JP7033686B1 - ペンタシクロペンタデカンジメタノール製品 - Google Patents
ペンタシクロペンタデカンジメタノール製品 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7033686B1 JP7033686B1 JP2021091076A JP2021091076A JP7033686B1 JP 7033686 B1 JP7033686 B1 JP 7033686B1 JP 2021091076 A JP2021091076 A JP 2021091076A JP 2021091076 A JP2021091076 A JP 2021091076A JP 7033686 B1 JP7033686 B1 JP 7033686B1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pentacyclopentadecane dimethanol
- reaction
- pentacyclopentadecane
- peak
- retention time
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- QYFACSDTKGXDDM-UHFFFAOYSA-N OC.OC.C1CCCCCCCCCCCCCC1.C1CCCCCCCCCCCCCC1.C1CCCCCCCCCCCCCC1.C1CCCCCCCCCCCCCC1.C1CCCCCCCCCCCCCC1 Chemical compound OC.OC.C1CCCCCCCCCCCCCC1.C1CCCCCCCCCCCCCC1.C1CCCCCCCCCCCCCC1.C1CCCCCCCCCCCCCC1.C1CCCCCCCCCCCCCC1 QYFACSDTKGXDDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 69
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 claims abstract description 35
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 24
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims abstract description 18
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 15
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 claims abstract description 14
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 30
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 23
- 238000007037 hydroformylation reaction Methods 0.000 claims description 20
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 claims description 18
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 15
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 12
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 claims description 11
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 claims description 9
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000003284 rhodium compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 8
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 6
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 6
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims description 6
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- CHRJZRDFSQHIFI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;styrene Chemical group C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1C=C CHRJZRDFSQHIFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 41
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 34
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N methanol Substances OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 9
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 8
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- -1 1,5-cyclooctadienyl Chemical group 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- GPWNWKWQOLEVEQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diaminopyrimidine-5-carbaldehyde Chemical compound NC1=NC=C(C=O)C(N)=N1 GPWNWKWQOLEVEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 241001550224 Apha Species 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JKIJEFPNVSHHEI-UHFFFAOYSA-N Phenol, 2,4-bis(1,1-dimethylethyl)-, phosphite (3:1) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OP(OC=1C(=CC(=CC=1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1C(C)(C)C JKIJEFPNVSHHEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- ZUBZATZOEPUUQF-UHFFFAOYSA-N isononane Chemical compound CCCCCCC(C)C ZUBZATZOEPUUQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 3
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- CUJRVFIICFDLGR-UHFFFAOYSA-N acetylacetonate Chemical compound CC(=O)[CH-]C(C)=O CUJRVFIICFDLGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- GGRQQHADVSXBQN-FGSKAQBVSA-N carbon monoxide;(z)-4-hydroxypent-3-en-2-one;rhodium Chemical compound [Rh].[O+]#[C-].[O+]#[C-].C\C(O)=C\C(C)=O GGRQQHADVSXBQN-FGSKAQBVSA-N 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 238000011085 pressure filtration Methods 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- BUYVJWVYKPKZEX-DWVXZKBMSA-N (1z,5z)-cycloocta-1,5-diene;(z)-4-hydroxypent-3-en-2-one;rhodium Chemical compound [Rh].C\C(O)=C\C(C)=O.C\1C\C=C/CC\C=C/1 BUYVJWVYKPKZEX-DWVXZKBMSA-N 0.000 description 1
- MBVAQOHBPXKYMF-LNTINUHCSA-N (z)-4-hydroxypent-3-en-2-one;rhodium Chemical compound [Rh].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O MBVAQOHBPXKYMF-LNTINUHCSA-N 0.000 description 1
- BXGYYDRIMBPOMN-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethoxy)ethoxymethanol Chemical compound OCOCCOCO BXGYYDRIMBPOMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWLBGMIXKSTLSX-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyisobutyric acid Chemical group CC(C)(O)C(O)=O BWLBGMIXKSTLSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- FZNCGRZWXLXZSZ-CIQUZCHMSA-N Voglibose Chemical compound OCC(CO)N[C@H]1C[C@](O)(CO)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H]1O FZNCGRZWXLXZSZ-CIQUZCHMSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- IETKMTGYQIVLRF-UHFFFAOYSA-N carbon monoxide;rhodium;triphenylphosphane Chemical compound [Rh].[O+]#[C-].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 IETKMTGYQIVLRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000006757 chemical reactions by type Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- JGDFBJMWFLXCLJ-UHFFFAOYSA-N copper chromite Chemical compound [Cu]=O.[Cu]=O.O=[Cr]O[Cr]=O JGDFBJMWFLXCLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VODBHXZOIQDDST-UHFFFAOYSA-N copper zinc oxygen(2-) Chemical compound [O--].[O--].[Cu++].[Zn++] VODBHXZOIQDDST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXKGMXNZSJMWAF-UHFFFAOYSA-N copper;oxido(oxo)iron Chemical compound [Cu+2].[O-][Fe]=O.[O-][Fe]=O DXKGMXNZSJMWAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000011946 reduction process Methods 0.000 description 1
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 1
- VYFPSYVVFFFYBF-UHFFFAOYSA-N sodium;triphenylphosphane Chemical compound [Na].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VYFPSYVVFFFYBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- WLPUWLXVBWGYMZ-UHFFFAOYSA-N tricyclohexylphosphine Chemical compound C1CCCCC1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1 WLPUWLXVBWGYMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKHZQJRTFNFCTG-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylphenyl) phosphite Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C BKHZQJRTFNFCTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COIOYMYWGDAQPM-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylphenyl)phosphane Chemical compound CC1=CC=CC=C1P(C=1C(=CC=CC=1)C)C1=CC=CC=C1C COIOYMYWGDAQPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGKLOLBTFWFKOD-UHFFFAOYSA-N tris(2-nonylphenyl) phosphite Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1OP(OC=1C(=CC=CC=1)CCCCCCCCC)OC1=CC=CC=C1CCCCCCCCC WGKLOLBTFWFKOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMHHAKYFQUVKJF-UHFFFAOYSA-N tris(2-tert-butyl-5-methylphenyl) phosphite Chemical compound CC1=CC=C(C(C)(C)C)C(OP(OC=2C(=CC=C(C)C=2)C(C)(C)C)OC=2C(=CC=C(C)C=2)C(C)(C)C)=C1 BMHHAKYFQUVKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B61/00—Other general methods
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C29/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring
- C07C29/132—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by reduction of an oxygen containing functional group
- C07C29/136—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by reduction of an oxygen containing functional group of >C=O containing groups, e.g. —COOH
- C07C29/14—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by reduction of an oxygen containing functional group of >C=O containing groups, e.g. —COOH of a —CHO group
- C07C29/141—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by reduction of an oxygen containing functional group of >C=O containing groups, e.g. —COOH of a —CHO group with hydrogen or hydrogen-containing gases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C31/00—Saturated compounds having hydroxy or O-metal groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C31/27—Polyhydroxylic alcohols containing saturated rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/49—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reaction with carbon monoxide
- C07C45/50—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reaction with carbon monoxide by oxo-reactions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C47/00—Compounds having —CHO groups
- C07C47/02—Saturated compounds having —CHO groups bound to acyclic carbon atoms or to hydrogen
- C07C47/105—Saturated compounds having —CHO groups bound to acyclic carbon atoms or to hydrogen containing rings
- C07C47/115—Saturated compounds having —CHO groups bound to acyclic carbon atoms or to hydrogen containing rings containing condensed ring systems
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
【課題】無色透明であり、さらに加熱による着色が生じにくい高純度のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品を提供し、併せてその簡易な製造方法を提供することにある。【解決手段】特定の条件の液体クロマトグラフィー分析において、ペンタシクロペンタデカンジメタノールのピークの相対保持時間を１．０としたとき、相対保持時間が０．７０～０．９５の範囲に現れるピーク群の合計の面積の全ピーク面積に対する面積率が２０．０％以下であるペンタシクロペンタデカンジメタノール製品。【選択図】なし
Description
本発明はペンタシクロペンタデカンジメタノール製品に関する。
電子部品等に使用される光学材料や高分子材料は、高い透明性を求められることが多い。一般式（Ｖ）および／または（ＶＩ）で表されるペンタシクロペンタデカンジメタノールは嵩高く、剛直な骨格を有しているため、これを用いた樹脂は結晶性が抑制されて透明性が向上し、光学製品材料としての利用が期待される。
例えば、光学製品材料として、ペンタシクロペンタデカンジメタノールを用いたポリカーボネート樹脂等が知られている（特許文献１）。
光学製品材料には高透明性が求められ、透明性の高いペンタシクロペンタデカンジメタノールを得る方法として、ペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドを活性炭共存下で金属触媒を用いて水素化還元をする方法が提案されている（特許文献２）。
しかしながら、従来の製造方法で得られるペンタシクロペンタデカンジメタノールには、依然として副生物が含まれており、室温では無色透明であっても、加熱により大きく着色することもあり、樹脂の製造が一般的に加熱条件下で行われることを鑑みると、光学製品材料等の用途に使用するには、透明性の点で十分な品質とは言えないという問題があった。
従って、本発明の目的は、無色透明であり、さらに加熱による着色が生じにくい高純度のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品を提供し、併せてその簡易な製造方法を提供することにある。
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、従来の製造方法で得られるペンタシクロペンタデカンジメタノールには、特定の分析条件で検出可能な着色原因となる、原料に由来する構造を持つことが想定される副生物が存在することを突き止めた。これら副生物は特定の分析条件によらねば検出できないため、これまで検出されてきておらず、着目されてこなかった成分である。そして、これら副生物の含有量を後記する特定の面積率以下とすることにより加熱による着色が抑えられたペンタシクロペンタデカンジメタノール製品とすることができることが分かった。
また、ペンタシクロペンタデカンジメタノールの製造方法を改良することにより該副生物の含有量を低減し、無色透明であり、さらに加熱による着色が生じにくい高純度のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品が得られることを見出した。
また、ペンタシクロペンタデカンジメタノールの製造方法を改良することにより該副生物の含有量を低減し、無色透明であり、さらに加熱による着色が生じにくい高純度のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品が得られることを見出した。
すなわち本発明は、以下の［１］～［７］を提供する。
［１］ 下記条件の液体クロマトグラフィー分析において、ペンタシクロペンタデカンジメタノールのピークの相対保持時間を１．０としたとき、相対保持時間が０．７０～０．９５の範囲に現れるピーク群の合計の面積の全ピーク面積に対する面積率が、２０．０％以下であるペンタシクロペンタデカンジメタノール製品。
（液体クロマトグラフィー分析の条件）
分析カラム：基材がスチレンジビニルベンゼンであるカラム（平均粒子径３μｍ、平均細孔径１．５ｎｍ、長さ１５ｃｍ×内径６．０ｍｍ）２本、基材がスチレンジビニルベンゼンであるカラム（平均粒子径３μｍ、平均細孔径２．０ｎｍ、長さ１５ｃｍ×内径６．０ｍｍ）１本を結合して使用
試料濃度：５質量％（希釈溶媒テトラヒドロフラン）
カラムオーブン温度：４０℃
キャリア：テトラヒドロフラン
カラムの液流量：０．３５ｍｌ／分
検出器：ＲＩＤ（セル部温度：４０℃）
［２］ ペンタシクロペンタデカンジメタノールのピークの相対保持時間を１．０としたとき、相対保持時間が０．８９～０．９５の範囲に現れるピーク群の合計の面積の全ピーク面積に対する面積率が、１０．０％以下である［１］に記載のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品。
［１］ 下記条件の液体クロマトグラフィー分析において、ペンタシクロペンタデカンジメタノールのピークの相対保持時間を１．０としたとき、相対保持時間が０．７０～０．９５の範囲に現れるピーク群の合計の面積の全ピーク面積に対する面積率が、２０．０％以下であるペンタシクロペンタデカンジメタノール製品。
（液体クロマトグラフィー分析の条件）
分析カラム：基材がスチレンジビニルベンゼンであるカラム（平均粒子径３μｍ、平均細孔径１．５ｎｍ、長さ１５ｃｍ×内径６．０ｍｍ）２本、基材がスチレンジビニルベンゼンであるカラム（平均粒子径３μｍ、平均細孔径２．０ｎｍ、長さ１５ｃｍ×内径６．０ｍｍ）１本を結合して使用
試料濃度：５質量％（希釈溶媒テトラヒドロフラン）
カラムオーブン温度：４０℃
キャリア：テトラヒドロフラン
カラムの液流量：０．３５ｍｌ／分
検出器：ＲＩＤ（セル部温度：４０℃）
［２］ ペンタシクロペンタデカンジメタノールのピークの相対保持時間を１．０としたとき、相対保持時間が０．８９～０．９５の範囲に現れるピーク群の合計の面積の全ピーク面積に対する面積率が、１０．０％以下である［１］に記載のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品。
［３］ 一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）で表されるトリシクロペンタジエンから選ばれる少なくとも１種のトリシクロペンタジエンを、水素ガス、一酸化炭素ガス及びロジウム系触媒とともにＴ１℃で反応させる第１工程と、更にＴ２℃で反応させる第２工程とを含むヒドロホルミル化反応に付し、一般式（ＩＩＩ）及び一般式（ＩＶ）で表されるペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドから選ばれる少なくとも１種であるペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドを得るヒドロホルミル化工程と、
前記ペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドを還元反応に付し、一般式（Ｖ）及び一般式（ＶＩ）で表されるペンタシクロペンタデカンジメタノールから選ばれる少なくとも１種のペンタシクロペンタデカンジメタノールを得る還元工程とを含む、ペンタシクロペンタデカンジメタノール製品の製造方法。
前記ペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドを還元反応に付し、一般式（Ｖ）及び一般式（ＶＩ）で表されるペンタシクロペンタデカンジメタノールから選ばれる少なくとも１種のペンタシクロペンタデカンジメタノールを得る還元工程とを含む、ペンタシクロペンタデカンジメタノール製品の製造方法。
［４］ 前記Ｔ１℃が、５０℃以上であり、前記Ｔ１及び前記Ｔ２が、Ｔ２＞Ｔ１＋２０の関係を満たす、［３］に記載のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品の製造方法。
［５］ 前記第２工程の反応時間が、前記第１工程の反応時間より長い、［３］又は［４］に記載のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品の製造方法。
［５］ 前記第２工程の反応時間が、前記第１工程の反応時間より長い、［３］又は［４］に記載のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品の製造方法。
［６］ 前記ロジウム系触媒として、ロジウム化合物及び有機リン化合物を用いる、［３］～［５］のいずれか１項に記載のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品の製造方法。
［７］ 前記還元反応が、水素添加反応である、［３］～［６］のいずれか１項に記載のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品の製造方法。
［７］ 前記還元反応が、水素添加反応である、［３］～［６］のいずれか１項に記載のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品の製造方法。
本発明のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品は無色透明であり、加熱による着色が生じにくいため、光学製品材料等の用途に好適に使用される。また、本発明の製造方法によれば、該ペンタシクロペンタデカンジメタノール製品が簡易に製造することができる。
本発明のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品におけるペンタシクロペンタデカンジメタノールは、例えば、トリシクロペンタジエンをヒドロホルミル化することによるペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドの還元体として製造することが好ましい。
＜ペンタシクロペンタデカンジメタノール製品＞
前記ペンタシクロペンタデカンジメタノール製品は、ペンタシクロペンタデカンジメタノールを含むが、後記する液体クロマトグラフィー分析の条件において、相対保持時間が０．７０～０．９５の範囲に現れるピーク群の合計の面積の全ピーク面積に対する面積率が、２０．０％以下であることを要する。この面積率は検出器としてＲＩＤを用いたものであるため、この面積率は、そのピークに該当する化合物のモル比や質量比とは必ずしも一致するものではない。
ここで「全ピーク面積」とは、相対保持時間０．５０～１．３５の溶媒を除いた各ピークの合計の面積（図１の３に該当する時間のピーク面積の合計）を意味する。相対保持時間が０．７０～０．９５の範囲に現れるピーク群の合計の面積は、相対保持時間が０．７０～０．９５の範囲に現れる各ピークの合計（対象ピーク面積）を意味する。
前記ペンタシクロペンタデカンジメタノール製品は、ペンタシクロペンタデカンジメタノールを含むが、後記する液体クロマトグラフィー分析の条件において、相対保持時間が０．７０～０．９５の範囲に現れるピーク群の合計の面積の全ピーク面積に対する面積率が、２０．０％以下であることを要する。この面積率は検出器としてＲＩＤを用いたものであるため、この面積率は、そのピークに該当する化合物のモル比や質量比とは必ずしも一致するものではない。
ここで「全ピーク面積」とは、相対保持時間０．５０～１．３５の溶媒を除いた各ピークの合計の面積（図１の３に該当する時間のピーク面積の合計）を意味する。相対保持時間が０．７０～０．９５の範囲に現れるピーク群の合計の面積は、相対保持時間が０．７０～０．９５の範囲に現れる各ピークの合計（対象ピーク面積）を意味する。
本発明者は、上記特定の条件で測定される液体クロマトグラフィー分析の結果から、一定の相対保持時間の範囲に現れるピーク群の面積率が、特に加熱後のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品の着色と相関があることを見出した。
相対保持時間が０．７０～０．９５の範囲に現れるピーク群合計の面積（図１の１に該当する時間のピーク面積の合計）の、全ピーク面積に対する面積率は加熱による着色を低減する観点から上限値としては、１０．０％以下が好ましく、５．０％以下がより好ましく、３．０％以下が更に好ましく、２．０％以下がより更に好ましく、１．０％以下がより優れて好ましく、０．８％以下がより更に優れて好ましく、０．５％以下が一層好ましい。
相対保持時間が０．７０～０．９５の範囲に現れるピーク群合計の面積（図１の１に該当する時間のピーク面積の合計）の、全ピーク面積に対する面積率は加熱による着色を低減する観点から上限値としては、１０．０％以下が好ましく、５．０％以下がより好ましく、３．０％以下が更に好ましく、２．０％以下がより更に好ましく、１．０％以下がより優れて好ましく、０．８％以下がより更に優れて好ましく、０．５％以下が一層好ましい。
下限値は特に限定されず、加熱後の着色を改善する観点から実質的に０％以上であることが好ましい。本明細書において、「実質的に０％」とは、前記液体クロマトグラフィー分析によりピークとして検出されない、つまり検出限界以下であることを意味する。製造の容易さの観点から０．０１％以上であることがより好ましく、０．０５％以上であることが更に好ましく、０．１％以上であることがより更に好ましく、０．３％以上であることが特に好ましい。
相対保持時間が０．７０～０．９５の範囲に現れるピーク群は、ペンタシクロペンタデカンジメタノールと同様に炭素原子、酸素原子、水素原子を含む化合物群であり、類似した化学構造を有することが想定されるが、還元反応の原料であるペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドとは異なることが確認されている。
相対保持時間が０．７０～０．９５の範囲に現れるピーク群のうち、更に相対保持時間が０．８９～０．９５の範囲に現れるピーク群の合計の面積（図１の２に該当する時間のピーク面積の合計）の、全ピーク面積に対する面積率は、加熱による着色を更に低減する観点から上限値としては、１０．０％以下が好ましく、５．０％以下がより好ましく、３．０％以下が更に好ましく、２．０％以下がより更に好ましく、１．０％以下がより優れて好ましく、０．８％以下がより更に優れて好ましく、０．５％以下が特に好ましく、０．４％以下が最も好ましい。一方下限値は特に限定されず、実質的に０％以上であることが好ましいが、製造の容易さの観点から０．０１％以上であることがより好ましく、０．０５％以上であることが更に好ましく、０．１％以上であることがより更に好ましく、０．２％以上であることが特に好ましい。
後記する比較例１において、図２に示す１０がペンタシクロペンタデカンジメタノールに対応するピークである。図２ではペンタシクロペンタデカンジメタノールに対応するピーク以外に相対保持時間が０．７０～０．９５の範囲に複数見られるが、主に相対保持時間が０．７０～０．８９に少なくとも１つの図２に示す１２のピークが現れ、０．８９～０．９５に少なくとも１つの図２に示す１１のピークが現れることが確認された。
＜トリシクロペンタジエン、ペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒド及びペンタシクロペンタデカンジメタノール＞
前記トリシクロペンタジエンは、一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）で表されるトリシクロペンタジエンから選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、単一の化合物であっても異なる化合物の混合物であってもよく、前記ペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドは、一般式（ＩＩＩ）及び一般式（ＩＶ）で表されるペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドから選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、単一の化合物であっても異なる化合物の混合物であってもよく、前記ペンタシクロペンタデカンジメタノールは、一般式（Ｖ）及び一般式（ＶＩ）で表されるペンタシクロペンタデカンジメタノールから選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、単一の化合物であっても異なる化合物の混合物であってもよい。
一般式（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）におけるホルミル基（－ＣＨＯ基）は、一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）において、その構造中の－ＣＨ＝ＣＨ－中の炭素原子のいずれか一方に対応する炭素原子上に置換しており、一般式（Ｖ）及び（ＶＩ）における－ＣＨ２ＯＨ基は、その還元前の対応する一般式（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）が有している－ＣＨＯ基が置換している炭素原子上に置換している。
一般式（Ｉ）～（ＶＩ）は、それぞれいかなる立体構造を有していてもよく、単一の立体構造を有するものであってもよく、またそれらの混合物であってもよい。
一般式（Ｉ）～（ＶＩ）は、それぞれいかなる立体構造を有していてもよく、単一の立体構造を有するものであってもよく、またそれらの混合物であってもよい。
＜ペンタシクロペンタデカンジメタノール製品の製造方法＞
以下、ペンタシクロペンタデカンジメタノール製品の製造方法について説明する。ただし、これらの製造方法に限定されるものではない。本製造方法ではトリシクロペンタジエンをロジウム系触媒存在下でヒドロホルミル化反応に付すことにより（ヒドロホルミル化工程）、ペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドを得た後、これを還元反応に付すことにより（還元工程）、ペンタシクロペンタデカンジメタノール製品を得ることが好ましい。
以下、ペンタシクロペンタデカンジメタノール製品の製造方法について説明する。ただし、これらの製造方法に限定されるものではない。本製造方法ではトリシクロペンタジエンをロジウム系触媒存在下でヒドロホルミル化反応に付すことにより（ヒドロホルミル化工程）、ペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドを得た後、これを還元反応に付すことにより（還元工程）、ペンタシクロペンタデカンジメタノール製品を得ることが好ましい。
（ヒドロホルミル化工程）
本工程におけるヒドロホルミル化反応は、前記一般式（Ｉ）及び前記一般式（ＩＩ）で表されるトリシクロペンタジエンから選ばれる少なくとも１種を、水素ガス、一酸化炭素ガス及びロジウム系触媒とともにＴ１℃で反応させる第１工程と、更にＴ２℃で反応させる第２工程とを含むことが好ましい。前記第２工程での反応により、第１工程の反応を更に進行させることで、一般式（ＩＩＩ）及び一般式（ＩＶ）で表されるペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドから選ばれる少なくとも１種を製造することができ、更に後記する還元工程により、加熱による着色が生じにくい、前記一般式（Ｖ）及び（ＶＩ）で表されるペンタシクロペンタデカンジメタノールを製造することができるため好ましい。
本工程におけるヒドロホルミル化反応は、前記一般式（Ｉ）及び前記一般式（ＩＩ）で表されるトリシクロペンタジエンから選ばれる少なくとも１種を、水素ガス、一酸化炭素ガス及びロジウム系触媒とともにＴ１℃で反応させる第１工程と、更にＴ２℃で反応させる第２工程とを含むことが好ましい。前記第２工程での反応により、第１工程の反応を更に進行させることで、一般式（ＩＩＩ）及び一般式（ＩＶ）で表されるペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドから選ばれる少なくとも１種を製造することができ、更に後記する還元工程により、加熱による着色が生じにくい、前記一般式（Ｖ）及び（ＶＩ）で表されるペンタシクロペンタデカンジメタノールを製造することができるため好ましい。
トリシクロペンタジエンをヒドロホルミル化する際に用いる前記ロジウム系触媒は反応速度及び収率等の点からロジウム化合物及び有機リン化合物を組み合わせて用いることが好ましい。
前記ロジウム化合物及び前記有機リン化合物を組み合わせて用いる場合、前記ロジウム化合物は、前記有機リン化合物と錯体を形成し、ヒドロホルミル化の触媒活性を示すものであれば特に限定されない。具体例としては、Ｒｈ4（ＣＯ）12、Ｒｈ6（ＣＯ）16、Ｒｈ2（ＯＡｃ）4(式中、Ａｃはアセチル基を表す。) 、Ｒｈ（ａｃａｃ）3 （式中、ａｃａｃはアセチルアセトナート基を表す。以下同様である。）、Ｒｈ（ａｃａｃ）（ＣＯ）2、Ｒｈ（ａｃａｃ）（ｃｏｄ）（式中、ｃｏｄは１，５－シクロオクタジエニル基を表す。）、ＲｈＣｌ3、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ3）3、（式中、Ｐｈはフェニル基を表す。以下同様である。）、ＲｈＨ（ＣＯ）（ＰＰｈ3）3等が挙げられる。
前記ロジウム化合物及び前記有機リン化合物を組み合わせて用いる場合、前記ロジウム化合物は、前記有機リン化合物と錯体を形成し、ヒドロホルミル化の触媒活性を示すものであれば特に限定されない。具体例としては、Ｒｈ4（ＣＯ）12、Ｒｈ6（ＣＯ）16、Ｒｈ2（ＯＡｃ）4(式中、Ａｃはアセチル基を表す。) 、Ｒｈ（ａｃａｃ）3 （式中、ａｃａｃはアセチルアセトナート基を表す。以下同様である。）、Ｒｈ（ａｃａｃ）（ＣＯ）2、Ｒｈ（ａｃａｃ）（ｃｏｄ）（式中、ｃｏｄは１，５－シクロオクタジエニル基を表す。）、ＲｈＣｌ3、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ3）3、（式中、Ｐｈはフェニル基を表す。以下同様である。）、ＲｈＨ（ＣＯ）（ＰＰｈ3）3等が挙げられる。
前記有機リン化合物は、ロジウム化合物と錯体を形成し、ヒドロホルミル化の触媒活性を示すものであれば特に限定されない。具体例としては、一般式Ｒ1
3Ｐで表されるホスフィン又は一般式（Ｒ2Ｏ）3Ｐで表されるホスファイト等が挙げられる。３つのＲ1及び３つのＲ2は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、芳香族炭化水素基、脂肪族炭化水素基等が挙げられる。具体的には、特に限定されないが、炭素数１～１２のアルキル基；炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基又はスルホン基で置換されていてもよいフェニル基；炭素数１～８のアルキル基又は炭素数１～８のアルコキシ基で置換されていてもよい脂環式アルキル基等が挙げられる。ここで脂環式アルキル基としては、シクロヘキシル基等が挙げられる。また、二環性複素環式ホスフィンも使用することができる。具体例としては、トリフェニルホスフィン、トリトリルホスフィン、トリス（２－メチルフェニル）ホスフィン、トリフェニルホスフィントリスルホン酸ナトリウム、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２,４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２－メチルフェニル）ホスファイト、トリス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ホスファイト等が挙げられ、それらの中でもトリフェニルホスフィン、トリフェニルホスファイト又はトリス（２,４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ホスファイトが好ましい。これらの有機リン化合物は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
前記有機リン化合物の使用量は、前記ロジウム化合物に対して、５～２０００モル倍が好ましく、８～１０００モル倍がより好ましく、１０～５００モル倍がさらに好ましい。５モル倍以上の使用量では、ロジウム触媒の安定性が向上するため好ましい。また、２０００モル倍以下の使用量では、有機リン化合物にかかるコストが低減するため好ましい。
ヒドロホルミル化反応は溶媒を使用せずに行うことも可能であるが、溶媒を使用することもできる。溶媒としては、トリシクロペンタジエン、ロジウム化合物及び有機リン化合物を溶解するものであれば特に限定されない。具体例としては、メタノール、エタノール、２－プロパノール、１－ブタノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ペンタン、ヘキサン、へプタン、オクタン、イソオクタン、イソノナン等の飽和脂肪族炭化水素類；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；等が挙げられる。これらの溶媒は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
ヒドロホルミル化反応は、一定の温度で行ってもよいが、前記の相対保持時間が０．７０～０．９５の範囲に現れるピーク群の面積率を減少させるためには、途中で昇温させることが好ましい。昇温前の反応液の温度をＴ１℃で保持する工程（第１工程）、昇温後の反応液の温度をＴ２℃で保持する工程（第２工程）において、前記Ｔ１℃が、５０℃以上であり、前記Ｔ１及び前記Ｔ２が、Ｔ２＞Ｔ１＋２０の関係を満たすことが好ましい。
より具体的には、Ｔ１℃を６０～９０℃で保持した後、Ｔ２℃を１００℃～１６０℃で保持するのが好ましく、Ｔ１℃を７０～８０℃で保持した後、Ｔ２℃を１１０℃～１３０℃で保持するのがより好ましい。Ｔ１℃を６０～９０℃で保持した後、Ｔ２℃を１００℃～１６０℃に昇温するのは後述の合成ガスの吸収が実質的に見られなくなってから行うのがよく、ヒドロホルミル化反応の温度をこのように制御することは、ペンタシクロペンタデカンジメタノール製品において、０．７０～０．９５の範囲に現れるピーク群として生成する副生物が減少するため特に好ましい。
ヒドロホルミル化反応は一酸化炭素と水素を混合した合成ガスによる加圧下で実施することが好ましい。その際、一酸化炭素及び水素は、各々独立に反応系内に導入することも、また、予め合成ガスを調製して反応系内に導入することも可能である。反応系内に導入する合成ガスのモル比（＝ＣＯ／Ｈ2）は、０．４～２．５が好ましく、０．６～１．７がより好ましく、０．８～１．３がさらに好ましい。合成ガスのモル比が上記の範囲内であれば、反応の活性低下やペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドの選択性低下等の問題が起きにくいため好ましい。なお、反応系中にヒドロホルミル化反応に対して不活性なガス、例えばメタン、エタン、プロパン、窒素、ヘリウム、アルゴン、炭酸ガス等が共存していてもよい。
ヒドロホルミル化反応の圧力は、前記の第１工程及び第２工程での圧力は同一であっても異なっていてもよく、これら工程を含め使用するトリシクロペンタジエンの量、溶媒の使用及びその量、使用する触媒の種類、温度等により適宜調整すればよいが、８～２５ＭＰａ（以下、『Ｐａ』は特別な記載がない限りゲージ圧を意味する。）が好ましく、１５～２３ＭＰａがより好ましく、１９～２１ＭＰａがさらに好ましい。８ＭＰａ以上の圧力では反応効率が上がるため好ましく、副生物が減少するため好ましい。また、２５ＭＰａ以下の圧力では耐圧性能に優れる設備のコストが低減できるため好ましい。
ヒドロホルミル化反応では、反応器として槽型反応器、管型反応器、ループリアクター等、多様な反応器を使用することができ、それらは単独であっても複数を連結して使用しても良く、反応方式としては回分式、反応条件下の反応器に基質、触媒、溶媒等を供給する半回分式、反応条件下で反応器に基質、触媒、溶媒等を流通させる連続流通式等、多様な反応方式を採用することができる。
ヒドロホルミル化反応により得られるペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドは、そのまま次の還元反応の原料として使用することもできるが、抽出、晶析、カラムクロマトグラフィー、これらの組合せ等の方法によって精製した後で還元反応に供してもよい。本実施形態のヒドロホルミル化反応により得られる化合物ペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドに含まれるホルミル基は、その一部がヒドロキシメチル基に還元されることがあるが、それらを混合物として還元反応に供することができる。
ヒドロホルミル化反応の反応時間は、溶媒の使用量や反応装置の選択等で一概にはいえないが、反応の進行状況により適宜選択することができる。第２工程の反応時間（Ｔ２℃を保持する時間）は、第１工程の反応時間（Ｔ１℃を保持する時間）より長くすることが好ましく、第１工程の反応時間は、１０分以上３時間以下とすることが好ましく、２０分以上２時間以下とすることがより好ましく、第２工程の反応時間は、１時間以上１０時間以下とすることが好ましく、２時間以上５時間以下とすることがより好ましい。
第２工程の反応時間は第１工程の反応時間の２倍以上とすることが好ましく、３倍以上とすることがより好ましい。
第２工程の反応時間は第１工程の反応時間の２倍以上とすることが好ましく、３倍以上とすることがより好ましい。
（還元工程）
本実施形態において、前記ペンタシクロペンタデカンジメタノールは前記ペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドを還元反応に付すことにより製造することが好ましい。還元反応は、水素化ホウ素ナトリウム等のヒドリドを発生する還元試薬とペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドとを反応させる（ヒドリド還元反応）ことによって行ってもよいが、工業的には、金属触媒存在下、水素ガスとペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドとを反応させる（水素添加反応）ことが有利である。
本実施形態において、前記ペンタシクロペンタデカンジメタノールは前記ペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドを還元反応に付すことにより製造することが好ましい。還元反応は、水素化ホウ素ナトリウム等のヒドリドを発生する還元試薬とペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドとを反応させる（ヒドリド還元反応）ことによって行ってもよいが、工業的には、金属触媒存在下、水素ガスとペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドとを反応させる（水素添加反応）ことが有利である。
水素添加反応において、水素ガスと前記ペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドとを反応させる際に用いる金属触媒としては、特に限定されないが、公知の触媒を使用することができる。例えば、元素周期表における第６～１２族遷移金属から選ばれる一種以上の元素を含有するものが好ましく、具体的にはラネーニッケル、ラネーコバルト、ラネー銅等のラネー金属類；還元ニッケル担持触媒、還元コバルト担持触媒、銅－クロム酸化物系触媒、銅－亜鉛酸化物系触媒、銅－鉄酸化物系触媒、パラジウムブラック、白金ブラック、ルテニウムブラック、パラジウム担持シリカ、パラジウム担持アルミナ、パラジウム担持活性炭、白金担持シリカ、白金担持アルミナ、白金担持活性炭、ルテニウム担持シリカ、ルテニウム担持アルミナ、ルテニウム担持活性炭、ロジウム担持活性炭、イリジウム担持活性炭、レニウム担持活性炭等の貴金属担持触媒；等が挙げられる。水素ガスとペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドとを反応させる際に用いる触媒の使用量は、特に限定されないが、触媒の種類や反応形式等によって適宜選択できる。
水素添加反応は、溶媒を使用せずに行うことも可能であるが、溶媒を使用することもできる。溶媒としては、ペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドを溶解するものであれば特に限定されない。具体例としては、メタノール、エタノール、２－プロパノール、１－ブタノール等のアルコール類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ペンタン、ヘキサン、へプタン、オクタン、イソオクタン、イソノナン等の飽和脂肪族炭化水素類；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；等が挙げられる。これらの溶媒は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。また、アルコール類を使用する場合、水を添加してもよい。
水素添加反応の温度は、使用する触媒の種類や使用量等により反応速度、収率等を考慮して適宜設定できるが、８０～２５０℃が好ましく、９０～２００℃がより好ましく、１００～１７０℃がさらに好ましい。８０℃以上の温度では反応効率が上がるため好ましい。また、２５０℃以下の温度では副生物が低減するため好ましい。
水素添加反応の温度は、使用する触媒の種類や使用量等により反応速度、収率等を考慮して適宜設定できるが、８０～２５０℃が好ましく、９０～２００℃がより好ましく、１００～１７０℃がさらに好ましい。８０℃以上の温度では反応効率が上がるため好ましい。また、２５０℃以下の温度では副生物が低減するため好ましい。
水素添加反応の圧力は、１．０～２５ＭＰａが好ましく、１．５～１５ＭＰａが、より好ましく、２．０～１０ＭＰａがさらに好ましい。１．０ＭＰａ以上の圧力では反応効率が上がるため好ましい。また、２５ＭＰａ以下の圧力では耐圧性能に優れる設備のコストが低減できるため好ましい。なお、反応系中に水素添加反応に対して不活性なガス、例えばメタン、エタン、プロパン、窒素、ヘリウム、アルゴン、炭酸ガス等が共存していてもよい。
水素添加反応では、反応器として槽型反応器、管型反応器、ループリアクター等、多様な反応器を使用することができ、それらは単独であっても複数を連結して使用しても良く、反応方式としては回分式；反応条件下の反応器に基質、触媒、溶媒等を供給する半回分式；反応条件下で反応器に基質、触媒、溶媒等を流通させる連続流通式；等、多様な反応方式を採用することができる。
水素添加反応では、反応器として槽型反応器、管型反応器、ループリアクター等、多様な反応器を使用することができ、それらは単独であっても複数を連結して使用しても良く、反応方式としては回分式；反応条件下の反応器に基質、触媒、溶媒等を供給する半回分式；反応条件下で反応器に基質、触媒、溶媒等を流通させる連続流通式；等、多様な反応方式を採用することができる。
以下、実施例等により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例等に限定されるものではない。
［液体クロマトグラフィー分析値（％）］
＜測定条件＞
装置：島津製作所社製 高速液体クロマトグラフＬＣ－２０３０Ｃ ３Ｄ
装置：島津製作所社製 示差屈折率検出器ＲＩＤ－２０Ａ
分析カラム：東ソー社製 ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺ１０００（平均粒子径３μｍ、平均細孔径１．５ｎｍ、長さ１５ｃｍ×内径６．０ｍｍ）２本、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺ２０００（平均粒子径３μｍ、平均細孔径２．０ｎｍ、長さ１５ｃｍ×内径６．０ｍｍ）１本を結合して使用。
［液体クロマトグラフィー分析値（％）］
＜測定条件＞
装置：島津製作所社製 高速液体クロマトグラフＬＣ－２０３０Ｃ ３Ｄ
装置：島津製作所社製 示差屈折率検出器ＲＩＤ－２０Ａ
分析カラム：東ソー社製 ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺ１０００（平均粒子径３μｍ、平均細孔径１．５ｎｍ、長さ１５ｃｍ×内径６．０ｍｍ）２本、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺ２０００（平均粒子径３μｍ、平均細孔径２．０ｎｍ、長さ１５ｃｍ×内径６．０ｍｍ）１本を結合して使用。
ガードカラム：東ソー社製 ＴＳＫｇｅｌ ｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ ＳｕｐｅｒＨＺ－Ｌ（長さ３．５ｃｍ×内径４．６ｍｍ）１本
カラムオーブン温度：４０℃
キャリア：テトラヒドロフラン
カラムの液流量：０．３５ｍｌ／分
試料濃度：５質量％（希釈溶媒テトラヒドロフラン）
検出器：ＲＩＤ（セル部温度：４０℃）
カラムオーブン温度：４０℃
キャリア：テトラヒドロフラン
カラムの液流量：０．３５ｍｌ／分
試料濃度：５質量％（希釈溶媒テトラヒドロフラン）
検出器：ＲＩＤ（セル部温度：４０℃）
付属の解析ソフトにより得られた対象となる相対保持時間内にある各ピークの面積の合計の面積（対象ピーク面積）を求め、その値から相対保持時間０．５０～１．３５の各ピークの合計の面積（全ピーク面積）に対する割合を面積率として、面積率（％）を計算した。
相対保持時間は、ペンタシクロペンタデカンジメタノールに相当するピークのうち最もピーク面積が大きいピークの保持時間を１．０（ペンタシクロペンタデカンジメタノールのピークの相対保持時間）とし、各ピークの保持時間を規格化して求めた。
ペンタシクロペンタデカンジメタノール（保持時間：２１．６分）の全ピーク面積に対する濃度をペンタシクロペンタデカンジメタノール（表１中のPCDMの項目）として記載した。
相対保持時間は、ペンタシクロペンタデカンジメタノールに相当するピークのうち最もピーク面積が大きいピークの保持時間を１．０（ペンタシクロペンタデカンジメタノールのピークの相対保持時間）とし、各ピークの保持時間を規格化して求めた。
ペンタシクロペンタデカンジメタノール（保持時間：２１．６分）の全ピーク面積に対する濃度をペンタシクロペンタデカンジメタノール（表１中のPCDMの項目）として記載した。
また、相対保持時間０．５０～１．３５にペンタシクロペンタデカンジメタノール製品の製造時に使用した溶媒や希釈溶媒として使用したテトラヒドロフランのピーク（影響）がみられることがあるが、これらはピーク面積からは除いた。
本測定において、検出することができる前記面積率の最小値は０．１ｐｐｍであった。
本測定において、検出することができる前記面積率の最小値は０．１ｐｐｍであった。
［ガスクロマトグラフィー分析値（％）］
下記測定条件により、ガスクロマトグラフィーによるペンタシクロペンタデカンジメタノール（ＰＣＤＭ）の純度（％）を決定した。
＜測定条件＞
装置：島津製作所社製 ガスクロマトグラフＧＣ－２０２５
分析カラム：アジレント・テクノロジー社製ＤＢ－１（カラム長３０ｍ、内径０．２５ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）
インジェクション温度：３２０℃
下記測定条件により、ガスクロマトグラフィーによるペンタシクロペンタデカンジメタノール（ＰＣＤＭ）の純度（％）を決定した。
＜測定条件＞
装置：島津製作所社製 ガスクロマトグラフＧＣ－２０２５
分析カラム：アジレント・テクノロジー社製ＤＢ－１（カラム長３０ｍ、内径０．２５ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）
インジェクション温度：３２０℃
流量：６５ｍｌ／分
キャリアガス：窒素ガス
パージ流量：１５ｍｌ／分
カラム流量：１．０ｍｌ／分
スプリット比：５０
オーブン温度：５０～３２０℃、５０℃５分間保持、昇温速度１０℃／分、３２０℃で１８分保持
試料濃度：１０質量％（希釈溶媒アセトン）
検出器：ＦＩＤ、３３０℃
キャリアガス：窒素ガス
パージ流量：１５ｍｌ／分
カラム流量：１．０ｍｌ／分
スプリット比：５０
オーブン温度：５０～３２０℃、５０℃５分間保持、昇温速度１０℃／分、３２０℃で１８分保持
試料濃度：１０質量％（希釈溶媒アセトン）
検出器：ＦＩＤ、３３０℃
［ハーゼン色数（ＡＰＨＡ）分析］
装置：日本電色工業社製 ＳＥ ７７００
ＡＰＨＡの測定には光路長５０ｍｍの角型セルを使用し、サンプルを１０質量％メタノール溶液に調整して測定した（加熱着色試験前）。本願において無色透明とはバーゼン色数が２０以下であることを意味する。
なお、測定の仕様上、５００以上の値は信頼性が低くなるため、５００以上の測定値については、５００以上とした。
装置：日本電色工業社製 ＳＥ ７７００
ＡＰＨＡの測定には光路長５０ｍｍの角型セルを使用し、サンプルを１０質量％メタノール溶液に調整して測定した（加熱着色試験前）。本願において無色透明とはバーゼン色数が２０以下であることを意味する。
なお、測定の仕様上、５００以上の値は信頼性が低くなるため、５００以上の測定値については、５００以上とした。
（加熱着色試験）
対象となるペンタシクロペンタデカンジメタノール製品を試験管に入れ、窒素雰囲気下において２６０℃で３時間保持した。ハーゼン色数（ＡＰＨＡ）分析に記載の条件で、保持後のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品のＡＰＨＡを測定した（加熱着色試験後）。
対象となるペンタシクロペンタデカンジメタノール製品を試験管に入れ、窒素雰囲気下において２６０℃で３時間保持した。ハーゼン色数（ＡＰＨＡ）分析に記載の条件で、保持後のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品のＡＰＨＡを測定した（加熱着色試験後）。
［実施例１］
容積１０００ｍｌのオートクレーブにトリシクロペンタジエン２００ｇ（１．０１ｍｏｌ）、２－プロパノール（富士フイルム和光純薬社製）２００ｇ、トリス（２,４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ホスファイト（シグマアルドリッチ社製）０．６５ｇ（１．０１ｍｍｏｌ）、及びＲｈ（ａｃａｃ）（ＣＯ）2（エヌ・イーケムキャット社製）０．０２６ｇ（０．１０１ｍｍｏｌ）を室温で入れ、系内を窒素置換した。系内を５０℃に昇温し、この温度を保持しながら１０分間撹拌した。その後系内を合成ガス（ＣＯ／Ｈ2のモル比＝０．９）で置換してから７．０ＭＰａに昇圧した後、系内の温度を７０℃、内圧を８．０ＭＰａに調節した。この温度と圧力を保持して１時間撹拌した（第１工程）。
その後に昇温を行い、系内の温度を１２０℃、内圧を８．０ＭＰａに調節した。この温度と圧力を保持して４時間撹拌（第２工程）した後に、内圧を大気圧に戻して反応を停止し、ペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドを含む反応液を得た。
容積１０００ｍｌのオートクレーブにトリシクロペンタジエン２００ｇ（１．０１ｍｏｌ）、２－プロパノール（富士フイルム和光純薬社製）２００ｇ、トリス（２,４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ホスファイト（シグマアルドリッチ社製）０．６５ｇ（１．０１ｍｍｏｌ）、及びＲｈ（ａｃａｃ）（ＣＯ）2（エヌ・イーケムキャット社製）０．０２６ｇ（０．１０１ｍｍｏｌ）を室温で入れ、系内を窒素置換した。系内を５０℃に昇温し、この温度を保持しながら１０分間撹拌した。その後系内を合成ガス（ＣＯ／Ｈ2のモル比＝０．９）で置換してから７．０ＭＰａに昇圧した後、系内の温度を７０℃、内圧を８．０ＭＰａに調節した。この温度と圧力を保持して１時間撹拌した（第１工程）。
その後に昇温を行い、系内の温度を１２０℃、内圧を８．０ＭＰａに調節した。この温度と圧力を保持して４時間撹拌（第２工程）した後に、内圧を大気圧に戻して反応を停止し、ペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドを含む反応液を得た。
この系内を窒素置換した後、水６．０ｇ及び還元ニッケル担持触媒６．０ｇを入れ、系内を水素置換し、水素ガスで系内の圧力を３．０ＭＰａに昇圧した後、系内の温度を１５０℃、内圧を５．０ＭＰａに調節した。この温度と圧力を保持して３時間後に反応を停止し、加圧ろ過で還元ニッケル担持触媒を除去し、溶媒を留去することでペンタシクロペンタデカンジメタノール製品を２２８．７ｇ得た。
前記の条件にて液体クロマトグラフィー分析を行った結果、ペンタシクロペンタデカンジメタノールのピークが保持時間２１．６分に検出され、その面積は１．０×１０７で、面積率は９５．９％であった。
相対保持時間が０．７０～０．９５の範囲に現れるピーク群の面積率は４．１％であり、相対保持時間が０．８９～０．９５の範囲に現れるピークの面積率は３．６％であった。
相対保持時間が０．７０～０．９５の範囲に現れるピーク群の面積率は４．１％であり、相対保持時間が０．８９～０．９５の範囲に現れるピークの面積率は３．６％であった。
［実施例２］
容積５００ｍｌのオートクレーブにメチルシクロヘキサン（富士フイルム和光純薬社製）５０ｇ、トリス（２,４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ホスファイト（シグマアルドリッチ社製）０．２５ｇ（０．３８ｍｍｏｌ）、及びＲｈ（ａｃａｃ）（ＣＯ）2（エヌ・イーケムキャット社製）０．００９８ｇ（０．００３８ｍｍｏｌ）を室温で入れ、系内を窒素置換した。系内を５０℃に昇温し、この温度を保持しながら１０分間撹拌した。その後系内を合成ガス（ＣＯ／Ｈ2のモル比＝０．９）で置換してから１６．０ＭＰａに昇圧した後、系内の温度を７０℃、内圧を２０．０ＭＰａに調節した。その後、１時間かけてトリシクロペンタジエン４０ｇ（０．２０ｍｏｌ）とメチルシクロヘキサン４０ｇの混合液を系内にフィードした。その後、系内の温度を７０℃、内圧を２０．０ＭＰａで保持して０．５時間撹拌した（第１工程）。
容積５００ｍｌのオートクレーブにメチルシクロヘキサン（富士フイルム和光純薬社製）５０ｇ、トリス（２,４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ホスファイト（シグマアルドリッチ社製）０．２５ｇ（０．３８ｍｍｏｌ）、及びＲｈ（ａｃａｃ）（ＣＯ）2（エヌ・イーケムキャット社製）０．００９８ｇ（０．００３８ｍｍｏｌ）を室温で入れ、系内を窒素置換した。系内を５０℃に昇温し、この温度を保持しながら１０分間撹拌した。その後系内を合成ガス（ＣＯ／Ｈ2のモル比＝０．９）で置換してから１６．０ＭＰａに昇圧した後、系内の温度を７０℃、内圧を２０．０ＭＰａに調節した。その後、１時間かけてトリシクロペンタジエン４０ｇ（０．２０ｍｏｌ）とメチルシクロヘキサン４０ｇの混合液を系内にフィードした。その後、系内の温度を７０℃、内圧を２０．０ＭＰａで保持して０．５時間撹拌した（第１工程）。
その後に昇温を行い、系内の温度を１２０℃、内圧を２０．０ＭＰａに調節した。この温度と圧力を保持して３時間撹拌（第２工程）した後に、内圧を大気圧に戻して反応を停止し、ペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドを含む反応液を得た。
この反応液にメタノール７５．０ｇと水４．５ｇを入れて激しく攪拌した後、静置し、二層分離した下層を１５０．０ｇ得た。この下層１５０．０ｇと還元ニッケル担持触媒１．５ｇを窒素雰囲気下で容積５００ｍｌのオートクレーブに入れ、系内を水素置換し、水素ガスで系内の圧力を３．０ＭＰａに昇圧した後、系内の温度を１５０℃、内圧を５．０ＭＰａに調節した。
この温度と圧力を保持して３時間後に反応を停止し、加圧ろ過で還元ニッケル担持触媒を除去し、溶媒を留去することでペンタシクロペンタデカンジメタノール製品を４４．５ｇ得た。
前記の条件にて液体クロマトグラフィー分析を行った結果、相対保持時間が０．７０～０．９５の範囲に現れるピーク群の面積率は０．５％であり、相対保持時間が０．８９～０．９５の範囲に現れるピークの面積率は０．４％であった。
前記の条件にて液体クロマトグラフィー分析を行った結果、相対保持時間が０．７０～０．９５の範囲に現れるピーク群の面積率は０．５％であり、相対保持時間が０．８９～０．９５の範囲に現れるピークの面積率は０．４％であった。
［比較例１］
特許文献２に記載の参考例１と同文献の実施例１に従い、ペンタシクロペンタデカンジメタノールを含む組成物を得た。前記の条件にて液体クロマトグラフィー分析を行った結果、相対保持時間が０．７０～０．９５の範囲に現れるピーク群の面積率は２８．９％であり、相対保持時間が０．８９～０．９５の範囲に現れるピークの面積率は１９．２％であった。
特許文献２に記載の参考例１と同文献の実施例１に従い、ペンタシクロペンタデカンジメタノールを含む組成物を得た。前記の条件にて液体クロマトグラフィー分析を行った結果、相対保持時間が０．７０～０．９５の範囲に現れるピーク群の面積率は２８．９％であり、相対保持時間が０．８９～０．９５の範囲に現れるピークの面積率は１９．２％であった。
［ペンタシクロペンタデカンジメタノール製品の評価］
実施例１～２及び比較例１で得られたペンタシクロペンタデカンジメタノール製品を用い、前記の条件で加熱着色試験を行い、ハーゼン色数（ＡＰＨＡ）分析に記載の方法で加熱着色試験前後の着色を評価した。結果を表１に示す。
表１に示すように実施例１～２のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品は比較１のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品に比べて、より加熱着色試験後の着色が生じにくい製品であることがわかる。
実施例１～２及び比較例１で得られたペンタシクロペンタデカンジメタノール製品を用い、前記の条件で加熱着色試験を行い、ハーゼン色数（ＡＰＨＡ）分析に記載の方法で加熱着色試験前後の着色を評価した。結果を表１に示す。
表１に示すように実施例１～２のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品は比較１のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品に比べて、より加熱着色試験後の着色が生じにくい製品であることがわかる。
本発明により、光学製品材料等の用途に好適に使用される、無色透明であり、さらに加熱による着色が生じにくい高純度のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品を提供することができ、該ペンタシクロペンタデカンジメタノール製品の簡易な製造方法を提供することができる。
Claims (6)
- 下記条件の液体クロマトグラフィー分析において、ペンタシクロペンタデカンジメタノールのピークの相対保持時間を１．０としたとき、相対保持時間が０．７０～０．９５の範囲に現れるピーク群の合計の面積の全ピーク面積に対する面積率が、１．０％以下であるペンタシクロペンタデカンジメタノール製品。
（液体クロマトグラフィー分析の条件）
分析カラム：基材がスチレンジビニルベンゼンであるカラム（平均粒子径３μｍ、平均細孔径１．５ｎｍ、長さ１５ｃｍ×内径６．０ｍｍ）２本、基材がスチレンジビニルベンゼンであるカラム（平均粒子径３μｍ、平均細孔径２．０ｎｍ、長さ１５ｃｍ×内径６．０ｍｍ）１本を結合して使用
試料濃度：５質量％（希釈溶媒テトラヒドロフラン）
カラムオーブン温度：４０℃
キャリア：テトラヒドロフラン
カラムの液流量：０．３５ｍｌ／分
検出器：ＲＩＤ（セル部温度：４０℃） - ペンタシクロペンタデカンジメタノールのピークの相対保持時間を１．０としたとき、相対保持時間が０．８９～０．９５の範囲に現れるピーク群の合計の面積の全ピーク面積に対する面積率が、１．０％以下である請求項１に記載のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品。
- 一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）で表されるトリシクロペンタジエンから選ばれる少なくとも１種のトリシクロペンタジエンを、水素ガス、一酸化炭素ガス及びロジウム系触媒とともにＴ１℃で反応させる第１工程と、更にＴ１℃からＴ２℃に昇温し、Ｔ２℃で反応させる第２工程とを含むヒドロホルミル化反応に付し、一般式（ＩＩＩ）及び一般式（ＩＶ）で表されるペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドから選ばれる少なくとも１種であるペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドを得るヒドロホルミル化工程と、
前記ペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドを還元反応に付し、一般式（Ｖ）及び一般式（ＶＩ）で表されるペンタシクロペンタデカンジメタノールから選ばれる少なくとも１種のペンタシクロペンタデカンジメタノールを得る還元工程とを含み、
前記Ｔ １ ℃が、５０℃以上であり、前記Ｔ １ 及び前記Ｔ ２ が、Ｔ ２ ＞Ｔ １ ＋２０の関係を満たす、ペンタシクロペンタデカンジメタノール製品の製造方法。
- 前記第２工程の反応時間が、前記第１工程の反応時間より長い、請求項３に記載のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品の製造方法。
- 前記ロジウム系触媒として、ロジウム化合物及び有機リン化合物を用いる、請求項３又は４に記載のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品の製造方法。
- 前記還元反応が、水素添加反応である、請求項３～５のいずれか１項に記載のペンタシクロペンタデカンジメタノール製品の製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021091076A JP7033686B1 (ja) | 2021-05-31 | 2021-05-31 | ペンタシクロペンタデカンジメタノール製品 |
| CN202280003560.5A CN115461619A (zh) | 2021-05-31 | 2022-05-20 | 五环十五烷二甲醇制品 |
| DE112022000023.6T DE112022000023T5 (de) | 2021-05-31 | 2022-05-20 | Pentacyclopentadecandimethanol-Produkt |
| KR1020227033530A KR102627153B1 (ko) | 2021-05-31 | 2022-05-20 | 펜타시클로펜타데칸 디메탄올 제품 |
| PCT/JP2022/020912 WO2022255125A1 (ja) | 2021-05-31 | 2022-05-20 | ペンタシクロペンタデカンジメタノール製品 |
| TW111120004A TWI802426B (zh) | 2021-05-31 | 2022-05-30 | 五環十五烷二甲醇製品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021091076A JP7033686B1 (ja) | 2021-05-31 | 2021-05-31 | ペンタシクロペンタデカンジメタノール製品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP7033686B1 true JP7033686B1 (ja) | 2022-03-10 |
| JP2022183641A JP2022183641A (ja) | 2022-12-13 |
Family
ID=81213085
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021091076A Active JP7033686B1 (ja) | 2021-05-31 | 2021-05-31 | ペンタシクロペンタデカンジメタノール製品 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7033686B1 (ja) |
| TW (1) | TWI802426B (ja) |
| WO (1) | WO2022255125A1 (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000302860A (ja) | 1999-01-08 | 2000-10-31 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 新規なポリカーボネート樹脂 |
| JP2001010999A (ja) | 1999-07-02 | 2001-01-16 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | トリシクロデカンジメタノール及び／又はペンタシクロペンタデカンジメタノールの製造法 |
| JP2002047225A (ja) | 2000-07-27 | 2002-02-12 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 多環式ジオール類の蒸留方法 |
| JP4194788B2 (ja) | 2002-03-15 | 2008-12-10 | 丸善石油化学株式会社 | 脂環式アルコールの製造方法 |
-
2021
- 2021-05-31 JP JP2021091076A patent/JP7033686B1/ja active Active
-
2022
- 2022-05-20 WO PCT/JP2022/020912 patent/WO2022255125A1/ja active Application Filing
- 2022-05-30 TW TW111120004A patent/TWI802426B/zh active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000302860A (ja) | 1999-01-08 | 2000-10-31 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 新規なポリカーボネート樹脂 |
| JP2001010999A (ja) | 1999-07-02 | 2001-01-16 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | トリシクロデカンジメタノール及び／又はペンタシクロペンタデカンジメタノールの製造法 |
| JP2002047225A (ja) | 2000-07-27 | 2002-02-12 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 多環式ジオール類の蒸留方法 |
| JP4194788B2 (ja) | 2002-03-15 | 2008-12-10 | 丸善石油化学株式会社 | 脂環式アルコールの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2022255125A1 (ja) | 2022-12-08 |
| TW202304847A (zh) | 2023-02-01 |
| JP2022183641A (ja) | 2022-12-13 |
| TWI802426B (zh) | 2023-05-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102260225B1 (ko) | 노보난 골격을 갖는 이관능성 화합물 및 그 제조방법 | |
| KR101985035B1 (ko) | 테레프탈산으로부터의 1,4-사이클로헥산다이메탄올의 통합된 제조 방법 | |
| EP1065194B2 (en) | Production of tricyclodecane dicarbaldehyde, pentacyclopentadecane dicarbaldehyde and corresponding dimethanols | |
| US8420868B2 (en) | Process for the preparation of 2,2,4,4-tetraalkylcyclobutane-1,3-diols | |
| JP5973565B2 (ja) | １，４−シクロヘキサンジメタノールの調製方法 | |
| US7582804B2 (en) | Process for the preparation of a tetraalkycyclobutane-1,3-diol using a promoted-copper catalyst | |
| KR101985034B1 (ko) | 테레프탈산으로부터의 1,4-사이클로헥산다이메탄올의 제조 방법 | |
| JP2020200326A (ja) | 炭化水素からアルコールを製造する方法 | |
| CN108083980A (zh) | 一种制备光学纯l-薄荷醇的方法 | |
| EP3275856B1 (en) | Bifunctional compound having norbornane backbone, and method for producing same | |
| JP7033686B1 (ja) | ペンタシクロペンタデカンジメタノール製品 | |
| KR102627153B1 (ko) | 펜타시클로펜타데칸 디메탄올 제품 | |
| CN1042128C (zh) | 醇类的制备方法 | |
| JP4843984B2 (ja) | ジアセトキシアリル化合物の異性化方法 | |
| JP2022080721A (ja) | 脂環式化合物の製造方法及び脂環式化合物 | |
| EP3808730B1 (en) | Method for producing bifunctional compound having norbornane skeleton | |
| EP4324813A1 (en) | Method for producing dimethanol compound having norbornane skeleton | |
| EP3822261A1 (en) | Cyclic hemiacetal compound production method | |
| TW202304845A (zh) | 具有降莰烷骨架之二甲醇化合物之製造方法 | |
| JP5374830B2 (ja) | ジアセトキシアリル化合物の異性化方法 | |
| JPWO2019208710A1 (ja) | 脂環式アルコールおよびアルデヒドの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210531 |
|
| A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20210531 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210706 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210826 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20211012 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211222 |
|
| C60 | Trial request (containing other claim documents, opposition documents) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60 Effective date: 20211222 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20211224 |
|
| A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20220118 |
|
| C21 | Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21 Effective date: 20220125 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220215 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220228 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7033686 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |