JP6998612B2 - ハイヒールの体重負荷構造物 - Google Patents

Description

本発明は、素足やかかとの低い履物を履いた状態と類似した安定性（ｓｔａｂｉｌｉｔｙ）と歩行のメカニズムを有することができるハイヒールの体重負荷構造物に関する。

一般に、ハイヒール（ｈｉｇｈ－ｈｅｅｌｅｄ ｆｏｏｔｗｅａｒ）は、かかと部分が高く持ち上げられる履物を称することで、広い意味ではかかとの高い履物を示すが、その中でも特に女性用の靴を意味する。

ハイヒールを履くと自然にお尻が上がるようになり、より短いミニスカートとスタイルよく融和することができ、上体が自然に後ろに反れて胸が大きく見えるなどの美的効果を有するため、美しさを追求する女性たちに愛用されている。

しかし、ハイヒールは、着用者の歩行周期により変化する荷重を吸収または分散できないため、様々な副作用を誘発する。つまり、歩行周期中に倒れる単純な事故だけでなく、足の親指が外側に曲がる外反母趾、足首を捻る足首の捻挫、体重がひざの内側にかかることによって生じる関節炎、脊椎が後に曲がる脊椎後弯症などが発生することになる。

ウェッジヒール（ｗｅｄｇｅ ｈｅｅｌ）の場合、スチレットヒール（ｓｔｉｌｅｔｔｏ ｈｅｅｌ）が持った不安定性の問題を十分に緩和できず、歩行周期による衝撃および体重の吸収と分散がうまくできず、デザイン的にも野暮ったく、ハイヒール本来の目的であるデザインの美しさが落ちる問題点がある。

したがって、本発明は、前記問題点を解決するためになされたもので、その目的は、ウェッジタイプのヒールよりも良い安定性を提供し、かつデザインの美しさを増大させることができ、歩行周期により変化する荷重を適切に吸収または分散させることができるハイヒールの体重負荷構造物を提供することにある。

本発明は、地面と線形に接触するヒール部、前記ヒール部から伸びる支柱部、そして前記支柱部から伸びる足裏カバー部を含むハイヒールの体重負荷構造物を提供する。

前記ヒール部は、地面と接する部分が曲線（ｃｕｒｖｅｄ ｌｉｎｅａｒ）からなることが望ましい。

前記ヒール部は、幅が２．１２ｃｍ以上からなることが望ましい。

前記支柱部は、２つ以上の支柱で提供されることが望ましい。

２つ以上の前記支柱は、互いに並んで配置するか、または対称的に配置することが望ましい。

２つ以上の前記支柱は、互いに異なる形状からなるか、または少なくとも一つの支柱が他の支柱と異なる形状からなることが望ましい。

２つ以上の前記支柱は、かかとまたは土踏まずのうちの一つを支持する支柱と、前記かかとまたは前記土踏まずのうちの他の一つを支持する他の支柱と、からなることが望ましい。

前記ヒール部は、後方部位にヒールストライク部が提供されることが望ましい。

前記ヒールストライク部は、後方部を中心に一側に提供されることが望ましい。

前記支柱部は、前方に湾曲した形状に提供されることが望ましい。

前記支柱部は、前方部位よりも後方部位の湾曲度をより大きく形成することが望ましい。

前記足裏カバー部は、かかとから土踏まず乃至足幅部分まで伸びるか、または足裏全体をカバーできるように伸びることが望ましい。

前記支柱部は、外部側に向かって湾曲した形状に提供されることが望ましい。

前記ヒール部は、平面から見ると、足裏カバー部の幅より少なくともいずれか一方がより大きく突出することが望ましい。

前記足裏カバー部は、かかとから土踏まず乃至足幅まで伸びたり、または足裏全体をカバーできるように伸びており、前記支柱部と前記足裏カバー部は連結部によって連結され、前記足裏カバー部と支柱部の間には空間部が提供されることが望ましい。

前記連結部は、湾曲した形状からなることが望ましい。

前記足裏カバー部は下部に溝部が提供され、前記支柱部の上部を延長して前記溝部に挿入するストッパーが提供されることが望ましい。

前記ヒール部には、立脚中期に地面と線形に接触する地面接触部が結合されることが望ましい。

前記ヒール部と前記地面接触部の間に形成される隙間を含むことが望ましい。

本発明は、素足のかかとの外側境界線と同一または類似の形態を有して支持基底面（ＢＯＳ；Ｂａｓｅ ｏｆ ｓｕｐｐｏｒｔ）を広く確保して安定性（ｓｔａｂｉｌｉｔｙ）を増大させる効果を有する。

また、本発明は、歩行時にも体重負荷線（ｌｏａｄ ｌｉｎｅ）の移動が中間安定領域（ｍｅｄｉｏ－ｌａｔｅｒａｌ ｂｏｕｎｄａｒｙ ｏｆ ｓｔａｂｌｅ ａｒｅａ）の中央と近いところで行われるので、素足と類似のまたはより高い安定性を確保できる効果を有する。

また、本発明は、体重負荷線（ｌｏａｄ ｌｉｎｅ）の外側方向で体重負荷線（ｌｏａｄ ｌｉｎｅ）と十分な距離がある地点で地面反力（ＧＲＦ；ｇｒｏｕｎｄ ｒｅａｃｔｉｏｎ ｆｏｒｃｅ）が作用して外的モーメント（ｅｘｔｅｒｎａｌ ｍｏｍｅｎｔ）が内側に生成されるので、正常歩行のメカニズムを行うことができる。

また、本発明は、線形に形成されるヒール部と２つ以上の支柱で提供される支柱部によってハイヒール自体の重量を軽量化することができる。

また、本発明は様々な形態の多様な支柱部の構成から審美感を追求することができる。

また、本発明は、踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）および荷重応答期（ｌｏａｄｉｎｇ ｒｅｓｐｏｎｓｅ）で自然に外反（ｅｖｅｒｓｉｏｎ）と類似した動きを誘導することになり、そのため、距骨下関節（ｓｕｂｔａｌａｒ ｊｏｉｎｔ）の動きが柔軟で遅い動きとなることによって衝撃および体重負荷を吸収または分散する効果がある。

一般的な人間の歩行周期を説明するため、５段階に分類した立脚期を示す図である。 一般的な人間の歩行時、足の動き中の回内（ｐｒｏｎａｔｉｏｎ）と回外（ｓｕｐｉｎａｔｉｏｎ）を示す図である。 一般的な人間の歩行時、足の動き中の回内（ｐｒｏｎａｔｉｏｎ）と回外（ｓｕｐｉｎａｔｉｏｎ）を模型で示す図である。 一般的な人間の歩行時、足の動きに対する用語を説明するための図である。 一般的な人間の足の骨格構造を示す図である。 一般的な人間の足の歩行過程中に現れるウィンドラス効果（ｗｉｎｄｌａｓｓ ｅｆｆｅｃｔ）を説明するための図である。 足の地面との接触状態に応じたウィンドラス効果（ｗｉｎｄｌａｓｓ ｅｆｆｅｃｔ）を示す図である。 一般的なハイヒールを履いた足の状態を説明するための図である。 一般的な支持基底面（ＢＯＳ、Ｂａｓｅ ｏｆ ｓｕｐｐｏｒｔ）と安定性（ｓｔａｂｉｌｉｔｙ）との関係を説明するための図である。 本発明の第１実施例を説明するためにハイヒールの体重負荷構造物が適用されたハイヒールを示す図である。 図１０の主要部を正面から見た正面図である。 図１１の底面斜視図である。 ヒール部の幅決定の目的で行われた実験結果を得る過程を説明するための図である。 素足、スチレットヒール、ウェッジヒール、および本発明の体重負荷構造物が適用されたハイヒールの着用状態で支持基底面（ＢＯＳ）と体重負荷線（ｌｏａｄ ｌｉｎｅ）の移動を比較して説明するための図である。 体重負荷線（ｌｏａｄ ｌｉｎｅ）、地面反力（ＧＲＦ、ｇｒｏｕｎｄｒｅ ａｃｔｉｏｎｆｏｒｃｅ）、および外的モーメント（ｅｘｔｅｒｎａｌ ｍｏｍｅｎｔ）の間の関係を説明するための図である。 本発明の第２実施例を説明するためにハイヒールの体重負荷構造物を示す図である。 本発明の第３実施例を説明するためにハイヒールの体重負荷構造物を示す図である。 本発明の第４実施例の他の例示を説明するためにハイヒールの体重負荷構造物を示す図である。 本発明の第５実施例を説明するためにハイヒールの体重負荷構造物を示す図である。 本発明の第６実施例によるハイヒールの体重負荷構造物を示す背面図である。 本発明の第７実施例を説明するためにハイヒールの体重負荷構造物で足全体をカバーする足裏カバー部を示す平面図である。 本発明の第８実施例を説明するためにハイヒールの体重負荷構造物を示す側面図である。 本発明の第９実施例によるハイヒールの体重負荷構造物の空間部および連結部を示す斜視図である。 本発明の第１０実施例によるハイヒールの体重負荷構造物で連結部の湾曲部を説明するための斜視図である。 本発明の第１１実施例によるハイヒールの体重負荷構造物で溝部およびストッパーを説明するための底面斜視図である。 本発明の第１１実施例によるハイヒールの体重負荷構造物で溝部およびストッパーの一例を示す平面図である。 本発明の第１２実施例によるハイヒールの体重負荷構造物のヒールストライク部を示す底面図である。 本発明の第１２実施例によるハイヒールの体重負荷構造物のヒールストライク部がヒール部の底面となす角度を説明するための図である。 本発明の第１３実施例によるハイヒールの体重負荷構造物の地面接触部を説明するための図である。 本発明の第１４実施例によるハイヒールの体重負荷構造物の隙間を説明するための図である。 本発明の第１５実施例によるハイヒールの体重負荷構造物のヒール部および地面接触部を説明するための図である。

以下、添付された図面を参照して本発明の実施例に対して本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。しかし、本発明は様々な他の形態で具現でき、ここで説明する実施例に限定されない。図面において本発明を明確に説明するために説明上不必要な部分は省略し、明細書全体にわたって同一または類似の構成要素については同一の図面符号を付与する。

明細書の全体において、ある部分がある構成要素を‘含む’とすると、これは、特に反対の記載がない限り、他の構成要素を除外するのではなく、他の構成要素をさらに含むことができることを意味する。

本発明の実施形態による地面との線形接触を有するハイヒールの体重負荷構造物について図面を参照して詳細に説明する。

以下、特別な言及がない限り、右足を基準にして説明し、以下、説明の便宜のために体の中心方向を‘内側’、‘内側’と反対方向を‘外側’、足指方向を‘前方’、かかと方向を‘後方’と定義する。

素足または一般的な履き物を着用した人間の歩行周期による足の動きは、次の通りである。

図１の（ａ）～（ｅ）は、人間の歩行周期を説明するための図である。

人間の歩行周期は、片足（図において斜線で示した部分）を基準にして大きく立脚期（ｓｔａｎｃｅ ｐｈａｓｅ）と遊脚期（ｓｗｉｎｇ ｐｈａｓｅ）とに区分する。

立脚期（ｓｔａｎｃｅ ｐｈａｓｅ）は、歩行中の足の一部分が地面に接地している状態である。このような立脚期（ｓｔａｎｃｅ ｐｈａｓｅ）は、踵接地（ａ、ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）、荷重応答期（ｂ、ｌｏａｄｉｎｇ ｒｅｓｐｏｎｓｅ）、立脚中期（ｃ、ｍｉｄｓｔａｎｃｅ）、踵離地（ｄ、ｈｅｅｌ ｏｆｆ）、および爪先離地（ｅ、ｔｏｅ ｏｆｆ）の５段階に区分することができる。

踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）は、立脚期中にかかと部分の外側が地面に接する瞬間を意味する。このときには、地面反力（ＧＲＦ、ｇｒｏｕｎｄ ｒｅａｃｔｉｏｎ ｆｏｒｃｅ）によって距骨下関節（ｓｕｂｔａｌａｒ ｊｏｉｎｔ）で回内（ｐｒｏｎａｔｉｏｎ）と外反（ｅｖｅｒｓｉｏｎ）が発生して地面衝突による衝撃を吸収することができる（図１の（ａ）に示す）。

荷重応答期（ｌｏａｄｉｎｇ ｒｅｓｐｏｎｓｅ）は、踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）後に、足裏全体が地面に接しながら持続的な回内（ｐｒｏｎａｔｉｏｎ）が発生して足に加えられる衝撃を吸収し体重を分散して不規則な地面に足を適応させる過程である（図１の（ｂ）に示す）。

立脚中期（ｍｉｄｓｔａｎｃｅ）は、足に体重が乗せられる段階である（図１の（ｃ）に示す）。

踵離地（ｈｅｅｌ ｏｆｆ）は、足のかかとが離れる段階である（図１の（ｄ）に示す）。

爪先離地（ｔｏｅ ｏｆｆ）は、爪先が離れる段階である（図１の（ｅ）に示す）。

また、遊脚期（ｓｗｉｎｇ ｐｈａｓｅ）は、足全体が地面と離れている状態を意味する。

歩行は、立脚期および遊脚期（ｓｗｉｎｇ ｐｈａｓｅ）を繰り返し循環することで行われる。

図２～図４は、歩行過程で発生可能な足の動きに応じた用語を説明するための図である。図２は、右足首（ａｎｋｌｅ）を後方から見た状態を示す図であり、図３は左足を基準にして回内（ｐｒｏｎａｔｉｏｎ）と回外（ｓｕｐｉｎａｔｉｏｎ）を模型化して示す図である。

まず、回内（ｐｒｏｎａｔｉｏｎ）は、図２の（ａ）に示したように、右足首を基準にして足首部分が体の内側の矢印方向に動くことを意味し、図３のＡおよびＣのような運動が発生する。

そして、回外（ｓｕｐｉｎａｔｉｏｎ）は、図２の（ｂ）に示したように、右足首を基準にして足首部分が体の外側方向に動くことを意味し、図３のＢおよびＤのような運動が発生する。

内反（ｉｎｖｅｒｓｉｏｎ）は、図４の（ａ）に示したように、足が内側に回転移動（ｔｗｉｓｔｉｎｇ ｍｏｖｅｍｅｎｔ ｏｆ ｔｈｅ ｆｏｏｔ ｉｎｗａｒｄ）することを意味する。

外反（ｅｖｅｒｓｉｏｎ）は、図４の（ｂ）に示したように、足が外側に回転移動（ｔｗｉｓｔｉｎｇ ｍｏｖｅｍｅｎｔ ｏｆ ｔｈｅ ｆｏｏｔ ｏｕｔｗａｒｄ）することを意味する。

底屈（ｐｌａｎｔａｒｆｌｅｘｉｏｎ）は、図４の（ｃ）に示したように、足の裏の方向に折り曲がることを意味する。

背屈（ｄｏｒｓｉｆｌｅｘｉｏｎ）は、図４の（ｄ）に示したように、足の甲の方向に反らせることを意味する。

内転（ａｄｄｕｃｔｉｏｎ）は、図４の（ｅ）に示したように、体の正中線から内側に移動することを意味する。

外転（ａｂｄｕｃｔｉｏｎ）は、図４の（ｆ）に示したように、体の正中線から外側に移動することを意味する。

上述した遊脚期（ｓｗｉｎｇ ｐｈａｓｅ）では、身体の遠位部（四肢の末端部位）が自由な状態で行う運動である開放連動連鎖（ＯＫＣ：ｏｐｅｎ ｋｉｎｅｔｉｃ ｃｈａｉｎ）が行われ、足は回外（ｓｕｐｉｎａｔｉｏｎ）状態となる。回外（ｓｕｐｉｎａｔｉｏｎ）は、距骨下内反（ｓｕｂｔａｌａｒ ｉｎｖｅｒｓｉｏｎ）、足関節底屈（ａｎｋｌｅ ｐｌａｎｔａｒｆｌｅｘｉｏｎ）、および前足部内転（ｆｏｒｅｆｏｏｔ ａｄｄｕｃｔｉｏｎ）が同時に発生した状態で、遊脚期（ｓｗｉｎｇ ｐｈａｓｅ）での足は、回外によって足の骨が互いにかみ合うことになって足の長さが短くなり、剛体状態（ｒｉｇｉｄ ｌｅｖｅｒ）に置かれることになる。

踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）時には、かかとが地面と接して地面反力（ＧＲＦ、ｇｒｏｕｎｄ ｒｅａｃｔｉｏｎ ｆｏｒｃｅ）が発生する。遊脚期（ｓｗｉｎｇ ｐｈａｓｅ）の固くなった足は、地面反力（ＧＲＦ）を受けて回内（ｐｒｏｎａｔｉｏｎ）が発生する。回内（ｐｒｏｎａｔｉｏｎ）状態では、距骨下外反（ｓｕｂｔａｌａｒ ｅｖｅｒｓｉｏｎ）、足関節背屈（ａｎｋｌｅ ｄｏｒｓｉｆｌｅｘｉｏｎ）、および前足部外転（ｆｏｒｅｆｏｏｔ ａｂｄｕｃｔｉｏｎ）が発生するが、このような回内（ｐｒｏｎａｔｉｏｎ）によって圧縮された足が伸びて柔軟になり、地面衝突による衝撃を吸収することになる。特に、距骨下外反（ｓｕｂｔａｌａｒ ｅｖｅｒｓｉｏｎ）では、足の骨間が広くなるが、踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）以後に荷重応答期（ｌｏａｄｉｎｇ ｒｅｓｐｏｎｓｅ）が続き、持続的に距骨下外反（ｓｕｂｔａｌａｒ ｅｖｅｒｓｉｏｎ）が発生して足に加えられる衝撃が吸収され、負荷がかかった体重は分散して不規則な地面に足を適応させることになる。

踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）および荷重応答期（ｌｏａｄｉｎｇ ｒｅｓｐｏｎｓｅ）を経って柔軟になった足は、立脚中期（ｍｉｄｓｔａｎｃｅ）以後に地面を押しながら前進しなければならないので、再び剛体状態に変化することになる。つまり、立脚中期以降、回外（ｓｕｐｉｎａｔｉｏｎ）が再び誘発され、これと共に中足指節関節が伸展されながらウィンドラス効果（ｗｉｎｄｌａｓｓ ｅｆｆｅｃｔ）が発生して足は再び剛体状態に置かれることになる。

図５は、足の骨格構造で、中足指節関節で伸展および屈曲が発生する部分を線で示しており、図６および図７は、足のウィンドラス効果（ｗｉｎｄｌａｓｓ ｅｆｆｅｃｔ）を説明するための図である。立脚期のうちの立脚中期（ｍｉｄｓｔａｎｃｅ）以降には、足のウィンドラス効果（ｗｉｎｄｌａｓｓ ｅｆｆｅｃｔ）が発生する。足のウィンドラス効果は、立脚中期以降、かかとが地面から離れながら中足指節関節（図４に示す）が伸展（ＭＴＰ ｅｘｔｅｎｓｉｏｎ、ｅｘｔｅｎｓｉｏｎ ｏｆ ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔｓ）され、これによって足底筋膜（ｐｌａｎｔａｒ ｆａｓｃｉａ）が引っ張られ、結果的に縦足弓（ｌｏｎｇｉｔｕｄｉｎａｌ ａｒｃｈ）が引っ張られて足の骨が互いに硬くかみ合って足が圧縮されて硬くなる状態に変化することになる。

ハイヒールを履いた場合には、このような足の自然な動きが極めて制限される。図８の（ａ）は、ハイヒールを履いた状態の外形図であり、図８の（ｂ）はハイヒールを履いた状態でのウィンドラス効果（ｗｉｎｄｌａｓｓ ｅｆｆｅｃｔ）を示している。

ハイヒールを履いた足は、常に中足指節関節が伸展された状態であるので、歩行周期と関係なしにウィンドラス効果（ｗｉｎｄｌａｓｓ ｅｆｆｅｃｔ）が持続的に発生することになる。また、足関節底屈（ｐｌａｎｔａｒｆｌｅｘｉｏｎ）と共に過度な回外（ｓｕｐｉｎａｔｉｏｎ）が持続的に維持されるので、結果的に足首と足関節の動きが制限（ｌｉｍｉｔｅｄ ｍｏｔｉｏｎ ｏｆ ａｎｋｌｅ ａｎｄ ｆｏｏｔ ｊｏｉｎｔｓ）される状態が維持され続ける。

このような状態で踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）段階に進入しても回内（ｐｒｏｎａｔｉｏｎ）が発生せず、中足指節関節（ｍｅｔａｔａｒｓｏｐｈａｌａｎｇｅａｌ ｊｏｉｎｔｓ）は伸展状態を維持するので、地面衝突による衝撃を吸収できず、地面接触時に負荷がかかる体重も分散しない。

また、既存のハイヒールを履く場合、安定性側面からも問題が発生することがある。

地面と接するすべての地点中で最も外側に位置する点を連結した領域を支持基底面（ＢＯＳ、Ｂａｓｅ ｏｆ ｓｕｐｐｏｒｔ）というが、支持基底面（ＢＯＳ）は、起立時または歩行時の安全性（ｓｔａｂｉｌｉｔｙ）と密接な関連がある。

図９は、支持基底面（ＢＯＳ）と安定性との関係を説明するための図である。

図９の（ａ）は、起立時に足を若干広げた状態の支持基底面（ＢＯＳ）を示す。図において線は、足の最外郭の点を連結したもので、支持基底面（ＢＯＳ）を示す。そして図９の（ｂ）は、両側に杖をついて立っている状態の支持基底面（ＢＯＳ）を示す。この場合における支持基底面は、足裏の面積を含む線内部の面積である。図９の（ｂ）において両側のＰ１は、杖が地面と接する杖の地面接触部である。

このような支持基底面（ＢＯＳ）が広い図９（ｂ）の安定性が高く、支持基底面（ＢＯＳ）が狭い（ａ）の安定性が低い。つまり、支持基底面（ＢＯＳ）の広さと安定性は相互比例関係にある。また、脚の向きに沿って地面に下りる体重負荷線（ｌｏａｄ ｌｉｎｅ）が支持基底面の内側に落ちなければ安定性（ｓｔａｂｉｌｉｔｙ）を維持できない。

図１０は、本発明の第１実施例を説明するためにハイヒールの体重負荷構造物が適用されたハイヒールを示す図であり、図１１は、図１０の正面図であり、図１２は、図１１の底面斜視図である。ハイヒールは、人の足を囲むボディー部Ｂとボディー部Ｂに結合される体重負荷構造物とを含む。

本発明の実施例による地面との線形接触を有するハイヒールの体重負荷構造物は、ヒール部１、支柱部３、および足裏カバー部５を含む。

ヒール部１は、歩行時に地面と接する構造物であって、地面と線形に接触する。

つまり、ヒール部１は、地面と接する部分またはこれを含む全体が一定の厚さを有するラウンド形状からなることができる。

ヒール部１は、人のかかとの外側面形状のような形態からなることが望ましい。

図１３は、本発明のヒール部１の幅Ｗ決定の目的で行われた実験結果を得る過程を説明するための図である。

適正なヒール部１の幅Ｗを決定するためにスチレットヒールを履いた多数の女性たちを対象に超高速動画撮影を用いて踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）の瞬間の内反（ｉｎｖｅｒｓｉｏｎ）角度を測定するための実験を行った。Ａは、かかとの中心線Ｏと体重負荷線ＬＬの交差点であって、内反（ｉｎｖｅｒｓｉｏｎ）の起点であり、Ｂは、ハイヒールの体重負荷構造物の最上段の中心点である。多数の女性たちを対象に測定した結果、ＡとＢの間の距離の平均値は７．５ｃｍであった。前記平均値と実際測定値との偏差は±０．３５ｃｍ以内であって、誤差範囲が比較的に小さく、平均値７．５ｃｍをヒール部１の幅Ｗを決定するための標準値として使用した。

体重負荷線（ｌｏａｄ ｌｉｎｅ）とかかとの中心線Ｏがなす角度を‘α’、ハイヒールの体重負荷構造物の高さを‘Ｈ’、そして、かかとの中心線Ｏの最下段地点Ｃから体重負荷線ＬＬまでの距離を‘Ｌ’とすると、次のような関係式が成立する。

ｔａｎα＝Ｌ／（７．５＋Ｈ）

多数の女性たちを対象に実験を行った結果、全体女性たちの前記αは平均４．４８９°であったが、普段ハイヒールをほとんど履かない女性たちの前記αは平均５．３８４°で、有意に異なる。下表は、前記実験結果によりかかとの中心線Ｏの最下段地点Ｃから体重負荷線ＬＬ（ｌｏａｄ ｌｉｎｅ）までの距離を示す表である。

前記実験により導出された表の数値は、ヒール部１の幅Ｗを決める数値として使用することができる。つまり、ハイヒールの体重負荷構造物の高さＨにより、前記表の数値の２倍以上になるようにヒール部１の幅Ｗを決めることができる。例えば、構造物の高さが９ｃｍの場合、１．３０ｃｍの２倍である２．６ｃｍ以上になるようにヒール部１の幅Ｗを決めることができる。

または、ハイヒールの体重負荷構造物の高さＨにより変動しないヒール部１の幅を選択でき、前記実験結果を反映して歩行時の安定性が維持されるようにヒール部１の幅Ｗを決めることができる。この場合、構造物の高さＨが６ｃｍのハイヒールを履きなれている群を基準にして、ヒール部１の幅Ｗは２．１２ｃｍ以上に提供されることが望ましい。より望ましくは、ハイヒールの体重負荷構造物の高さＨが２０ｃｍとなる場合もあるが、一般に、ハイヒールの体重負荷構造物の高さＨは６～１３ｃｍの場合が大部分であることを反映して、普段ハイヒールを履かない群、そして体重負荷構造物の高さ１３ｃｍを基準にしてヒール部１の幅Ｗは３．８６ｃｍ以上に提供され得る。

ヒール部１の幅Ｗが２．１２ｃｍ以上であれば体重負荷線ＬＬが地面に落ちる地点が支持基底面（ＢＯＳ、Ｂａｓｅ ｏｆ ｓｕｐｐｏｒｔ）内部に形成されて安定性を確保できる。ヒール部１の幅Ｗが３．８６ｃｍ以上であれば体重負荷線ＬＬが地面に落ちる地点がほとんど支持基底面（ＢＯＳ）内部に形成されるので、歩行時に十分な安定性を確保できる。

また、ヒール部１の幅Ｗの最大値も制限され得る。例えば、ハイヒールの体重負荷構造物の高さＨが１３ｃｍの場合を基準にして、体重負荷線ＬＬが地面に落ちる地点がかかとの中心線Ｏの最下段地点Ｃとヒール部１のサイド側の間の中間地点に形成され得るようにヒール部１の幅Ｗが決定される。この場合、ヒール部１の幅Ｗは７．７２ｃｍとなる。前記のようにヒール部１の幅Ｗの最大値を制限することによって、ヒール部１の幅Ｗが過度に広くなって発生し得る審美感の低下を防止することができる。

ヒール部１は、最大幅より自由端（爪先に向かう部分）の間の幅を狭くすることができる。

また、本発明の実施例による地面との線形接触を有するハイヒールの体重負荷構造物は、地面との線形接触性のためにヒール部１の厚さを制限することができる。

ヒール部１の厚さＴ１は、図１２に示したように、ヒール部１の地面と接する中間部分の厚さであり、Ｔ２は、爪先側方向に向かう自由端側部分の厚さを意味する。

ヒール部１の厚さが一定である必要はなく、部分別に厚さが異なることがある。

ヒール部１の厚さの最大幅は制限されることができ、ヒール部１の最大幅が１．８ｃｍ以下となるように形成することが望ましい。ヒール部１の厚さの最大値が１．８ｃｍを超えると、地面接触時の線形性が弱化することがあり、非常に野暮ったくて審美感が低下し得る。

また、ヒール部１の厚さは、デザインや安定性の側面から、中間部分（Ｔ１で表示）で厚く自由端Ｔ２に行くほど薄くなるように提供され得る。

ヒール部１は、プラスチックのような非金属材料または金属材料など多様な素材の弾性材からなることができる。

このように地面と接するヒール部１は、立脚期の荷重応答期（ｌｏａｄｉｎｇ ｒｅｓｐｏｎｓｅ）で地面と線接触することができ、ハイヒール全体の重量も減らすことができる。

このような本発明の実施形態は、歩行の安定性を向上させることができ、重量が減って歩行が手軽になる利点がある。

一般的な歩行周期では、踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）時には地面と点または線形接触が発生するが、荷重応答期（ｌｏａｄｉｎｇ ｒｅｓｐｏｎｓｅ）以降には足裏が地面と接する面接触が発生する。実際には、完全な‘点’と完全な‘線’は存在しないので、前記‘点’と‘線’は、‘面’に対応する相対的な概念であり、以下でも‘点’と‘線’は‘面’に対応する相対的な概念として記載する。

荷重応答期（ｌｏａｄｉｎｇ ｒｅｓｐｏｎｓｅ）以後、かかと領域でスチレットヒール（ｓｔｉｌｅｔｔｏ）の場合は点接触が、ウェッジヒール（ｗｅｄｇｅ ｈｅｅｌ）の場合は面接触が発生する。

本発明の実施形態による地面との線形接触を有するハイヒールの体重負荷構造物は、荷重応答期（ｌｏａｄｉｎｇ ｒｅｓｐｏｎｓｅ）以後にもかかと領域で地面と線形に接触する。

本発明の実施形態による地面との線形接触を有するハイヒールの体重負荷構造物のヒール部１は、地面と曲線（ｃｕｒｖｅｄ ｌｉｎｅａｒ）で接触するように提供され得る。例えば、ヒール部１は、爪先部分が開放され、かかと側がラウンド形状で湾曲した形態で提供され得る。

本発明による地面との線形接触を有するハイヒールの体重負荷構造物は、ウェッジヒール（ｗｅｄｇｅ ｈｅｅｌ）よりも起立時の支持基底面（ＢＯＳ）が広く、より安定的である。また、踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）時にヒール部１の広さにより支持基底面（ＢＯＳ）が左右されるため、歩行時にも安定性が高い。

また、ヒール部１が地面と線接触を維持するため、面接触をするウェッジヒールに比べてハイヒールの重量を軽量化することができる。

ヒール部１が弾性材からなると踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）時に発生する衝撃が足関節、距骨下関節、膝関節などにそのまま伝えられることを緩和することができる。

支柱部３は、ヒール部１から伸びている。このような支柱部３は、足裏カバー部５とヒール部１を連結しながらハイヒールの高さを維持する機能を担うことができる。支柱部３は、ヒール部１の断面形態と同一または類似の形態の一つの支柱として提供され得る。

支柱部３は、本発明の第１実施例でヒール部１の後方部分から伸びて足裏カバー部５と連結される例を示して説明する。

本発明の第１実施例の支柱部３は、かかと側に向かう部分が凸ラウンド形状をなし、一定の厚さを有し爪先部分側がラウンド形態の開放された形状をなすことができる。

本発明の第１実施例の支柱部３は、ヒール部１と同じ厚さを有することができる。また、本発明の第１実施例の支柱部３は、側面が開放された空間をなすことができる。つまり、支柱部３は、ヒール部１でかかと部分だけが足裏カバー部５に連結され、サイド側部分は空間からなることができる。本発明の第１実施例の支柱部３は、ヒール部１と足裏カバー部５が連結されるサイド側部分が湾曲した形状、つまり、爪先側に向かって凹み形状の曲線からなることができる。

このような本発明の支柱部３の構造はハイヒールの安定性を確保し、既存のものに比べてより軽量化でき、かつ外観の美麗さを増大させることができる。

特に、本発明の支柱部３のヒール部１と足裏カバー部５を連結する形状は、構造的安定性を有すると共に衝撃を吸収する構造からなることができる。

支柱部３は、プラスチックのような非金属材料または金属材料など多様な素材の弾性材からなることができる。支柱部３が弾性材からなる場合、踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）時に発生する衝撃を吸収して人体に加えられる衝撃を十分に吸収できる。本発明のヒール部１、支柱部３、および足裏カバー部５は、同じ材質で一体に成形または形成して製作され得る。

足裏カバー部５は、支柱部３に伸びて提供される。足裏カバー部５は、ハイヒールの表底（ｏｕｔｓｏｌｅ）またはボディー部ｂに連結され得る。

本発明の第１実施例の足裏カバー部５は、支柱部３がかかと部分に連結され得る。

ヒール部１、支柱部３、および足裏カバー部５は、所定の厚さを有する構造からなり、その内部に空間を備えてより軽量化でき、外観の美麗さを有するようにデザインできる。

図１４は、素足とハイヒール着用状態の支持基底面（ＢＯＳ）と体重負荷線（ｌｏａｄ ｌｉｎｅ）の移動を既存のものと本発明の実施例を比較して説明するための図である。

図１４においてＩは、素足、スチレットヒール、ウェッジヒール、および本発明の実施例の底形状を比較した図である。図１４においてＩＩは、素足、スチレットヒール、ウェッジヒール、および本発明の実施例の地面接触面の形状を比較した図である。図１４においてＩＩＩは、素足、スチレットヒール、ウェッジヒール、および本発明の実施例を比較して起立時の支持基底面（ＢＯＳ）を示す図である（斜線で示す）。

図１４においてＩＶは、素足、スチレットヒール、ウェッジヒール、および本発明の実施例を比較して移動時の支持基底面（ＢＯＳ斜線部分）と体重負荷線（ｌｏａｄ ｌｉｎｅ）の移動（矢印で示す）を表示して比較した図である。図１４のＩＶの（ｄ）において、移動時は踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）後、荷重応答期（ｌｏａｄｉｎｇ ｒｅｐｏｎｓｅ）前まで（爪先が地面に接する前まで）の移動を意味する。また、図１４においてのＩＶの点線は、移動時の支持基底面（ＢＯＳ）によって形成された中間安定領域（ｍｅｄｉｏ－ｌａｔｅｒａｌ ｂｏｕｎｄａｒｙ ｏｆ ｓｔａｂｌｅ ａｒｅａ）の境界を表示したものである。添付の図１４のＩＩＩを参照すると、起立時のスチレットヒール（ｓｔｉｌｅｔｔｏ）の支持基底面（ＢＯＳ）が最も狭くて安定性が最も低いことが分かる。ウェッジヒール（ｗｅｄｇｅ ｈｅｅｌ）の場合、スチレットヒール（ｓｔｉｌｅｔｔｏ）よりは支持基底面（ＢＯＳ）が広くて安定性が多少高いが、素足の場合よりは安定性が低下する。

図１４のＩＶを参照すると、矢印は踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）以後、荷重応答期（ｌｏａｄｉｎｇ ｒｅｓｐｏｎｓｅ）に進められながら体重負荷線（ｌｏａｄ ｌｉｎｅ）の移動を示し、点線はヒール構造の支持基底面（ＢＯＳ）によって形成される中間安定領域（ｍｅｄｉｏ－ｌａｔｅｒａｌ ｂｏｕｎｄａｒｙ ｏｆ ｓｔａｂｌｅ ａｒｅａ）を示す。スチレットヒール（ｓｔｉｌｅｔｔｏ ｈｅｅｌ）の場合、体重負荷線（ｌｏａｄ ｌｉｎｅ）移動が中間安定領域（ｍｅｄｉｏ－ｌａｔｅｒａｌ ｂｏｕｎｄａｒｙ ｏｆ ｓｔａｂｌｅ ａｒｅａ）外部で行われるので、歩行が非常に不安定になることもある。このような歩行時の不安定性のため、歩行周期で踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）を省略し直ちに荷重応答期（ｌｏａｄｉｎｇ ｒｅｓｐｏｎｓｅ）に移行したりもするが、このような歩行パターンは、地面接触時に発生する衝撃を吸収せず、そのまま関節に伝達される。

ウェッジヒール（ｗｅｄｇｅ ｈｅｅｌ）の場合にも体重負荷線（ｌｏａｄ ｌｉｎｅ）移動が中間安定領域（ｍｅｄｉｏ－ｌａｔｅｒａｌ ｂｏｕｎｄａｒｙ ｏｆ ｓｔａｂｌｅ ａｒｅａ）の境界線付近で行われるので、安定性が低下する。

図１４のＩＶの（ｄ）は、本発明の実施例で体重負荷線（ｌｏａｄ ｌｉｎｅ）の移動が中間安定領域（ｍｅｄｉｏ－ｌａｔｅｒａｌ ｂｏｕｎｄａｒｙ ｏｆ ｓｔａｂｌｅ ａｒｅａ）の中心線に近い部分に形成されて歩行時の安定性を確保できる。

図１５において、（ａ）は素足の場合、（ｂ）はスチレットヒールの場合、（ｃ）はウェッジヒールの場合、および（ｄ）は本発明の実施例の場合で、歩行時の体重負荷線（ｌｏａｄ ｌｉｎｅ）、地面反力（ＧＲＦ、ｇｒｏｕｎｄ ｒｅａｃｔｉｏｎ ｆｏｒｃｅ）、および外的モーメント（ｅｘｔｅｒｎａｌ ｍｏｍｅｎｔ）の間の関係を示す。足首の損傷は、殆どが足の過度な内反（ｉｎｖｅｒｓｉｏｎ）によって発生する。スチレットヒール（ｓｔｉｌｅｔｔｏ ｈｅｅｌ）を履いた場合、体重負荷線（ｌｏａｄ ｌｉｎｅ）を基準にして内側に地面反力の作用点が位置するので、足の内反を誘発することになる。このような内反によって、足首損傷の危険性が大きくなる。

ウェッジヒール（ｗｅｄｇｅ ｈｅｅｌ）の場合、体重負荷線（ｌｏａｄ ｌｉｎｅ）を基準にして外側に地面反力の作用点が位置する。しかし、体重負荷線（ｌｏａｄ ｌｉｎｅ）が地面と接触する地点が地面反力の作用点に近いため、足首損傷の危険は依然として存在する。

スチレットヒール（ｓｔｉｌｅｔｔｏ ｈｅｅｌ）やウェッジヒール（ｗｅｄｇｅ ｈｅｅｌ）を履いた場合には、前記のような足首損傷の危険を避けるため、十分な踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）段階および荷重応答期（ｌｏａｄｉｎｇ ｒｅｓｐｏｎｓｅ）段階を経ず、立脚中期（ｍｉｄｓｔａｎｃｅ）段階に進入することになる。したがって、衝撃および体重負荷を吸収するのに障害が発生することになる。

本発明の実施例では、素足と同様に体重負荷線（ｌｏａｄ ｌｉｎｅ）を基準にして外側に地面反力（ＧＲＦ）の作用点が存在し、体重負荷線（ｌｏａｄ ｌｉｎｅ）が地面に落ちる地点と地面反力の作用点が十分に離れて外的モーメント（ｅｘｔｅｒｎａｌ ｍｏｍｅｎｔ）が作用する。また、本発明の実施例では、地面反発力（ＧＲＦ）によって発生する外的モーメント（ｅｘｔｅｒｎａｌ ｍｏｍｅｎｔ）の方向が素足の歩行時と同様であるため、より安定した歩行が可能となる。

本発明の実施例による地面との線形接触を有するハイヒールの体重負荷構造物の効果を説明する。

本発明の実施例による地面との線形接触を有するハイヒールの体重負荷構造物は、ヒール部１が素足のかかとの外側境界線の形態に沿うように提供されるため、素足と支持基底面（ＢＯＳ）の広さが類似するかより広い。したがって、本発明による地面との線形接触を有するハイヒールの体重負荷構造物は、非常に高い安定性（ｓｔａｂｉｌｉｔｙ）を提供することができる。

歩行時にも本発明の実施例による地面との線形接触を有するハイヒールの体重負荷構造物の場合、体重負荷線（ｌｏａｄ ｌｉｎｅ）の移動が中間安定領域（ｍｅｄｉｏ－ｌａｔｅｒａｌ ｂｏｕｎｄａｒｙ ｏｆ ｓｔａｂｌｅ ａｒｅａ）の中央と近いところで行われるので、素足と類似するかより高い安定性を確保できる。

本発明の実施例による地面との線形接触を有するハイヒールの体重負荷構造物は、素足の場合と同様に、体重負荷線（ｌｏａｄ ｌｉｎｅ）の外側に体重負荷線（ｌｏａｄ ｌｉｎｅ）と十分な距離がある地点で地面反力が作用することになる。したがって、地面反力によって発生する外的モーメント（ｅｘｔｅｒｎａｌ ｍｏｍｅｎｔ）は、足の安定的な外反の動き（ｓｔａｂｌｅ ｅｖｅｒｓｉｏｎ ｍｏｖｅｍｅｎｔ ｏｆ ｔｈｅ ｆｏｏｔ）を誘発する。

したがって、歩行時に発生する衝撃および体重負荷を効率的に吸収することができる。

また、本発明の実施例による地面との線形接触を有するハイヒールの体重負荷構造物は、ヒール部１が線形に提供されるため、ウェッジヒール（ｗｅｄｇｅ ｈｅｅｌ）に比べてハイヒールの重量を軽量化することができる。

また、本発明の実施例による地面との線形接触を有するハイヒールの体重負荷構造物は、支柱部３が一定の厚さを有するラウンド形状や２つ以上の支柱に提供されるのでハイヒールの重量を軽量化することができる。特に、支柱部３が２つ以上の支柱に提供される場合、野暮ったい形態のウェッジヒール（ｗｅｄｇｅ ｈｅｅｌ）とは異なり、様々な形態の支柱で構成されていて多様なデザイン的変形を追求できるので、デザイン面で優れた効果がある。

本発明の実施例によるハイヒールの体重負荷構造物の衝撃および体重負荷を吸収するメカニズムを説明する。

本発明の実施例によるハイヒールの体重負荷構造物は、踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）および荷重応答期（ｌｏａｄｉｎｇ ｒｅｓｐｏｎｓｅ）で自然に外反（ｅｖｅｒｓｉｏｎ）と類似した動きを誘導することになり、そのため、距骨下関節は柔軟で遅延して運動をすることによって衝撃および体重負荷を吸収または分散することができる。

本発明の実施例によるハイヒールの体重負荷構造物は、ヒール部１、支柱部３などが弾性材からなる場合、踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）時に発生する衝撃が弾性によって一定程度吸収されるので、足関節、距骨下関節、膝関節などに衝撃がそのまま伝えられることを緩和することができる。

踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）の際、地面反力（ＧＲＦ）によって発生するモーメント（ｍｏｍｅｎｔ）は、地面と接触する地点を基準に側面からみると、地面に向かって下方に、後方からみると内側方向（ｍｅｄｉａｌ ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）に体重負荷構造物を回転させる。

本発明による地面との線形接触を有するハイヒールの体重負荷構造物は、踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）時、支柱部３の後方領域が広がりながら衝撃を吸収し、前記回転モーメントを減少させて地面反力が誘発できる関節の急激な動きが柔軟で遅い動きに転換されるようにする機能を担うことができる。

図１６は、本発明の第２実施例を説明するためにハイヒールの体重負荷構造物を示す図である。

本発明の実施例においては上述した例の説明と同じ部分については説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。

本発明の第２実施例のヒール部１は、その形状が地面と線接触からなる構造は同一である。

本発明の第２実施例は、支柱部３が２つの支柱３ａ、３ｂで構成され得る。支柱部３が２つの支柱３ａ、３ｂからなる場合、２つの支柱３ａ、３ｂは直線状に互いに並んだ形態に提供され得る。２つの支柱３ａ、３ｂは、ヒール部１の内側と外側からそれぞれ伸びて足裏カバー部５の内側と外側を支持する形態に提供され得る。

本発明の第２実施例の支柱部３は、かかとの後側方向が足の長さ方向に貫通された形状からなる。支柱部３は、ヒール部１の先端部（爪先に向かう部分）側から伸びて足裏カバー部５に結合され得る。

また、本発明の第２実施例は、支柱部３が足裏カバー部５に連結されるとき、側面から見て上側方向に傾く形状からなることができる。つまり、支柱部３は、ハイヒールの体重負荷構造物を側面から見てヒール部１から足裏カバー部５の後方（かかと側）に連結されて傾いた形状をなすことができる。

また、本発明の第２実施例において第１支柱３ａは、ヒール部１の外側から伸びて足裏カバー部５の内側を支持し、第２支柱３ｂは、ヒール部１の内側から伸びて足裏カバー部５の外側を支持する形態に提供され得るが、この場合、第１支柱３ａと第２支柱３ｂは互いに交差する形状に形成され得る。

このような本発明の第２実施例では、多様な形状から構成して審美感を向上させることができる。

図１７は、本発明の第３実施例を説明するためにハイヒールの体重負荷構造物を示す図である。

本発明の第３実施例においては前記実施例と同じ部分については説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。

本発明の第３実施例においては支柱部３が２つの支柱３ａ、３ｂから構成され得る。２つの支柱３ａ、３ｂのうちの一つの支柱３ｂは、足裏カバー部５のかかとの後方を支持できる。また、２つの支柱３ａ、３ｂのうちの他の一つの支柱３ａは、足裏カバー部５のかかとの前方部分を支持する形態に提供され得る。

２つの支柱３ａ、３ｂは、それぞれ曲線状に提供され得る。２つの支柱３ａ、３ｂは非対称であるか、または互いに異なる形状に提供され得る。２つの支柱３ａ、３ｂは、背面から見て互いに交差して交わる形状からなることができる。

本発明の第３実施例の他の例示として、一つの支柱が足裏カバー部５の一側面に連結され得、他の一つの支柱は、足裏カバー部５の反対側の側面に連結されるかまたは足裏カバー部５のかかとの前方側に連結され得る。

このような本発明の第３実施例では、弾性体からなる場合に体重を分散させるのにさらに有利な構造であり、外観の美麗さをさらに増大させることができる。

図１８は、本発明の第４実施例を説明するためにハイヒールの体重負荷構造物を示す図である。

本発明の第４実施例は前記実施例と比較して同じ部分については説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。

本発明の第４実施例の支柱部３は、３つ以上の支柱３ａ、３ｂ、３ｃで構成され得る。３つ以上の支柱３ａ、３ｂ、３ｃは、それぞれ足裏カバー部５の内側を支持する第１支柱３ａ、外側を支持する第２支柱３ｂ、および後方を支持する第３支柱３ｃを含むことができる。

第１支柱３ａおよび第２支柱３ｂは、足裏カバー部５に連結される部分で互いに集められる形状からなることができる。また、第３支柱３ｃは、ヒール部１のかかと側から足裏カバー部５に連結され得る。

支柱部３が３つ以上の支柱３ａ、３ｂ、３ｃに提供される場合、直線状および多様な曲線状に提供され得、足裏カバー部５の多様な地点を連結して支持できるので、地面との線形接触を有するハイヒールの体重負荷構造物は、ハイヒールにデザインの多様性を付与できる。

本発明の第４実施例では、第１支柱部３ａと第２支柱３ｂは互いに対称をなして足裏カバー部５のかかとの前方側に連結され得る。また、第１支柱３ａと第２支柱３ｂは、側面から見て中間部が爪先に向かう方向に突出して湾曲した形状をなすことができる。このような本発明の第４実施例では、弾性力によって衝撃吸収を極大化させ、かつ外観の美麗さを維持できる。

図１９は、本発明の第５実施例を説明するためにハイヒールの体重負荷構造物を示す斜視図である。

本発明の第５実施例は前記実施例と比較して同じ部分については説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。

本発明の第５実施例による地面との線形接触を有するハイヒールの体重負荷構造物の支柱部３は、前方に湾曲した形状に提供され得る。好ましくは、支柱部３は、その湾曲程度が前方の湾曲度ｃ１よりも後方の湾曲度ｃ２がより大きい形状からなることができる。また、本発明の第５実施例では、前方の湾曲度ｃ１は提供されず後方の湾曲度ｃ２のみからなることができる。

このような場合、踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）の際、ハイヒールのかかとが地面に下りながら地面からの衝撃が吸収され、そのため、地面反力（ＧＲＦ）が減少して地面側に回転させる回転モーメント（ｒｏｔａｔｉｏｎａｌ ｍｏｍｅｎｔ）も減少することになる。

図２０は、本発明の第６実施例による地面との線形接触を有するハイヒールの体重負荷構造物の支柱部３の前方部位と後方部位の支柱間幅の差を説明するための図である。

本発明の第６実施例は前記実施例と比較して同じ部分については説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。

支柱部３は、後方部位の支柱間の幅ｗ１が前方部位の支柱間の幅ｗ２よりも広い形態に提供され得る。

また、第１実施例のように支柱部３が一つの支柱で構成される場合、後方部位（かかと側）の支柱部３の最大幅が前方部位（爪先に向かう側）の幅よりも広い形態に提供されることが望ましい。

このような構成は、荷重をより安定的に支持しながらも外観の美麗さを増大させることができる。

ヒール部１と支柱部３は、足裏カバー部５の幅より一層大きく幅方向に突出する突出部を備えて間隔ｄ１とｄ２をなすことができる（図２０に示す）。突出部の間隔ｄ１、ｄ２は、足裏カバー部５と比較して内側に突出している内側の突出部がなす間隔ｄ２と足裏カバー部５と比較して外側に突出している外側の突出部がなす間隔ｄ１のうちのいずれか一つを含むか、または外側の突出部がなす間隔ｄ１と内側の突出部がなす間隔ｄ２を全て含むことができる。外側の突出部がなす間隔ｄ１と内側の突出部がなす間隔ｄ２を全て含む場合、外側の突出部がなす間隔ｄ１が、内側の突出部がなす間隔ｄ２に比べて広いことが望ましい。

もし、弾性材からなる支柱部３の前方部位の支柱間の幅が後方部位の支柱間の幅よりも狭く提供されるか、支柱部３が一つの支柱のみで構成されて支柱部３の最大幅が前方部位の自由端の間の幅より広い形態で提供される場合、踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）時に発生する衝撃エネルギー（ｉｍｐａｃｔ ｅｎｅｒｇｙ）は、支柱部３の後方部位が広がりながら吸収され得る。支柱部３の曲げと元の状態への回復は、衝撃エネルギーの吸収、分散によって関節の柔軟な動きを誘発する。

外側の突出部の間隔ｄ１と内側の突出部の間隔ｄ２は、素足直立時や素足歩行時の場合より広い支持基底面（ＢＯＳ）を提供して、素足の場合よりも高い安定性（ｓｔａｂｉｌｉｔｙ）を提供することができる。

図２１は、本発明の第７実施例を説明するためにハイヒールの体重負荷構造物で足全体をカバーする足裏カバー部５を示す平面図である。

本発明の第７実施例においては前記実施例と同じ部分については説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。

本発明の第７実施例の足裏カバー部５は、かかとカバー部４１、土踏まずカバー部４３、足幅カバー部４５、および爪先領域を下方でカバーする爪先カバー部４７を含むことができる。足裏カバー部５が、かかとカバー部４１、土踏まずカバー部４３、足幅カバー部４５、および爪先カバー部４７を全て含む場合、足裏カバー部５は表底（ｏｕｔｓｏｌｅ）の役割を果たすこともできる。

図２２は、本発明の第８実施例を説明するためにハイヒールの体重負荷構造物を示す側面図である。

本発明の第８実施例においては前記実施例と同じ部分については説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。

本発明の第８実施例の支柱部３は２つ以上の支柱３ａ、３ｂで構成され得、この場合、かかとカバー部４１を下方から支持する第１支柱３ａと土踏まずカバー部４３を下方から支持する第２支柱３ｂを含むことができる。

第１支柱３ａは、ヒール部１から伸びてかかとカバー部４１に連結され得る。また、第２支柱３ｂは、ヒール部１から伸びて土踏まずカバー部４３に連結され得る。このような本発明の第８実施例の構成は、足裏カバー部５が土踏まずカバー部４３まで伸びてなる場合である。

土踏まずカバー部４３は、底面が地面の側に突出して伸びる延長部４９を含むことができる。

このような本発明の第８実施例のハイヒールの体重負荷構造物は、土踏まず支柱部３が足裏カバー部５から伸びた土踏まずカバー部４３に連結されてハイヒールにデザインの多様性を付与できる。

図２３は、本発明の第９実施例によるハイヒールの体重負荷構造物の空間部と連結部を示す底面斜視図である。

本発明の第９実施例においては前記実施例と同じ部分については説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。

本発明の第９実施例の体重負荷構造物は、足裏カバー部５のかかと領域と支柱部３の間に一定の間隔Ｇを有する空間部２１を含むことができる。この空間部２１は、足裏カバー部５が荷重を支持する時に弾性力によって衝撃を緩衝させる役割をすることができる。このような本発明の第９実施例では、支柱部３の高さを減らし、かつハイヒールの体重負荷構造物の全体高さを増大させて消費者の欲求を満足させることができる。

また、本発明の第９実施例の体重負荷構造物は、足裏カバー部５と支柱部３の間に連結部２３が提供され得る。

本発明の第９実施例では、支柱部３が土踏まず部分または爪先まで伸びた例である。

図２４は、本発明の第１０実施例を説明するためにハイヒールの体重負荷構造物を示す斜視図である。

本発明の第１０実施例は前記実施例と比較して同じ部分については説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。

本発明の第１０実施例では、連結部２３が地面方向に突出して湾曲した形状を有する。つまり、連結部２３は、足軸方向の湾曲度ｒと足幅方向の湾曲度ｒ’を同時に有することができる。

本発明の第１０実施例によるハイヒールの体重負荷構造物は、踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）時に発生する衝撃を足裏カバー部５のかかと部分と連結部２３が曲がりながら吸収することができる。特に、本発明の第１０実施例では、連結部２３が両方向の湾曲度ｒ、ｒ’を有する場合には、長さ方向および幅方向に同時に曲がりながら衝撃吸収効果が増大できる。

図２５は、本発明の第１１実施例のハイヒールの体重負荷構造物を有する底面斜視図であり、図２６は、図２５の平面図である。

本発明の第１１実施例においては前記実施例と同じ部分については説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。

本発明の第１１実施例による地面との線形接触を有するハイヒールの体重負荷構造物は、溝部２５が足裏カバー部５の内部に提供され得る。溝部２５は、足裏カバー部５に貫通して形成されるか、または足裏カバー部５の上面の一部が塞がっている構造からなることができる。支柱部３上部には溝部２５の内部に挿入されるストッパー２７が提供され得る。支柱部３の上部のストッパー２７が溝部２５に挿入される場合には、ストッパー２７が外部の衝撃によって移動する時に足裏カバー部５の側面に支持されてストッパーとして機能することができる。

本発明の第１１実施例では、溝部２５にストッパー２７を挿入する例を示して説明したが、これに限定されるものではなく、単に足裏カバー部５と支柱部３を一定の距離をおいて配置することも可能である。

本発明の第１１実施例による地面との線形接触を有するハイヒールの体重負荷構造物は、支柱部３と足裏カバー部５が実際には離れているが、連結されているようにみえるデザイン効果が与えられる。

本発明の第１１実施例では、第１０実施例と同様に支柱部３の弾性作用によって歩行時の衝撃を吸収することができる。

本発明の第１１実施例によるハイヒールの体重負荷構造物は、空間部２１と連結部２３または溝部２５と連結部２３が提供される場合、踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）時に発生する衝撃を足裏カバー部５が空間部２１または溝部２５を向かって曲がり、連結部２３が一方向に曲がりながら衝撃を吸収することができる。

図２７は、本発明の第１２実施例によるハイヒールの体重負荷構造物を地面側から見てヒール部のみを示す図である。そして、図２８は、本発明の第１２実施例を説明するためにハイヒールの体重負荷構造物を側面から見た図である。

本発明の第１２実施例においては前記実施例と同じ部分については説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。

本発明の第１２実施例では、ヒールストライク部３１がヒール部１に提供される。ヒールストライク部３１は、ヒール部１の踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）時、地面と接触が発生する底面後方に提供される。ヒールストライク部３１は様々な形態、例えばヒール部１の底面と一定の角度をなして平面からなるかまたは地面と一定の角度をなしてラウンド（ｒｏｕｎｄ ｂｏｔｔｏｍ）からなることができる。ヒールストライク部３１は、後方の中間で最も広く、内側と外側に行くほど漸次狭くなるように提供され得る。ヒールストライク部３１は、後方部を中心に一側に提供され得、より好ましくは、ヒールストライク部３１は、踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）時、地面と最初に接するようになる側後方Ｓを中心に、つまり、側後方Ｓで最も広く、側後方Ｓから遠くなるほど漸次狭くなるように提供され得る。

ヒールストライク部３１は、歩行時に発生する衝撃と体重負荷を分散する機能を提供することができる。遊脚期（ｓｗｉｎｇ ｐｈａｓｅ）においてハイヒールを着用した足は、非常に硬く関節の動きがひどく制限された状態であるが、このような状態で踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）段階に進入すれば距骨下関節で十分な外反（ｅｖｅｒｓｉｏｎ）を誘発できないので、衝撃と体重負荷を吸収および分散するのに限界がある。ヒールストライク部３１は、踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）時、距骨下関節および下肢の動きを柔軟で遅い動きで転換させる機能をすることができる。

本発明の第１２実施例では、ヒールストライク部３１は、ヒール部１の底面と一定の角度θ、例えば８°～２５°の範囲であることが望ましい。

図２９は、本発明の第１３実施例によるハイヒールの体重負荷構造物の主要部を示す図である。

本発明の第１３実施例においては前記実施例と同じ部分については説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。

本発明の第１３実施例では、地面接触部７がヒール部１の底面に別途の部材が結合して提供され得る。

地面接触部７は、ヒール部１と脱着可能に提供され得る。地面接触部７がヒール部１と着脱可能な構造からなることができる。例えば、ヒール部１に嵌合溝部１ａおよび地面接触部７に嵌合突起７ａが提供され得る。しかし、本発明の第１３実施例はこれに限定されず、嵌合溝部１ａおよび地面接触部７に嵌合突起７ａが互いに変わって構成されることも可能である。

地面接触部７は、ヒール部１と同様の形態に提供され得る。地面接触部７が含まれる場合、前記ヒール部１に含むことができる構成、例えば、かかとの外側面形態に沿う構成、地面との線形接触を有する構成、最大幅に関する構成、またはヒールストライク部３１の構成などが地面接触部７に含まれ得る。

地面接触部７は、ハイヒールの体重負荷構造物の修繕を容易にする効果を提供することができる。

図３０は、本発明の第１４実施例による地面との線形接触を有するハイヒールの体重負荷構造物の隙間３３を示す。

本発明の第１４実施例においては前記実施例と同じ部分については説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。

本発明の第１４実施例のハイヒールの体重負荷構造物は、ヒール部１と地面接触部７の間の一側に一定の空間を備えた隙間３３が提供され得る。隙間３３は、ヒール部１と地面接触部７の後方領域の間に提供されることが望ましい。

隙間３３は、踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）時、地面と最初に接する側後方Ｓを中心に提供され得る。

本発明の第１４実施例の地面接触部７は、復元力に優れた弾性体からなることが望ましい。このような地面接触部７は、ヒール部１に接着剤によって付着するか、または前記第１３実施例と同様にヒール部１に対向する部分に溝または突起が提供されて嵌合でなることができる。隙間３３が含まれる場合、踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）時、地面接触部７が弾性力によって曲がりながら衝撃を吸収できる。吸収された衝撃は、地面接触部７が元の状態に戻りながら関節がより柔軟で遅れて動くことができるように転換され得る。

本発明によるハイヒールの体重負荷構造物は、隙間３３が提供される場合、踵接地（ｈｅｅｌ ｓｔｒｉｋｅ）時に発生する衝撃が地面接触部７が曲がりながら衝撃を吸収し、衝撃で吸収されるエネルギーは地面接触部７が元の状態に戻りながら転換されて柔軟で遅れて関節が動くことができるようになる。

図３１は、本発明の第１５実施例によるハイヒールの体重負荷構造物のヒール部１と地面接触部７を示す。

本発明の第１５実施例においては前記実施例と同じ部分については説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。

本発明の第１５実施例のハイヒールの体重負荷構造物は、地面接触部７に地面接触先端部７ｂ、７ｃが含まれ得る。地面接触先端部７ｂ、７ｃは、地面接触部７の中心軸Ｏ方向に向かうように伸びることが望ましい。

地面接触先端部７ｂ、７ｃが地面接触部７に含まれる場合、ヒール部１にヒール先端部１ｂ、１ｃが含まれ得る。ヒール先端部１ｂ、１ｃは、地面接触先端部７ｂ、７ｃと同じ形状に形成することが望ましい。

地面接触部７に地面接触先端部７ｂ、７ｃが含まれ、ヒール部１にヒール先端部１ｂ、１ｃが含まれる場合、隙間３３の構成の際、ヒール部１と結着される地面接触部７の結着部位を広く確保できて、隙間３３が提供される場合にもヒール部１と地面接触部７が安定的に結合され得る。また、隙間３３をより広く確保できて、隙間３３により衝撃をより効果的に吸収することができる。

隙間３３が側後方Ｓを中心に提供される場合、地面接触部７は、外側の地面接触先端部７ｂのみを含むことができ、これに対応してヒール部１も外側のヒール先端部１ｂのみを含むことができる。隙間３３が側後方Ｓを中心に提供される場合、外側の地面接触先端部７ｂと外側のヒール先端部１ｂのみを含んでもヒール部１と地面接触部７の結合の安定性と隙間３３によるより効果的な衝撃吸収効果を達成することができる。

以上、本発明の望ましい実施例について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、特許請求の範囲と発明の詳細な説明および添付した図面の範囲内で多様に変形して実施することが可能であり、これも本発明の範囲に属するのは当然である。

Claims (19)

1. ヒール部と、
   前記ヒール部から伸びる支柱部と、
   前記支柱部から伸びる足裏カバー部と、を含み、
   前記ヒール部は、底面を基準にしてみるとき、かかとの外郭線の形状に対応するラウンド形状の曲線からなり、地面に接触する地面接触部を含み、
   前記地面接触部は、
   前記ヒール部から延長されるか、または前記ヒール部に結合し、
   前記かかとの外郭線の形状に対応する形状で所定の厚さを有し、中央部分が空間をなし、
   前記足裏カバー部がハイヒールのかかと部分に一体に固定された状態で前記地面接触部と前記空間を形成する、ハイヒールの体重負荷構造物。
2. 前記支柱部は、２つ以上の支柱で構成される、請求項１に記載のハイヒールの体重負荷構造物。
3. 前記支柱は、互いに並んで配置されるかまたは対称に配置される、請求項２に記載のハイヒールの体重負荷構造物。
4. 前記支柱は、互いに異なる形状からなるかまたは少なくとも一つの支柱が他の支柱と異なる形状からなる、請求項２に記載のハイヒールの体重負荷構造物。
5. 前記支柱は、
   かかとまたは土踏まずのうちの一つを支持する支柱と、
   前記かかとまたは前記土踏まずのうちの他の一つを支持する他の支柱からなる、請求項２に記載のハイヒールの体重負荷構造物。
6. 前記ヒール部は、後方部位にヒールストライク部を備える、請求項１に記載のハイヒールの体重負荷構造物。
7. 前記ヒールストライク部は、後方部を中心に一側に配置される、請求項６に記載のハイヒールの体重負荷構造物。
8. 前記支柱部は、前方に湾曲した形状で構成される、請求項１に記載のハイヒールの体重負荷構造物。
9. 前記支柱部は、前方部位よりも後方部位の湾曲度が大きい、請求項８に記載のハイヒールの体重負荷構造物。
10. 前記足裏カバー部は、かかとから土踏まず乃至足幅部分まで伸びるか、または足裏全体をカバーできるように伸びる、請求項１に記載のハイヒールの体重負荷構造物。
11. 前記支柱部は、中心側から外部側方向に向かって突出した形状で構成される、請求項１に記載のハイヒールの体重負荷構造物。
12. 前記ヒール部は、上方から見るとき、足裏カバー部の幅より少なくともいずれか一方が大きく突出する、請求項１に記載のハイヒールの体重負荷構造物。
13. 前記足裏カバー部は、
    かかとから土踏まず乃至足幅まで伸びるか、または足裏全体をカバーできるように伸び、
    前記支柱部と前記足裏カバー部は連結部によって連結され、
    前記足裏カバー部と支柱部の間には空間部を備える、請求項１に記載のハイヒールの体重負荷構造物。
14. 前記連結部は湾曲した形状からなる、請求項１３に記載のハイヒールの体重負荷構造物。
15. 前記足裏カバー部は、下部に溝部が提供され、
    前記支柱部の上部を伸びて前記溝部に挿入されるストッパーを備える、請求項１に記載のハイヒールの体重負荷構造物。
16. 前記ヒール部には、立脚中期に地面と線形に接する地面接触部が結合される、請求項１に記載のハイヒールの体重負荷構造物。
17. 前記地面接触部は、
    立脚中期（ｍｉｄｓｔａｎｃｅ）に地面と線形に接触する、請求項１に記載のハイヒールの体重負荷構造物。
18. 前記ヒール部と前記地面接触部の間に形成される隙間を含む、請求項１に記載のハイヒールの体重負荷構造物。
19. 請求項１～１８のいずれか１項に記載のハイヒールの体重負荷構造物が結合された、ハイヒール。

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