JP7002315B2 - ハンドリングアーム、搬送装置および局所クリーン化装置 - Google Patents
ハンドリングアーム、搬送装置および局所クリーン化装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7002315B2 JP7002315B2 JP2017241565A JP2017241565A JP7002315B2 JP 7002315 B2 JP7002315 B2 JP 7002315B2 JP 2017241565 A JP2017241565 A JP 2017241565A JP 2017241565 A JP2017241565 A JP 2017241565A JP 7002315 B2 JP7002315 B2 JP 7002315B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- inert gas
- local cleaning
- gas
- cleaning device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
図1は、局所クリーン化装置101の側面断面図である。局所クリーン化装置101には、ハンドリングアームを備えた搬送装置103が搭載されている。搬送装置103は、ファンフィルタユニット102によって与圧された空間内にて、ガイドレールに沿って移動し、試料(基板)を搬送する。局所クリーン化装置101は、上部に設置されたファンフィルタユニット102からのクリーンエアーが装置内の内圧を高めることによって、外部からの空気の侵入を遮断し、清浄な空間を保持している。また、ファンフィルタユニット102によって供給されるクリーンエアーは、局所クリーン化装置101下面に設置された排気口104によって排気され、ダウンフローが形成される。搬送装置103はハンドリングアームを動作させるための駆動機構を備えており、上述のような清浄な空間内で基板の搬送を行っている。
図3は、第1の実施形態のハンドリングアーム207の上面断面図である。図3に示されているように、ハンドリングアーム207は、基端側から先端側(図中、X1からX2方向)へ向かうにつれて二股に分岐する形状となっている。ハンドリングアーム207は、分岐した枝部分と中央付近とに、基板接触部308~310を有する。第1の実施形態の基板接触部308~310は、吸引器と接続された流路管の一方の開口端を形成し、基板208は、基板接触部308~310から吸引されて搬送される。
上述のとおり、搬送装置103および基板格納箱開閉装置205等は、局所クリーン化装置101が備える制御部209によって制御される。以下に、搬送装置103が基板格納箱から基板208を取り出して処理室に搬送するまでの流れを説明する。
(S501)
搬送装置103が、基板格納箱から基板208を取り出した場合、S502の処理に進む。基板格納箱から基板208を取り出していない場合、S501の処理を繰り返す。
(S502)
制御部209がバルブを開いて不活性ガスを放出させる。
(S503)
搬送装置103が、基板208の搬送を終了した場合、制御部209は処理を終了する。基板208の搬送を終了していない場合、S503の処理を再度実行する。
(S601)
制御部209は、搬送装置103が基板208を搬送した回数をカウントする。
(S602)
搬送装置103が基板208を搬送した回数が規定回数に達した場合、制御部209はS603の処理に進む。搬送装置103が基板208を搬送した回数が規定回数に達していない場合、制御部209はS601の処理に戻る。
(S603)
制御部209は、バルブを開いてハンドリングアーム207のガス放出口から不活性ガスを放出し、異物を吹き払い、S601の処理に戻る。
(S701)
搬送装置103による基板208の搬送が終了している場合、S702の処理に進む。基板208の搬送が終了していない場合S701の処理を繰り返す。
(S702)
制御部209がファンフィルタユニット102の風量を増大させる。
(S703)
制御部209がバルブを開いてガス放出口から不活性ガスを放出させる。
第1の実施形態のハンドリングアーム207は吸引器と接続された複数の基板接触部308~310を有し、基板208は当該基板接触部308~310に吸引されて搬送された。これに対して第2の実施形態のハンドリングアーム207は、基板208の縁、端部または側面を取り囲むように配置された複数の基板接触部を有し、基板208は縁、端部または側面を基板接触部に把持されて搬送される。
図10は、第3の実施形態のハンドリングアーム700の断面図である。図10は、複数設けられたガス放出口のうちの一つのガス放出口701の断面が例示されている。第3の実施形態のハンドリングアーム700は、ガス放出口701が一つの開口部のみを有する点が第1の実施形態と異なる。図10に示されているように、ガス放出口701は基板208とほぼ同じ高さの位置であって基板208の上方を向いて設けられている。このような場合、基板208の上面側を不活性ガスで覆い、基板208の下面側に放出する不活性ガスの使用量を節約できる。
図11は、第4の実施形態のハンドリングアーム800の断面図である。図11は、複数設けられたガス放出口のうちの一つのガス放出口801の断面が例示されている。第4の実施形態のハンドリングアーム800は、ガス放出口801が一つの開口部のみを有する点が第2の実施形態と異なる。図11に示されているように、ガス放出口801は基板208よりも高い位置であって基板208と平行な方向を向いて設けられている。このような場合、基板208の上面側を不活性ガスで覆い、基板208の下面側に放出する不活性ガスの使用量を節約できる。
Claims (6)
- 基板を支持する基板接触部と、前記基板が支持された際に前記基板の外側に位置し、それぞれ異なる方向を向いた複数のガス放出口と、前記複数のガス放出口を開口端に持つ複数の流路管と、を備えるハンドリングアームが接続された搬送装置と、
前記搬送装置が沿って移動するガイドレールと、
前記複数の流路管に設けられたバルブと、
前記バルブが開いた状態で前記複数のガス放出口の少なくとも一つから不活性ガスを放出するガス供給部と、
前記搬送装置および前記バルブの動作を制御する制御部と、
を備え、
前記搬送装置は前記制御部の指示によって前記ガイドレール上を移動し、
前記複数のガス放出口の少なくとも一つは、前記搬送装置が前記ガイドレールを移動する際に、前記搬送装置の進行方向の前方から後方に向かって前記不活性ガスを放出する向きであり、且つ、前記基板よりも前記進行方向の前記前方に位置するように配置されており、
前記制御部は、前記搬送装置が前記ガイドレールを移動する際に、前記進行方向の前記前方から前記後方に向かって前記不活性ガスを放出する向きのガス放出口から前記不活性ガスを放出するよう前記バルブを制御する、
局所クリーン化装置。 - 請求項1に記載の局所クリーン化装置であって、
前記制御部は、前記ハンドリングアームの動作回数が規定回数に達したとき、または、前記ハンドリングアームの稼働時間が所定時間に達したときに、前記複数のガス放出口から前記不活性ガスを放出するように前記バルブを制御する、
局所クリーン化装置。 - 請求項1に記載の局所クリーン化装置であって、
前記搬送装置が内蔵された空間を与圧するファンフィルタユニットをさらに備え、
前記制御部は、前記複数のガス放出口から前記不活性ガスを放出するときに、前記ファンフィルタユニットの風量を上昇させる、
局所クリーン化装置。 - 請求項1に記載の局所クリーン化装置であって、
前記制御部は、前記搬送装置が前記基板を搬送し終わった後に、前記複数のガス放出口の少なくとも一つから前記不活性ガスを放出するように前記バルブを制御する、
局所クリーン化装置。 - 請求項1に記載の局所クリーン化装置であって、
前記複数のガス放出口のそれぞれは、前記基板が支持された際に、前記基板より高い位置、前記基板と高さが同じ位置および前記基板よりも低い位置の少なくとも一つに設けられている、
局所クリーン化装置。 - 請求項1に記載の局所クリーン化装置であって、
前記複数のガス放出口は、前記基板が支持された際に前記基板の方向を向くように配置
されている、
局所クリーン化装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017241565A JP7002315B2 (ja) | 2017-12-18 | 2017-12-18 | ハンドリングアーム、搬送装置および局所クリーン化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017241565A JP7002315B2 (ja) | 2017-12-18 | 2017-12-18 | ハンドリングアーム、搬送装置および局所クリーン化装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019110184A JP2019110184A (ja) | 2019-07-04 |
JP7002315B2 true JP7002315B2 (ja) | 2022-01-20 |
Family
ID=67180124
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017241565A Active JP7002315B2 (ja) | 2017-12-18 | 2017-12-18 | ハンドリングアーム、搬送装置および局所クリーン化装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7002315B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102678357B1 (ko) * | 2023-01-25 | 2024-06-27 | (주)텍슨 | 반도체 제조용 웨이퍼 이송장치 및 이를 포함하는 반도체 제조 설비 |
KR102628150B1 (ko) * | 2023-09-25 | 2024-01-23 | 야스카와 일렉트릭 코퍼레이션 | 반도체 로봇용 엔드 이펙터 |
KR102690599B1 (ko) * | 2023-10-24 | 2024-07-31 | 야스카와 일렉트릭 코퍼레이션 | 제습기능과 건조기능을 갖는 반도체설비 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004119488A (ja) | 2002-09-24 | 2004-04-15 | Tokyo Electron Ltd | 真空吸着装置、基板搬送装置及び基板処理装置 |
JP2009076805A (ja) | 2007-09-25 | 2009-04-09 | Tokyo Electron Ltd | 基板搬送装置及びダウンフロー制御方法 |
CN103904010A (zh) | 2014-03-20 | 2014-07-02 | 上海华力微电子有限公司 | 一种晶圆传送装置 |
JP2017069357A (ja) | 2015-09-30 | 2017-04-06 | 株式会社日立ハイテクマニファクチャ&サービス | 試料搬送装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0955418A (ja) * | 1995-08-11 | 1997-02-25 | Toshiba Microelectron Corp | ウェーハ搬送装置 |
JP3104745B2 (ja) * | 1997-10-07 | 2000-10-30 | 日本電気株式会社 | レチクルハンドラー |
-
2017
- 2017-12-18 JP JP2017241565A patent/JP7002315B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004119488A (ja) | 2002-09-24 | 2004-04-15 | Tokyo Electron Ltd | 真空吸着装置、基板搬送装置及び基板処理装置 |
JP2009076805A (ja) | 2007-09-25 | 2009-04-09 | Tokyo Electron Ltd | 基板搬送装置及びダウンフロー制御方法 |
CN103904010A (zh) | 2014-03-20 | 2014-07-02 | 上海华力微电子有限公司 | 一种晶圆传送装置 |
JP2017069357A (ja) | 2015-09-30 | 2017-04-06 | 株式会社日立ハイテクマニファクチャ&サービス | 試料搬送装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019110184A (ja) | 2019-07-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7002315B2 (ja) | ハンドリングアーム、搬送装置および局所クリーン化装置 | |
TWI278057B (en) | Enclosed container lid opening/closing system and enclosed container lid opening/closing method | |
JP4410121B2 (ja) | 塗布、現像装置及び塗布、現像方法 | |
JP4414910B2 (ja) | 半導体製造装置及び半導体製造方法 | |
KR101621975B1 (ko) | 로드 포트 | |
TWI797163B (zh) | 基板處理裝置、基板處理方法及電腦記憶媒體 | |
CN104299934A (zh) | Efem、装载端口 | |
KR102518708B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
KR20140123479A (ko) | 기판 수용 용기의 퍼지 장치 및 퍼지 방법 | |
KR102377848B1 (ko) | 기판 액처리 장치 | |
WO2018030516A1 (ja) | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | |
JP2008507153A (ja) | 処理ツール内のウエハハンドリングシステム | |
JP2015115517A (ja) | 基板搬送装置及びefem | |
CN107924857A (zh) | 保管装置和保管方法 | |
JP7137047B2 (ja) | Efem、及び、efemにおけるガス置換方法 | |
KR102190187B1 (ko) | 기판 반송 장치 및 기판 처리 장치와 결로 억제 방법 | |
US11631606B2 (en) | Substrate storage apparatus and apparatus for processing substrate using the same | |
JP2000100896A (ja) | ウェハ搬送装置およびウェハ搬送方法 | |
US10438820B2 (en) | Substrate processing apparatus, discharge method, and program | |
JP2009021440A (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法並びに記憶媒体 | |
JP4790326B2 (ja) | 処理システム及び処理方法 | |
WO2003096395A1 (fr) | Appareil de fabrication a semi-conducteurs de systeme de micro-environnement | |
JP3920897B2 (ja) | 現像装置及び現像方法 | |
JPS5943819B2 (ja) | 露光装置 | |
JP2016066689A (ja) | 容器清掃装置及び容器清掃方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20201106 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20201106 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201126 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20211022 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211102 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211206 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211216 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211227 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7002315 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |