ¹⁰⁰が水素原子であり、ｐ２０が１～１０であり（ただし、アミン骨格に置き変わった繰り返し単位の数を除く）、ｐ２１が０であり、ｐ２２及びｐ２３が３である化合物を用いることが好ましい。

　有機ケイ素化合物（Ｃ２）は、下記式（ｃ２－２）で表される化合物であることが好ましい。

　上記式（ｃ２－２）中、
　Ｘ²²及びＸ²³は、それぞれ独立して、加水分解性基であり、Ｘ²²及びＸ²³が複数存在する場合は複数のＸ²²及びＸ²³がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｒ^x24及びＲ^x25は、それぞれ独立して、炭素数が１～２０のアルキル基であり、Ｒ^x24及びＲ^x25が複数存在する場合は複数のＲ^x24及びＲ^x25がそれぞれ異なっていてもよく、
　－Ｃ_wＨ_2w－は、その一部のメチレン基の少なくとも１つがアミン骨格－ＮＲ¹⁰⁰－に置き換わっており、Ｒ¹⁰⁰は水素原子又はアルキル基であり、
　ｗは１～３０の整数であり（ただし、アミン骨格に置き換わったメチレン基の数を除く）、
　ｐ２４及びｐ２５は、それぞれ独立して、１～３の整数である。

　Ｘ²²及びＸ²³は、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、又はイソシアネート基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基又はエトキシ基であることが特に好ましい。

　アミン骨格－ＮＲ¹⁰⁰－は、複数存在してもよく、その場合のアミン骨格の数は、１～１０であることが好ましく、１～５であることがより好ましく、２～５であることがさらに好ましい。また、この場合、隣り合うアミン骨格の間にアルキレン基を有することが好ましい。前記アルキレン基の炭素数は、１～１０であることが好ましく、１～５であることがより好ましい。隣り合うアミン骨格の間のアルキレン基の炭素数は、ｗの総数に含まれる。

　Ｒ^x24及びＲ^x25は、炭素数が１～１０のアルキル基であることが好ましく、炭素数が１～５のアルキル基であることがより好ましい。

　ｐ２４及びｐ２５は、２～３の整数であることが好ましく、３であることがより好ましい。

　ｗは、１以上であることが好ましく、２以上であることがより好ましく、また２０以下であることが好ましく、１０以下であることがより好ましい。

　２－１－３．下記式（ｃ３）で表される有機ケイ素化合物（Ｃ）（以下、有機ケイ素化合物（Ｃ３））

　上記式（ｃ３）中、
　Ｚ³¹、Ｚ³²は、それぞれ独立に、加水分解性基及びヒドロキシ基以外の、反応性官能基である。反応性官能基としては、ビニル基、α－メチルビニル基、スチリル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、アミノ基、エポキシ基、ウレイド基、又はメルカプト基が挙げられる。Ｚ³¹、Ｚ³²としては、アミノ基、メルカプト基、又はメタクリロイル基が好ましく、特にアミノ基が好ましい。

　Ｒ^x31、Ｒ^x32、Ｒ^x33、Ｒ^x34は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１～４のアルキル基であり、Ｒ^x31が複数存在する場合は複数のＲ^x31がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x32が複数存在する場合は複数のＲ^x32がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x33が複数存在する場合は複数のＲ^x33がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x34が複数存在する場合は複数のＲ^x34がそれぞれ異なっていてもよい。Ｒ^x31、Ｒ^x32、Ｒ^x33、Ｒ^x34は、水素原子又は炭素数が１～２のアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。

　Ｒｆ^x31、Ｒｆ^x32、Ｒｆ^x33、Ｒｆ^x34は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^x31が複数存在する場合は複数のＲｆ^x31がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x32が複数存在する場合は複数のＲｆ^x32がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x33が複数存在する場合は複数のＲｆ^x33がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x34が複数存在する場合は複数のＲｆ^x34がそれぞれ異なっていてもよい。Ｒｆ^x31、Ｒｆ^x32、Ｒｆ^x33、Ｒｆ^x34は、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～１０のアルキル基又はフッ素原子であることが好ましい。

　Ｙ³¹は、－ＮＨ－、－Ｎ（ＣＨ₃）－又は－Ｏ－であり、Ｙ³¹が複数存在する場合は複数のＹ³¹がそれぞれ異なっていてもよい。Ｙ³¹は－ＮＨ－であることが好ましい。

　Ｘ³¹、Ｘ³²、Ｘ³³、Ｘ³⁴は、それぞれ独立に、－ＯＲ^c（Ｒ^cは、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、又はアミノＣ_1-3アルキルジＣ_1-3アルコキシシリル基である）であり、Ｘ³¹が複数存在する場合は複数のＸ³¹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｘ³²が複数存在する場合は複数のＸ³²がそれぞれ異なっていてもよく、Ｘ³³が複数存在する場合は複数のＸ³³がそれぞれ異なっていてもよく、Ｘ³⁴が複数存在する場合は複数のＸ³⁴がそれぞれ異なっていてもよい。Ｘ³¹、Ｘ³²、Ｘ³³、Ｘ³⁴は、Ｒ^cが水素原子、又は炭素数１～２のアルキル基である－ＯＲ^cであることが好ましく、Ｒ^cは水素原子がより好ましい。

　ｐ３１は、０～２０の整数であり、ｐ３２、ｐ３３、ｐ３４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり、ｐ３５は、０～５の整数であり、ｐ３６は、１～１０の整数であり、ｐ３７は０又は１である。ｐ３１は１～１５が好ましく、より好ましくは３～１３であり、さらに好ましくは５～１０である。ｐ３２、ｐ３３及びｐ３４は、それぞれ独立して、０～５が好ましく、より好ましくは全て０～２である。ｐ３５は、０～３が好ましい。ｐ３６は、１～５が好ましく、より好ましくは１～３である。ｐ３７は１が好ましい。

　有機ケイ素化合物（Ｃ３）は、Ｚ³¹及びＺ³²の少なくとも一方がアミノ基であるか、又はＹ³¹の少なくとも一つが－ＮＨ－又は－Ｎ（ＣＨ₃）－であるという条件を満たし、かつ式（ｃ３）で表される化合物の一方の末端がＺ³¹－であり、他方の末端がＺ³²－であり、－Ｏ－が－Ｏ－と連結しない限り、ｐ３１個の－｛Ｃ（Ｒ^x31）（Ｒ^x32）｝－単位（Ｕ_c31）、ｐ３２個の－｛Ｃ（Ｒｆ^x31）（Ｒｆ^x32）｝－単位（Ｕ_c32）、ｐ３３個の－｛Ｓｉ（Ｒ^x33）（Ｒ^x34）｝－単位（Ｕ_c33）、ｐ３４個の－｛Ｓｉ（Ｒｆ^x33）（Ｒｆ^x34）｝－単位（Ｕ_c34）、ｐ３５個の－Ｙ³¹－単位（Ｕ_c35）、ｐ３６個の－｛Ｓｉ（Ｘ³¹）（Ｘ³²）－Ｏ｝－単位（Ｕ_c36）、ｐ３７個の－｛Ｓｉ（Ｘ³³）（Ｘ³⁴）｝－単位（Ｕ_c37）がそれぞれ任意の順で並んで結合して構成される。ｐ３１個の単位（Ｕ_c31）は、単位（Ｕ_c31）が連続して結合している必要はなく、途中に他の単位を介して結合していてもよく、合計でｐ３１個であればよい。ｐ３２～ｐ３７で括られる単位（Ｕ_c32）～単位（Ｕ_c37）についても同様である。

　有機ケイ素化合物（Ｃ３）としては、Ｚ³¹及びＺ³²がアミノ基であり、Ｒ^x31及びＲ^x32が水素原子であり、ｐ３１が３～１３（好ましくは５～１０）であり、Ｒ^x33及びＲ^x34がいずれも水素原子であり、Ｒｆ^x31～Ｒｆ^x34がいずれも１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～１０のアルキル基又はフッ素原子であり、ｐ３２～ｐ３４がいずれも０～５であり、Ｙ³¹が－ＮＨ－であり、ｐ３５が０～５（好ましくは０～３）であり、Ｘ³¹～Ｘ³⁴がいずれも－ＯＨであり、ｐ３６が１～５（好ましくは１～３）であり、ｐ３７が１である化合物が好ましい。

　後述する実施例で用いたＫＢＰ９０は、前記式（ｃ３）におけるＺ³¹及びＺ³²がいずれもアミノ基であり、Ｒ^x31及びＲ^x32がいずれも水素原子であり、ｐ３１が６であり、ｐ３２～ｐ３５がいずれも０であり、Ｘ³¹、Ｘ³²、Ｘ³³及びＸ³⁴がいずれも－ＯＨであり、ｐ３６及びｐ３７がいずれも１である化合物である。

　有機ケイ素化合物（Ｃ３）は、下記式（ｃ３－２）で表されることが好ましい。

　前記式（ｃ３－２）中、Ｚ³¹、Ｚ³²、Ｘ³¹、Ｘ³²、Ｘ³³、Ｘ³⁴、Ｙ³¹は、式（ｃ３）中のこれらと同義であり、ｐ４１～ｐ４４は、それぞれ独立に１～６の整数であり、ｐ４５、ｐ４６はそれぞれ独立に０又は１である。

　式（ｃ３－２）において、Ｚ³¹及びＺ³²は、アミノ基、メルカプト基、又はメタクリロイル基が好ましく、特にアミノ基が好ましい。Ｘ³¹、Ｘ³²、Ｘ³³、Ｘ³⁴は、Ｒ^cが水素原子、又は炭素数１～２のアルキル基である－ＯＲ^cであることが好ましく、Ｒ^cが水素原子であることがより好ましい。Ｙ³¹は－ＮＨ－であることが好ましい。ｐ４１～ｐ４４は、１以上が好ましく、また５以下が好ましく、４以下がより好ましい。ｐ４５、ｐ４６はいずれも０であることが好ましい。

　有機ケイ素化合物（Ｃ）としては、１種のみ用いてもよいし、２種以上用いてもよい。有機ケイ素化合物（Ｃ）としては、少なくとも有機ケイ素化合物（Ｃ３）を用いることが好ましい。

　前記抗菌層形成用組成物は、有機ケイ素化合物（Ｃ）と抗菌成分（Ｋ）を混合することにより得られ、有機ケイ素化合物（Ｃ）及び抗菌成分（Ｋ）以外の成分が混合されている場合は、有機ケイ素化合物（Ｃ）と、抗菌成分（Ｋ）と、他の成分を混合することにより得られる。抗菌層形成用組成物は、混合後、例えば保管中に反応が進んだものも含み、反応が進んだ例としては、前記抗菌層形成用組成物が、上記有機ケイ素化合物（Ｃ）のケイ素原子に結合した加水分解性基が加水分解により－ＳｉＯＨ基となった化合物を含むことが挙げられる。また、反応が進んだ例としては、抗菌層形成用組成物が、前記有機ケイ素化合物（Ｃ）の縮合物を含むことも挙げられ、該縮合物としては、有機ケイ素化合物（Ｃ）が有する－ＳｉＯＨ基又は加水分解で生じた有機ケイ素化合物（Ｃ）の－ＳｉＯＨ基が、有機ケイ素化合物（Ｃ）由来の－ＳｉＯＨ基、又は他の化合物由来の－ＳｉＯＨ基と脱水縮合して形成された縮合物が挙げられる。より具体的に、該縮合物としては、前記有機ケイ素化合物（Ｃ３）が上記Ｘ³¹～Ｘ³⁴の少なくともいずれかで縮合して結合した有機ケイ素化合物（Ｃ３’）が挙げられる。

　前記有機ケイ素化合物（Ｃ３’）は、下記式（ｃ３１－１）で表される構造（ｃ３１－１）を２以上有し、前記構造（ｃ３１－１）同士が、下記＊３又は＊４で鎖状又は環状に結合した化合物であって、下記＊３又は＊４での結合は、２以上の前記有機ケイ素化合物（Ｃ３）の前記Ｘ³¹又はＸ³²の縮合によるものであり、
　下記式（ｃ３１－１）の＊１及び＊２には、それぞれ、下記式（ｃ３１－２）のｐ３１、ｐ３２、ｐ３３、ｐ３４、ｐ３５、（ｐ３６）－１、ｐ３７で括られた単位の少なくとも１種が任意の順で結合し末端がＺ－である基が結合しており、複数の前記構造（ｃ３１－１）ごとに、＊１及び＊２に結合する基は異なっていてもよく、
　複数の前記構造（ｃ３１－１）が鎖状に結合しているときの末端となる＊３は水素原子であり、＊４はヒドロキシ基である。

　前記式（ｃ３１－２）中、
　Ｚは、加水分解性基及びヒドロキシ基以外の、反応性官能基であり、
　Ｒ^x31、Ｒ^x32、Ｒ^x33、Ｒ^x34、Ｒｆ^x31、Ｒｆ^x32、Ｒｆ^x33、Ｒｆ^x34、Ｙ³¹、Ｘ³¹、Ｘ³²、Ｘ³³、Ｘ³⁴、ｐ３１～ｐ３７は、前記式（ｃ３）中のこれら符号と同義である。

　有機ケイ素化合物（Ｃ３）が前記式（ｃ３－２）で表される化合物である場合、有機ケイ素化合物（Ｃ３’）としては、例えば下記式（ｃ３１－３）で表される構造が下記＊３又は＊４で鎖状又は環状に結合した化合物が挙げられる。下記式（ｃ３１－３）で表される構造が鎖状に結合する場合には、末端となる＊３は水素原子であり、末端となる＊４はヒドロキシ基である。

　前記式（ｃ３１－３）中の符号は、全て前記式（ｃ３－２）の符号と同義である。

　有機ケイ素化合物（Ｃ３’）は、前記式（ｃ３１－３）で表される構造が２～１０（好ましくは３～８）結合した化合物であることが好ましい。

２－２．抗菌成分（Ｋ）
　抗菌成分（Ｋ）としては、抗菌性（好ましくは抗菌性及び抗ウイルス性）を示す化合物を使用することができ、例えば、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、両性界面活性剤、非イオン系界面活性剤等の各種界面活性剤を使用することができる。中でも、４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、イミダゾリニウム塩、イソキノリニウム塩、ホスホニウム塩等のカチオン系界面活性剤が好ましく、４級アンモニウム塩が特に好ましい。

　抗菌成分（Ｋ）としては、分子内に、加水分解性基又はヒドロキシ基（以下、両者を合わせて、反応性基（ｈ２）と呼ぶ）が結合するケイ素原子を１以上含有する化合物であることが好ましく、反応性基（ｈ２）が結合するケイ素原子を１以上含有するカチオン系界面活性剤であることがより好ましく、反応性基（ｈ２）が結合するケイ素原子を１以上含有する４級アンモニウム塩であることが特に好ましい。抗菌成分（Ｋ）が、反応性基（ｈ２）が結合するケイ素原子を含有する化合物であることにより、反応性基（ｈ２）が結合するケイ素原子由来の－ＳｉＯＨ基と、抗菌層形成用組成物が塗布される面の活性水素（水酸基など）や抗菌層形成用組成物に用いられる他の化合物由来の－ＳｉＯＨ基との縮合が可能となるためか、抗菌層形成用組成物を塗布する際の抗菌成分（Ｋ）の揮発や、得られる積層体の浸水や昇温等の環境変化による抗菌成分（Ｋ）の急激なブリードアウトを抑制でき、抗菌層（ｋ）における抗菌成分（Ｋ）の保持が容易になると考えられる。また、有機ケイ素化合物（Ｃ）及び抗菌成分（Ｋ）が－ＳｉＯＨ基を有する、若しくは加水分解により－ＳｉＯＨ基を有し得る化合物であることにより、抗菌成分（Ｋ）と有機ケイ素化合物（Ｃ）との相溶性が良好となるためか、抗菌層（ｋ）における均一な抗菌成分（Ｋ）の分散が容易になると考えられる。

　前記ケイ素原子の数は１以上１２以下が好ましく、より好ましくは１以上５以下、さらに好ましくは１以上３以下である。前記加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アセトキシ基、イソシアネート基等が挙げられ、アルコキシ基が好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基がより好ましい。前記ケイ素原子には、アルコキシ基又はヒドロキシ基が結合していることが好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基又はヒドロキシ基が結合していることが特に好ましい。

　１つのケイ素原子に結合する反応性基（ｈ２）の数は、１以上であればよく、２又は３であってもよいが、２又は３であるのが好ましい。２つ以上の反応性基（ｈ２）がケイ素原子に結合している場合、異なる反応性基（ｈ２）がケイ素原子に結合していてもよいが、同じ反応性基（ｈ２）がケイ素原子に結合しているのが好ましい。

　前述の通り、抗菌成分（Ｋ）としては、４級アンモニウム塩を含むことが好ましい。前記４級アンモニウム塩としては、式（ｋ１）で表される４級アンモニウム塩（以下、４級アンモニウム塩（Ｋ１）という場合がある。）であることが好ましい。

［式（ｋｉ）中、Ｒ^k17～Ｒ^k19は、それぞれ独立して、炭素数１～３０の炭化水素基を表し、＊は、結合手を表す。］］

　Ｒ^k1～Ｒ^k3及びＲ^k17～Ｒ^k19で表される炭化水素基としては、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、脂肪族炭化水素基でも芳香族炭化水素基であってもよく、また飽和炭化水素基でも不飽和炭化水素基でもよいが、直鎖状又は分岐鎖状の飽和脂肪族炭化水素基（以下、アルキル基）であることが好ましく、直鎖状アルキル基であることがより好ましい。

　Ｒ^k1～Ｒ^k3及びＲ^k17～Ｒ^k19で表される炭化水素基の炭素数は、それぞれ独立して、１～３０であればよく、Ｒ^k1～Ｒ^k3の内いずれか１つが長鎖アルキル基であり、残りの２つが短鎖アルキル基であり、Ｒ^k17～Ｒ^k19の内いずれか１つが長鎖アルキル基であり、残りの２つが短鎖アルキル基であることが好ましい。
　長鎖アルキル基の主鎖（最長直鎖）の炭素数は、５以上であることが好ましく、より好ましくは８以上、さらに好ましくは１２以上であり、また２５以下であることが好ましく、より好ましくは２０以下である。
　短鎖アルキル基の主鎖（最長直鎖）の炭素数は、４以下であることが好ましく、より好ましくは１又は２であり、特に好ましくは１である。

　Ｒ^k4、Ｒ^k5、及びＺ^k1で表される炭素数１～４のアルキル基としては、炭素数１～３のアルキル基であることが好ましく、より好ましくはメチル基又はエチル基であり、特に好ましくはメチル基である。Ｒ^k5が複数存在する場合、複数のＲ^k5は同一であっても、それぞれ異なっていてもよい。

　Ｙ^k1及びＹ^k2で表される２価の炭化水素基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、２価の脂肪族炭化水素基でも２価の芳香族炭化水素基であってもよく、また２価の飽和炭化水素基でも２価の不飽和炭化水素基でもよいが、直鎖状又は分岐鎖状の２価の飽和脂肪族炭化水素基（以下、アルキレン基）であることが好ましく、直鎖状アルキレン基であることがより好ましい。Ｙ^k1及びＹ^k2で表される２価の炭化水素基の炭素数は、２以上であることが好ましく、また８以下であることが好ましく、より好ましくは５以下である。

　Ａ^k1、Ａ^k2、及びＺ^k1で表される加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アセトキシ基、イソシアネート基等が挙げられ、アルコキシ基又はハロゲン原子であることが好ましく、より好ましくは炭素数１～４のアルコキシ基、さらに好ましくはメトキシ基又はエトキシ基である。Ａ^k1が複数存在する場合、複数のＡ^k1は同一であっても、それぞれ異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。Ａ^k2が複数存在する場合、複数のＡ^k2は同一であっても、それぞれ異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。

　Ｘで表されるハロゲン原子としては、塩素原子又は臭素原子であることが好ましく、より好ましくは塩素原子である。

　Ｒ^k1～Ｒ^k3としては、Ｒ^k1～Ｒ^k3の内いずれか１つが主鎖（最長直鎖）の炭素数が５～２５（好ましくは、１２～２０）のアルキル基であり、残りの２つが主鎖（最長直鎖）の炭素数が１～４（好ましくは１～２）のアルキル基であることが好ましく、Ｒ^k1～Ｒ^k3の内いずれか１つが炭素数５～２５（好ましくは、１２～２５）の直鎖状アルキル基であり、残りの２つが炭素数１～４（好ましくは１～２）の直鎖状アルキル基であることがより好ましい。

　Ｒ^k17～Ｒ^k19としては、Ｒ^k17～Ｒ^k19の内いずれか１つが主鎖（最長直鎖）の炭素数が５～２５（好ましくは、１２～２０）のアルキル基であり、残りの２つが主鎖（最長直鎖）の炭素数が１～４（好ましくは１～２）のアルキル基であることが好ましく、Ｒ^k17～Ｒ^k19の内いずれか１つが炭素数５～２５（好ましくは、１２～２５）の直鎖状アルキル基であり、残りの２つが炭素数１～４（好ましくは１～２）の直鎖状アルキル基であることがより好ましい。

　Ｙ^k1及びＹ^k2としては、それぞれ独立して、単結合又は炭素数１～１０のアルキレン基であることが好ましく、単結合又は炭素数１～１０の直鎖状アルキレン基であることがより好ましく、単結合又は炭素数２～８の直鎖状アルキレン基であることが更に好ましく、単結合又は炭素数２～５の直鎖状アルキレン基であることが特に好ましい。

　Ａ^k1及びＡ^k2は、それぞれ独立して、アルコキシ基、ハロゲン原子、又はヒドロキシ基であることが好ましく、アルコキシ基又はヒドロキシ基であることがより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基又はヒドロキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基、エトキシ基、又はヒドロキシ基であることが特に好ましい。

　Ｙ^k2が単結合であり且つｋ５が０である場合、Ｚ^k1としては、加水分解性基又はヒドロキシ基であることがより好ましく、メトキシ基、エトキシ基、又はヒドロキシ基であることが更に好ましい。Ｙ^k2が炭素数１～１０の２価の炭化水素基であるか又はｋ５が１以上の整数である場合、Ｚ^k1としては、加水分解性基、ヒドロキシ基、又は式（ｋｉ）で表される基であることが好ましく、式（ｋｉ）で表される基であることがより好ましい。

　ｋ３及びｋ４は、２であることが好ましい。

　ｋ５は、０～５の整数であることが好ましく、より好ましくは０又は１である。

　後述する実施例で用いたＸ－１２－１１３９は、前記式（ｋ１）において、Ｚ^k1が式（ｋｉ）で表される基であり、Ｒ^k1及びＲ^k17が炭素数１８の直鎖状アルキル基であり、Ｒ^k2、Ｒ^k3、Ｒ^k18及びＲ^k19がメチル基であり、Ａ^k1及びＡ^k2がヒドロキシ基であり、Ｙ^k1
及びＹ^k2が単結合であり、ｋ３及びｋ４が２であり、ｋ５が１であり、ｎが２であり、Ｘが塩素原子である化合物である。

　４級アンモニウム塩（Ｋ１）は、式（ｋ１－１）で表される化合物であることがより好ましい。

［式（ｋ１－１）中、
　Ｒ^k11～Ｒ^k16は、それぞれ独立して、炭素数１～３０の炭化水素基を表し、
　Ｙ^k11及びＹ^k12は、それぞれ独立して、単結合又は炭素数１～１０の２価の炭化水素基を表し、
　Ａ^k11～Ａ^k14は、それぞれ独立して、加水分解性基又はヒドロキシ基を表し、Ａ^k13が複数存在する場合は複数のＡ^k13がそれぞれ異なっていてもよく、Ａ^k14が複数存在する場合は複数のＡ^k14がそれぞれ異なっていてもよく、
　ｋ１３は、０～１０の整数を表し、
　Ｘは、ハロゲン原子を表す。］

　Ｒ^k11～Ｒ^k16で表される炭素数１～３０の炭化水素基としては、Ｒ^k1～Ｒ^k3及びＲ^k17～Ｒ^k19で表される炭素数１～３０の炭化水素基として説明した基と同様の基が挙げられ、その好ましい態様も同様である。

　Ｙ^k11及びＹ^k12で表される炭素数１～１０の２価の炭化水素基としては、Ｙ^k1及びＹ^k2で表される炭素数１～１０の２価の炭化水素基として説明した基と同様の基が挙げられ、その好ましい態様も同様である。

　Ａ^k11～Ａ^k14で表される加水分解性基としては、Ａ^k1、Ａ^k2、及びＺ^k1で表される加水分解性基として説明した基と同様の基が挙げられ、その好ましい態様も同様である。

　Ｘで表されるハロゲン原子は、前記と同じである。

　Ｒ^k11～Ｒ^k13としては、Ｒ^k11～Ｒ^k13の内いずれか１つが主鎖（最長直鎖）の炭素数が５～２５（好ましくは、１２～２０）のアルキル基であり、残りの２つが主鎖（最長直鎖）の炭素数が１～４（好ましくは１～２）のアルキル基であることが好ましく、Ｒ^k11～Ｒ^k13の内いずれか１つが炭素数５～２５（好ましくは、１２～２５）の直鎖状アルキル基であり、残りの２つが炭素数１～４（好ましくは１～２）の直鎖状アルキル基であることがより好ましい。

　Ｒ^k14～Ｒ^k16としては、Ｒ^k14～Ｒ^k16の内いずれか１つが主鎖（最長直鎖）の炭素数が５～２５（好ましくは、１２～２０）のアルキル基であり、残りの２つが主鎖（最長直鎖）の炭素数が１～４（好ましくは１～２）のアルキル基であることが好ましく、Ｒ^k14～Ｒ^k16の内いずれか１つが炭素数５～２５（好ましくは、１２～２５）の直鎖状アルキル基であり、残りの２つが炭素数１～４（好ましくは１～２）の直鎖状アルキル基であることがより好ましい。

　Ａ^k11～Ａ^k14は、それぞれ独立して、アルコキシ基、ハロゲン原子、又はヒドロキシ基であることが好ましく、アルコキシ基又はヒドロキシ基であることがより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基又はヒドロキシ基であることが更に好ましく、全てヒドロキシ基であることが特に好ましい。

　Ｙ^k11及びＹ^k12としては、それぞれ独立して、単結合又は炭素数１～１０のアルキレン基であることが好ましく、単結合又は炭素数１～１０の直鎖状アルキレン基であることがより好ましく、単結合であることが特に好ましい。

　ｋ１３は、０～５の整数であることが好ましく、より好ましくは０又は１、更に好ましくは１である。

　４級アンモニウム塩（Ｋ１）は、式（ｋ１－２）で表される化合物であることもより好ましい。

［式（ｋ１－２）中、
　Ｒ^k21～Ｒ^k23は、それぞれ独立して、炭素数１～３０の炭化水素基を表し、
　Ｒ^k24は、炭素数１～４のアルキル基を表し、Ｒ^k24が複数存在する場合は複数のＲ^k24がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｙ^k21は、単結合又は炭素数１～１０の２価の炭化水素基を表し、
　Ａ^k21は、加水分解性基又はヒドロキシ基を表し、Ａ^k21が複数存在する場合は複数のＡ^k21がそれぞれ異なっていてもよく、
　ｋ２１は、１～３の整数を表し、
　Ｘは、ハロゲン原子を表す。］

　Ｒ^k21～Ｒ^k23で表される炭素数１～３０の炭化水素基としては、Ｒ^k1～Ｒ^k3及びＲ^k17～Ｒ^k19で表される炭素数１～３０の炭化水素基として説明した基と同様の基が挙げられ、その好ましい態様も同様である。

　Ｒ^k24で表される炭素数１～４のアルキル基としては、Ｒ^k4、Ｒ^k5、及びＺ^k1で表される炭素数１～４のアルキル基として説明した基と同様の基が挙げられ、その好ましい態様も同様である。

　Ｙ^k21で表される炭素数１～１０の２価の炭化水素基としては、Ｙ^k1及びＹ^k2で表される炭素数１～１０の２価の炭化水素基として説明した基と同様の基が挙げられ、その好ましい態様も同様である。

　Ａ^k21で表される加水分解性基としては、Ａ^k1、Ａ^k2、及びＺ^k1で表される加水分解性基として説明した基と同様の基が挙げられ、その好ましい態様も同様である。

　Ｘで表されるハロゲン原子は、前記と同じである。

　Ｒ^k21～Ｒ^k23としては、Ｒ^k21～Ｒ^k23の内いずれか１つが主鎖（最長直鎖）の炭素数が５～２５（好ましくは、１２～２０）のアルキル基であり、残りの２つが主鎖（最長直鎖）の炭素数が１～４（好ましくは１～２）のアルキル基であることが好ましく、Ｒ^k21～Ｒ^k23の内いずれか１つが炭素数５～２５（好ましくは、１２～２５）の直鎖状アルキル基であり、残りの２つが炭素数１～４（好ましくは１～２）の直鎖状アルキル基であることがより好ましい。

　Ａ^k21は、それぞれ独立して、アルコキシ基、ハロゲン原子、又はヒドロキシ基であることが好ましく、アルコキシ基又はヒドロキシ基であることがより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基又はヒドロキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基又はエトキシ基であることが特に好ましい。

　ｋ２１は、２又は３であることが好ましく、より好ましくは３である。

　Ｙ^k21としては、単結合又は炭素数１～１０のアルキレン基であることが好ましく、単結合又は炭素数１～１０の直鎖状アルキレン基であることがより好ましく、単結合又は炭素数２～８（特に炭素数２～５）の直鎖状アルキレン基であることが更に好ましく、炭素数２～５の直鎖状アルキレン基であることが特に好ましい。

　４級アンモニウム塩（Ｋ１）としては、少なくとも式（ｋ１－１）で表される化合物及び／又は式（ｋ１－２）で表される化合物を用いることが好ましい。

　抗菌成分（Ｋ）１００質量％中、４級アンモニウム塩（好ましくは４級アンモニウム塩（Ｋ１））の量は、６０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは８０質量％以上、さらに好ましくは９０質量％以上、よりさらに好ましくは９８質量％以上であり、また１００質量％であってもよい。

　抗菌成分（Ｋ）としては、１種のみ用いてもよいし、２種以上用いてもよい。

　抗菌層形成用組成物は、上述した通り、有機ケイ素化合物（Ｃ）及び抗菌成分（Ｋ）を混合した後に、反応が進んだものも含み、反応が進んだ例としては、例えば、前記抗菌層形成用組成物が、上記４級アンモニウム塩（Ｋ１）のケイ素原子に結合した加水分解性基が加水分解により－ＳｉＯＨ基となった化合物を含むことが挙げられる。また、前記抗菌層形成用組成物が４級アンモニウム塩（Ｋ１）の縮合物を含むことも挙げられ、該縮合物としては、４級アンモニウム塩（Ｋ１）が有する－ＳｉＯＨ基又は加水分解で生じた４級アンモニウム塩（Ｋ１）の－ＳｉＯＨ基が、４級アンモニウム塩（Ｋ１）由来の－ＳｉＯＨ基、又は他の化合物由来の－ＳｉＯＨ基と脱水縮合して形成された縮合物が挙げられる。

２－３．溶剤（Ｅ）
　前記抗菌層形成用組成物は、溶剤（Ｅ）が混合されていることが好ましい。溶剤（Ｅ）は特に限定されず、例えば水、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤、エステル系溶剤などを用いることができ、特に水、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、炭化水素系溶剤が好ましい。

　アルコール系溶剤としては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、１－ブタノールなどが挙げられる。
　ケトン系溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどが挙げられる。
　エーテル系溶剤としては、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサンなどが挙げられる。
　炭化水素系溶剤としては、ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素系溶剤、シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。
　エステル系溶剤としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチルなどが挙げられる。

　前記抗菌層形成用組成物の全体を１００質量％としたときの、有機ケイ素化合物（Ｃ）の量は、０．０１質量％以上が好ましく、より好ましくは０．０５質量％以上、更に好ましくは０．１質量％以上であり、また２５質量％以下であってよく、７質量％以下が好ましく、より好ましくは５質量％以下、更に好ましくは３質量％以下、より更に好ましくは１質量％以下である。上記の有機ケイ素化合物（Ｃ）の量は、組成物の調製時に調整できる。また有機ケイ素化合物（Ｃ）の量は、組成物の分析結果から算出してもよい。組成物の分析結果から特定する方法としては、例えば、組成物に含まれる各化合物の種類は、組成物をガスクロマトグラフィー質量分析法や液体クロマトグラフィー質量分析法等により分析し、得られた分析結果をライブラリ検索することで特定でき、また組成物に含まれる各化合物の量は、検量線法を用いて上記分析結果から算出することができる。なお、本明細書において、各成分の量、質量比又はモル比の範囲を記載している場合、該範囲は、組成物の調製時に調整できる。

　前記抗菌層形成用組成物の全体を１００質量％としたときの、抗菌成分（Ｋ）の量は、０．０１質量％以上が好ましく、より好ましくは０．０５質量％以上、更に好ましくは０．１質量％以上、より更に好ましくは１質量％以上、特に好ましくは２質量％以上であり、また２０質量％以下が好ましく、より好ましくは１５質量％以下、さらに好ましくは１０質量％以下、よりさらに好ましくは８質量％以下、特に好ましくは５質量％以下である。

　また、有機ケイ素化合物（Ｃ）に対する、抗菌成分（Ｋ）の質量比は、０．１以上であることが好ましく、より好ましくは、０．５以上、さらに好ましくは１０以上であり、また、８０以下であることが好ましく、より好ましくは５０以下、さらに好ましくは４０以下、よりさらに好ましくは２０以下である。特に、有機ケイ素化合物（Ｃ）に対する抗菌成分（Ｋ）の質量比を０．５以上８０以下、好ましくは０．５以上４０以下に調整することにより、抗菌性（好ましくは抗菌性及び抗ウイルス性）をより良好にできる。また、有機ケイ素化合物（Ｃ）に対する抗菌成分（Ｋ）の質量比を０．１以上４０以下、好ましくは０．５以上２０以下に調整することにより、抗菌性及び耐摩耗性の両立が可能な積層体を得ることができる。

　前記抗菌層形成用組成物の全体を１００質量％としたときの、溶剤（Ｅ）の量は、８０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは８５質量％以上、更に好ましくは９０質量％以上、より更に好ましくは９５質量％以上、一層好ましくは９８質量％以上であり、また９９．９質量％以下であってもよい。

　前記抗菌層形成用組成物の全体を１００質量％としたときの、有機ケイ素化合物（Ｃ）、抗菌成分（Ｋ）及び溶剤（Ｅ）の合計量は、９０質量％以上が好ましく、より好ましくは９５質量％以上、さらに好ましくは９９質量％以上であり、また１００質量％であってもよい。

　また前記抗菌層形成用組成物は、本発明の効果を阻害しない範囲で、シラノール縮合触媒、酸化防止剤、防錆剤、紫外線吸収剤、光安定剤、生物付着防止剤、消臭剤、顔料、難燃剤、帯電防止剤等、各種の添加剤が混合されていてもよい。前記添加剤の量は、抗菌層形成用組成物１００質量％中、５質量％以下が好ましく、より好ましくは１質量％以下である。

　抗菌層（ｋ）の厚みは、例えば１ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下である。

３．撥水層（ｒ）
　撥水層（ｒ）は、フルオロポリエーテル構造を有する有機ケイ素化合物（Ａ）の硬化層であることが好ましい。有機ケイ素化合物（Ａ）の硬化層は、通常、有機ケイ素化合物（Ａ）の混合組成物を塗布して硬化させることにより得られ、すなわち撥水層（ｒ）は、有機ケイ素化合物（Ａ）の混合組成物の硬化層であるといえる。以下、有機ケイ素化合物（Ａ）の混合組成物を、撥水層形成用組成物という場合がある。なお、撥水層形成用組成物には、有機ケイ素化合物（Ａ）以外の成分が混合されていてもよい。

　上述の通り、撥水層（ｒ）は好ましい態様において、有機ケイ素化合物（Ａ）の混合組成物の硬化層であるため、撥水層（ｒ）は有機ケイ素化合物（Ａ）由来の構造を有していることが好ましい。後述する通り、好ましい態様において、有機ケイ素化合物（Ａ）はケイ素原子に結合した（連結基を介して結合していてもよい）加水分解性基又はヒドロキシ基を有しており、有機ケイ素化合物（Ａ）が有する－ＳｉＯＨ基又は加水分解で生じた有機ケイ素化合物（Ａ）の－ＳｉＯＨ基（ＳｉとＯＨが連結基を介して結合していてもよい）が、有機ケイ素化合物（Ａ）由来の－ＳｉＯＨ基（ＳｉとＯＨが連結基を介して結合していてもよい）、他の化合物由来の－ＳｉＯＨ基、又は積層体において撥水層（ｒ）が形成される面の活性水素（水酸基など）と脱水縮合するため、撥水層（ｒ）は、有機ケイ素化合物（Ａ）由来の縮合構造を有することがより好ましい。

３－１．有機ケイ素化合物（Ａ）
　有機ケイ素化合物（Ａ）は、フルオロポリエーテル構造を含む。前記フルオロポリエーテル構造は、フルオロオキシアルキレン基ともいうことができ、両端が酸素原子である構造を意味する。フルオロポリエーテル構造は、撥水性又は撥油性などの撥液性を有する。フルオロポリエーテル構造は、パーフルオロポリエーテル構造であることが好ましい。フルオロポリエーテル構造の最も長い直鎖部分に含まれる炭素数は、例えば５以上であることが好ましく、１０以上がより好ましく、更により好ましくは２０以上である。前記炭素数の上限は特に限定されず、例えば２００であり、好ましくは１５０である。前記有機ケイ素化合物（Ａ）１分子中のケイ素原子の数は１～１０であることが好ましく、より好ましくは１～６である。

　有機ケイ素化合物（Ａ）は、フルオロポリエーテル構造とケイ素原子に加えて、加水分解性基又はヒドロキシ基（以下、両者を合わせて、反応性基（ｈ３）と呼ぶ）を含むことが好ましく、該反応性基（ｈ３）は、連結基を介して又は連結基を介さずに前記ケイ素原子に結合していることがより好ましい。前記反応性基（ｈ３）は、加水分解・脱水縮合反応を通じて、有機ケイ素化合物（Ａ）同士；有機ケイ素化合物（Ａ）と他の単量体；又は有機ケイ素化合物（Ａ）と撥水層形成用組成物が塗布される面の活性水素（水酸基など）；と共に縮合反応を通じて結合する作用を有する。前記加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アセトキシ基、イソシアネート基等が挙げられる。前記反応性基（ｈ３）は、アルコキシ基又はハロゲン原子であることが好ましく、炭素数が１～４であるアルコキシ基又は塩素原子であることがより好ましく、メトキシ基又はエトキシ基が特に好ましい。

　有機ケイ素化合物（Ａ）がフルオロポリエーテル構造とケイ素原子と反応性基（ｈ３）を含む態様において、フルオロポリエーテル構造の酸素原子を結合手側の末端に有する１価の基（以下、ＦＰＥ基と呼ぶ）と、ケイ素原子が、連結基を介して又は連結基を介さずに結合しており、かつ、ケイ素原子と反応性基（ｈ３）が連結基を介して又は連結基を介さずに結合していることが好ましい。前記ＦＰＥ基とケイ素原子が連結基を介して結合している場合、前記反応性基（ｈ３）が連結基を介して又は連結基を介さずに結合したケイ素原子は、有機ケイ素化合物（Ａ）の一分子中に１又は複数存在していてもよく、その数は例えば１以上、１０以下である。

　前記ＦＰＥ基は、直鎖状であってもよいし、側鎖を有していてもよく、側鎖を有していることが好ましい。側鎖を有している態様として特に、ＦＰＥ基中のフルオロポリエーテル構造が側鎖を有していることが好ましい。側鎖としてフルオロアルキル基を有することが好ましく、該フルオロアルキル基はより好ましくはパーフルオロアルキル基であり、更に好ましくはトリフルオロメチル基である。前記ＦＰＥ基とケイ素原子を連結する連結基の炭素数は、例えば１以上、２０以下であり、好ましくは２以上、１５以下である。前記したＦＰＥ基は、末端にフルオロアルキル基を有する含フッ素基とパーフルオロポリエーテル構造が直接結合した基であることが好ましい。含フッ素基は、フルオロアルキル基であってもよく、フルオロアルキル基に２価の芳香族炭化水素基等の連結基が結合した基であってもよいが、フルオロアルキル基であることが好ましい。該フルオロアルキル基は、パーフルオロアルキル基であることが好ましく、炭素数が１～２０のパーフルオロアルキル基であることがより好ましい。

　前記含フッ素基としては、例えば、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_p－（ｐは、例えば１～１９であり、好ましくは１～１０である）、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_m－（ＣＨ₂）_n－、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_m－Ｃ₆Ｈ₄－（ｍはいずれも１～１０であり、好ましくは３～７であり、ｎはいずれも１～５であり、好ましくは２～４である）が挙げられ、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_p－又はＣＦ₃（ＣＦ₂）_m－（ＣＨ₂）_n－が好ましい。

　前記反応性基（ｈ３）は連結基を介してケイ素原子に結合していてもよいし、連結基を介さずに直接ケイ素原子に結合していてもよく、直接ケイ素原子に結合していることが好ましい。１つのケイ素原子に結合する反応性基（ｈ３）の数は、１つ以上であればよく、２又は３であってもよいが、２又は３であるのが好ましく、３であるのが特に好ましい。２つ以上の反応性基（ｈ３）がケイ素原子に結合している場合、異なる反応性基（ｈ３）がケイ素原子に結合していてもよいが、同じ反応性基（ｈ３）がケイ素原子に結合しているのが好ましい。１つのケイ素原子に結合する反応性基（ｈ３）の数が２以下の場合、残りの結合手には、反応性基（ｈ３）以外の１価の基が結合していてもよく、例えば、アルキル基（特に炭素数が１～４のアルキル基）、Ｈ、ＮＣＯなどが結合できる。

　前記有機ケイ素化合物（Ａ）は、下記式（ａ１）で表される化合物であることが好ましい。

　上記式（ａ１）中、
　Ｒｆ^a26、Ｒｆ^a27、Ｒｆ^a28、及びＲｆ^a29は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のフッ化アルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^a26が複数存在する場合は複数のＲｆ^a26がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^a27が複数存在する場合は複数のＲｆ^a27がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^a28が複数存在する場合は複数のＲｆ^a28がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^a29が複数存在する場合は複数のＲｆ^a29がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｒ²⁵及びＲ²⁶は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、又は１個以上の水素原子がハロゲン原子に置換された炭素数１～４のハロゲン化アルキル基であり、一つの炭素原子に結合するＲ²⁵及びＲ²⁶の少なくとも一方は水素原子であり、Ｒ²⁵が複数存在する場合は複数のＲ²⁵がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ²⁶が複数存在する場合は複数のＲ²⁶がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｒ²⁷及びＲ²⁸は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、又は単結合であり、Ｒ²⁷が複数存在する場合は複数のＲ²⁷がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ²⁸が複数存在する場合は複数のＲ²⁸がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｒ²⁹及びＲ³⁰は、それぞれ独立して、炭素数１～２０のアルキル基であり、Ｒ²⁹が複数存在する場合は複数のＲ²⁹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ³⁰が複数存在する場合は複数のＲ³⁰がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｍ⁷は、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＲ－、－ＮＲＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、又は－Ｃ₆Ｈ₄－（フェニレン基）であり、前記Ｒは水素原子、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数１～４の含フッ素アルキル基であり、Ｍ⁷が複数存在する場合は複数のＭ⁷がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｍ⁵は、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～４のアルキル基であり、Ｍ⁵が複数存在する場合は複数のＭ⁵がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｍ¹⁰は、水素原子、又はハロゲン原子であり、
　Ｍ⁸及びＭ⁹は、それぞれ独立して、加水分解性基、ヒドロキシ基、又は－（ＣＨ₂）_e7－Ｓｉ（ＯＲ¹⁴）₃であり、ｅ７は１～５であり、Ｒ¹⁴はメチル基又はエチル基であり、Ｍ⁸が複数存在する場合は複数のＭ⁸がそれぞれ異なっていてもよく、Ｍ⁹が複数存在する場合は複数のＭ⁹がそれぞれ異なっていてもよく、
　ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４、及びｆ２５はそれぞれ独立して０～６００の整数であり、ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４、及びｆ２５の合計値は１３以上であり、
　ｆ２６は、０～２０の整数であり、
　ｆ２７は、それぞれ独立して、０～２の整数であり、
　ｇ２１は１～３の整数、ｇ２２は０～２の整数、ｇ２１＋ｇ２２≦３であり、
　ｇ３１は１～３の整数、ｇ３２は０～２の整数、ｇ３１＋ｇ３２≦３であり、
　Ｍ¹⁰－、－Ｓｉ（Ｍ⁹）_g31（Ｈ）_g32（Ｒ³⁰）_3-g31-g32、ｆ２１個の－｛Ｃ（Ｒ²⁵）（Ｒ²⁶）｝－単位（Ｕ_a1）、ｆ２２個の－｛Ｃ（Ｒｆ^a26）（Ｒｆ^a27）｝－単位（Ｕ_a2）、ｆ２３個の－｛Ｓｉ（Ｒ²⁷）（Ｒ²⁸）｝－単位（Ｕ_a3）、ｆ２４個の－｛Ｓｉ（Ｒｆ^a28）（Ｒｆ^a29）｝－単位（Ｕ_a4）、ｆ２５個の－Ｍ⁷－単位（Ｕ_a5）、及びｆ２６個の－［Ｃ（Ｍ⁵）｛（ＣＨ₂）_f27－Ｓｉ（Ｍ⁸）_g21（Ｈ）_g22（Ｒ²⁹）_3-g21-g22｝］－単位（Ｕ_a6）は、Ｍ¹⁰－が式（ａ１）における一方の末端であり、－Ｓｉ（Ｍ⁹）_g31（Ｈ）_g32（Ｒ³⁰）_3-g31-g32が他方の末端であり、少なくとも一部でフルオロポリエーテル構造を形成する順で並び、－Ｏ－が－Ｏ－と連続しない限り、それぞれの単位が任意の順で並んで結合する。任意の順で並んで結合するとは、各繰り返し単位が連続して上記式（ａ１）に記載の通りの順に並ぶ意味に限定されないことを意味し、またｆ２１個の単位（Ｕ_a1）が連続して結合している必要はなく、途中に他の単位を介して結合していてもよく、合計でｆ２１個あればよいことを意味する。ｆ２２～ｆ２６で括られる単位（Ｕ_a2）～（Ｕ_a6）についても同様である。

　また、Ｒ²⁷及びＲ²⁸の少なくとも一方が単結合である場合には、ｆ２３で括られる単位の単結合部分と、Ｍ⁷における－Ｏ－とが、繰り返し結合して、分岐鎖状又は環状のシロキサン結合を形成することができる。

　Ｒｆ^a26、Ｒｆ^a27、Ｒｆ^a28、及びＲｆ^a29は、好ましくはそれぞれ独立して、フッ素原子、又は１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２のフッ化アルキル基であることが好ましく、フッ素原子、又は全ての水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２のフッ化アルキル基であることがより好ましい。
　Ｒ²⁵及びＲ²⁶は、好ましくはそれぞれ独立して、水素原子、又はフッ素原子であり、一つの炭素原子に結合するＲ²⁵及びＲ²⁶の少なくとも一方は水素原子であり、より好ましくはいずれも水素原子である。
　Ｒ²⁷及びＲ²⁸は、好ましくはそれぞれ独立して、水素原子、又は炭素数１～２のアルキル基であり、より好ましくはすべて水素原子である。
　Ｒ²⁹及びＲ³⁰は、炭素数１～５のアルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数１～２のアルキル基である。
　Ｍ⁷は、好ましくは、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－であり、より好ましくはすべて－Ｏ－である。
　Ｍ⁵は、好ましくは水素原子又は炭素数１～２のアルキル基であり、より好ましくはすべて水素原子である。
　Ｍ¹⁰は、好ましくはフッ素原子である。
　Ｍ⁸及びＭ⁹は、好ましくはそれぞれ独立して、アルコキシ基、ハロゲン原子であり、メトキシ基、エトキシ基、塩素原子がより好ましく、特にメトキシ基、又はエトキシ基が好ましい。
　好ましくは、ｆ２１、ｆ２３、及びｆ２４は、それぞれｆ２２の１／２以下であり、より好ましくは１／４以下であり、さらに好ましくはｆ２３又はｆ２４は０であり、特に好ましくはｆ２３及びｆ２４は０である。
　ｆ２５は、好ましくはｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４の合計値の１／５以上であり、ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４の合計値以下である。
　ｆ２１は０～２０が好ましく、より好ましくは０～１５であり、更に好ましくは１～１５であり、特に２～１０が好ましい。ｆ２２は、５～６００が好ましく、８～６００がより好ましく、更に好ましくは２０～２００であり、一層好ましくは３０～２００であり、より一層好ましくは３５～１８０であり、最も好ましくは４０～１８０である。ｆ２３及びｆ２４は、０～５が好ましく、より好ましくは０～３であり、更に好ましくは０である。ｆ２５は４～６００が好ましく、より好ましくは４～２００であり、更に好ましくは１０～２００であり、一層好ましくは３０～６０である。ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４、ｆ２５の合計値は、２０～６００が好ましく、２０～２５０がより好ましく、５０～２３０が更に好ましい。ｆ２６は、好ましくは０～１８であり、より好ましくは０～１５であり、更に好ましくは０～１０であり、一層好ましくは０～５である。ｆ２７は、好ましくは０～１であり、より好ましくは０である。ｇ２１及びｇ３１は、それぞれ独立して２～３が好ましく、３がより好ましい。ｇ２２及びｇ３２は、それぞれ独立して０又は１が好ましく、０がより好ましい。ｇ２１＋ｇ２２及びｇ３１＋ｇ３２は３であることが好ましい。

　上記式（ａ１）において、Ｒ²⁵及びＲ²⁶がいずれも水素原子であり、Ｒｆ^a26及びＲｆ^a27がフッ素原子又は全ての水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２のフッ化アルキル基であり、Ｍ⁷が全て－Ｏ－であり、Ｍ⁸及びＭ⁹が全てメトキシ基、エトキシ基又は塩素原子（特にメトキシ基又はエトキシ基）であり、Ｍ⁵が水素原子であり、Ｍ¹⁰がフッ素原子であり、ｆ２１が１～１０（好ましくは２～７）、ｆ２２が３０～２００（より好ましくは４０～１８０）、ｆ２３及びｆ２４が０、ｆ２５が３０～６０、ｆ２６が０～６であり、ｆ２７が０～１（特に好ましくは０）であり、ｇ２１及びｇ３１が１～３（いずれも好ましくは２以上であり、より好ましくは３）であり、ｇ２２及びｇ３２が０～２（いずれも好ましくは０又は１であり、より好ましくは０）であり、ｇ２１＋ｇ２２及びｇ３１＋ｇ３２が３である化合物（ａ１１）を有機ケイ素化合物（Ａ）として用いることが好ましい。

　有機ケイ素化合物（Ａ）は下記式（ａ２）で表されることが好ましい。

　上記式（ａ２）中、
　Ｒｆ^a1は、両端が酸素原子である２価のフルオロポリエーテル構造であり、
　Ｒ¹¹、Ｒ¹²、及びＲ¹³は、それぞれ独立して炭素数１～２０のアルキル基であり、Ｒ¹¹が複数存在する場合は複数のＲ¹¹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ¹²が複数存在する場合は複数のＲ¹²がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ¹³が複数存在する場合は複数のＲ¹³がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｅ¹、Ｅ²、Ｅ³、Ｅ⁴、及びＥ⁵は、それぞれ独立して水素原子又はフッ素原子であり、Ｅ¹が複数存在する場合は複数のＥ¹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ²が複数存在する場合は複数のＥ²がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ³が複数存在する場合は複数のＥ³がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ⁴が複数存在する場合は複数のＥ⁴がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ⁵が複数存在する場合は複数のＥ⁵がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｇ¹及びＧ²は、それぞれ独立して、シロキサン結合を有する２～１０価のオルガノシロキサン基であり、
　Ｊ¹、Ｊ²、及びＪ³は、それぞれ独立して、加水分解性基、ヒドロキシ基又は－（ＣＨ₂）_e7－Ｓｉ（ＯＲ¹⁴）₃であり、ｅ７は１～５であり、Ｒ¹⁴はメチル基又はエチル基であり、Ｊ¹が複数存在する場合は複数のＪ¹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｊ²が複数存在する場合は複数のＪ²がそれぞれ異なっていてもよく、Ｊ³が複数存在する場合は複数のＪ³がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｌ¹及びＬ²は、それぞれ独立して、酸素原子、窒素原子、ケイ素原子又はフッ素原子を含んでいてもよい炭素数１～１２の２価の連結基であって、－｛Ｃ（Ｒ²⁵）（Ｒ²⁶）｝－単位（Ｕ_a1）、－｛Ｃ（Ｒｆ^a26）（Ｒｆ^a27）｝－単位（Ｕ_a2）、－｛Ｓｉ（Ｒ²⁷）（Ｒ²⁸）｝－単位（Ｕ_a3）又は－Ｍ⁷－単位（Ｕ_a5）の一つ以上が任意の順で並んで結合した連結基であり（Ｒ²⁵、Ｒ²⁶、Ｒ²⁷、Ｒ²⁸、Ｒｆ^a26、Ｒｆ^a27、Ｍ⁷は上記式（ａ１）におけるものと同じ）、
　ａ１０及びａ１４は、それぞれ独立して０又は１であり、
　ａ１１及びａ１５は、それぞれ独立して０又は１であり、
　ａ１２及びａ１６は、それぞれ独立して０～９であり、
　ａ１３は、０～４であり、
　ａ１１が０の時、又はａ１１が１であってＧ¹が２価の時はｄ１１は１であり、ａ１１が１であってＧ¹が３～１０価のときは、ｄ１１はＧ¹の価数より一つ少ない数であり、
　ａ１５が０の時、又はａ１５が１であってＧ²が２価の時はｄ１２が１であり、ａ１５が１であってＧ²が３～１０価のときは、ｄ１２はＧ²の価数より一つ少ない数であり、
　ａ２１及びａ２３は、それぞれ独立して０～２であり、
　ｅ１１は１～３、ｅ１２は０～２であり、ｅ１１＋ｅ１２≦３であり、
　ｅ２１は１～３、ｅ２２は０～２であり、ｅ２１＋ｅ２２≦３であり、
　ｅ３１は１～３、ｅ３２は０～２であり、ｅ３１＋ｅ３２≦３である。

　なお、ａ１０が０であるとは、ａ１０を付して括られた部分が単結合であることを意味し、ａ１１、ａ１２、ａ１３、ａ１４、ａ１５、ａ１６、ａ２１又はａ２３が０である場合も同様である。

　Ｒｆ^a1は、－Ｏ－（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_e4－、－Ｏ－（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_e5－、－Ｏ－（ＣＦ₂－ＣＦ（ＣＦ₃）Ｏ）_e6－が好ましい。ｅ４、及びｅ５は、いずれも１５～８０であり、ｅ６は３～６０である。また、Ｒｆ^a1は、ｐモルのパーフルオロプロピレングリコールとｑモルのパーフルオロメタンジオールがランダムに脱水縮合した構造の両末端の水酸基から水素原子が外れて残った基であることも好ましく、ｐ＋ｑが１５～８０であり、Ｒｆ^a1としてはこの態様が最も好ましい。

　Ｒ¹¹、Ｒ¹²、及びＲ¹³は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数１～２のアルキル基である。

　Ｅ¹、Ｅ²、Ｅ³及びＥ⁴はいずれも水素原子であることが好ましく、Ｅ⁵はフッ素原子であることが好ましい。

　Ｌ¹及びＬ²は、それぞれ独立して、－｛Ｃ（Ｒ²⁵）（Ｒ²⁶）｝－単位（Ｕ_a1）、又は－｛Ｃ（Ｒｆ^a26）（Ｒｆ^a27）｝－単位（Ｕ_a2）の一つ以上が任意の順で並んで結合したフッ素原子を含んだ炭素数１～１２（好ましくは１～１０、より好ましくは１～５）の２価の連結基が好ましく、ｘが１～１２（好ましくは１～１０、より好ましくは１～５）である－（ＣＦ₂）_x－であることがより好ましい。

　Ｇ¹及びＧ²は、それぞれ独立して、シロキサン結合を有する２～５価のオルガノシロキサン基が好ましい。

　Ｊ¹、Ｊ²、及びＪ³は、それぞれ独立して、メトキシ基、エトキシ基又は－（ＣＨ₂）_e7－Ｓｉ（ＯＲ¹⁴）₃が好ましく、より好ましくはメトキシ基又はエトキシ基である。

　ａ１０は１が好ましく、ａ１１は０が好ましく、ａ１２は０～７が好ましく、より好ましくは０～５であり、ａ１３は１～３が好ましく、ａ１４は１が好ましく、ａ１５は０が好ましく、ａ１６は０～６が好ましく、より好ましくは０～３であり、ａ２１及びａ２３はいずれも０又は１が好ましく（より好ましくはいずれも０）、ｄ１１は１が好ましく、ｄ１２は１が好ましく、ｅ１１、ｅ２１及びｅ３１はいずれも２以上が好ましく、３であることも好ましい。ｅ１２、ｅ２２及びｅ３２はいずれも０又は１が好ましく、より好ましくは０である。ｅ１１＋ｅ１２、ｅ２１＋ｅ２２、及びｅ３１＋ｅ３２は、いずれも３であることが好ましい。これらの好ましい範囲は、単独で満たしていてもよいし、２つ以上組み合わせて満たしていてもよい。

　有機ケイ素化合物（Ａ）としては、上記式（ａ２）のＲｆ^a1が、ｐモルのパーフルオロプロピレングリコールとｑモルのパーフルオロメタンジオールがランダムに脱水縮合した構造の両末端の水酸基から水素原子が外れて残った基（ｐ＋ｑ＝１５～８０）であり、Ｌ¹及びＬ²がいずれも炭素数１～５（好ましくは１～３）のパーフルオロアルキレン基であり、Ｅ¹、Ｅ²、及びＥ³がいずれも水素原子であり、Ｅ⁴が水素原子であり、Ｅ⁵がフッ素原子であり、Ｊ¹、Ｊ²、及びＪ³がいずれもメトキシ基又はエトキシ基（特にメトキシ基）であり、ａ１０が１であり、ａ１１が０であり、ａ１２が０～７（好ましくは０～５）であり、ａ１３が２であり、ａ１４が１であり、ａ１５が０であり、ａ１６が０～６（特に０）であり、ａ２１及びａ２３が、それぞれ独立して、０又は１であり（より好ましくはａ２１及びａ２３がいずれも０）、ｄ１１が１であり、ｄ１２が１であり、ｅ１１、ｅ２１及びｅ３１がいずれも２～３(特に３)であり、ｅ１２、ｅ２２及びｅ３２がいずれも０又は１（特に０）であり、ｅ１１＋ｅ１２、ｅ２１＋ｅ２２、及びｅ３１＋ｅ３２がいずれも３である化合物（ａ２１）を用いることが好ましい。

　有機ケイ素化合物（Ａ）としては、上記式（ａ２）のＲｆ^a1が－Ｏ－（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_e5－であり、ｅ５が１５～８０（好ましくは２５～４０）であり、Ｌ¹がフッ素原子及び酸素原子を含む炭素数３～６の２価の連結基であり、Ｌ²が炭素数２～１０のパーフルオロアルキレン基であり、Ｅ²、Ｅ³がいずれも水素原子であり、Ｅ⁵がフッ素原子であり、Ｊ²が－（ＣＨ₂）_e7－Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃であり、ｅ７が２～４であり、ａ１０が１であり、ａ１１が０であり、ａ１２が０であり、ａ１３が２であり、ａ１４が１であり、ａ１５が０であり、ａ１６が０であり、ｄ１１が１であり、ｄ１２が１であり、ｅ２１が３である化合物（ａ２２）を用いることも好ましい。

　有機ケイ素化合物（Ａ）として、より具体的には下記式（ａ３）の化合物が挙げられる。

　上記式（ａ３）中、Ｒ³⁰は炭素数が１～６のパーフルオロアルキル基であり、Ｒ³¹はｐモルのパーフルオロプロピレングリコールとｑモルのパーフルオロメタンジオールがランダムに脱水縮合した構造の両末端の水酸基から水素原子が外れて残った基（ｐ＋ｑは１５～８０）又は炭素数が１５～２４０のパーフルオロオキシアルキレングリコールの両末端の水酸基から水素原子が外れて残った基であり（Ｒ³¹としては前者の基がより好ましい）、Ｒ³²は炭素数が１～１０のパーフルオロアルキレン基であり、Ｒ³³は炭素数が２～６の３価の飽和炭化水素基であり、Ｒ³⁴は炭素数が１～３のアルキル基である。Ｒ³⁰の炭素数は、１～４が好ましく、１～３がより好ましい。Ｒ³²の炭素数は、好ましくは１～５である。ｈ１は１～１０であり、１～８が好ましく、１～６がより好ましい。ｈ２は１以上であり、２以上が好ましく、３であってもよい。

　有機ケイ素化合物（Ａ）としては、下記式（ａ４）で表される化合物も挙げることができる。

　上記式（ａ４）中、Ｒ⁴⁰は炭素数が２～５のパーフルオロアルキル基であり、Ｒ⁴¹は炭素数が２～５のパーフルオロアルキレン基であり、Ｒ⁴²は炭素数２～５のアルキレン基の水素原子の一部がフッ素に置換されたフルオロアルキレン基であり、Ｒ⁴³、Ｒ⁴⁴はそれぞれ独立に炭素数が２～５のアルキレン基であり、Ｒ⁴⁵はメチル基又はエチル基である。ｋ１は１～５の整数である。ｋ２は１～３の整数であり、２以上であることが好ましく、３であってもよい。

　有機ケイ素化合物（Ａ）の数平均分子量は、２，０００以上が好ましく、より好ましくは４，０００以上であり、更に好ましくは５，０００以上、一層好ましくは６，０００以上、特に好ましくは７，０００以上であり、また４０，０００以下が好ましく、より好ましくは２０，０００以下であり、更に好ましくは１５，０００以下である。

　有機ケイ素化合物（Ａ）としては１種のみ用いてもよいし、２種以上用いてもよい。

　なお、前記撥水層形成用組成物は、有機ケイ素化合物（Ａ）の混合組成物であり、有機ケイ素化合物（Ａ）を混合することにより得られる。また、有機ケイ素化合物（Ａ）以外の成分が混合されている場合には、前記有機ケイ素化合物（Ａ）と他の成分とを混合することにより撥水層形成用組成物が得られる。前記撥水層形成用組成物は、混合後、例えば保管中に反応が進んだものも含む。反応が進んだ例としては、例えば、前記撥水層形成用組成物が、上記有機ケイ素化合物（Ａ）のケイ素原子に結合した（連結基を介して結合していてもよい）加水分解性基が加水分解により－ＳｉＯＨ基（ＳｉとＯＨが連結基を介して結合していてもよい）となった化合物を含むことが挙げられる。また、前記撥水層形成用組成物が有機ケイ素化合物（Ａ）の縮合物を含むことも挙げられ、該縮合物としては、例えば、有機ケイ素化合物（Ａ）が有する－ＳｉＯＨ基又は加水分解で生じた有機ケイ素化合物（Ａ）の－ＳｉＯＨ基（ＳｉとＯＨが連結基を介して結合していてもよい）が、有機ケイ素化合物（Ａ）由来の－ＳｉＯＨ基（ＳｉとＯＨが連結基を介して結合していてもよい）、又は他の化合物由来の－ＳｉＯＨ基と脱水縮合して形成された縮合物が挙げられる。

３－２．有機ケイ素化合物（Ｂ）
　前記撥水層形成用組成物は、上記した有機ケイ素化合物（Ａ）とともに、下記式（ｂ１）で表される有機ケイ素化合物（Ｂ）が混合されていることが好ましい。有機ケイ素化合物（Ｂ）は、後述する通り、ケイ素原子に結合した加水分解性基又はヒドロキシ基を有しており、通常、有機ケイ素化合物（Ｂ）が有する－ＳｉＯＨ基又は加水分解で生じた有機ケイ素化合物（Ｂ）の－ＳｉＯＨ基が、有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の－ＳｉＯＨ基、他の化合物由来の－ＳｉＯＨ基、又は積層体において撥水層（ｒ）が形成される面の活性水素（水酸基など）と脱水縮合するため、好ましい態様において、撥水層（ｒ）は有機ケイ素化合物（Ａ）由来の縮合構造と共に、有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の縮合構造を有する。撥水層（ｒ）が有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の縮合構造を有することにより、水滴などの滑落性がより向上する。

　上記式（ｂ１）中、
　Ｒｆ^b10は、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のアルキル基又はフッ素原子であり、
　Ｒ^b11、Ｒ^b12、Ｒ^b13、Ｒ^b14は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１～４のアルキル基であり、Ｒ^b11が複数存在する場合は複数のＲ^b11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^b12が複数存在する場合は複数のＲ^b12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^b13が複数存在する場合は複数のＲ^b13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^b14が複数存在する場合は複数のＲ^b14がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｒｆ^b11、Ｒｆ^b12、Ｒｆ^b13、Ｒｆ^b14は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^b11が複数存在する場合は複数のＲｆ^b11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^b12が複数存在する場合は複数のＲｆ^b12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^b13が複数存在する場合は複数のＲｆ^b13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^b14が複数存在する場合は複数のＲｆ^b14がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｒ^b15は、炭素数が１～２０のアルキル基であり、Ｒ^b15が複数存在する場合は複数のＲ^b15がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ａ¹は、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＲ－、－ＮＲＣ（＝Ｏ）－、又は－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ－であり、前記Ｒは水素原子、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数１～４の含フッ素アルキル基であり、Ａ¹が複数存在する場合は複数のＡ¹がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ａ²は、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、Ａ²が複数存在する場合は複数のＡ²がそれぞれ異なっていてもよく、
　ｂ１１、ｂ１２、ｂ１３、ｂ１４、ｂ１５は、それぞれ独立して０～１００の整数であり、
　ｃは、１～３の整数であり、
　Ｒｆ^b10－、－Ｓｉ（Ａ²）_c（Ｒ^b15）_3-c、ｂ１１個の－｛Ｃ（Ｒ^b11）（Ｒ^b12）｝－単位（Ｕ_b1）、ｂ１２個の－｛Ｃ（Ｒｆ^b11）（Ｒｆ^b12）｝－単位（Ｕ_b2）、ｂ１３個の－｛Ｓｉ（Ｒ^b13）（Ｒ^b14）｝－単位（Ｕ_b3）、ｂ１４個の－｛Ｓｉ（Ｒｆ^b13）（Ｒｆ^b14）｝－単位（Ｕ_b4）、ｂ１５個の－Ａ¹－単位（Ｕ_b5）は、Ｒｆ^b10－が式（ｂ１）で表される化合物の一方の末端となり、－Ｓｉ（Ａ²）_c（Ｒ^b15）_3-cが他方の末端となり、フルオロポリエーテル構造を形成せず、かつ－Ｏ－が－Ｏ－乃至－Ｆと連結しない限り、それぞれの単位（Ｕ_b1）～単位（Ｕ_b5）が任意の順で並んで結合する。

　Ｒｆ^b10は、それぞれ独立して、フッ素原子又は炭素数１～１０（より好ましくは炭素数１～５）のパーフルオロアルキル基が好ましい。

　Ｒ^b11、Ｒ^b12、Ｒ^b13、及びＲ^b14は、水素原子が好ましい。

　Ｒ^b15は、炭素数１～５のアルキル基が好ましい。

　Ａ¹は、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－が好ましい。

　Ａ²で表される加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アセトキシ基、イソシアネート基等が挙げられる。

　Ａ²は、炭素数１～４のアルコキシ基、又はハロゲン原子が好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基、塩素原子である。

　ｂ１１は１～３０が好ましく、１～２５がより好ましく、１～１０が更に好ましく、１～５が特に好ましく、最も好ましくは１～２である。

　ｂ１２は、０～１５が好ましく、より好ましくは０～１０である。

　ｂ１３は、０～５が好ましく、より好ましくは０～２である。

　ｂ１４は、０～４が好ましく、より好ましくは０～２である。

　ｂ１５は、０～４が好ましく、より好ましくは０～２である。

　ｃは、２～３が好ましく、より好ましくは３である。

　ｂ１１、ｂ１２、ｂ１３、ｂ１４、及びｂ１５の合計値は、２以上が好ましく、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、また８０以下が好ましく、より好ましくは５０以下であり、更に好ましくは２０以下である。

　特に、Ｒｆ^b10がフッ素原子又は炭素数１～５のパーフルオロアルキル基であり、Ｒ^b11、Ｒ^b12がいずれも水素原子であり、Ａ²がメトキシ基又はエトキシ基であると共に、ｂ１１が１～５、ｂ１２が０～５であり、ｂ１３、ｂ１４、及びｂ１５が全て０であり、ｃが３であることが好ましい。

　なお、後記する実施例にて、有機ケイ素化合物（Ｂ）として用いるＦＡＳ１３Ｅを上記式（ｂ１）で表すと、Ｒ^b11、Ｒ^b12がいずれも水素原子、ｂ１１が２、ｂ１３、ｂ１４、及びｂ１５が全て０、ｃが３、Ａ²がエトキシ基であり、Ｒｆ^b10－｛Ｃ（Ｒｆ^b11）（Ｒｆ^b12）｝_b12－が末端となり、Ｃ₆Ｆ₁₃－となるように定められる。

　上記式（ｂ１）で表される化合物としては、具体的に、Ｃ_jＦ_2j+1－Ｓｉ－（ＯＣＨ₃）₃、Ｃ_jＦ_2j+1－Ｓｉ－（ＯＣ₂Ｈ₅）₃（ｊは１～１２の整数）が挙げられ、この中で特にＣ₄Ｆ₉－Ｓｉ－（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、Ｃ₆Ｆ₁₃－Ｓｉ－（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、Ｃ₇Ｆ₁₅－Ｓｉ－（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、Ｃ₈Ｆ₁₇－Ｓｉ－（ＯＣ₂Ｈ₅）₃が好ましい。また、ＣＦ₃ＣＨ₂Ｏ（ＣＨ₂）_kＳｉＣｌ₃、ＣＦ₃ＣＨ₂Ｏ（ＣＨ₂）_kＳｉ（ＯＣＨ₃）₃、ＣＦ₃ＣＨ₂Ｏ（ＣＨ₂）_kＳｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、ＣＦ₃（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＣＨ₃）₂（ＣＨ₂）_kＳｉＣｌ₃、ＣＦ₃（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＣＨ₃）₂（ＣＨ₂）_kＳｉ（ＯＣＨ₃）₃、ＣＦ₃（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＣＨ₃）₂（ＣＨ₂）_kＳｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、ＣＦ₃（ＣＨ₂）₆Ｓｉ（ＣＨ₃）₂（ＣＨ₂）_kＳｉＣｌ₃、ＣＦ₃（ＣＨ₂）₆Ｓｉ（ＣＨ₃）₂（ＣＨ₂）_kＳｉ（ＯＣＨ₃）₃、ＣＦ₃（ＣＨ₂）₆Ｓｉ（ＣＨ₃）₂（ＣＨ₂）_kＳｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、ＣＦ₃ＣＯＯ（ＣＨ₂）_kＳｉＣｌ₃、ＣＦ₃ＣＯＯ（ＣＨ₂）_kＳｉ（ＯＣＨ₃）₃、ＣＦ₃ＣＯＯ（ＣＨ₂）_kＳｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃が挙げられる（ｋはいずれも５～２０であり、好ましくは８～１５である）。また、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_m－（ＣＨ₂）_nＳｉＣｌ₃、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_m－（ＣＨ₂）_nＳｉ（ＯＣＨ₃）₃、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_m－（ＣＨ₂）_nＳｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃を挙げることもできる（ｍはいずれも０～１０であり、好ましくは０～７であり、ｎはいずれも１～５であり、好ましくは２～４である）。ＣＦ₃（ＣＦ₂）_p－（ＣＨ₂）_q－Ｓｉ－（ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨ₂）₃を挙げることもできる（ｐはいずれも２～１０であり、好ましくは２～８であり、ｑはいずれも１～５であり、好ましくは２～４である）。更に、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_p－（ＣＨ₂）_qＳｉＣＨ₃Ｃｌ₂、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_p－（ＣＨ₂）_qＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_p－（ＣＨ₂）_qＳｉＣＨ₃（ＯＣ₂Ｈ₅）₂が挙げられる（ｐはいずれも２～１０であり、好ましくは３～７であり、ｑはいずれも１～５であり、好ましくは２～４である）。

　上記式（ｂ１）で表される化合物の中で、下記式（ｂ２）で表される化合物が好ましい。

　上記式（ｂ２）中、Ｒ⁶⁰は炭素数１～８のパーフルオロアルキル基であり、Ｒ⁶¹は炭素数１～５のアルキレン基であり、Ｒ⁶²は炭素数１～３のアルキル基である。

　有機ケイ素化合物（Ｂ）としては１種のみ用いてもよいし、２種以上用いてもよい。

　上記撥水層形成用組成物は、上述した通り、有機ケイ素化合物（Ａ）及び必要に応じて用いられる有機ケイ素化合物（Ｂ）を混合した後に、反応が進んだものも含み、反応が進んだ例としては、前記撥水層形成用組成物が、上記有機ケイ素化合物（Ｂ）のケイ素原子に結合した加水分解性基が加水分解により－ＳｉＯＨ基となった化合物を含むことが挙げられる。また、前記撥水層形成用組成物が有機ケイ素化合物（Ｂ）の縮合物を含むことも挙げられ、該縮合物としては、有機ケイ素化合物（Ｂ）が有する－ＳｉＯＨ基又は加水分解で生じた有機ケイ素化合物（Ｂ）の－ＳｉＯＨ基が、有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の－ＳｉＯＨ基、又は他の化合物由来の－ＳｉＯＨ基と脱水縮合して形成された縮合物が挙げられる。

３－３，溶剤（Ｄ）
　前記撥水層形成用組成物は、通常、溶剤（Ｄ）が混合されている。溶剤（Ｄ）としてはフッ素系溶剤を用いることが好ましく、例えばフッ素化エーテル系溶剤、フッ素化アミン系溶剤、フッ素化炭化水素系溶剤等を用いることができ、特に沸点が１００℃以上であることが好ましい。フッ素化エーテル系溶剤としては、フルオロアルキル（特に炭素数２～６のパーフルオロアルキル基）－アルキル（特にメチル基又はエチル基）エーテルなどのハイドロフルオロエーテルが好ましく、例えばエチルノナフルオロブチルエーテル又はエチルノナフルオロイソブチルエーテルが挙げられる。エチルノナフルオロブチルエーテル又はエチルノナフルオロイソブチルエーテルとしては、例えばＮｏｖｅｃ（登録商標）７２００（３Ｍ社製、分子量約２６４）が挙げられる。フッ素化アミン系溶剤としては、アンモニアの水素原子の少なくとも１つがフルオロアルキル基で置換されたアミンが好ましく、アンモニアの全ての水素原子がフルオロアルキル基（特にパーフルオロアルキル基）で置換された第三級アミンが好ましく、具体的にはトリス（ヘプタフルオロプロピル）アミンが挙げられ、フロリナート（登録商標）ＦＣ－３２８３（３Ｍ社製、分子量約５２１）がこれに該当する。フッ素化炭化水素系溶剤としては、１，１，１，３，３－ペンタフルオロブタン、パーフルオロヘキサンなどのフッ素化脂肪族炭化水素系溶剤、１，３－ビス（トリフルオロメチルベンゼン）などのフッ素化芳香族炭化水素系溶剤が挙げられる。１，１，１，３，３－ペンタフルオロブタンとしては、例えばソルブ５５（ソルベックス社製）等が挙げられる。

　フッ素系溶剤としては、上記の他、アサヒクリン（登録商標）ＡＫ２２５（ＡＧＣ社製）などのハイドロクロロフルオロカーボン、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ２０００（ＡＧＣ社製）などのハイドロフルオロカーボンなどを用いることができる。

　溶剤（Ｄ）として、少なくともフッ素化アミン系溶剤を用いることが好ましい。また溶剤（Ｄ）としては、２種以上のフッ素系溶剤を用いることが好ましく、フッ素化アミン系溶剤とフッ素化炭化水素系溶剤（特にフッ素化脂肪族炭化水素系溶剤）を用いることが好ましい。

　撥水層形成用組成物の全体を１００質量％とした際の、有機ケイ素化合物（Ａ）の量は、例えば０．０１質量％以上、好ましくは０．０５質量％以上であり、また０．５質量％以下であることが好ましく、より好ましくは０．３質量％以下である。

　撥水層形成用組成物に有機ケイ素化合物（Ｂ）が混合されている場合、撥水層形成用組成物の全体を１００質量％とした際の有機ケイ素化合物（Ｂ）の量は、例えば０．０１質量％以上であり、好ましくは０．０３質量％以上であり、また０．３質量％以下であることが好ましく、より好ましくは０．２質量％以下である。

　有機ケイ素化合物（Ａ）に対する有機ケイ素化合物（Ｂ）の質量比は、０．２以上が好ましく、より好ましくは０．４以上であり、また３以下が好ましく、より好ましくは１．５以下である。

　撥水層形成用組成物の全体を１００質量％とした際の、溶剤（Ｄ）の量は、８０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは９０質量％以上、更に好ましくは９５質量％以上、一層好ましくは９８質量％以上であり、また９９．９質量％以下であってもよい。

　撥水層形成用組成物の全体を１００質量％とした際の、有機ケイ素化合物（Ａ）、有機ケイ素化合物（Ｂ）及び溶剤（Ｄ）の合計量は、９０質量％以上が好ましく、より好ましくは９５質量％以上、更に好ましくは９９質量％以上であり、１００質量％であってもよい。

　また撥水層形成用組成物は、本発明の効果を阻害しない範囲で、シラノール縮合触媒、酸化防止剤、防錆剤、紫外線吸収剤、光安定剤、防カビ剤、抗菌剤、抗ウイルス剤、生物付着防止剤、消臭剤、顔料、難燃剤、帯電防止剤等、各種の添加剤が混合されていてもよい。前記添加剤の量は、本発明の混合組成物１００質量％中、５質量％以下が好ましく、より好ましくは１質量％以下である。

　前記撥水層（ｒ）の厚みは、例えば１～１０００ｎｍ程度である。

４．積層体の特性
　本発明の積層体において、撥水層（ｒ）表面を測定したとき、アミノ基又はアミン骨格由来の窒素原子（以下、Ｎ^cという場合がある）が観測される場合がある。前記Ｎ^cとしては、前記有機ケイ素化合物（Ｃ）の好ましい態様として例示したアミノ基又はアミン骨格を有する化合物由来のＮ^cが挙げられる。
　また本発明の積層体において、撥水層（ｒ）表面を測定したとき、カチオンが観測される場合がある。このカチオンとしては、例えば、前記抗菌成分（Ｋ）の好ましい態様として例示したカチオン系界面活性剤由来のカチオンが挙げられ、好ましくは４級アンモニウム塩由来のカチオンである。観察されるカチオンの量が多くなるほど、撥水層（ｒ）表面での抗菌性がより優れるため好ましい。
　なお、撥水層（ｒ）表面の測定は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）を用いることができる。

　本発明の積層体において、有機ケイ素化合物（Ｃ）がアミノ基又はアミン骨格を有する化合物であり、且つ抗菌成分（Ｋ）がカチオン系界面活性剤を含む場合、本発明の積層体における撥水層（ｒ）表面（最表層表面）を測定したときに、カチオン系界面活性剤由来のカチオンと、有機ケイ素化合物（Ｃ）が有するアミノ基又はアミン骨格由来の窒素原子（Ｎ^c）が観察されることが好ましい。この場合、本発明の積層体において、撥水層（ｒ）表面を測定したときのカチオンとＮ^cの物質量比（カチオン／Ｎ^c）は、０．０１以上であることが好ましく、より好ましくは０．０９以上、さらに好ましくは０．１以上、よりさらに好ましくは１以上であり、また６以下であることが好ましく、より好ましくは５以下、さらに好ましくは４以下、よりさらに好ましくは３以下である。

　前述の通り、カチオンとＮ^cの物質量比は、撥水層（ｒ）表面をＸＰＳで測定することにより算出することができる。本発明の積層体の撥水層（ｒ）表面を、ＸＰＳにより測定した際に観察される元素は、代表的にはＢ、Ｃ、Ｎ、Ｏ、Ｆ、Ｓｉ、Ｐ、Ｓ、Ｃｌであり、特にＣ、Ｎ、Ｏ、Ｆ、Ｓｉ、Ｃｌである。Ｂ、Ｃ、Ｎ、Ｏ、Ｆ、Ｓｉ、Ｐ、Ｓ、及びＣｌの含有量は、それぞれ、Ｂ１ｓスペクトル、Ｃ１ｓスペクトル、Ｎ１ｓスペクトル、Ｏ１ｓスペクトル、Ｆ１ｓスペクトル、Ｓｉ２ｐスペクトル、Ｐ２ｐスペクトル、Ｓ２ｐスペクトル、及びＣｌ２ｐスペクトルに基づいて算出される。

　例えば、抗菌成分（Ｋ）として４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、イミダゾリニウム塩、及びイソキノリニウム塩等のカチオンとしてＮ⁺を有するカチオン系界面活性剤が用いられている場合、Ｎ１ｓスペクトルを波形分離することで、カチオン（すなわちＮ⁺）及びＮ^cの元素比を算出できる。また、抗菌成分（Ｋ）としてホスホニウム塩が用いられている場合には、カチオン（すなわちＰ⁺）の含有率は、Ｐ２ｐスペクトルに基づいて求めることができ、Ｎ^cの含有率は、Ｎ１ｓスペクトルに基づいて求めることができる。

　上記したＸＰＳによる測定は、後述の実施例で示したように、励起Ｘ線として、ＭｇＫαを用い、Ｘ線出力は１１０Ｗとし、光電子脱出角度は４５°、パスエネルギー５０ｅＶにて、炭素（Ｃ１ｓ）、窒素（Ｎ１ｓ）、酸素（Ｏ１ｓ）、フッ素（Ｆ１ｓ）、ケイ素（２ｐ）、ホウ素（Ｂ１ｓ）、リン（Ｐ２ｐ）、硫黄（Ｓ２ｐ）、塩素（Ｃｌ２ｐ）の各種元素について、測定を行えばよい。測定中に試料がチャージアップする場合には、適宜帯電補正用電子銃を用いればよく、さらに測定スペクトルの化学シフトの帯電補正は、各種標準サンプルなどで実施することができる。例えば、Ｃ１ｓスペクトルのうち、Ｃ－Ｃ構造によるスペクトルをエネルギー基準２８４．０ｅＶと補正すればよい。

　本発明の積層体の撥水層（ｒ）表面の水接触角（初期接触角）は、例えば１０５°以上、好ましくは１１０°以上であり、また例えば１２５°以下である。

　本発明の積層体の撥水層（ｒ）表面に、１５ｍｍ×１５ｍｍの面積に対して２００ｇの荷重をかけて１００回擦る耐摩耗性試験を行った後の、皮膜（ｒ）表面における水接触角（１００回後接触角）は、例えば９０°以上、好ましくは１００°以上であり、また例えば１２０°以下である。前記耐摩耗性試験は、本発明の積層体の撥水層（ｒ）側表面に、１５ｍｍ×１５ｍｍの面積に対して２００ｇの荷重をかけて１００回擦る試験であり、擦る際にパルプ素材の紙で擦ることが好ましい。パルプ素材の紙としては、日本製紙クレシア社製のキムワイプＳ－２００を用いることが好ましい。例えば、キムワイプＳ－２００を用い、耐摩耗性試験のストローク距離を３０ｍｍとし、擦る速度を７０～９０往復／分として、ストローク領域の略中央で接触角を測定することが好ましい。荷重を負荷する際には、１５ｍｍ×１５ｍｍの面積当たり２００ｇの荷重を掛けることと同等の圧力がかかっていればよい。

　本発明の積層体の撥水層（ｒ）表面における動摩擦係数は、０．１５以下が好ましく、より好ましくは０．１０以下、更に好ましくは０．０５以下であり、また０．０１０以上であってもよい。

　ＪＩＳ　Ｚ　２８０１：２０１０に準拠した抗菌活性試験を行った際の、黄色ブドウ球菌に対する抗菌活性値は、例えば０超えであり、好ましくは０．１以上、より好ましくは０．５以上、更に好ましくは１以上、より更に好ましくは２以上、特に好ましくは３以上であり、また７以下であってもよい。

　菌を変更する以外はＪＩＳ　Ｚ　２８０１：２０１０に記載の抗菌活性試験と同様の試験を行った際の、表皮ブドウ球菌に対する抗菌活性値は、例えば０超えであり、好ましくは０．１以上、より好ましくは１．０以上、更に好ましくは２．０以上、より更に好ましくは２．５以上、特に好ましくは３．０以上であり、また７以下であってもよい。

　ウイルスを変更する以外はＩＳＯ２１７０２に準拠して試験を行った際の、エンベロープウイルスに対する抗ウイルス活性値は、例えば０超えであり、好ましくは０．１以上、より好ましくは１．０以上、更に好ましくは２．０以上、より更に好ましくは２．５以上、特に好ましくは３．０以上であり、また７以下であってもよい。

　なお、各特性の評価の具体的な方法については、実施例の欄で詳述する。

５．積層体の製造方法
　次に、本発明の積層体の製造方法について説明する。

　本発明の積層体を製造する方法は、（i）基材（ｓ）上に前記抗菌層形成用組成物を塗布する工程と、（ii）前記抗菌層形成用組成物を硬化させる工程と、（iii）前記抗菌層形成用組成物の塗布面に、前記撥水層形成用組成物を塗布する工程と、（iv）前記撥水層形成用組成物を硬化させる工程を含み、前記抗菌層形成用組成物の塗布層から前記抗菌層（ｋ）を形成し、前記撥水層形成用組成物の塗布層から前記撥水層（ｒ）を形成する。

　前記抗菌層形成用組成物を塗布する方法としては、公知の方法で行うことができるが、バーコート法、スピンコート法、ディップコート法、ダイコート法、又はグラビアコート法が好ましい。

　前記抗菌層形成用組成物を塗布する前に、基材（ｓ）の塗布面に易接着処理を施しておくことが好ましい。易接着処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線処理等の親水化処理が挙げられ、プラズマ処理がより好ましい。プラズマ処理等の易接着処理を行うことで、基材の表面にＯＨ基（特に基材がエポキシ樹脂の場合）やＣＯＯＨ基（特に基材がアクリル樹脂の場合）などの官能基を形成させることができ、基材表面にこのような官能基が形成されている場合に特に抗菌層（ｋ）と基材（ｓ）との密着性がより向上できる。

　抗菌層形成用組成物を塗布した後、常温、大気中で、例えば１０秒以上（通常２４時間以下）静置することで、前記抗菌層形成用組成物の塗布層が乾燥し、該塗布層から前記抗菌層（ｋ）を形成できる。本発明において常温とは、５～６０℃であり、好ましくは１５～４０℃の温度範囲である。常温で静置する際の湿度条件は５０～９０％ＲＨとしてもよい。また、抗菌層形成用組成物を塗布した後は、６０℃を超える温度（通常１００℃以下。８０℃以下であってもよい）に加熱して１０秒～６０分（好ましくは２０分～４０分）程度保持してもよい。

　次に、撥水層形成用組成物を前記抗菌層形成用組成物の塗布面に塗布し、乾燥することで前記撥水層形成用組成物の塗布層から前記撥水層（ｒ）を形成できる。前記撥水層形成用組成物を塗布する方法としては、例えばディップコート法、ロールコート法、バーコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法、グラビアコート法などが挙げられる。

　撥水層形成用組成物を塗布した後、常温、大気中で、例えば１０秒以上（通常２４時間以下）静置することで本発明の積層体を製造できる。常温で静置する際の湿度条件は５０～９０％ＲＨとしてもよい。また、撥水層形成用組成物を塗布した後は、６０℃を超える温度（通常１００℃以下。８０℃以下であってもよい）に加熱して１０秒～６０分（好ましくは２０分～４０分）程度保持してもよい。

６．表示装置
　本発明の積層体は、表示装置に好適に用いられ、特にフレキシブル表示装置に好適に用いられる。本発明の積層体は、好ましくは表示装置において前面板として用いることができ、該前面板はウインドウフィルムと称されることがある。

　前記表示装置は、ウインドウフィルム（すなわち、本発明の積層体）を含む表示装置用積層体と、有機ＥＬ表示パネルとからなることが好ましく、有機ＥＬ表示パネルに対して視認側に表示装置用積層体が配置されている。また、フレキシブル表示装置においては、フレキシブルな特性を有するウインドウフィルムを含むフレキシブル表示装置用積層体と、有機ＥＬ表示パネルとからなることが好ましく、有機ＥＬ表示パネルに対して視認側にフレキシブル表示装置用積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている。表示装置用積層体（好ましくはフレキシブル表示装置用積層体）は、さらに偏光板（好ましくは円偏光板）、タッチセンサ等を含有してタッチパネルディスプレイを構成してもよく、それらの積層順は任意であるが、視認側からウインドウフィルム、偏光板、タッチセンサの順、又は、ウインドウフィルム、タッチセンサ、偏光板の順に積層されていることが好ましい。タッチセンサよりも視認側に偏光板が存在すると、タッチセンサのパターンが視認されにくくなり表示画像の視認性が良くなるので好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。また、表示装置（好ましくはフレキシブル表示装置）は、前記ウインドウフィルム、偏光板、タッチセンサのいずれかの層の少なくとも一方の面に形成された遮光パターンを具備することができる。

（ウインドウフィルム）
　ウインドウフィルムは、表示装置（好ましくはフレキシブル画像表示装置）の視認側に配置され、その他の構成要素を外部からの衝撃又は温湿度等の環境変化から保護する役割を担っている。このような保護層としてはガラスを使用してもよく、フレキシブル画像表示装置においては、ウインドウフィルムはガラスのようにリジッドで堅いものではなく、フレキシブルな特性を有する材料を使用してもよい。従って、本発明の積層体をフレキシブル表示装置におけるウインドウフィルムとして用いる場合には、基材（ｓ）はフレキシブルな透明基材からなる層を有することが好ましく、基材（ｓ）が、少なくとも一方の面にハードコート層が積層されている複層構造を有してもよい。

　前記透明基材は、可視光線の透過率が例えば７０％以上、好ましくは８０％以上である。前記透明基材は、透明性のある高分子フィルムなら、どのようなものでも使用可能である。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ノルボルネン又はシクロオレフィンを含む単量体の単位を有するシクロオレフィン系誘導体等のポリオレフィン類、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、プロピオニルセルロース等の（変性）セルロース類、メチルメタクリレート（共）重合体等のアクリル類、スチレン（共）重合体等のポリスチレン類、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体類、アクリロニトリル・スチレン共重合体類、エチレン－酢酸ビニル共重合体類、ポリ塩化ビニル類、ポリ塩化ビニリデン類、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等のポリエステル類、ナイロン等のポリアミド類、ポリイミド類、ポリアミドイミド類、ポリエーテルイミド類、ポリエーテルスルホン類、ポリスルホン類、ポリビニルアルコール類、ポリビニルアセタール類、ポリウレタン類、エポキシ樹脂類などの高分子で形成されたフィルムであってもよく、未延伸、１軸又は２軸延伸フィルムを使用することができる。これらの高分子はそれぞれ単独又は２種以上混合して使用することができる。好ましくは、前記記載の透明基材の中でも透明性及び耐熱性に優れたポリアミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム又はポリイミドフィルム、ポリエステル系フィルム、オレフィン系フィルム、アクリルフィルム、セルロース系フィルムが好ましい。高分子フィルムの中には、シリカ等の無機粒子、有機微粒子、ゴム粒子等を分散させることも好ましい。さらに、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤などの配合剤を含有させてもよい。前記透明基材の厚さは５μｍ以上２００μｍ以下、好ましくは、２０μｍ以上１００μｍ以下である。特にフレキシブル画像表示装置に用いる場合、前記透明基材の厚さは５μｍ以上６０μｍ以下が好ましい。

　本発明の積層体がウインドウフィルムとして用いられる場合のハードコート層も、上記したハードコート層（ｈｃ）と同様である。上述の通り、ハードコート層（ｈｃ）は、活性エネルギー線硬化型樹脂及び熱硬化型の樹脂から形成されることが好ましく、このような樹脂は活性エネルギー線或いは熱エネルギーを照射して架橋構造を形成する反応性材料を含むハードコート組成物の硬化により形成することができる。前記ハードコート組成物は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも１種の重合物を含有する。

　前記ラジカル重合性化合物とは、ラジカル重合性基を有する化合物である。前記ラジカル重合性化合物が有するラジカル重合性基としては、ラジカル重合反応を生じ得る官能基であればよく、炭素－炭素不飽和二重結合を含む基などが挙げられる。具体的には、ビニル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。なお、前記ラジカル重合性化合物が２個以上のラジカル重合性基を有する場合、これらのラジカル重合性基はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。前記ラジカル重合性化合物が１分子中に有するラジカル重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、２つ以上であることが好ましい。前記ラジカル重合性化合物としては、反応性の高さの点から、中でも（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好ましく、１分子中に２～６個の（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレートモノマーと称される化合物やエポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレートと称される分子内に数個の（メタ）アクリロイル基を有する分子量が数百から数千のオリゴマーを好ましく使用できる。エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート及びポリエステル（メタ）アクリレートから選択された１種以上を含むことが好ましい。

　前記カチオン重合性化合物とは、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基等のカチオン重合性基を有する化合物である。前記カチオン重合性化合物が１分子中に有するカチオン重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、２つ以上であることが好ましく、更に３つ以上であることが好ましい。また、前記カチオン重合性化合物としては、中でも、カチオン重合性基としてエポキシ基及びオキセタニル基の少なくとも１種を有する化合物が好ましい。エポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテル基は、重合反応に伴う収縮が小さいという点から好ましい。また、環状エーテル基のうちエポキシ基を有する化合物は多様な構造の化合物が入手し易く、得られたハードコート層の耐久性に悪影響を与えず、ラジカル重合性化合物との相溶性もコントロールし易いという利点がある。また、環状エーテル基のうちオキセタニル基は、エポキシ基と比較して重合度が高くなりやすく、低毒性であり、得られたハードコート層のカチオン重合性化合物から得られるネットワーク形成速度を早め、ラジカル重合性化合物と混在する領域でも未反応のモノマーを膜中に残さずに独立したネットワークを形成する等の利点がある。

　エポキシ基を有するカチオン重合性化合物としては、例えば、脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル又は、シクロヘキセン環、シクロペンテン環含有化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化する事によって得られる脂環族エポキシ樹脂；脂肪族多価アルコール、又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジル（メタ）アクリレートのホモポリマー、コポリマーなどの脂肪族エポキシ樹脂；ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦや水添ビスフェノールＡ等のビスフェノール類、又はそれらのアルキレンオキサイド付加体、カプロラクトン付加体等の誘導体と、エピクロルヒドリンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル、及びノボラックエポキシ樹脂等でありビスフェノール類から誘導されるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂等が挙げられる。
　前記ハードコート組成物には重合開始剤をさらに含むことができる。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等であり、適宜選択して用いることができる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。

　ラジカル重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくともいずれかによりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば良い。例えば、熱ラジカル重合開始剤としては、過酸化水素、過安息香酸等の有機過酸化物、アゾビスブチロニトリル等のアゾ化合物等があげられる。
　活性エネルギー線ラジカル重合開始剤としては、分子の分解でラジカルが生成されるＴｙｐｅ１型ラジカル重合開始剤と、３級アミンと共存して水素引き抜き型反応でラジカルを生成するＴｙｐｅ２型ラジカル重合開始剤があり、それぞれ単独で又は併用して使用することもできる。

　カチオン重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくともいずれかによりカチオン重合を開始させる物質を放出することが可能であれば良い。カチオン重合開始剤としては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、シクロペンタジエニル鉄（ＩＩ）錯体等が使用できる。これらは、構造の違いによって活性エネルギー線照射又は加熱のいずれか又はいずれでもカチオン重合を開始することができる。

　前記重合開始剤は、前記ハードコート組成物全体１００重量％に対して０．１～１０重量％を含むことができる。前記重合開始剤の含量が０．１重量％未満の場合、硬化を十分に進行させることができず、最終的に得られた塗膜の機械的物性や密着力を具現することが難しく、１０重量％を超える場合、硬化収縮による接着力不良や割れ現象及びカール現象が発生することがある。

　前記ハードコート組成物はさらに溶剤、添加剤からなる群から選択される一つ以上をさらに含むことができる。前記溶剤は、前記重合性化合物及び重合開始剤を溶解又は分散させることができるもので、本技術分野のハードコート組成物の溶剤として知られているものなら制限なく使用することができる。前記添加剤は、無機粒子、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、帯電防止剤、潤滑剤、防汚剤などをさらに含むことができる。

　（円偏光板）
　本発明の表示装置（好ましくはフレキシブル表示装置）は、上記の通り、偏光板、中でも円偏光板を備えることが好ましい。円偏光板は、直線偏光板にλ／４位相差板を積層することにより、右又は左円偏光成分のみを透過させる機能を有する機能層である。たとえば外光を右円偏光に変換して有機ＥＬパネルで反射されて左円偏光となった外光を遮断し、有機ＥＬの発光成分のみを透過させることで反射光の影響を抑制して画像を見やすくするために用いられる。円偏光機能を達成するためには、直線偏光板の吸収軸とλ／４位相差板の遅相軸は理論上４５度である必要があるが、実用的には４５±１０度である。直線偏光板とλ／４位相差板は必ずしも隣接して積層される必要はなく、吸収軸と遅相軸の関係が前述の範囲を満足していればよい。全波長において完全な円偏光を達成することが好ましいが実用上は必ずしもその必要はないので本発明における円偏光板は楕円偏光板をも包含する。直線偏光板の視認側にさらにλ／４位相差フィルムを積層して、出射光を円偏光とすることで偏光サングラスをかけた状態での視認性を向上させることも好ましい。

　直線偏光板は、透過軸方向に振動している光は通すが、それとは垂直な振動成分の偏光を遮断する機能を有する機能層である。前記直線偏光板は、直線偏光子単独又は直線偏光子及びその少なくとも一方の面に貼り付けられた保護フィルムを備えた構成であってもよい。前記直線偏光板の厚さは、２００μｍ以下であってもよく、好ましくは０．５μｍ以上、１００μｍ以下である。直線偏光板の厚さが前記の範囲にあると直線偏光板の柔軟性が低下し難い傾向にある。

　前記直線偏光子は、ポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡと略すことがある）系フィルムを染色、延伸することで製造されるフィルム型偏光子であってもよい。延伸によって配向したＰＶＡ系フィルムに、ヨウ素等の二色性色素が吸着、又はＰＶＡに吸着した状態で延伸されることで二色性色素が配向し、偏光性能を発揮する。前記フィルム型偏光子の製造においては、他に膨潤、ホウ酸による架橋、水溶液による洗浄、乾燥等の工程を有していてもよい。延伸や染色工程はＰＶＡ系フィルム単独で行ってもよいし、ポリエチレンテレフタレートのような他のフィルム（延伸用樹脂基材）と積層された状態で行うこともできる。用いられるＰＶＡ系フィルムの厚さは好ましくは３～１００μｍであり、前記延伸倍率は好ましくは２～１０倍である。延伸用樹脂基材とＰＶＡ系樹脂層との積層体を作製する方法としては、延伸用樹脂基材の表面に、ＰＶＡ系樹脂を含む塗布液を塗布し、乾燥する方法が好ましい。

　特にＰＶＡ系樹脂層と延伸用樹脂基材を積層体の状態で延伸する工程と染色する工程を含む製法であれば、ＰＶＡ系樹脂層が薄くても、延伸用樹脂基材に支持されていることにより延伸による破断などの不具合なく延伸することが可能となる。

　前記偏光子の厚さは、２０μｍ以下であり、好ましくは１２μｍ以下であり、より好ましくは９μｍ以下であり、さらに好ましくは１～８μｍであり、特に好ましくは３～６μｍである。前記範囲内であれば、屈曲を阻害することなく、好ましい態様となる。

　さらに前記偏光子の他の一例としては、液晶偏光組成物を塗布して形成する液晶塗布型偏光子が挙げられる。前記液晶偏光組成物は、液晶性化合物及び二色性色素化合物を含むことができる。前記液晶性化合物は、液晶状態を示す性質を有していればよく、特にスメクチック相等の高次の配向状態を有していると高い偏光性能を発揮することができるため好ましい。また、液晶性化合物は、重合性官能基を有することが好ましい。
　前記二色性色素化合物は、前記液晶性化合物とともに配向して二色性を示す色素であって、重合性官能基を有していてもよく、また、二色性色素自身が液晶性を有していてもよい。
　液晶偏光組成物に含まれる化合物のいずれかは重合性官能基を有する。前記液晶偏光組成物はさらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。
　前記液晶偏光層は、配向膜上に液晶偏光組成物を塗布して液晶偏光層を形成することにより製造される。液晶偏光層は、フィルム型偏光子に比べて厚さを薄く形成することができ、その厚さは好ましくは０．５μｍ以上１０μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上５μｍ以下である。

　前記配向膜は、例えば基材上に配向膜形成組成物を塗布し、ラビング、偏光照射等により配向性を付与することにより製造される。前記配向膜形成組成物は、配向剤を含み、さらに溶剤、架橋剤、開始剤、分散剤、レベリング剤、シランカップリング剤等を含んでいてもよい。前記配向剤としては、例えば、ポリビニルアルコール類、ポリアクリレート類、ポリアミック酸類、ポリイミド類が挙げられる。偏光照射により配向性を付与する配向剤を用いる場合、シンナメート基を含む配向剤を使用することが好ましい。前記配向剤として使用される高分子の重量平均分子量は、例えば、１０，０００～１，０００，０００程度である。前記配向膜の厚さは、好ましくは５ｎｍ以上１０，０００ｎｍ以下であり、配向規制力が十分に発現される点で、より好ましくは１０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である。
　前記液晶偏光層は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。

　前記保護フィルムとしては、透明な高分子フィルムであればよく前記ウインドウフィルムの透明基材に使用される材料や添加剤と同じものが使用できる。セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、アクリルフィルム、ポリエステル系フィルムが好ましい。また、エポキシ樹脂等のカチオン硬化組成物やアクリレート等のラジカル硬化組成物を塗布して硬化して得られるコーティング型の保護フィルムであってもよい。該保護フィルムは、必要により可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。該保護フィルムの厚さは、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上１００μｍ以下である。保護フィルムの厚さが前記の範囲にあると、該フィルムの柔軟性が低下し難い傾向にある。保護フィルムは、ウインドウフィルムの透明基材の役割を兼ねることもできる。

　前記λ／４位相差板は、入射光の進行方向に直行する方向（フィルムの面内方向）にλ／４の位相差を与えるフィルムである。前記λ／４位相差板は、セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、ポリカーボネート系フィルム等の高分子フィルムを延伸することで製造される延伸型位相差板であってもよい。前記λ／４位相差板は、必要により位相差調整剤、可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。
　前記延伸型位相差板の厚さは、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上１００μｍ以下である。延伸型位相差板の厚さが前記の範囲にあると、該延伸型位相差板の柔軟性が低下し難い傾向にある。

　さらに前記λ／４位相差板の他の一例としては、液晶組成物を塗布して形成する液晶塗布型位相差板が挙げられる。
　前記液晶組成物は、ネマチック、コレステリック、スメクチック等の液晶状態を示す液晶性化合物を含む。前記液晶性化合物は、重合性官能基を有する。
　前記液晶組成物は、さらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。
　前記液晶塗布型位相差板は、前記液晶偏光層と同様に、液晶組成物を下地上に塗布、硬化して液晶位相差層を形成することで製造することができる。液晶塗布型位相差板は、延伸型位相差板に比べて厚さを薄く形成することができる。前記液晶偏光層の厚さは、好ましくは０．５μｍ以上１０μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上５μｍ以下である。
　前記液晶塗布型位相差板は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。

　一般的には、短波長ほど複屈折が大きく長波長になるほど小さな複屈折を示す材料が多い。この場合には全可視光領域でλ／４の位相差を達成することはできないので、視感度の高い５６０ｎｍ付近に対してλ／４となるように、面内位相差は、好ましくは１００ｎｍ以上１８０ｎｍ以下、より好ましくは１３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下となるように設計される。通常とは逆の複屈折率波長分散特性を有する材料を用いた逆分散λ／４位相差板は、視認性が良好となる点で好ましい。このような材料としては、例えば延伸型位相差板は特開２００７－２３２８７３号公報等に、液晶塗布型位相差板は特開２０１０－３０９７９号公報等に記載されているものを用いることができる。
　また、他の方法としてはλ／２位相差板と組合せることで広帯域λ／４位相差板を得る技術も知られている（例えば、特開平１０－９０５２１号公報など）。λ／２位相差板もλ／４位相差板と同様の材料方法で製造される。延伸型位相差板と液晶塗布型位相差板の組合せは任意であるが、どちらも液晶塗布型位相差板を用いることにより厚さを薄くすることができる。
　前記円偏光板には斜め方向の視認性を高めるために、正のＣプレートを積層する方法が知られている（例えば、特開２０１４－２２４８３７号公報など）。正のＣプレートは、液晶塗布型位相差板であっても延伸型位相差板であってもよい。該位相差板の厚さ方向の位相差は、好ましくは－２００ｎｍ以上－２０ｎｍ以下、より好ましくは－１４０ｎｍ以上－４０ｎｍ以下である。

（タッチセンサ）
　本発明の積層体を備える表示装置（好ましくはフレキシブル表示装置）は、上記の通り、タッチセンサを備えることが好ましい。タッチセンサは入力手段として用いられる。タッチセンサとしては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等様々な様式が挙げられ、好ましくは静電容量方式が挙げられる。
　静電容量方式タッチセンサは活性領域及び前記活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される領域（表示部）に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は表示装置で画面が表示されない領域（非表示部）に対応する領域である。タッチセンサは、好ましくはフレキシブルな特性を有する基板と、前記基板の活性領域に形成された感知パターンと、前記基板の非活性領域に形成され、前記感知パターンとパッド部を介して外部の駆動回路と接続するための各センシングラインを含むことができる。フレキシブルな特性を有する基板としては、前記ウインドウフィルムの透明基板と同様の材料が使用できる。タッチセンサの基板は、靱性が２，０００ＭＰａ％以上のものがタッチセンサのクラック抑制の面から好ましい。より好ましくは靱性が２，０００ＭＰａ％以上、３０，０００ＭＰａ％以下である。ここで、靭性は、高分子材料の引張実験を通じて得られる応力（ＭＰａ）－ひずみ（％）曲線（Stress-strain curve）で破壊点までの曲線の下部面積として定義される。

　前記感知パターンは、第１方向に形成された第１パターン及び第２方向に形成された第２パターンを備えることができる。第１パターンと第２パターンとは互いに異なる方向に配置される。第１パターン及び第２パターンは、同一層に形成され、タッチされる地点を感知するためには、それぞれのパターンが電気的に接続されなければならない。第１パターンは複数の単位パターンが継ぎ手を介して互いに接続された形態であるが、第２パターンは複数の単位パターンがアイランド形態に互いに分離された構造になっているので、第２パターンを電気的に接続するためには別途のブリッジ電極が必要である。第２パターンの接続のための電極には、周知の透明電極を適用することができる。該透明電極の素材としては、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、亜鉛酸化物（ＺｎＯ）、インジウム亜鉛スズ酸化物（ＩＺＴＯ）、インジウムガリウム亜鉛酸化物（ＩＧＺＯ）、カドミウムスズ酸化物（ＣＴＯ）、ＰＥＤＯＴ（ｐｏｌｙ（３，４－ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ））、炭素ナノチューブ（ＣＮＴ）、グラフェン、金属ワイヤなどが挙げられ、好ましくはＩＴＯが挙げられる。これらは単独又は２種以上混合して使用できる。金属ワイヤに使用される金属は特に限定されず、例えば、銀、金、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、チタン、テレニウム、クロムなどが挙げられ、これらは単独又は２種以上混合して使用することができる。
　ブリッジ電極は感知パターン上部に絶縁層を介して前記絶縁層上部に形成されることができ、基板上にブリッジ電極が形成されており、その上に絶縁層及び感知パターンを形成することができる。前記ブリッジ電極は感知パターンと同じ素材で形成することもでき、モリブデン、銀、アルミニウム、銅、パラジウム、金、白金、亜鉛、スズ、チタン又はこれらのうちの２種以上の合金で形成することもできる。
　第１パターンと第２パターンは電気的に絶縁されなければならないので、感知パターンとブリッジ電極の間には絶縁層が形成される。該絶縁層は、第１パターンの継ぎ手とブリッジ電極との間にのみ形成することや、感知パターン全体を覆う層として形成することもできる。感知パターン全体を覆う層の場合、ブリッジ電極は絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して第２パターンを接続することができる。

　前記タッチセンサは、感知パターンが形成されたパターン領域と、感知パターンが形成されていない非パターン領域との間の透過率の差、具体的には、これらの領域における屈折率の差によって誘発される光透過率の差を適切に補償するための手段として基板と電極の間に光学調節層をさらに含むことができる。該光学調節層は、無機絶縁物質又は有機絶縁物質を含むことができる。光学調節層は光硬化性有機バインダー及び溶剤を含む光硬化組成物を基板上にコーティングして形成することができる。前記光硬化組成物は無機粒子をさらに含むことができる。前記無機粒子によって光学調節層の屈折率を高くすることができる。
　前記光硬化性有機バインダーは、本発明の効果を損ねない範囲で、例えば、アクリレート系単量体、スチレン系単量体、カルボン酸系単量体などの各単量体の共重合体を含むことができる。前記光硬化性有機バインダーは、例えば、エポキシ基含有繰り返し単位、アクリレート繰り返し単位、カルボン酸繰り返し単位などの互いに異なる各繰り返し単位を含む共重合体であってもよい。
　前記無機粒子としては、例えば、ジルコニア粒子、チタニア粒子、アルミナ粒子などが挙げられる。
　前記光硬化組成物は、光重合開始剤、重合性モノマー、硬化補助剤などの各添加剤をさらに含むこともできる。

（接着層）
　前記表示装置（好ましくはフレキシブル画像表示装置）用積層体を形成する各層（ウインドウフィルム、円偏光板、タッチセンサ）並びに各層を構成するフィルム部材（直線偏光板、λ／４位相差板等）は接着剤によって接合することができる。該接着剤としては、水系接着剤、有機溶剤系、無溶剤系接着剤、固体接着剤、溶剤揮散型接着剤、湿気硬化型接着剤、加熱硬化型接着剤、嫌気硬化型、活性エネルギー線硬化型接着剤、硬化剤混合型接着剤、熱溶融型接着剤、感圧型接着剤（粘着剤）、再湿型接着剤等、通常使用されている接着剤等が使用でき、好ましくは水系溶剤揮散型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤を使用できる。接着剤層の厚さは、求められる接着力等に応じて適宜調節することができ、好ましくは０．０１～５００μｍ、より好ましくは０．１～３００μｍである。前記表示装置（好ましくはフレキシブル画像表示装置）用積層体には、複数の接着層が存在するが、それぞれの厚さや種類は、同じであっても異なっていてもよい。

　前記水系溶剤揮散型接着剤としては、ポリビニルアルコール系ポリマー、でんぷん等の水溶性ポリマー、エチレン－酢酸ビニル系エマルジョン、スチレン－ブタジエン系エマルジョン等水分散状態のポリマーを主剤ポリマーとして使用することができる。前記主剤ポリマーと水とに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、染料、顔料、無機フィラー、有機溶剤等を配合してもよい。前記水系溶剤揮散型接着剤によって接着する場合、前記水系溶剤揮散型接着剤を被接着層間に注入して被着層を貼合した後、乾燥させることで接着性を付与することができる。前記水系溶剤揮散型接着剤を用いる場合、その接着層の厚さは、好ましくは０．０１～１０μｍ、より好ましくは０．１～１μｍである。前記水系溶剤揮散型接着剤を複数層に用いる場合、それぞれの層の厚さや種類は同じであっても異なっていてもよい。

　前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、活性エネルギー線を照射して接着剤層を形成する反応性材料を含む活性エネルギー線硬化組成物の硬化により形成することができる。前記活性エネルギー線硬化組成物は、ハードコート組成物に含まれるものと同様のラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも１種の重合物を含有することができる。前記ラジカル重合性化合物は、ハードコート組成物におけるラジカル重合性化合物と同じ化合物を用いることができる。
　前記カチオン重合性化合物は、ハードコート組成物におけるカチオン重合性化合物と同じ化合物を用いることができる。
　活性エネルギー線硬化組成物に用いられるカチオン重合性化合物としては、エポキシ化合物が特に好ましい。接着剤組成物としての粘度を下げるために単官能の化合物を反応性希釈剤として含むことも好ましい。

　活性エネルギー線組成物は、粘度を低下させるために、単官能の化合物を含むことができる。該単官能の化合物としては、１分子中に１個の（メタ）アクリロイル基を有するアクリレート系単量体や、１分子中に１個のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物、例えば、グリシジル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
　活性エネルギー線組成物は、さらに重合開始剤を含むことができる。該重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等が挙げられ、これらは適宜選択して用いられる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。ハードコート組成物の記載の中で活性エネルギー線照射によりラジカル重合又はカチオン重合の内の少なくともいずれか開始することができる開始剤を使用することができる。
　前記活性エネルギー線硬化組成物はさらに、イオン捕捉剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、密着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動粘度調整剤、可塑剤、消泡剤溶剤、添加剤、溶剤を含むことができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤によって２つの被接着層を接着する場合、前記活性エネルギー線硬化組成物を被接着層のいずれか一方又は両方に塗布後、貼合し、いずれかの被着層又は両方の被接着層に活性エネルギー線を照射して硬化させることにより、接着することができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合、その接着層の厚さは、好ましくは０．０１～２０μｍ、より好ましくは０．１～１０μｍである。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を複数の接着層形成に用いる場合、それぞれの層の厚さや種類は同じであっても異なっていてもよい。

　前記粘着剤としては、主剤ポリマーに応じて、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤等に分類される何れを使用することもできる。粘着剤には主剤ポリマーに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、粘着付与剤、可塑剤、染料、顔料、無機フィラー等を配合してもよい。前記粘着剤を構成する各成分を溶剤に溶解・分散させて粘着剤組成物を得て、該粘着剤組成物を基材上に塗布した後に乾燥させることで、粘着剤層接着層が形成される。粘着層は直接形成されてもよいし、別途基材に形成したものを転写することもできる。接着前の粘着面をカバーするためには離型フィルムを使用することも好ましい。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合、その接着層の厚さは、好ましくは０．１～５００μｍ、より好ましくは１～３００μｍである。前記粘着剤を複数層用いる場合には、それぞれの層の厚さや種類は同じであっても異なっていてもよい。

　（遮光パターン）
　前記遮光パターンは、前記表示装置（好ましくはフレキシブル画像表示装置）のベゼル又はハウジングの少なくとも一部として適用することができる。遮光パターンによって前記表示装置（好ましくはフレキシブル画像表示装置）の辺縁部に配置される配線が隠されて視認されにくくすることで、画像の視認性が向上する。前記遮光パターンは単層又は複層の形態であってもよい。遮光パターンのカラーは特に制限されることはなく、黒色、白色、金属色などの多様なカラーであってもよい。遮光パターンはカラーを具現するための顔料と、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーンなどの高分子で形成することができる。これらの単独又は２種類以上の混合物で使用することもできる。前記遮光パターンは、印刷、リソグラフィ、インクジェットなど各種の方法にて形成することができる。遮光パターンの厚さは、好ましくは１～１００μｍ、より好ましくは２～５０μｍである。また、遮光パターンの厚さ方向に傾斜等の形状を付与することも好ましい。

　以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。本発明は以下の実施例によって制限を受けるものではなく、前記、後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。

　実施例１
　有機ケイ素化合物（Ｃ）として下記式（ｃ）で表されるＫＢＰ９０(信越化学工業株式会社製)を０．２５質量％、抗菌成分（Ｋ）としてＸ－１２－１１３９(信越化学工業株式会社製)を３質量％、溶剤（Ｅ）としてイオン交換水を９６．７５質量％混合した溶液を、室温で撹拌し、抗菌層形成用組成物を得た。また、基材として、ポリエチレンテレフタレート基材（東レ株式会社製「ルミラー（登録商標）Ｕ４８３」、厚み：５０μｍ）上に、大気圧プラズマ装置（富士機械製造株式会社製）を用いて被塗布面を活性化処理したアクリル系ハードコート層を有する基材を用意し、該基材におけるハードコート層上に、前記で得られた抗菌層形成用組成物を、株式会社ＭＩＫＡＳＡ製ＯＰＴＩＣＯＡＴ　ＭＳ－Ａ１００（バーコーター）、＃２のバーを用い、０．５ｍｌ、１００ｍｍ／ｓｅｃの条件で塗布し、１００℃で３０秒乾燥させ、抗菌層を形成させた。

　次に、有機ケイ素化合物（Ａ）として、上記式（ａ３）を満たす化合物（ａ１０）を、有機ケイ素化合物（Ｂ）としてＦＡＳ１３Ｅ（Ｃ₆Ｆ₁₃－Ｃ₂Ｈ₄－Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、東京化成工業株式会社製）を、溶剤（Ｄ）としてＦＣ-３２８３（Ｃ₉Ｆ₂₁Ｎ、フロリナート、３Ｍ社製）を混合し、室温で所定の時間撹拌し、撥水層形成用組成物を得た。撥水層形成用組成物中の有機ケイ素化合物（Ａ）の割合は０．０８５質量％、有機ケイ素化合物（Ｂ）の割合は０．０５質量％であった。前記抗菌層上に撥水層形成用組成物を、株式会社アピロス製スプレーコーターを用いて塗布した。スプレーコートの条件は、スキャン速度：６００ｍｍ／ｓｅｃ、ピッチ：５ｍｍ、液量：６ｃｃ／ｍｉｎ、アトマイジングエアー：３５０ｋＰａ、ギャップ：７０ｍｍである。１００℃で３０秒乾燥させ、撥水層を形成させた。なお、有機ケイ素化合物（Ａ）として使用した化合物（ａ１０）は、上述の化合物（ａ１１）及び（ａ２１）の要件を満たすとともに、好ましい態様も含めた式（ａ３）の要件を満たす化合物である。

　実施例２～６
　抗菌層形成用組成物における各成分の量を表１に示す通りに変更した以外は、実施例１と同様にして各々積層体を得た。

　実施例で得た積層体を以下の要領で評価した。

　（１）初期接触角
　得られた積層体の撥水層側表面に、３μＬの水滴を滴下し、接触角測定装置（協和界面科学社製、ＤＭ７００）を用い、液滴法（解析方法：θ／２法）にて、水の接触角を測定した。結果を表１に示す。

　（２）耐摩耗性試験
　得られた積層体の撥水層側に、１６枚重ねした日本製紙クレシア社製キムワイプワイパーＳ－２００を備えたスクラッチ装置を用い、キムワイプが撥水層表面に接した状態で１５ｍｍ×１５ｍｍの面積に対して２００ｇの荷重をかけて、３０ｍｍストローク、７０ｒ／分（１分間に７０往復）で、１００回往復擦る耐摩耗性試験を行った。
　耐摩耗性試験後の積層体の撥水層表面に、３μＬの水滴を滴下し、接触角測定装置（協和界面科学社製、ＤＭ７００）を用い、液滴法（解析方法：θ/２法）にて、水の接触角を測定した。結果を表１に示す。

　（３）動摩擦係数
　新東科学株式会社製トライボギア（表面性測定機　ＴＹＰＥ：３８）の一定荷重測定を使用し、人工皮革を用い、測定条件は下記条件として、撥水層側表面の動摩擦係数を測定した。結果を表１に示す。
　　　荷重変換機　　　　：１．９６１ｍＶ／Ｖ
　　　荷重　　　　　　　：２００ｇ
　　　移動距離　　　　　：５０ｍｍ
　　　移動速度　　　　　：１００ｍｍ／ｍｉｎ
　　　サンプリング個数　：３０１０

　（４）抗菌・抗ウイルス活性値
　（４－１）抗菌活性値１
　実施例１～３の積層体における抗菌性試験は、一般財団法人ボーケン品質評価機構において試験した。試験方法は、ＪＩＳ　Ｚ　２８０１：２０１０（フィルム密着法）に基づいて行った。試験菌株は黄色ブドウ球菌とし、菌液接種量を０．４ｍｌ（被覆フィルムの表面積：１６cm²）とした。また、標準サンプルとして、ポリエチレンテレフタレート基材（東洋紡株式会社製「コスモシャイン（登録商標）Ａ４３６０」、厚み：５０μｍ）を使用した。抗菌活性値が０超え０．１未満の場合は△、０．１以上３．０未満の場合は〇、３．０以上の場合は◎と評価した際、得られた積層体の評価結果は、実施例１で◎、実施例２で〇、実施例３で◎となった。

　（４－２）抗菌活性値２
　実施例４～６の積層体における抗菌性試験は、菌を変更する以外はＪＩＳ　Ｚ　２８０１：２０１０（フィルム密着法）と同様の方法にて行い、試験菌株は表皮ブドウ球菌とし、菌液接種量を０．４ｍＬ（被覆フィルムの表面積：１６ｃｍ²）とした。また、標準サンプルとして、ポリエチレンテレフタレート基材（東洋紡株式会社製「コスモシャイン（登録商標）Ａ４３６０」、厚み：５０μｍ）を使用した。抗菌活性値が０超え０．１未満の場合は△、０．１以上３．０未満の場合は〇、３．０以上の場合は◎と評価した際、得られた積層体の評価結果は、実施例４で〇、実施例５で◎、実施例６で〇となった。

　（４－３）抗ウイルス活性値
　実施例１、３、４、５、６の積層体における抗ウイルス活性値の評価には、エンベロープウイルスの実験モデルとして使用されるバクテリオファージΦ６を用いた。バクテリオファージΦ６を用いた以外は抗ウイルス試験方法（ＩＳＯ２１７０２）に準拠して行った。標準サンプルとして、ポリエチレンテレフタレート基材（東洋紡株式会社製「コスモシャイン（登録商標）Ａ４３６０」、厚み：５０μｍ）を使用した。抗ウイルス活性値が０超え０．１未満の場合は△、０．１以上３．０未満の場合は〇、３．０以上の場合は◎と評価した際、得られた積層体の評価結果は、実施例１で〇、実施例３で◎、実施例４で〇、実施例５で◎、実施例６で〇となった。

　（５）ＸＰＳによる測定
　日本電子社製　ＪＦＳ－９０１０型を用いた。励起Ｘ線として、ＭｇＫαを用い、Ｘ線出力は１１０Ｗとし、光電子脱出角度は３０°、パスエネルギー５０ｅＶにて、炭素（Ｃ１ｓ）：２６０～３００ｅＶ、窒素（Ｎ１ｓ）：３９０～４１０ｅＶ、酸素（Ｏ１ｓ）：５２５～５４５ｅＶ、フッ素（Ｆ１ｓ）：６８０～６９８ｅＶ、ケイ素（Ｓｉ２ｐ）：９２～１１２ｅＶ、塩素（Ｃｌ２ｐ）１９０～２１０ｅＶの各種元素について、膜表面における脱出光電子強度を測定した。
　測定中にチャージアップが生じてしまう場合には、帯電補正用電子銃を用いた。さらに測定スペクトルの化学シフトの帯電補正を行う際には、適宜標準サンプルを用いることができるが、今回は、Ｃ１ｓスペクトルのうち、Ｃ－Ｃ構造のＣによるスペクトルをエネルギー基準２８４．０ｅＶと補正した。以上のようにして、表面の元素比を測定した。
　得られた各元素のスペクトルについて、さらに、窒素（Ｎ１ｓ）スペクトルについて、ピークの波形分離を行った。ピークの波形分離に際しては、Ｘ－１２－１１３９のみを塗工した膜、及びＫＢＰ９０のみを塗工した膜を標準サンプルとした。標準サンプルより、Ｘ－１２－１１３９由来のＮ⁺構造（カチオン）は、４０３ｅＶに一つのピークとして観測され、ＫＢＰ９０由来の窒素原子（Ｎ^c）は、４００ｅＶ、４０２ｅＶ、及び４０６ｅＶに三つのピークとして観測された。実施例で得られた積層体において、窒素（Ｎ１ｓ）スペクトルでは、上記カチオンに帰属されるピークと、上記Ｎ^cに帰属されるピークとが重なって観測されるため、標準サンプルより決定されたピーク位置とピーク数でスペクトルの波形分離を行った。その結果、抗菌成分（Ｋ）としてのＸ－１２－１１３９由来のＮ⁺構造（カチオン）に帰属されるスペクトル、及び有機ケイ素化合物（Ｃ）としてのＫＢＰ９０由来の窒素原子（Ｎ^c）に帰属されるスペクトルが確認できた。
　なお、エネルギー基準の補正、及び、波形分離については、下記の文献を参考とした。
　Ｍ．　Ｔｏｓｅｌｌｉ　ｅｔ．　ａｌ，　Ｐｏｌｙｍ　Ｉｎｔ　５２：　１２６２－１２７４　（２００３）
　Ａ．　Ｈａｗｋｒｉｄｇｅ　ｅｔ．　ａｌ，　Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，　Ｖｏｌ．　３５，　Ｎｏ．　１７　（２００２）
　波形分離により得られた信号強度の面積値から、カチオンとＮ^cの物質量比（カチオン／Ｎ^c）を求めた。結果を表１に示す。
　なお実施例４～６におけるカチオンとＮ^cの物質量比（カチオン／Ｎ^c）については、以下の方法から算出された推測値を示す。具体的に、表計算ソフトＥｘｃｅｌ２０１６を用いて、実施例１～３の物質量比（カチオン／Ｎ^c）及び仕込みの質量比（（Ｋ）／（Ｃ）
）の散布図を作成した。該散布図のプロットに対して得られた指数近似曲線式に、実施例４～６の仕込みの質量比（（Ｋ）／（Ｃ））を代入することで、物質量比（カチオン／Ｎ^c）を算出した。

　本発明の組成物から形成される層を有する積層体は、タッチパネルディスプレイ等の表示装置、光学素子、半導体素子、建築材料、ナノインプリント技術、太陽電池、自動車や建物の窓ガラス、調理器具などの金属製品、食器などのセラミック製品、プラスチック製の自動車部品等に好適に用いることができ、産業上有用である。また、台所、風呂場、洗面台、鏡、トイレ周りの各部材の物品などにも好ましく用いられる。

Claims

　基材（ｓ）、抗菌層（ｋ）、及び撥水層（ｒ）をこの順に含み、
　前記抗菌層（ｋ）が、加水分解性基又はヒドロキシ基が結合したケイ素原子を有する有機ケイ素化合物（Ｃ）と抗菌成分（Ｋ）の混合組成物の硬化層である積層体。
　抗菌成分（Ｋ）が、４級アンモニウム塩を含む請求項１に記載の積層体。
　前記４級アンモニウム塩が、式（ｋ１）で表される化合物である請求項２に記載の積層体。

［式（ｋ１）中、
　Ｒ^k1～Ｒ^k3は、それぞれ独立して、炭素数１～３０の炭化水素基を表し、
　Ｒ^k4及びＲ^k5は、それぞれ独立して、炭素数１～４のアルキル基を表し、Ｒ^k5が複数存在する場合は複数のＲ^k5がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｙ^k1及びＹ^k2は、それぞれ独立して、単結合又は炭素数１～１０の２価の炭化水素基を表し、
　Ａ^k1及びＡ^k2は、それぞれ独立して、加水分解性基又はヒドロキシ基を表し、Ａ^k1が複数存在する場合は複数のＡ^k1がそれぞれ異なっていてもよく、Ａ^k2が複数存在する場合は複数のＡ^k2がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｚ^k1は、加水分解性基、ヒドロキシ基、炭素数１～４のアルキル基、又は式（ｋｉ）で表される基であり、
　ｋ３は、１又は２を表し、
　ｋ４は、０～２の整数を表し、
　ｋ５は、０～１０の整数を表し、
　ｎは、Ｚ^k1が加水分解性基、ヒドロキシ基、又は炭素数１～４のアルキル基である場合は１を、Ｚ^k1が式（ｋｉ）で表される基である場合には２を表し、
　Ｘは、ハロゲン原子を表す。

［式（ｋｉ）中、Ｒ^k17～Ｒ^k19は、それぞれ独立して、炭素数１～３０の炭化水素基を表し、＊は、結合手を表す。］］
　有機ケイ素化合物（Ｃ）が、アミノ基又はアミン骨格を有する化合物である請求項１～３のいずれかに記載の積層体。
　有機ケイ素化合物（Ｃ）が、式（ｃ１）～（ｃ３）のいずれかで表される化合物である請求項１～４のいずれかに記載の積層体。

　上記式（ｃ１）中、
　Ｒ^x11、Ｒ^x12、Ｒ^x13、Ｒ^x14は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１～４のアルキル基であり、Ｒ^x11が複数存在する場合は複数のＲ^x11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x12が複数存在する場合は複数のＲ^x12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x13が複数存在する場合は複数のＲ^x13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x14が複数存在する場合は複数のＲ^x14がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｒｆ^x11、Ｒｆ^x12、Ｒｆ^x13、Ｒｆ^x14は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^x11が複数存在する場合は複数のＲｆ^x11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x12が複数存在する場合は複数のＲｆ^x12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x13が複数存在する場合は複数のＲｆ^x13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x14が複数存在する場合は複数のＲｆ^x14がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｒ^x15は、炭素数が１～２０のアルキル基であり、Ｒ^x15が複数存在する場合は複数のＲ^x15がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｘ¹¹は、加水分解性基であり、Ｘ¹¹が複数存在する場合は複数のＸ¹¹がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｙ¹¹は、－ＮＨ－、又は－Ｓ－であり、Ｙ¹¹が複数存在する場合は複数のＹ¹¹がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｚ¹¹は、ビニル基、α－メチルビニル基、スチリル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、アミノ基、イソシアネート基、イソシアヌレート基、エポキシ基、ウレイド基、又はメルカプト基であり、
　ｐ１は、１～２０の整数であり、ｐ２、ｐ３、ｐ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり、ｐ５は、０～１０の整数であり、
　ｐ６は、１～３の整数であり、
　Ｚ¹¹がアミノ基でない場合は－ＮＨ－であるＹ¹¹を少なくとも１つ有し、Ｙ¹¹が全て－Ｓ－である場合又はｐ５が０である場合はＺ¹¹がアミノ基であり、
　Ｚ¹¹－、－Ｓｉ（Ｘ¹¹）_p6（Ｒ^x15）_3-p6、ｐ１個の－｛Ｃ（Ｒ^x11）（Ｒ^x12）｝－単位（Ｕ_c11）、ｐ２個の－｛Ｃ（Ｒｆ^x11）（Ｒｆ^x12）｝－単位（Ｕ_c12）、ｐ３個の－｛Ｓｉ（Ｒ^x13）（Ｒ^x14）｝－単位（Ｕ_c13）、ｐ４個の－｛Ｓｉ（Ｒｆ^x13）（Ｒｆ^x14）｝－単位（Ｕ_c14）、ｐ５個の－Ｙ¹¹－単位（Ｕ_c15）は、Ｚ¹¹－が式（ｃ１）で表される化合物の一方の末端となり、－Ｓｉ（Ｘ¹¹）_p6（Ｒ^x15）_3-p6が他方の末端となり、－Ｏ－が－Ｏ－と連結しない限り、それぞれの単位（Ｕ_c11）～単位（Ｕ_c15）が任意の順で並んで結合する。

　上記式（ｃ２）中、
　Ｒ^x20及びＲ^x21は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１～４のアルキル基であり、Ｒ^x20が複数存在する場合は複数のＲ^x20がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x21が複数存在する場合は複数のＲ^x21がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｒｆ^x20及びＲｆ^x21は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^x20が複数存在する場合は複数のＲｆ^x20がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x21が複数存在する場合は複数のＲｆ^x21がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｒ^x22及びＲ^x23はそれぞれ独立して、炭素数が１～２０のアルキル基であり、Ｒ^x22及びＲ^x23が複数存在する場合は複数のＲ^x22及びＲ^x23がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｘ²⁰及びＸ²¹はそれぞれ独立して、加水分解性基であり、Ｘ²⁰及びＸ²¹が複数存在する場合は複数のＸ²⁰及びＸ²¹がそれぞれ異なっていてもよく、
　ｐ２０は、それぞれ独立して１～３０の整数であり、ｐ２１は、それぞれ独立して０～３０の整数であり、ｐ２０又はｐ２１を付して括弧でくくられた繰り返し単位の少なくとも１つは、アミン骨格－ＮＲ¹⁰⁰－に置き換わっており、前記アミン骨格におけるＲ¹⁰⁰は水素原子又はアルキル基であり、
　ｐ２２及びｐ２３はそれぞれ独立して、１～３の整数であり、
　ｐ２０個の－｛Ｃ（Ｒ^x20）（Ｒ^x21）｝－単位（Ｕ_c21）、ｐ２１個の－｛Ｃ（Ｒｆ^x20）（Ｒｆ^x21）｝－単位（Ｕ_c22）は、ｐ２０個の単位（Ｕ_c21）又はｐ２１個の単位（Ｕ_c22）が連続である必要はなく、それぞれの単位（Ｕ_c21）及び単位（Ｕ_c22）が任意の順で並んで結合し、式（ｃ２）で表される化合物の一方の末端が－Ｓｉ（Ｘ²⁰）_p22（Ｒ^x22）_3-p22となり、他方の末端が－Ｓｉ（Ｘ²¹）_p23（Ｒ^x23）_3-p23となる。

　上記式（ｃ３）中、
　Ｚ³¹、Ｚ³²は、それぞれ独立に、加水分解性基及びヒドロキシ基以外の、反応性官能基であり、
　Ｒ^x31、Ｒ^x32、Ｒ^x33、Ｒ^x34は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１～４のアルキル基であり、Ｒ^x31が複数存在する場合は複数のＲ^x31がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x32が複数存在する場合は複数のＲ^x32がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x33が複数存在する場合は複数のＲ^x33がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x34が複数存在する場合は複数のＲ^x34がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｒｆ^x31、Ｒｆ^x32、Ｒｆ^x33、Ｒｆ^x34は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^x31が複数存在する場合は複数のＲｆ^x31がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x32が複数存在する場合は複数のＲｆ^x32がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x33が複数存在する場合は複数のＲｆ^x33がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x34が複数存在する場合は複数のＲｆ^x34がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｙ³¹は、－ＮＨ－、－Ｎ（ＣＨ₃）－又は－Ｏ－であり、Ｙ³¹が複数存在する場合は複数のＹ³¹がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｘ³¹、Ｘ³²、Ｘ³³、Ｘ³⁴は、それぞれ独立に、－ＯＲ^c（Ｒ^cは、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、又はアミノＣ_1-3アルキルジＣ_1-3アルコキシシリル基である）であり、Ｘ³¹が複数存在する場合は複数のＸ³¹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｘ³²が複数存在する場合は複数のＸ³²がそれぞれ異なっていてもよく、Ｘ³³が複数存在する場合は複数のＸ³³がそれぞれ異なっていてもよく、Ｘ³⁴が複数存在する場合は複数のＸ³⁴がそれぞれ異なっていてもよく、
　ｐ３１は、０～２０の整数であり、ｐ３２、ｐ３３、ｐ３４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり、ｐ３５は、０～５の整数であり、ｐ３６は、１～１０の整数であり、ｐ３７は０又は１であり、
　Ｚ³¹及びＺ³²の少なくとも一方がアミノ基であるか、又はＹ³¹の少なくとも一つが－ＮＨ－又は－Ｎ（ＣＨ₃）－であるという条件を満たし、かつ式（ｃ３）で表される化合物の一方の末端がＺ³¹－であり、他方の末端がＺ³²－であり、－Ｏ－が－Ｏ－と連結しない限り、ｐ３１個の－｛Ｃ（Ｒ^x31）（Ｒ^x32）｝－単位（Ｕ_c31）、ｐ３２個の－｛Ｃ（Ｒｆ^x31）（Ｒｆ^x32）｝－単位（Ｕ_c32）、ｐ３３個の－｛Ｓｉ（Ｒ^x33）（Ｒ^x34）｝－単位（Ｕ_c33）、ｐ３４個の－｛Ｓｉ（Ｒｆ^x33）（Ｒｆ^x34）｝－単位（Ｕ_c34）、ｐ３５個の－Ｙ³¹－単位（Ｕ_c35）、ｐ３６個の－｛Ｓｉ（Ｘ³¹）（Ｘ³²）－Ｏ｝－単位（Ｕ_c36）、ｐ３７個の－｛Ｓｉ（Ｘ³³）（Ｘ³⁴）｝－単位（Ｕ_c37）がそれぞれ任意の順で並んで結合して構成される。
　撥水層（ｒ）が、フルオロポリエーテル構造を有する有機ケイ素化合物（Ａ）の硬化層である請求項１～５のいずれかに記載の積層体。
　有機ケイ素化合物（Ａ）が、式（ａ１）で表される化合物である請求項６に記載の積層体。

　上記式（ａ１）中、
　Ｒｆ^a26、Ｒｆ^a27、Ｒｆ^a28、及びＲｆ^a29は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のフッ化アルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^a26が複数存在する場合は複数のＲｆ^a26がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^a27が複数存在する場合は複数のＲｆ^a27がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^a28が複数存在する場合は複数のＲｆ^a28がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^a29が複数存在する場合は複数のＲｆ^a29がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｒ²⁵及びＲ²⁶は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、又は１個以上の水素原子がハロゲン原子に置換された炭素数１～４のハロゲン化アルキル基であり、一つの炭素原子に結合するＲ²⁵及びＲ²⁶の少なくとも一方は水素原子であり、Ｒ²⁵が複数存在する場合は複数のＲ²⁵がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ²⁶が複数存在する場合は複数のＲ²⁶がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｒ²⁷及びＲ²⁸は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、又は単結合であり、Ｒ²⁷が複数存在する場合は複数のＲ²⁷がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ²⁸が複数存在する場合は複数のＲ²⁸がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｒ²⁹及びＲ³⁰は、それぞれ独立して、炭素数１～２０のアルキル基であり、Ｒ²⁹が複数存在する場合は複数のＲ²⁹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ³⁰が複数存在する場合は複数のＲ³⁰がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｍ⁷は、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＲ－、－ＮＲＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、又は－Ｃ₆Ｈ₄－であり、前記Ｒは水素原子、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数１～４の含フッ素アルキル基であり、Ｍ⁷が複数存在する場合は複数のＭ⁷がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｍ⁵は、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～４のアルキル基であり、Ｍ⁵が複数存在する場合は複数のＭ⁵がそれぞれ異なっていてもよく、
　Ｍ¹⁰は、水素原子、又はハロゲン原子であり、
　Ｍ⁸及びＭ⁹は、それぞれ独立して、加水分解性基、ヒドロキシ基、又は－（ＣＨ₂）_e7－Ｓｉ（ＯＲ¹⁴）₃であり、ｅ７は１～５であり、Ｒ¹⁴はメチル基又はエチル基であり、Ｍ⁸が複数存在する場合は複数のＭ⁸がそれぞれ異なっていてもよく、Ｍ⁹が複数存在する場合は複数のＭ⁹がそれぞれ異なっていてもよく、
　ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４、及びｆ２５はそれぞれ独立して０～６００の整数であり、ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４、及びｆ２５の合計値は１３以上であり、
　ｆ２６は、０～２０の整数であり、
　ｆ２７は、それぞれ独立して、０～２の整数であり、
　ｇ２１は１～３の整数、ｇ２２は０～２の整数、ｇ２１＋ｇ２２≦３であり、
　ｇ３１は１～３の整数、ｇ３２は０～２の整数、ｇ３１＋ｇ３２≦３であり、
　Ｍ¹⁰－、－Ｓｉ（Ｍ⁹）_g31（Ｈ）_g32（Ｒ³⁰）_3-g31-g32、ｆ２１個の－｛Ｃ（Ｒ²⁵）（Ｒ²⁶）｝－単位（Ｕ_a1）、ｆ２２個の－｛Ｃ（Ｒｆ^a26）（Ｒｆ^a27）｝－単位（Ｕ_a2）、ｆ２３個の－｛Ｓｉ（Ｒ²⁷）（Ｒ²⁸）｝－単位（Ｕ_a3）、ｆ２４個の－｛Ｓｉ（Ｒｆ^a28）（Ｒｆ^a29）｝－単位（Ｕ_a4）、ｆ２５個の－Ｍ⁷－単位（Ｕ_a5）、及びｆ２６個の－［Ｃ（Ｍ⁵）｛（ＣＨ₂）_f27－Ｓｉ（Ｍ⁸）_g21（Ｈ）_g22（Ｒ²⁹）_3-g21-g22｝］－単位（Ｕ_a6）は、Ｍ¹⁰－が式（ａ１）における一方の末端であり、－Ｓｉ（Ｍ⁹）_g31（Ｈ）_g32（Ｒ³⁰）_3-g31-g32が他方の末端であり、少なくとも一部でフルオロポリエーテル構造を形成する順で並び、－Ｏ－が－Ｏ－と連続しない限り、それぞれの単位が任意の順で並んで結合する。
　有機ケイ素化合物（Ｃ）が、アミノ基又はアミン骨格を有する化合物であり、
　抗菌成分（Ｋ）が、カチオン系界面活性剤を含み、
　前記撥水層（ｒ）表面を測定したときに観察される、カチオン系界面活性剤由来のカチオンと有機ケイ素化合物（Ｃ）が有するアミノ基又はアミン骨格由来の窒素原子（Ｎ^c）の物質量比（カチオン／Ｎ^c）が０．０１以上、５以下である請求項１～７のいずれかに記載の積層体。
　有機ケイ素化合物（Ｃ）に対する、抗菌成分（Ｋ）の質量比が、０．１以上５０以下である請求項１～８のいずれかに記載の積層体。
　請求項１～９のいずれかに記載の積層体を含むウインドウフィルム又はタッチパネルディスプレイ。