JP7026801B2 - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
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Description
図1は、実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す図である。以下では、位置関係を明確にするために、互いに直交するX軸、Y軸およびZ軸を規定し、Z軸正方向を鉛直上向き方向とする。また、X軸方向を左右方向とする。
次に、処理ユニット16の構成について図2を参照し説明する。図2は、実施形態に係る処理ユニット16の構成を示す図である。処理ユニット16は、ウェハWにめっき処理を行うユニットである。具体的には、処理ユニット16は、ウェハWに無電解めっき処理を行うユニットである。
次に、実施形態に係るウェハ処理について図3を参照し説明する。図3は、実施形態に係るウェハ処理を説明するフローチャートである。
上記したコーティング剤の薄膜mをウェハWに形成しない比較例に係る基板処理装置では、ウェハWの外周端において、めっき液Lの表面張力が小さくなる。そのため、比較例に係る基板処理装置は、図5Aに示すように、ウェハWの外周端側におけるめっき液の液盛り量が少なくなる。図5Aは、比較例に係る基板処理装置において、めっき液を液盛りした状態を示す図である。また、比較例に係る基板処理装置では、ウェハWの外周端側における放熱量が大きくなり、ウェハWの外周端側の温度が低くなる。
変形例に係る基板処理装置1は、コーティング剤(塗布液の一例)として水溶性レジストを用いてもよい。この場合、変形例に係る基板処理装置1は、除去液として水を用いることができる。これにより、変形例に係る基板処理装置1は、コーティング剤を容易に剥離し、除去することができる。
16 処理ユニット
20 チャンバ
21 基板保持部
22 めっき液供給部
25 コーティング剤供給部(塗布部)
26 除去液供給部
27 加熱部
W ウェハ(基板)
Claims (7)
- 基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持された前記基板の下面の周縁に前記基板よりも比熱が小さい塗布液を塗布する塗布部と、
前記塗布液が塗布された前記基板の上面にめっき液を供給するめっき液供給部と、
前記塗布液が塗布された前記基板に前記塗布液を除去する除去液を供給する除去液供給部と
を備え、
前記塗布部、前記除去液供給部の少なくとも一方は、
前記めっき液供給部と同一のユニット内に設けられる基板処理装置。 - 前記塗布部は、
前記基板の周側面に前記塗布液を塗布する
請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記塗布液は、
前記めっき液に対し疎水性を有する
請求項2に記載の基板処理装置。 - 前記塗布液は、
フォトレジストであり、
前記除去液は、
有機溶剤である
請求項1~3のいずれか一つに記載の基板処理装置。 - 前記塗布液は、
水溶性レジストであり、
前記除去液は、
水である
請求項1~3のいずれか一つに記載の基板処理装置。 - 前記めっき液が供給された前記基板を上面側から加熱する加熱部
を備える請求項1~5のいずれか一つに記載の基板処理装置。 - 基板を保持する工程と、
保持された前記基板の下面の周縁に前記基板よりも比熱が小さい塗布液を塗布する工程と、
前記塗布液が塗布された前記基板の上面にめっき液を供給する工程と、
前記塗布液が塗布された前記基板に前記塗布液を除去する除去液を供給する工程と
を有し、
前記塗布液を塗布する工程、および前記除去液を供給する工程の少なくとも一方は、前記めっき液を供給する工程と同一のユニット内で行われる基板処理方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018147730 | 2018-08-06 | ||
JP2018147730 | 2018-08-06 | ||
PCT/JP2019/028737 WO2020031679A1 (ja) | 2018-08-06 | 2019-07-23 | 基板処理装置および基板処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2020031679A1 JPWO2020031679A1 (ja) | 2021-08-26 |
JP7026801B2 true JP7026801B2 (ja) | 2022-02-28 |
Family
ID=69414153
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020536434A Active JP7026801B2 (ja) | 2018-08-06 | 2019-07-23 | 基板処理装置および基板処理方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7026801B2 (ja) |
TW (1) | TWI822821B (ja) |
WO (1) | WO2020031679A1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2018003097A (ja) | 2016-07-01 | 2018-01-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板液処理装置、基板液処理方法および記録媒体 |
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-
2019
- 2019-07-23 TW TW108125924A patent/TWI822821B/zh active
- 2019-07-23 JP JP2020536434A patent/JP7026801B2/ja active Active
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JP2018003097A (ja) | 2016-07-01 | 2018-01-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板液処理装置、基板液処理方法および記録媒体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI822821B (zh) | 2023-11-21 |
TW202025269A (zh) | 2020-07-01 |
JPWO2020031679A1 (ja) | 2021-08-26 |
WO2020031679A1 (ja) | 2020-02-13 |
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