JP7030260B2 - 炭化珪素インゴット、その製造方法及び炭化珪素ウエハの製造方法 - Google Patents

炭化珪素インゴット、その製造方法及び炭化珪素ウエハの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP7030260B2
JP7030260B2 JP2020082272A JP2020082272A JP7030260B2 JP 7030260 B2 JP7030260 B2 JP 7030260B2 JP 2020082272 A JP2020082272 A JP 2020082272A JP 2020082272 A JP2020082272 A JP 2020082272A JP 7030260 B2 JP7030260 B2 JP 7030260B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silicon carbide
main body
end surface
angle
ingot
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2020082272A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2021066650A (ja
Inventor
パク、ジョンフィ
キョン、ミョンオク
シム、ジョンミン
ジャン、ビョンキュ
チェ、ジョンウ
コ、サンキ
ク、カプレル
キム、ジュンギュ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Senic Inc
Original Assignee
Senic Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Senic Inc filed Critical Senic Inc
Publication of JP2021066650A publication Critical patent/JP2021066650A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7030260B2 publication Critical patent/JP7030260B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/36Carbides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B23/00Single-crystal growth by condensing evaporated or sublimed materials
    • C30B23/02Epitaxial-layer growth
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/90Carbides
    • C01B32/914Carbides of single elements
    • C01B32/956Silicon carbide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B23/00Single-crystal growth by condensing evaporated or sublimed materials
    • C30B23/002Controlling or regulating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B23/00Single-crystal growth by condensing evaporated or sublimed materials
    • C30B23/02Epitaxial-layer growth
    • C30B23/06Heating of the deposition chamber, the substrate or the materials to be evaporated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B23/00Single-crystal growth by condensing evaporated or sublimed materials
    • C30B23/02Epitaxial-layer growth
    • C30B23/06Heating of the deposition chamber, the substrate or the materials to be evaporated
    • C30B23/066Heating of the material to be evaporated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/60Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape characterised by shape
    • C30B29/66Crystals of complex geometrical shape, e.g. tubes, cylinders
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02002Preparing wafers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

本発明は、炭化珪素インゴット、その製造方法及び炭化珪素ウエハの製造方法に関する。
炭化珪素(SiC)は、2.2eV~3.3eVの広いバンドギャップを有する半導体であり、その優れた物理的化学的特性により、半導体材料として研究開発が進められている。
炭化珪素単結晶を製造する方法として、液相蒸着法(Liquid Phase Epitaxy;LPE)、化学気相蒸着法(Chemical Vapor Deposition;CVD)、物理的気相輸送法(Physical Vapor Transport;PVT)などがある。その中で物理的気相輸送法は、坩堝内に炭化珪素原料を装入し、坩堝の上端には、炭化珪素単結晶からなる種結晶を配置した後、坩堝を誘導加熱方式で加熱して原料を昇華させ、種結晶上に炭化珪素単結晶を成長させる方法である。物理的気相輸送法は、高い成長率を有することによってインゴットの形態の炭化珪素を作製することができるので、最も広く用いられている。但し、坩堝の特性、工程条件などに応じて電流密度が変化し、坩堝の内部の温度分布も変化するため、炭化珪素の成長再現性の確保に困難があり得る。
このような炭化珪素の製造方法として、韓国公開特許公報第10-2016-0055102号に開示された"炭化珪素単結晶ウエハ及び炭化珪素単結晶インゴットの製造方法"、韓国公開特許公報第10-2017-0099958号に開示された"炭化珪素単結晶インゴットの製造方法及び炭化珪素単結晶インゴット"などがある。
本発明の目的は、優れた品質の炭化珪素インゴット、その製造方法及び炭化珪素ウエハの製造方法を提供することにある。
上記目的を達成するために、本明細書で開示する一実施例に係る炭化珪素インゴットは、本体部の一端面、及び前記本体部の一端面に対向する本体部の他端面を含む本体部と;前記本体部の他端面上に位置し、前記本体部の他端面を基準として湾曲した表面を有する突出部と;を含み、
前記本体部の他端面は、一端点及び他端点を含み、
前記一端点は、前記本体部の他端面の一端に位置する一点であり、
前記他端点は、前記本体部の他端面の末端に位置する一点であり、
前記一端点、前記突出部の最高点及び前記他端点は、前記本体部の一端面と垂直な同一平面上に位置し、
前記同一平面と前記突出部の表面との交線に該当する弧の曲率半径は、下記数式1で表すことができる。
[数1]
3D≦r≦37D
前記数式1において、rは、前記弧の曲率半径であり、前記Dは、前記同一平面と前記本体部の一端面との交線の長さである。
前記本体部の一端は、炭化珪素種結晶と連結されたものであってもよい。
前記本体部は、前記本体部の一端面と垂直であり、前記本体部の一端面の中心を通る軸を有する筒状であり、
前記筒状は、前記軸に沿って前記本体部の一端面から前記本体部の他端面の方向に前記本体部の断面の面積が同一であるか、または増加することができる。
前記炭化珪素インゴットの表面のピット(pit)欠陥の密度は10,000/cm以下であってもよい。
前記炭化珪素インゴットは4H-SiCの結晶構造を有し、(0001)面に対するオフ角として0~10°から選択された角度を適用した前記炭化珪素インゴットのウエハが有するロッキング角度が、基準角度に対し-1.5°~+1.5°であってもよい。
前記炭化珪素インゴットの(0001)面に対するオフ角として8°を適用した前記炭化珪素インゴットのウエハが有するロッキング角度が、基準角度に対し-1.5°~+1.5°であってもよい。
前記炭化珪素インゴットの(0001)面に対するオフ角として4°を適用した前記炭化珪素インゴットのウエハが有するロッキング角度が、基準角度に対し-1.5°~+1.5°であってもよい。
前記炭化珪素インゴットの(0001)面に対するオフ角として0°を適用した前記炭化珪素インゴットのウエハが有するロッキング角度が、基準角度に対し-1.0°~+1.0°であってもよい。
前記本体部の一端面の直径は4インチ以上であってもよい。
上記目的を達成するために、本明細書で開示する他の一実施例に係る炭化珪素インゴットは、本体部の一端面、及び前記本体部の一端面に対向する本体部の他端面を含む本体部と;前記本体部の他端面上に位置し、前記本体部の他端面を基準として湾曲した表面を有する突出部と;を含み、
前記本体部の一端面と垂直であり、前記本体部の一端面の中心を通る第1基準線と;
前記第1基準線と平行であり、前記第1基準線から垂直距離が最も遠い前記突出部の縁部と接する第2基準線と;
前記本体部の一端面と平行であり、前記縁部と前記第2基準線との接点を通る第3基準線と;
前記縁部と前記第2基準線との接点及び前記一端面から垂直距離が最も遠い前記突出部の最高点を通る第4基準線とを有し、
前記第3基準線と第4基準線との夾角は0.5°~10°であってもよい。
前記炭化珪素インゴットは4H-SiCの結晶構造を有し、(0001)面に対するオフ角として0~10°から選択された角度を適用した前記炭化珪素インゴットのウエハが有するロッキング角度が、基準角度に対し-1.5°~+1.5°であってもよい。
前記炭化珪素インゴットの表面のピット(pit)欠陥の密度は10,000/cm以下であってもよい。
上記目的を達成するために、本明細書で開示する更に他の一実施例に係る炭化珪素インゴットの製造方法は、反応容器の内部空間に、炭化珪素原料と炭化珪素種結晶とが離隔するように配置する準備ステップと;
前記内部空間の温度、圧力、気体雰囲気を調節して前記炭化珪素原料を昇華させ、前記炭化珪素種結晶上に炭化珪素インゴットを形成する成長ステップとを含み、
前記反応容器は、外面を取り囲む断熱材と、前記断熱材の外部に備えられた加熱手段とを含み、
前記断熱材の密度は14g/cc~28g/ccであり、
前記断熱材の厚さは20mm~300mmであってもよい。
前記炭化珪素インゴットは、本体部の一端面、及び前記本体部の一端面に対向する本体部の他端面を含む本体部と;前記本体部上に位置し、前記本体部の他端面を基準として湾曲した表面を有する突出部と;を含み、
前記本体部の他端面は、一端点及び他端点を含み、
前記一端点は、前記本体部の他端面の一端に位置する一点であり、
前記他端点は、前記本体部の他端面の末端に位置する一点であり、
前記一端点、前記突出部の最高点及び前記他端点は、前記本体部の一端面と垂直な同一平面上に位置し、
前記同一平面と前記突出部の表面との交線に該当する弧の曲率半径は、下記数式1で表すことができる。
[数1]
3D≦r≦37D
前記数式1において、rは、前記弧の曲率半径であり、前記Dは、前記同一平面と前記本体部の一端面との交線の長さである。
前記炭化珪素インゴットは、本体部の一端面、及び前記本体部の一端面に対向する本体部の他端面を含む本体部と;前記本体部上に位置し、前記本体部の他端面を基準として湾曲した表面を有する突出部と;を含み、
前記本体部の一端面と垂直であり、前記本体部の一端面の中心を通る第1基準線と;
前記第1基準線と平行であり、前記第1基準線から垂直距離が最も遠い前記突出部の縁部と接する第2基準線と;
前記本体部の一端面と平行であり、前記縁部と前記第2基準線との接点を通る第3基準線と;
前記縁部と前記第2基準線との接点及び前記一端面から垂直距離が最も遠い前記突出部の最高点を通る第4基準線とを有し、
前記第3基準線と第4基準線との夾角は0.5°~10°であってもよい。
上記目的を達成するために、本明細書で開示する更に他の一実施例に係る炭化珪素ウエハの製造方法は、前記炭化珪素インゴットの縁部を研削する研削ステップと;
前記研削された炭化珪素インゴットを切断して炭化珪素ウエハを設ける切断ステップと;を含む。
本発明の炭化珪素インゴット及びその製造方法は、結晶成長の温度勾配を精密に制御することができ、より優れた特性の炭化珪素インゴットを提供することができる。
本明細書の一実施例に係る炭化珪素インゴットの正面図である。 本明細書の一実施例に係る炭化珪素インゴットの斜視図である。 本明細書の一実施例に係る炭化珪素インゴットの断面、及び炭化珪素インゴットの突出部の曲率半径を示す概念図である。 本明細書の一実施例に係る炭化珪素インゴットの断面、及び第1~第4基準線を示す概念図である。 本明細書の一実施例に係る炭化珪素インゴットの製造装置の断面を示す概念図である。 ピット欠陥の密度が20,000/cmである炭化珪素インゴットの表面(a)、及び本明細書の一実施例に係る炭化珪素インゴットの表面(b)のピット欠陥を撮影した写真である。
以下、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように、本発明の実施例について添付の図面を参照して詳細に説明する。しかし、本発明は、様々な異なる形態で実現可能であり、ここで説明する実施例に限定されない。明細書全体にわたって類似の部分に対しては同一の図面符号を付した。
本明細書において、ある構成が他の構成を「含む」とするとき、これは、特に反対の記載がない限り、それ以外の他の構成を除くものではなく、他の構成をさらに含むこともできることを意味する。
本明細書において、ある構成が他の構成と「連結」されているとするとき、これは、「直接的に連結」されている場合のみならず、「それらの間に他の構成を介在して連結」されている場合も含む。
本明細書において、A上にBが位置するという意味は、A上に直接当接してBが位置するか、またはそれらの間に別の層が位置しながらA上にBが位置することを意味し、Aの表面に当接してBが位置することに限定されて解釈されない。
本明細書において、マーカッシュ形式の表現に含まれた「これらの組み合わせ」という用語は、マーカッシュ形式の表現に記載された構成要素からなる群から選択される1つ以上の混合又は組み合わせを意味するものであって、前記構成要素からなる群から選択される1つ以上を含むことを意味する。
本明細書において、「A及び/又はB」の記載は、「A、B、又は、A及びB」を意味する。
本明細書において、「第1」、「第2」又は「A」、「B」のような用語は、特に説明がない限り、同一の用語を互いに区別するために使用される。
本明細書において、単数の表現は、特に説明がなければ、文脈上解釈される単数又は複数を含む意味で解釈される。
以下、本発明をより詳細に説明する。
本発明の発明者らは、より欠陥が少なく、高品質の炭化珪素インゴットを製造する方法を研究する中で、物理的気相輸送法(PVT)を適用して炭化珪素を成長させることは、温度の制御が重要であり、このような温度の制御は、坩堝本体及びシードホルダに対する制御も重要であるが、反応チャンバ内に前記坩堝本体などと共に位置するようになる断熱材に関連する制御も重要であり、これを通じて、より優れた品質の炭化珪素を製造できるという点を確認し、本発明を完成した。
上記の目的を達成するために、本明細書で開示する一実施例に係る炭化珪素インゴット100は、本体部110の一端面111、及び前記本体部の一端面に対向する本体部の他端面112を含む本体部と;前記本体部の他端面上に位置し、前記本体部の他端面を基準として湾曲した表面を有する突出部120と;を含み、
前記本体部の他端面112は、一端点A1及び他端点A2を含み、
前記一端点A1は、前記本体部の他端面の一端に位置する一点であり、
前記他端点A2は、前記本体部の他端面の末端に位置する一点であり、
前記一端点、前記突出部の最高点A3及び前記他端点は、前記本体部の一端面と垂直な同一平面上に位置し、
前記同一平面と前記突出部の表面との交線に該当する弧C1の曲率半径は、下記数式1で表すことができる。
[数1]
3D≦r≦37D
前記数式1において、rは、前記弧の曲率半径であり、前記Dは、前記同一平面と前記本体部の一端面との交線の長さである。
前記炭化珪素インゴット100の本体部110及び突出部120は、後述する炭化珪素の製造方法を通じて炭化珪素種結晶130から連続的に成長したものであり、本明細書では、炭化珪素インゴットの湾曲した表面である成長終結部分を説明するために、本体部と突出部とに区分したが、前記本体部及び突出部は、連続した同一の結晶であることを理解しなければならない。
前記本体部110の一端は、炭化珪素種結晶130と連続的に連結されていてもよい。
前記本体部110は、前記本体部の一端面111と垂直であり、前記本体部の一端面の中心を通る軸を有する筒状であり得、前記筒状は、前記軸に沿って前記本体部の一端面111から前記本体部の他端面112の方向に前記本体部の断面の面積が同一であるか、または増加することができる。
前記本体部110の一端面111は、炭化珪素種結晶130の一端面と同一であってもよく、円形であってもよい。
前記本体部110は、前記本体部の一端面111と他端面112とが平行なものであってもよく、円柱、円錐台、斜円柱及び斜円錐台からなる群から選択された1種の形状であってもよい。
前記突出部120は、前記本体部110の他端面112から延びて凸状に湾曲した部分に該当し、その表面に曲面が形成されていてもよい。
前記突出部120の曲面は、曲率のばらつきが非常に小さい、球の一部の形状に近似してもよい。
前記一端点A1と他端点A2とを結ぶ直線(図示せず)は、前記最高点A3から垂直距離が最も遠い前記本体部の他端面112の点(図示せず)を含むことができる。
前記曲線C1は、前記本体部110の他端面112の一端点A1から、前記突出部の表面に沿って前記突出部の最高点A3を経て前記本体部の他端面112の他端点A2からなる曲線であり得、前記一端点、他端点及び最高点は、前記本体部の一端面と垂直な同一平面上に位置することができる。
前記曲線C1は、図2及び図3を参照すると、前記本体部110の一端面111と垂直な前記炭化珪素インゴット100の最大断面上で、前記突出部と本体部とが隣接する一点から、前記突出部の上部周縁に沿って、前記突出部と本体部とが隣接する他点からなる曲線に該当するものであり得る。
前記曲線C1は、前記本体部110の他端面112が円形である場合、前記他端面内の直径D´に該当する直径線の一端点から、前記突出部120の表面に沿って前記突出部の最高点A3を経て前記直径線の他端点からなる曲線であり得る。
前記突出部120の最高点A3は、前記本体部110の一端面111から垂直距離が最も遠い前記突出部の位置であり得、前記炭化珪素インゴット100の本体部の最下端から高さを測定するとき、最上端に該当する位置であり得る。
前記曲線C1の曲率半径は、3D~37Dであってもよく、4D~28Dであってもよく、5D~19Dであってもよく、または5.4D~9Dであってもよい。このとき、前記Dは、記述したように、前記同一平面と前記本体部の一端面との交線(2つの平面が交差する線)の長さであってもよく、前記本体部の一端面が円形である場合、前記本体部の一端面の直径であってもよく、または前記本体部の一端面と接する炭化珪素種結晶130の直径に該当してもよい。前記曲率半径を満たす炭化珪素インゴット100は、成長時の温度勾配が良好であるので、成長率のばらつきが大きくなく、クラック及び表面のピット(pit)などが低減されて高品質を示すことができる。
前記曲線C1の曲率半径は、図3に示したように、前記炭化珪素インゴット100の正面から、前記突出部120の表面の曲線を曲率が一定の円弧と見なして測定することができる。
例えば、前記炭化珪素インゴット100を、CCD及びCMOSなどのイメージセンサを介して前記突出部120のデジタル正面映像を図示し、前記デジタル正面映像を所定の臨界明るさなどの基準を通じて二進化し、前記二進化された突出部の表面の曲線映像から任意の3つ以上の座標サンプルを抽出した後、前記座標サンプルを含む円の半径を計算して、突出部の曲率半径を近似することができる。前記座標サンプルの抽出は、前記突出部の表面の曲線中、曲線の開始領域、最上端領域及び終了領域を測定することができる。前記の過程を数回~数十回繰り返して計算された半径値の平均を導出して曲率半径を測定することができる。
具体的には、前記炭化珪素インゴット100の正面から、突出部120の真ん中(センター)の高さをハイトゲージで測定することができ、前記炭化珪素インゴットの外郭(エッジ)から5mm内部に向かった地点を測定することができ、前記炭化珪素インゴットの上下左右をハイトゲージで測定することができる。このように測定した値を通じて、オートキャドなどで前記炭化珪素インゴットの正面図を図示化し、炭化珪素インゴットの突出部の曲線を円で近似して曲率半径を計算することができる。
前記炭化珪素インゴット100は、欠陥や多形の混入が最小化された、実質的に単結晶である4H-SiC構造であってもよい。
炭化珪素インゴットの表面の形状が意図に反して凹状に窪んで形成される場合、4H-SiC結晶以外に、6H-SiCのような多形が混入されたものであり得、これは、炭化珪素インゴットの品質を低下させる要因となり得る。また、炭化珪素インゴットの表面が過度に湾曲して突出する場合、インゴット自体にクラックが発生したり、ウエハへの加工時に損傷したりする恐れがある。このとき、前記炭化珪素インゴットが過度に湾曲した形状のインゴットであるか否かは、記述したように、湾曲した部分である突出部の曲率半径を基準として判断する。
前記炭化珪素インゴット100は、4インチ以上、5インチ以上、さらに6インチ以上の直径を有することができる。具体的には、前記炭化珪素インゴットは、4インチ~12インチ、4インチ~10インチ、または4インチ~8インチの直径を有することができる。前記炭化珪素インゴットの製造時に、炭化珪素種結晶は、このような特性に応じて適切なものを適用することができる。
前記炭化珪素インゴット100は、炭化珪素種結晶130のC面(000-1)面から成長したものであってもよい。
前記炭化珪素インゴット100は、通常の方法により炭化珪素ウエハに加工することができる。例えば、前記炭化珪素インゴットを、外径研削装備を適用してインゴットの外縁部分を削り(External Grinding)、所定のオフ角及び一定の厚さに切削(Slicing)した後、縁部の研削及び表面研磨、ポリッシングなどの加工を行うことができる。
前記炭化珪素インゴット100から製造されたウエハは、前記炭化珪素インゴットから(0001)面に対して0~10°から選択されたいずれか一つの角度をオフ角として適用したウエハを基準として、そのロッキング角度が、基準角度に対し-1.5°~+1.5°であるものであってもよく、基準角度に対し-1.0°~+1.0°であるものであってもよく、基準角度に対し-0.5°~+0.5°であるものであってもよく、または基準角度に対し-0.3°~+0.3°であるものであってもよい。
具体的には、前記炭化珪素インゴット100から(0001)面に対してオフ角が0°であるウエハは、そのロッキング角度が、基準角度に対し-1.5°~+1.5°であるものであってもよく、基準角度に対し-1.0°~+1.0°であるものであってもよく、基準角度に対し-0.5°~+0.5°であるものであってもよく、または基準角度に対し-0.3°~+0.3°であるものであってもよい。このような特徴を有するインゴットは、優れた結晶質特性を有する。
具体的には、前記炭化珪素インゴット100から(0001)面に対してオフ角が4°であるウエハは、そのロッキング角度が、基準角度に対し-1.5°~+1.5°であるものであってもよく、基準角度に対し-1.0°~+1.0°であるものであってもよく、基準角度に対し-0.5°~+0.5°であるものであってもよく、または基準角度に対し-0.3°~+0.3°であるものであってもよい。このような特徴を有するインゴットは、優れた結晶質特性を有する。
具体的には、前記炭化珪素インゴット100から(0001)面に対してオフ角が8°であるウエハは、そのロッキング角度が、基準角度に対し-1.5°~+1.5°であるものであってもよく、基準角度に対し-1.0°~+1.0°であるものであってもよく、基準角度に対し-0.5°~+0.5°であるものであってもよく、または基準角度に対し-0.3°~+0.3°であるものであってもよい。このような特徴を有するインゴットは、優れた結晶質特性を有する。
前記ロッキング角度は、高分解能X線回折分析システム(HR-XRD system)を適用して、前記ウエハの[11-20]方向をX線経路に合わせ、X-ray source opticとX-ray detector optic角度を2θ(35~36°)に設定した後、ウエハのオフ角に合わせてオメガ(ω、又はシータθ、X-ray detector optic)角度を調節してロッキングカーブ(Rocking curve)を測定し、基準角度であるピーク角度と2つの半値全幅(FWHM;full width at half maximum)の値の差値をそれぞれロッキング角度として設定して結晶性を評価する(以下、ロッキング角度において同一である)。
本明細書において、オフ角がX°ということは、通常許容する誤差範囲内でX°と評価されるオフ角を有するということを意味し、例示的に、(X-0.05°)~(X+0.05°)の範囲のオフ角を含む。
本明細書において、ロッキング角度が「基準角度に対し-1~+1°」ということは、半値全幅の値が、基準角度であるピーク角度を基準として(ピーク角度-1°)~(ピーク角度+1°)の範囲内にあるということを意味する。
また、前記ロッキング角度は、ウエハの中央部分と縁部から中央方向に5mm以内の部分を除いた表面を実質的に均等に3等分し、各部分で3回以上測定した結果を平均して、前記のロッキング角度として取り扱う。
具体的には、インゴットの(0001)面に対して0°~8°の範囲から選択された角度であるオフ角を適用したウエハのうち、オフ角が0°である場合、オメガ角度は17.8111°であり、オフ角が4°である場合、オメガ角度は13.811°、そして、オフ角が8°である場合、オメガ角度は9.8111°で、前記オフ角が0°~8°であるウエハのオメガ角度は、9.8111°~17.8111°の範囲である。
前記炭化珪素インゴット100の表面のピット(pit)欠陥の密度は10,000/cm以下であり得る。
本明細書において、前記炭化珪素インゴットの表面のピット欠陥の密度の測定は、炭化珪素インゴットの表面においてファセットを除いた中央部分の1箇所、そして、炭化珪素インゴットの縁部から中央部の方向に約10mm内側に位置する3時、6時、9時、そして、12時方向の4箇所、計5箇所を光学顕微鏡で観察し、各位置で単位面積(1cm)当たりのピット(pit)を測定した後、その平均値で評価する。
前記炭化珪素インゴット100は、炭化珪素インゴットから発生し得る欠陥を減らしたもので、より高品質の炭化珪素ウエハを提供することができる。
本発明の他の一実施例に係る炭化珪素インゴット100は、本体部110の一端面111、及び前記本体部の一端面に対向する本体部の他端面112を含む本体部と;前記本体部の他端面上に位置し、前記本体部の他端面を基準として湾曲した表面を有する突出部120と;を含み、
前記本体部の一端面と垂直であり、前記本体部の一端面の中心を通る第1基準線L1と;
前記第1基準線と平行であり、前記第1基準線から垂直距離が最も遠い前記突出部の縁部と接する第2基準線L2と;
前記本体部の一端面と平行であり、前記縁部と前記第2基準線との接点を通る第3基準線L3と;
前記縁部と前記第2基準線との接点及び前記一端面から垂直距離が最も遠い前記突出部の最高点を通る第4基準線L4とを有し、
前記第3基準線と第4基準線との夾角は0.5°~10°であってもよい。
前記炭化珪素インゴット100の本体部110及び突出部120は、後述する炭化珪素の製造方法を通じて炭化珪素種結晶130から連続的に成長したものであり、本明細書では、炭化珪素インゴットの湾曲した成長終結部分を説明するために、本体部と突出部とに区分したが、前記本体部及び突出部は、連続した同一の結晶であることを理解しなければならない。
前記本体部110の一端は、炭化珪素種結晶130と連続的に連結されていてもよい。
前記本体部110は、前記本体部の一端面111と垂直であり、前記本体部の一端面の中心を通る軸を有する筒状であり、前記筒状は、前記軸に沿って前記本体部の一端面から前記本体部の他端面112の方向に前記本体部の断面の面積が同一であるか、または増加することができる。
前記本体部110の一端面111は、炭化珪素種結晶130の一端面と同一であってもよく、円形であってもよい。
前記本体部110は、本体部の一端面111と他端面112とが平行なものであってもよく、円柱、円錐台、斜円柱及び斜円錐台からなる群から選択された1種の形状であってもよい。
前記突出部120は、前記本体部から延びて凸状に湾曲した部分に該当し、その表面に曲面が形成されていてもよい。
前記突出部120の曲面は、曲率のばらつきが非常に小さい、球の一部の形状に近似してもよい。
前記炭化珪素インゴット100を基準線で区分することは、また、以下のように行われ得る。前記炭化珪素インゴットの正面を前記ハイトゲージで測定したインゴットの測定値及びオートキャドなどを通じて正面図として図示化し、前記正面図上で、前記本体部110の一端面111と垂直であり、本体部の一端面の中心を通る第1基準線L1と、前記第1基準線と平行であり、前記第1基準線から垂直距離が最も遠い前記突出部120の縁部と接する第2基準線L2と、前記本体部の一端面と平行であり、前記縁部と第2基準線との接点を通る第3基準線L3と、前記縁部と前記第2基準線との接点及び前記一端面から垂直距離が最も遠い前記突出部の最高点A3を通る第4基準線L4とで区分することができる。
前記炭化珪素インゴット100を、前記のように第1~第4基準線で区分し、第3基準線L3と第4基準線L4との間の90°以下の夾角を測定することで、前記突出部120の湾曲の程度を示すことができる。
前記第3基準線L3と第4基準線L4との間の夾角は、0.5°~10°であってもよく、1°~8°であってもよく、2°~6°であってもよく、または3.2°~5°であってもよい。前記夾角を満たす炭化珪素インゴット100は、成長時の温度勾配が良好であるので、成長率のばらつきが大きくなく、クラック及び表面のピット(pit)などが低減されて高品質を示すことができる。
前記炭化珪素インゴット100は、欠陥や多形の混入が最小化された、実質的に単結晶である4H-SiC構造であってもよい。
炭化珪素インゴットの表面の形状が意図に反して凹状に窪んで形成される場合、4H-SiC結晶以外に、6H-SiCのような多形が混入されたものであり得、これは、炭化珪素インゴットの品質を低下させる要因となり得る。また、炭化珪素インゴットの表面が過度に湾曲して突出する場合、インゴット自体にクラックが発生したり、ウエハへの加工時に損傷したりする恐れがある。このとき、前記炭化珪素インゴットが過度に湾曲した形状のインゴットであるか否かは、記述したように、第1~第4基準線で区分した後、第3基準線と第4基準線との夾角から判断する。
前記炭化珪素インゴット100は、4インチ以上、5インチ以上、さらに6インチ以上の直径を有することができる。具体的には、前記炭化珪素インゴットは、4インチ~12インチ、4インチ~10インチ、または4インチ~8インチの直径を有することができる。前記炭化珪素インゴットの製造時に、炭化珪素種結晶は、このような特性に応じて適切なものを適用することができる。
前記炭化珪素インゴット100は、炭化珪素種結晶130のC面(000-1)面から成長したものであってもよい。
前記炭化珪素インゴット100は、通常の方法により炭化珪素ウエハに加工することができる。例えば、前記炭化珪素インゴットを、外径研削装備を適用してインゴットの外縁部分を削り(External Grinding)、所定のオフ角及び一定の厚さに切削(Slicing)した後、縁部の研削及び表面研磨、ポリッシングなどの加工を行うことができる。
前記炭化珪素インゴット100から製造されたウエハは、前記炭化珪素インゴットから(0001)面に対して0~10°から選択されたいずれか一つの角度をオフ角として適用したウエハを基準として、そのロッキング角度が、基準角度に対し-1.5°~+1.5°であるものであってもよく、基準角度に対し-1.0°~+1.0°であるものであってもよく、基準角度に対し-0.1°~+0.1°であるものであってもよく、または基準角度に対し-0.05°~+0.05°であるものであってもよい。
具体的には、前記炭化珪素インゴット100から(0001)面に対してオフ角が0°であるウエハは、そのロッキング角度が、基準角度に対し-1.0°~+1.0°であってもよく、基準角度に対し-0.5°~+0.5°であってもよく、基準角度に対し-0.1°~+0.1°であってもよく、または基準角度に対し-0.05°~+0.05°であってもよい。このような特徴を有するインゴットは、優れた結晶質特性を有する。
具体的には、前記炭化珪素インゴット100から(0001)面に対してオフ角が4°であるウエハは、そのロッキング角度が、基準角度に対し-1.0°~+1.0°であってもよく、基準角度に対し-0.5°~+0.5°であってもよく、基準角度に対し-0.1°~+0.1°であってもよく、または基準角度に対し-0.05°~+0.05°であってもよい。このような特徴を有するインゴットは、優れた結晶質特性を有する。
具体的には、前記炭化珪素インゴット100から(0001)面に対してオフ角が8°であるウエハは、そのロッキング角度が、基準角度に対し-1.0°~+1.0°であってもよく、基準角度に対し-0.5°~+0.5°であってもよく、基準角度に対し-0.1°~+0.1°であってもよく、または基準角度に対し-0.05°~+0.05°であってもよい。このような特徴を有するインゴットは、優れた結晶質特性を有する。
前記ロッキング角度、オフ角がX°である意味、ロッキング角度が「基準角度に対し-1~+1°」である意味、オメガ角度及びその取り扱いは、上述したものと同じであり得る。
前記炭化珪素インゴット100の表面のピット(pit)欠陥の密度は、10,000/cm以下であり得る。
前記炭化珪素インゴット100の表面のピット欠陥の測定は、上述したものと同じであり得る。
前記炭化珪素インゴット100は、炭化珪素インゴットから発生し得る欠陥を減らしたもので、より高品質の炭化珪素ウエハを提供することができる。
本発明の更に他の一実施例に係る炭化珪素インゴット100の製造方法は、反応容器200の内部空間に、炭化珪素原料300と炭化珪素種結晶130とが離隔するように配置する準備ステップと;
前記内部空間の温度、圧力、気体雰囲気を調節して前記炭化珪素原料を昇華させ、前記炭化珪素種結晶上に炭化珪素インゴット100を形成する成長ステップとを含み、
前記反応容器は、外面を取り囲む断熱材400と、前記断熱材の外部に備えられた加熱手段500とを含み、
前記断熱材の密度は、14g/cc~28g/ccであってもよい。
前記準備ステップは、図5に示したような反応容器200内の下部に炭化珪素原料300を配置し、前記反応容器の上部に炭化珪素種結晶130を配置して、後続の成長ステップで下部の炭化珪素原料が上部の炭化珪素種結晶に昇華してインゴットが形成され得るように準備するステップである。
前記反応容器200は、炭化珪素インゴットの成長反応に適切な容器であれば適用可能であり、具体的にはグラファイト坩堝が適用され得る。
例えば、前記反応容器200は、内部空間及び開口部を含む本体(図示せず)と、前記開口部と対応して前記内部空間を密閉する蓋(図示せず)とを含むことができる。
前記坩堝蓋は、前記坩堝蓋と一体または別途に種結晶ホルダ(図示せず)をさらに含むことができ、前記種結晶ホルダ上に炭化珪素種結晶130が位置することができる。
前記反応容器200は、断熱材400によって取り囲まれて固定され得、石英管のような反応チャンバ420内に、前記反応容器を取り囲んだ断熱材が位置するようにすることができ、前記断熱材及び反応チャンバの外部に備えられた加熱手段500により、前記反応容器200の内部空間の温度を制御することができる。
炭化珪素インゴットの成長は、前記反応容器200の大きさと種類、原料に応じて異なり得、成長ステップにおいて、前記反応容器の内部空間の温度勾配などによっても炭化珪素インゴットの品質が変化し得る。また、前記反応容器の断熱の程度に応じて炭化珪素インゴットの品質が変化し得、これにより、前記断熱材の特性も主な要因の一つである。すなわち、断熱材の適用に応じて、成長ステップにおいて前記反応容器の内部の温度勾配が変わり得る。
前記断熱材400は、その密度が0.14g/cc~0.28g/ccであってもよく、0.14g/cc~0.25g/ccであってもよく、または0.14g/cc~0.19g/ccであってもよい。前記断熱材の密度が0.14g/cc未満である場合、後続ステップにおいて、炭化珪素インゴットの成長部分が凹状に湾曲して窪むことがあり、6H-SiC多形が発生してインゴットの品質が低下することがある。前記断熱材の密度が0.28g/ccを超える場合、炭化珪素インゴットの成長部分が過度に湾曲して突出することがあり、縁部の成長率が低いため、収率が減少したり、インゴットのクラックの発生が増加したりする恐れがある。前記断熱材は、0.14g/cc~0.24g/ccの密度範囲で、インゴットの品質をさらに向上させることができ、0.14g/cc~0.19g/ccの密度範囲で結晶成長雰囲気を制御し、より優れた品質のインゴットを成長させることができる。
前記断熱材400は、気孔度が72%~95%であってもよく、75%~93%であってもよく、または80%~91%であってもよい。前記気孔度を満たす断熱材を適用する場合、インゴットのクラックの発生をさらに減少させることができる。
前記断熱材400は、圧縮強度が0.2Mpa以上であってもよく、0.48Mpa以上であってもよく、または0.8MPa以上であってもよい。また、前記断熱材400は、圧縮強度が3MPa以下であってもよく、または2.5MPa以下であってもよい。前記断熱材がこのような圧縮強度を有する場合、熱的/機械的安定性に優れ、灰(ash)が発生する確率が低下するので、より優れた品質の炭化珪素インゴットを製造することができる。
前記断熱材400は、炭素系フェルトを含むことができ、具体的にグラファイトフェルトを含むことができ、レーヨン系グラファイトフェルトまたはピッチ系グラファイトフェルトを含むことができる。
前記断熱材400は、厚さが20mm以上であってもよく、または30mm以上であってもよい。また、前記断熱材400は、厚さが300mm以下であってもよく、200mm以下であってもよく、または150mm以下であってもよい。このような厚さの範囲を満たす断熱材は、資源の浪費を最小化し、断熱効果を十分に得ることができる。
前記反応容器200として坩堝を適用する際、前記坩堝の厚さが10mm以上であってもよく、または12mm以上であってもよい。また、前記坩堝は、厚さが30mm以下であってもよく、20mm以下であってもよく、または15mm以下であってもよい。このような厚さの範囲を満たす坩堝は、発熱効率が良いので、電力の浪費を最小化し、発熱効果を十分に得ることができる。
前記成長ステップは、前記反応容器200の内部空間の温度、圧力及び気体雰囲気を調節して前記炭化珪素原料300を昇華させ、前記炭化珪素種結晶130上に炭化珪素インゴットが形成されるようにするステップである。
前記成長ステップは、前記加熱手段500によって前記反応容器200及び反応容器の内部空間を加熱して行われ得、前記加熱と同時又は別途に減圧し、不活性気体を所定量注入して炭化珪素結晶の成長を誘導することができる。
前記成長ステップは、2000℃~2500℃の温度及び1torr~200torrの圧力条件で行われ得、前記温度及び圧力の範囲で、より効率的に炭化珪素インゴットを製造することができる。
前記成長ステップは、具体的には、前記反応容器200の上、下部の表面の温度が2100℃~2500℃、前記反応容器の内部空間の圧力が1torr~50torrである条件で行われてもよく、より詳細には、上、下部の表面の温度が2150℃~2450℃、前記反応容器の内部空間の圧力が1torr~40torrである条件で行われてもよく、より具体的には、上、下部の表面の温度が2150℃~2350℃、前記反応容器の内部空間の圧力が1torr~30torrである条件で行われてもよい。
前記温度及び圧力条件を前記成長ステップに適用する場合、より一層高品質の炭化珪素インゴットを製造することができる。
前記炭化珪素種結晶130は、成長させようとする炭化珪素インゴットの特性に応じて異なって適用することができ、例えば、4H-SiCウエハ、6H-SiCウエハ、3C-SiCウエハ、15R-SiCウエハなどが適用されてもよく、これに限定されるものではない。
前記炭化珪素種結晶130は、成長させようとする炭化珪素インゴットのサイズに応じて異なって適用することができる。前記炭化珪素インゴットの直径は、4インチ以上であってもよく、具体的に5インチ以上、さらに6インチ以上であってもよい。より具体的には、前記炭化珪素インゴットの直径は、4インチ~12インチ、4インチ~10インチ、または4インチ~8インチであってもよい。前記炭化珪素種結晶は、このようなインゴットの特性に応じて適切なものを適用することができる。
前記炭化珪素種結晶130は、4H-SiC単結晶を成長させることができるものを適用することができ、例えば、炭化珪素インゴットが成長する前面がC面(000-1)である4H-SiC結晶の種結晶が適用されてもよい。
前記炭化珪素原料300は、炭素源と珪素源を有する粉末の形態が適用され得、前記粉末が互いに連結されるようにネッキング処理した原料、または表面を炭化処理した炭化珪素粉末などが適用されてもよい。
前記成長ステップで形成される炭化珪素インゴット100は、4H-SiC結晶からなることができ、前記炭化珪素原料300と対向する成長部分の表面が湾曲して突出した形状または平らな形状であってもよい。
前記製造方法により製造された炭化珪素インゴット100は、欠陥や多形の混入が最小化された、実質的に単結晶である4H-SiCインゴットであってもよい。
前記炭化珪素インゴット100は、実質的に4H SiCからなるもので、その表面が凸形状または平らな形状のものであってもよい。
炭化珪素インゴットの表面が凹形状に形成される場合、意図する4H-SiC結晶以外に、6H-SiCのような他の多形が混入されたものであり得、これは、炭化珪素インゴットの品質を低下させ得る。また、前記炭化珪素インゴットの表面が過度に凸形状に形成される場合には、インゴット自体にクラックが発生したり、ウエハに加工するときに結晶が割れたりすることがある。
前記製造方法により製造された炭化珪素インゴット100が過度に凸形状のインゴットであるか否かは、記述したような湾曲部分である突出部の曲率半径を基準として判断することができ、記述したような第1~第4基準線で区分した後、第3基準線と第4基準線との夾角から判断することができる。
前記製造方法により製造された炭化珪素インゴット100は、炭化珪素インゴットから発生し得る欠陥を最小化したもので、より高品質の炭化珪素ウエハを提供することができる。
前記製造方法により製造された炭化珪素インゴット100は、記述したような方法によりウエハに加工することができる。
前記製造方法により製造された炭化珪素インゴットから(0001)面に対して0~10°から選択されたいずれか一つの角度をオフ角として適用したウエハを基準として、そのロッキング角度が、基準角度に対し-1.5°~+1.5°であるものであってもよく、基準角度に対し-1.0°~+1.0°であるものであってもよく、基準角度に対し-0.1°~+0.1°であるものであってもよく、または基準角度に対し-0.05°~+0.05°であるものであってもよい。
具体的には、前記製造方法により製造された炭化珪素インゴット100から(0001)面に対してオフ角が0°であるウエハは、そのロッキング角度が、基準角度に対し-1.0°~+1.0°であってもよく、基準角度に対し-0.5°~+0.5°であってもよく、基準角度に対し-0.1°~+0.1°であってもよく、または基準角度に対し-0.05°~+0.05°であってもよい。このような特徴を有するインゴットは、優れた結晶質特性を有する。
具体的には、前記製造方法により製造された炭化珪素インゴット100から(0001)面に対してオフ角が4°であるウエハは、そのロッキング角度が、基準角度に対し-1.0°~+1.0°であってもよく、基準角度に対し-0.5°~+0.5°であってもよく、基準角度に対し-0.1°~+0.1°であってもよく、または基準角度に対し-0.05°~+0.05°であってもよい。このような特徴を有するインゴットは、優れた結晶質特性を有する。
具体的には、前記製造方法により製造された炭化珪素インゴット100から(0001)面に対してオフ角が8°であるウエハは、そのロッキング角度が、基準角度に対し-1.0°~+1.0°であってもよく、基準角度に対し-0.5°~+0.5°であってもよく、基準角度に対し-0.1°~+0.1°であってもよく、または基準角度に対し-0.05°~+0.05°であってもよい。このような特徴を有するインゴットは、優れた結晶質特性を有する。
前記ロッキング角度、オフ角がX°である意味、ロッキング角度が「基準角度に対し-1~+1°」である意味、オメガ角度及びその取り扱いは、上述したものと同じであり得る。
前記製造方法により製造された炭化珪素インゴット100の表面のピット(pit)欠陥の密度は、10,000/cm以下であり得る。
前記炭化珪素インゴット100の表面のピット欠陥の測定は、上述したものと同じであり得る。
本発明の更に他の一実施例に係る炭化珪素ウエハの製造方法は、
前記炭化珪素インゴット100の縁部を研削する研削ステップと;
前記研削された炭化珪素インゴットを切断して炭化珪素ウエハを設ける切断ステップと;を含む。
前記研削ステップは、前記炭化珪素インゴット100の縁部から内部方向に、その断面の面積の5%以上が研削されてもよい。
前記研削ステップは、前記炭化珪素インゴット100の本体部の一端面111から本体部の他端面112の方向、中心軸の方向に均一な断面を有するように研削することができる。
前記切断ステップは、前記炭化珪素の一端面111又は(0001)面と所定のオフ角を有するように切断することができる。
前記切断ステップのオフ角は、0°~10°であってもよい。
前記切断ステップは、前記ウエハの厚さが300μm~600μmになるように行われてもよい。
前記炭化珪素ウエハの製造方法は、前記切断ステップの後に設けられたウエハの厚さを平坦化する平坦化ステップ;をさらに含むことができる。
前記炭化珪素ウエハの製造方法は、前記切断ステップの後に設けられたウエハの縁部を研削する研削ステップ;をさらに含むことができる。
前記炭化珪素ウエハの製造方法は、前記切断ステップの後に設けられたウエハの表面をエッチングし、研磨する表面処理ステップ;をさらに含むことができる。
前記平坦化ステップ、研削ステップ及び表面処理ステップは、通常の方法によって適切な順序で行われてもよく、平坦化ステップ-研削ステップ-表面処理ステップの順に行われてもよい。
前記炭化珪素ウエハの製造方法により設けられたウエハの特徴は、記述した通りである。
以下、具体的な実施例を通じて本発明をより具体的に説明する。以下の実施例は、本発明の理解を助けるための例示に過ぎず、本発明の範囲がこれに限定されるものではない。
炭化珪素インゴットの成長
図5に炭化珪素インゴットの製造装置の一例を示したように、反応容器200の内部空間の下部に炭化珪素原料300を装入し、その上部に炭化珪素種結晶130を配置した。このとき、炭化珪素種結晶は、6インチの4H-SiC結晶からなるものを適用し、C面((000-1)面)が内部空間の下部の炭化珪素原料に向かうように通常の方法により固定し、以下の実施例及び比較例に同一に適用した。
反応容器200を密閉し、その外部を、表1に提示された特徴を有する断熱材400で取り囲んだ後、加熱手段500である加熱コイルが備えられた反応チャンバ420内に反応容器を配置した。前記断熱材としては、モルガン社のリジッドフェルト(Rigid Felt)を適用し、その厚さは30mm~100mmであった。
前記反応容器200の内部空間を減圧して真空雰囲気に調節し、アルゴンガスを注入して前記内部空間が大気圧に到達するようにした後、再び内部空間を減圧させた。同時に、内部空間の温度を2300℃まで昇温させた。
2300℃の温度及び20torrの圧力条件下で100時間、炭化珪素原料と対向する炭化珪素種結晶面に炭化珪素インゴットを成長させた。
炭化珪素インゴットの物性の評価
1)曲率半径の評価:炭化珪素インゴット100の正面から、突出部120の最大高さをハイトゲージで測定し、前記炭化珪素インゴットの外郭(エッジ)から5mm内部に向かった地点を測定し、前記炭化珪素インゴットの上、下、左、右をハイトゲージで測定した。そして、前記突出部と本体部とが接する縁部の一点A1、前記突出部の最高点A3、前記突出部と本体部とが接する縁部の他点A2が含まれ、前記炭化珪素インゴットの一端面111と垂直な正面図をオートキャドを通じて図示化し、前記正面図から、炭化珪素インゴットの突出部の曲線を、前記3つの点A1,A2,A3を含む円弧で近似して曲率半径を計算した。また、前記正面図において本体部の下端の幅に該当する、前記円弧を含む平面と前記インゴットの一端面との交線の長さDを測定し、その結果を表1に示した。
2)第3基準線と第4基準線との夾角の評価:前記1)で図示化された正面図上で、前記本体部110の一端面111と垂直であり、本体部の一端面の中心を通る第1基準線L1と、前記第1基準線と平行であり、前記第1基準線から垂直距離が最も遠い前記突出部120の縁部と接する第2基準線L2と、前記本体部の一端面と平行であり、前記縁部と第2基準線との接点を通る第3基準線L3と、前記縁部と前記第2基準線との接点及び前記一端面から垂直距離が最も遠い前記突出部の最高点A3を通る第4基準線L4とで区分した。そして、前記第3基準線と第4基準線との夾角(90°未満)を測定し、その結果を表1に示した。
3)ロッキング角度の評価:高分解能X線回折分析システム(HR-XRD system、Rigaku社のSmartLab High Resolution X-ray Diffraction System)を適用して、前記インゴットの(0001)面を基準として、表2に提示されたそれぞれのオフ角が適用されたウエハを準備し、ウエハの[11-20]方向をX線経路に合わせ、X-ray source opticとX-ray detector optic角度を2θ(35~36°)に設定した後、ウエハのオフ角に合わせてオメガ(ω、又はシータθ、X-ray detector optic)角度を調節して測定した。具体的には、0°オフを基準として、オメガ角度は17.8111°であり、4°オフを基準として、オメガ角度は13.811°、そして、8°オフを基準として、オメガ角度は9.8111°を適用した。X-ray powerは9kW、そして、X-ray targetはCuを適用し、Goniometer resolutionは0.0001°であるものが適用された。Max Intensityでの角度を基準としてFWHMを測定して、それぞれロッキング角度(Rocking angle)として評価し、その結果を表2に示した。
下記の結果は、ウエハの中央部と縁部から5mm以内の部分を除いた表面を3等分し、各部分で少なくとも3回以上を測定した結果を平均して示した。
4)多形の混入の有無:成長させたインゴットの多形の混入の有無は、紫外線誘導発光イメージ分析方法により評価した。多形の混入がある場合はfail、多形の混入が観察されなかった場合はpassと評価し、表1に示した。
5)インゴットの表面のピット欠陥:インゴットの表面においてファセットを除いた中央部中の真ん中である1箇所と、インゴットの縁部から中央部に10mm内側に位置し、それぞれ3時、6時、9時、そして12時方向の4箇所で、計5箇所を光学顕微鏡でピットを測定した後、平均値を下記の表1のピット値として提示した。
Figure 0007030260000001
Figure 0007030260000002
前記表1及び表2を参照すると、本明細書で開示する実施例に係るサンプルが、比較例と比較して全体的に物性に優れ、特にロッキング角度の面で遥かに優れた結果を示した。
適用する断熱材フェルトの密度に従って製造された同じ条件で成長させた炭化珪素インゴットの曲率の程度、夾角、及びインゴットの表面のピット欠陥の密度に比較的大きな差を示し、これは、成長ステップの制御がフェルトの密度と関連するということを示す結果と考えられる。
0~8°の間から選択された、インゴットの(0001)面を基準とするオフ角を適用したウエハの結晶品質でも差を示し、特にロッキング角度において大きな差を示すことがわかる。
図6(a)は、ピット欠陥の密度が20,000/cmであるインゴットの表面を撮影した写真であり、図6(b)は、実施例6のインゴットの表面を撮影した写真であり、欠陥密度が確実に減少したことがわかる。
以上、本発明の好ましい実施例について詳細に説明したが、本発明の権利範囲は、これに限定されるものではなく、添付の特許請求の範囲で定義している本発明の基本概念を利用した当業者の様々な変形及び改良形態もまた本発明の権利範囲に属する。
100 炭化珪素インゴット
110 本体部
111 本体部の一端面
112 本体部の他端面
120 突出部
130 炭化珪素種結晶
200 反応容器
300 炭化珪素原料
400 断熱材
420 反応チャンバ
500 加熱手段

Claims (12)

  1. 本体部の一端面、及び前記本体部の一端面に対向する本体部の他端面を含む本体部と;前記本体部の他端面上に位置し、前記本体部の他端面を基準として湾曲した表面を有する突出部と;を含み、
    前記本体部の他端面は、一端点及び他端点を含み、
    前記一端点は、前記本体部の他端面の一端に位置する一点であり、
    前記他端点は、前記本体部の他端面の末端に位置する一点であり、
    前記一端点、前記突出部の最高点及び前記他端点は、前記本体部の一端面と垂直な同一平面上に位置し、
    表面のピット(pit)欠陥の密度は10,000/cm 以下であり、
    前記同一平面と前記突出部の表面との交線に該当する弧の曲率半径は、下記数式1で表される、炭化珪素インゴット。
    [数1]
    7.2D≦r≦8.9
    (前記数式1において、rは、前記弧の曲率半径であり、前記Dは、前記同一平面と前記本体部の一端面との交線の長さである。)
  2. 前記本体部の一端は、炭化珪素種結晶と連結されたものである、請求項1に記載の炭化珪素インゴット。
  3. 前記本体部は、前記本体部の一端面と垂直であり、前記本体部の一端面の中心を通る軸を有する筒状であり、
    前記筒状は、前記軸に沿って前記本体部の一端面から前記本体部の他端面の方向に前記本体部の断面の面積が同一であるか、または増加する、請求項1に記載の炭化珪素インゴット。
  4. 前記炭化珪素インゴットは4H-SiCの結晶構造を有し、(0001)面に対するオフ角として0~10°から選択された角度を適用した前記炭化珪素インゴットのウエハが有するロッキング角度が、基準角度に対し-1.5°~+1.5°である、請求項1に記載の炭化珪素インゴット。
  5. 前記炭化珪素インゴットの(0001)面に対するオフ角として8°を適用した前記炭化珪素インゴットのウエハが有するロッキング角度が、基準角度に対し-1.5°~+1.5°である、請求項に記載の炭化珪素インゴット。
  6. 前記炭化珪素インゴットの(0001)面に対するオフ角として4°を適用した前記炭化珪素インゴットのウエハが有するロッキング角度が、基準角度に対し-1.5°~+1.5°である、請求項に記載の炭化珪素インゴット。
  7. 前記炭化珪素インゴットの(0001)面に対するオフ角として0°を適用した前記炭化珪素インゴットのウエハが有するロッキング角度が、基準角度に対し-1.0°~+1.0°である、請求項に記載の炭化珪素インゴット。
  8. 前記本体部の一端面の直径は4インチ以上である、請求項1に記載の炭化珪素インゴット。
  9. 本体部の一端面、及び前記本体部の一端面に対向する本体部の他端面を含む本体部と;前記本体部の他端面上に位置し、前記本体部の他端面を基準として湾曲した表面を有する突出部と;を含み、
    前記本体部の一端面と垂直であり、前記本体部の一端面の中心を通る第1基準線と;
    前記第1基準線と平行であり、前記第1基準線から垂直距離が最も遠い前記突出部の縁部と接する第2基準線と;
    前記本体部の一端面と平行であり、前記縁部と前記第2基準線との接点を通る第3基準線と;
    前記縁部と前記第2基準線との接点及び前記一端面から垂直距離が最も遠い前記突出部の最高点を通る第4基準線とを有し、
    前記第3基準線と第4基準線との夾角は3.2°~5°であり、
    表面のピット(pit)欠陥の密度は10,000/cm 以下である、炭化珪素インゴット。
  10. 前記炭化珪素インゴットは4H-SiCの結晶構造を有し、(0001)面に対するオフ角として0~10°から選択された角度を適用した前記炭化珪素インゴットのウエハが有するロッキング角度が、基準角度に対し-1.5°~+1.5°である、請求項に記載の炭化珪素インゴット。
  11. 反応容器の内部空間に、炭化珪素原料と炭化珪素種結晶とが離隔するように配置する準備ステップと;
    前記内部空間の温度、圧力、気体雰囲気を調節して前記炭化珪素原料を昇華させ、前記炭化珪素種結晶上に炭化珪素インゴットを形成する成長ステップとを含み、
    前記反応容器は、外面を取り囲む断熱材と、前記断熱材の外部に備えられた加熱手段とを含み、
    前記断熱材の密度は0.14g/cc~0.28g/ccであり、
    前記断熱材の厚さは20mm~300mmである、請求項1又は9に記載の炭化珪素インゴットの製造方法。
  12. 請求項1に記載の炭化珪素インゴットの縁部を研削する研削ステップと;
    前記研削された炭化珪素インゴットを切断して炭化珪素ウエハを設ける切断ステップと;を含む、炭化珪素ウエハの製造方法。
JP2020082272A 2019-10-22 2020-05-07 炭化珪素インゴット、その製造方法及び炭化珪素ウエハの製造方法 Active JP7030260B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190131176A KR102234002B1 (ko) 2019-10-22 2019-10-22 탄화규소 잉곳, 이의 제조방법 및 탄화규소 웨이퍼의 제조방법
KR10-2019-0131176 2019-10-22

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021066650A JP2021066650A (ja) 2021-04-30
JP7030260B2 true JP7030260B2 (ja) 2022-03-07

Family

ID=71452109

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020082272A Active JP7030260B2 (ja) 2019-10-22 2020-05-07 炭化珪素インゴット、その製造方法及び炭化珪素ウエハの製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (2) US11466383B2 (ja)
EP (1) EP3812486A1 (ja)
JP (1) JP7030260B2 (ja)
KR (1) KR102234002B1 (ja)
CN (1) CN112695384A (ja)
TW (1) TWI750661B (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102229588B1 (ko) * 2020-05-29 2021-03-17 에스케이씨 주식회사 웨이퍼의 제조방법, 에피택셜 웨이퍼의 제조방법, 이에 따라 제조된 웨이퍼 및 에피택셜 웨이퍼
US11987902B2 (en) * 2020-07-27 2024-05-21 Globalwafers Co., Ltd. Manufacturing method of silicon carbide wafer and semiconductor structure
TWI785592B (zh) * 2021-05-04 2022-12-01 環球晶圓股份有限公司 材料分析方法
TWI762351B (zh) * 2021-06-08 2022-04-21 環球晶圓股份有限公司 碳化矽晶圓及其研磨方法
KR102442732B1 (ko) * 2021-11-05 2022-09-13 주식회사 쎄닉 탄화규소 웨이퍼 및 이의 제조방법
CN114457425B (zh) * 2022-04-12 2022-08-23 杭州乾晶半导体有限公司 一种碳化硅籽晶重复循环利用的方法、装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008110907A (ja) 2006-10-31 2008-05-15 Nippon Steel Corp 炭化珪素単結晶インゴットの製造方法及び炭化珪素単結晶インゴット
JP2011195360A (ja) 2010-03-18 2011-10-06 Sumitomo Electric Ind Ltd 坩堝、結晶製造装置、および支持台
JP2012510951A (ja) 2008-12-08 2012-05-17 トゥー‐シックス・インコーポレイテッド 向上した軸勾配輸送(agt)成長方法、及び抵抗加熱を利用した装置
JP2014114169A (ja) 2012-12-06 2014-06-26 Sumitomo Electric Ind Ltd 炭化珪素結晶の製造方法
WO2014123036A1 (ja) 2013-02-06 2014-08-14 東洋炭素株式会社 炭化ケイ素-炭化タンタル複合材及びサセプタ
JP2015063435A (ja) 2013-09-26 2015-04-09 三菱電機株式会社 単結晶インゴットの製造方法、単結晶基板の製造方法、および半導体装置の製造方法
JP2015117143A (ja) 2013-12-17 2015-06-25 住友電気工業株式会社 単結晶の製造方法

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100771477B1 (ko) 2004-11-29 2007-10-30 주식회사 실트론 실리콘 단결정 잉곳 및 실리콘 단결정 잉곳의 제조 방법
KR100977624B1 (ko) 2008-01-14 2010-08-23 주식회사 실트론 숄더부 형상이 제어된 실리콘 단결정 잉곳 및 그 제조방법
JP5803265B2 (ja) * 2011-05-20 2015-11-04 住友電気工業株式会社 炭化珪素基板および炭化珪素インゴットの製造方法
KR101731239B1 (ko) * 2012-04-20 2017-04-28 투-식스 인코포레이티드 대구경 고품질 SiC 단결정, 방법 및 장치
JP5931825B2 (ja) * 2013-09-20 2016-06-08 新日鉄住金マテリアルズ株式会社 炭化珪素単結晶インゴットの製造方法
JP2015093823A (ja) * 2013-11-14 2015-05-18 住友電気工業株式会社 炭化珪素種基板、炭化珪素インゴットの製造方法および炭化珪素単結晶基板
KR102160863B1 (ko) 2014-09-30 2020-09-28 쇼와 덴코 가부시키가이샤 탄화규소 단결정 웨이퍼
KR101692142B1 (ko) 2014-10-27 2017-01-04 오씨아이 주식회사 탄화규소 잉곳의 열처리 방법
KR101680215B1 (ko) 2015-01-07 2016-11-28 주식회사 엘지실트론 실리콘 단결정 잉곳 제조 방법 및 그 제조방법에 의해 제조된 실리콘 단결정 잉곳
CN107208311B (zh) 2015-02-18 2019-12-10 昭和电工株式会社 碳化硅单晶块的制造方法和碳化硅单晶块
JP6256411B2 (ja) * 2015-05-18 2018-01-10 トヨタ自動車株式会社 SiC単結晶の製造方法
JPWO2017057742A1 (ja) 2015-10-02 2018-07-19 昭和電工株式会社 SiC単結晶インゴット
KR101744287B1 (ko) 2015-12-17 2017-06-08 재단법인 포항산업과학연구원 탄화규소(SiC) 단결정 성장 장치
JP7002932B2 (ja) * 2017-12-22 2022-01-20 昭和電工株式会社 SiCインゴットの製造方法
KR102104751B1 (ko) * 2019-06-17 2020-04-24 에스케이씨 주식회사 탄화규소 잉곳 및 이의 제조방법

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008110907A (ja) 2006-10-31 2008-05-15 Nippon Steel Corp 炭化珪素単結晶インゴットの製造方法及び炭化珪素単結晶インゴット
JP2012510951A (ja) 2008-12-08 2012-05-17 トゥー‐シックス・インコーポレイテッド 向上した軸勾配輸送(agt)成長方法、及び抵抗加熱を利用した装置
JP2011195360A (ja) 2010-03-18 2011-10-06 Sumitomo Electric Ind Ltd 坩堝、結晶製造装置、および支持台
JP2014114169A (ja) 2012-12-06 2014-06-26 Sumitomo Electric Ind Ltd 炭化珪素結晶の製造方法
WO2014123036A1 (ja) 2013-02-06 2014-08-14 東洋炭素株式会社 炭化ケイ素-炭化タンタル複合材及びサセプタ
JP2015063435A (ja) 2013-09-26 2015-04-09 三菱電機株式会社 単結晶インゴットの製造方法、単結晶基板の製造方法、および半導体装置の製造方法
JP2015117143A (ja) 2013-12-17 2015-06-25 住友電気工業株式会社 単結晶の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR102234002B1 (ko) 2021-03-29
EP3812486A1 (en) 2021-04-28
JP2021066650A (ja) 2021-04-30
US20210115592A1 (en) 2021-04-22
US20220341055A1 (en) 2022-10-27
US11466383B2 (en) 2022-10-11
CN112695384A (zh) 2021-04-23
TWI750661B (zh) 2021-12-21
TW202117104A (zh) 2021-05-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7030260B2 (ja) 炭化珪素インゴット、その製造方法及び炭化珪素ウエハの製造方法
JP6758527B1 (ja) 炭化珪素インゴット成長用粉末及びそれを用いた炭化珪素インゴットの製造方法
KR102340110B1 (ko) 탄화규소 잉곳, 웨이퍼 및 이의 제조방법
JP7042995B2 (ja) 炭化珪素ウエハ及び炭化珪素ウエハの製造方法
CN112746314B (zh) 碳化硅晶锭及碳化硅晶片的制备方法以及其生长系统
EP3940122B1 (en) Method of manufacturing sic wafer
TWI772866B (zh) 晶圓以及其製造方法
KR102187449B1 (ko) 탄화규소 잉곳의 제조방법, 탄화규소 잉곳 및 이의 성장 시스템
CN114108077B (zh) 碳化硅锭的制造方法及由此制成的碳化硅锭
CN113322520A (zh) 晶片及其制造方法
JP7023543B2 (ja) ウエハの製造方法、エピタキシャルウエハの製造方法、これによって製造されたウエハ及びエピタキシャルウエハ
JP2023070126A (ja) 炭化ケイ素ウエハ及びこの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200515

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210615

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210830

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220111

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20220117

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220121

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20220117

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7030260

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150