JP7030260B2 - 炭化珪素インゴット、その製造方法及び炭化珪素ウエハの製造方法 - Google Patents
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Description
3D≦r≦37D
3D≦r≦37D
3D≦r≦37D
図5に炭化珪素インゴットの製造装置の一例を示したように、反応容器200の内部空間の下部に炭化珪素原料300を装入し、その上部に炭化珪素種結晶130を配置した。このとき、炭化珪素種結晶は、6インチの4H-SiC結晶からなるものを適用し、C面((000-1)面)が内部空間の下部の炭化珪素原料に向かうように通常の方法により固定し、以下の実施例及び比較例に同一に適用した。
1)曲率半径の評価:炭化珪素インゴット100の正面から、突出部120の最大高さをハイトゲージで測定し、前記炭化珪素インゴットの外郭(エッジ)から5mm内部に向かった地点を測定し、前記炭化珪素インゴットの上、下、左、右をハイトゲージで測定した。そして、前記突出部と本体部とが接する縁部の一点A1、前記突出部の最高点A3、前記突出部と本体部とが接する縁部の他点A2が含まれ、前記炭化珪素インゴットの一端面111と垂直な正面図をオートキャドを通じて図示化し、前記正面図から、炭化珪素インゴットの突出部の曲線を、前記3つの点A1,A2,A3を含む円弧で近似して曲率半径を計算した。また、前記正面図において本体部の下端の幅に該当する、前記円弧を含む平面と前記インゴットの一端面との交線の長さDを測定し、その結果を表1に示した。
110 本体部
111 本体部の一端面
112 本体部の他端面
120 突出部
130 炭化珪素種結晶
200 反応容器
300 炭化珪素原料
400 断熱材
420 反応チャンバ
500 加熱手段
Claims (12)
- 本体部の一端面、及び前記本体部の一端面に対向する本体部の他端面を含む本体部と;前記本体部の他端面上に位置し、前記本体部の他端面を基準として湾曲した表面を有する突出部と;を含み、
前記本体部の他端面は、一端点及び他端点を含み、
前記一端点は、前記本体部の他端面の一端に位置する一点であり、
前記他端点は、前記本体部の他端面の末端に位置する一点であり、
前記一端点、前記突出部の最高点及び前記他端点は、前記本体部の一端面と垂直な同一平面上に位置し、
表面のピット(pit)欠陥の密度は10,000/cm 2 以下であり、
前記同一平面と前記突出部の表面との交線に該当する弧の曲率半径は、下記数式1で表される、炭化珪素インゴット。
[数1]
7.2D≦r≦8.9D
(前記数式1において、rは、前記弧の曲率半径であり、前記Dは、前記同一平面と前記本体部の一端面との交線の長さである。) - 前記本体部の一端は、炭化珪素種結晶と連結されたものである、請求項1に記載の炭化珪素インゴット。
- 前記本体部は、前記本体部の一端面と垂直であり、前記本体部の一端面の中心を通る軸を有する筒状であり、
前記筒状は、前記軸に沿って前記本体部の一端面から前記本体部の他端面の方向に前記本体部の断面の面積が同一であるか、または増加する、請求項1に記載の炭化珪素インゴット。 - 前記炭化珪素インゴットは4H-SiCの結晶構造を有し、(0001)面に対するオフ角として0~10°から選択された角度を適用した前記炭化珪素インゴットのウエハが有するロッキング角度が、基準角度に対し-1.5°~+1.5°である、請求項1に記載の炭化珪素インゴット。
- 前記炭化珪素インゴットの(0001)面に対するオフ角として8°を適用した前記炭化珪素インゴットのウエハが有するロッキング角度が、基準角度に対し-1.5°~+1.5°である、請求項4に記載の炭化珪素インゴット。
- 前記炭化珪素インゴットの(0001)面に対するオフ角として4°を適用した前記炭化珪素インゴットのウエハが有するロッキング角度が、基準角度に対し-1.5°~+1.5°である、請求項4に記載の炭化珪素インゴット。
- 前記炭化珪素インゴットの(0001)面に対するオフ角として0°を適用した前記炭化珪素インゴットのウエハが有するロッキング角度が、基準角度に対し-1.0°~+1.0°である、請求項4に記載の炭化珪素インゴット。
- 前記本体部の一端面の直径は4インチ以上である、請求項1に記載の炭化珪素インゴット。
- 本体部の一端面、及び前記本体部の一端面に対向する本体部の他端面を含む本体部と;前記本体部の他端面上に位置し、前記本体部の他端面を基準として湾曲した表面を有する突出部と;を含み、
前記本体部の一端面と垂直であり、前記本体部の一端面の中心を通る第1基準線と;
前記第1基準線と平行であり、前記第1基準線から垂直距離が最も遠い前記突出部の縁部と接する第2基準線と;
前記本体部の一端面と平行であり、前記縁部と前記第2基準線との接点を通る第3基準線と;
前記縁部と前記第2基準線との接点及び前記一端面から垂直距離が最も遠い前記突出部の最高点を通る第4基準線とを有し、
前記第3基準線と第4基準線との夾角は3.2°~5°であり、
表面のピット(pit)欠陥の密度は10,000/cm 2 以下である、炭化珪素インゴット。 - 前記炭化珪素インゴットは4H-SiCの結晶構造を有し、(0001)面に対するオフ角として0~10°から選択された角度を適用した前記炭化珪素インゴットのウエハが有するロッキング角度が、基準角度に対し-1.5°~+1.5°である、請求項9に記載の炭化珪素インゴット。
- 反応容器の内部空間に、炭化珪素原料と炭化珪素種結晶とが離隔するように配置する準備ステップと;
前記内部空間の温度、圧力、気体雰囲気を調節して前記炭化珪素原料を昇華させ、前記炭化珪素種結晶上に炭化珪素インゴットを形成する成長ステップとを含み、
前記反応容器は、外面を取り囲む断熱材と、前記断熱材の外部に備えられた加熱手段とを含み、
前記断熱材の密度は0.14g/cc~0.28g/ccであり、
前記断熱材の厚さは20mm~300mmである、請求項1又は9に記載の炭化珪素インゴットの製造方法。 - 請求項1に記載の炭化珪素インゴットの縁部を研削する研削ステップと;
前記研削された炭化珪素インゴットを切断して炭化珪素ウエハを設ける切断ステップと;を含む、炭化珪素ウエハの製造方法。
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---|---|---|---|---|
KR102229588B1 (ko) * | 2020-05-29 | 2021-03-17 | 에스케이씨 주식회사 | 웨이퍼의 제조방법, 에피택셜 웨이퍼의 제조방법, 이에 따라 제조된 웨이퍼 및 에피택셜 웨이퍼 |
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KR102442732B1 (ko) * | 2021-11-05 | 2022-09-13 | 주식회사 쎄닉 | 탄화규소 웨이퍼 및 이의 제조방법 |
CN114457425B (zh) * | 2022-04-12 | 2022-08-23 | 杭州乾晶半导体有限公司 | 一种碳化硅籽晶重复循环利用的方法、装置 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008110907A (ja) | 2006-10-31 | 2008-05-15 | Nippon Steel Corp | 炭化珪素単結晶インゴットの製造方法及び炭化珪素単結晶インゴット |
JP2011195360A (ja) | 2010-03-18 | 2011-10-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 坩堝、結晶製造装置、および支持台 |
JP2012510951A (ja) | 2008-12-08 | 2012-05-17 | トゥー‐シックス・インコーポレイテッド | 向上した軸勾配輸送(agt)成長方法、及び抵抗加熱を利用した装置 |
JP2014114169A (ja) | 2012-12-06 | 2014-06-26 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 炭化珪素結晶の製造方法 |
WO2014123036A1 (ja) | 2013-02-06 | 2014-08-14 | 東洋炭素株式会社 | 炭化ケイ素-炭化タンタル複合材及びサセプタ |
JP2015063435A (ja) | 2013-09-26 | 2015-04-09 | 三菱電機株式会社 | 単結晶インゴットの製造方法、単結晶基板の製造方法、および半導体装置の製造方法 |
JP2015117143A (ja) | 2013-12-17 | 2015-06-25 | 住友電気工業株式会社 | 単結晶の製造方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100771477B1 (ko) | 2004-11-29 | 2007-10-30 | 주식회사 실트론 | 실리콘 단결정 잉곳 및 실리콘 단결정 잉곳의 제조 방법 |
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JP5931825B2 (ja) * | 2013-09-20 | 2016-06-08 | 新日鉄住金マテリアルズ株式会社 | 炭化珪素単結晶インゴットの製造方法 |
JP2015093823A (ja) * | 2013-11-14 | 2015-05-18 | 住友電気工業株式会社 | 炭化珪素種基板、炭化珪素インゴットの製造方法および炭化珪素単結晶基板 |
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KR102104751B1 (ko) * | 2019-06-17 | 2020-04-24 | 에스케이씨 주식회사 | 탄화규소 잉곳 및 이의 제조방법 |
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-
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008110907A (ja) | 2006-10-31 | 2008-05-15 | Nippon Steel Corp | 炭化珪素単結晶インゴットの製造方法及び炭化珪素単結晶インゴット |
JP2012510951A (ja) | 2008-12-08 | 2012-05-17 | トゥー‐シックス・インコーポレイテッド | 向上した軸勾配輸送(agt)成長方法、及び抵抗加熱を利用した装置 |
JP2011195360A (ja) | 2010-03-18 | 2011-10-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 坩堝、結晶製造装置、および支持台 |
JP2014114169A (ja) | 2012-12-06 | 2014-06-26 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 炭化珪素結晶の製造方法 |
WO2014123036A1 (ja) | 2013-02-06 | 2014-08-14 | 東洋炭素株式会社 | 炭化ケイ素-炭化タンタル複合材及びサセプタ |
JP2015063435A (ja) | 2013-09-26 | 2015-04-09 | 三菱電機株式会社 | 単結晶インゴットの製造方法、単結晶基板の製造方法、および半導体装置の製造方法 |
JP2015117143A (ja) | 2013-12-17 | 2015-06-25 | 住友電気工業株式会社 | 単結晶の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102234002B1 (ko) | 2021-03-29 |
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