KR101871800B1 - 하이힐의 체중부하 구조물 - Google Patents

Abstract

본 발명은 하이힐의 겉창(outsole)과 결합되거나 발바닥 커버부가 하이힐의 겉창(outsole)이 되어 하중반응기에 지면과 선형접촉을 갖는 하이힐의 체중부하 구조물을 개시한다.
본 발명의 지면과 선형접촉을 갖는 하이힐의 체중부하 구조물은 입각기에 지면과 선형으로 접촉되는 힐부, 힐부에서 연장되는 지주부, 그리고 지주부에서 연장되는 발바닥 커버부를 포함한다.

Description

하이힐의 체중부하 구조물{Weight-loading structure of high-heeled footwear}

본 발명은 맨발이나 굽이 낮은 신발을 신은 상태와 유사한 안정성(stability)과 보행 메커니즘을 가질 수 있는 하이힐의 체중부하 구조물에 관한 것이다.

일반적으로 하이힐(high-heeled footwear)은 발뒤꿈치 부분이 높게 들어 올려진 신발을 지칭하는 말로, 넓은 의미에서 보면 굽이 높은 신발을 가리키지만, 그 중에서도 특히 여성용의 신발을 의미한다.

하이힐을 신을 경우 자연스럽게 엉덩이가 올라가게 되어 보다 짧은 미니스커트를 소화할 수 있고, 상체가 자연스레 뒤로 젖혀져 가슴이 커 보이는 등의 미적 효과를 가지기 때문에, 아름다움을 추구하는 여성들의 선호를 받고 있다.

그러나, 하이힐은 착용자의 보행 주기에 따라 변화하는 하중을 흡수하거나 분산하지 못하기 때문에 여러 가지 부작용을 유발한다. 즉, 보행 주기 중 넘어지는 단순한 사고뿐만 아니라, 엄지발가락이 바깥으로 휘는 무지외반증, 발목이 삐는 족근부염좌, 몸무게가 무릎 안쪽으로 쏠리게 됨에 따라 발생하는 관절염, 척추가 뒤로 휘는 척추후만증 등이 발생하게 된다.

?지 힐(wedge heel)의 경우는 스틸레토 힐(stiletto heel)이 지닌 불안전성 문제를 충분히 완화하지 못하며, 보행 주기에 따른 충격 및 체중의 흡수와 분산이 제대로 이루어지지 못하고, 디자인적으로도 투박하여 하이힐 본연의 목적인 디자인의 미려함이 떨어지는 문제점이 있다.

한국공개실용신안공보 제20-0447425호(2010. 1. 25 공개)

따라서, 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로써, 본 발명의 목적은 ?지 타입의 힐보다 나은 안정성을 제공하면서도 디자인의 미려함을 증대시킬 수 있고, 보행 주기에 따라 변화하는 하중을 적절하게 흡수하거나 분산시킬 수 있는 하이힐의 체중부하 구조물을 제공하는데 있다.

본 발명은 지면과 선형으로 접촉되는 힐부, 상기 힐부에서 연장되는 지주부, 그리고 상기 지주부에서 연장되는 발바닥 커버부를 포함하는 하이힐의 체중부하 구조물을 제공한다.

상기 힐부는 지면과 접촉하는 부분이 곡선(curved linear)으로 이루어지는 것이 바람직하다.

상기 힐부는 폭이 2.12cm 이상으로 이루어지는 것이 바람직하다.

상기 지주부는 2 이상의 지주로 제공되는 것이 바람직하다.

2 이상의 상기 지주는 서로 나란하게 배치되거나 또는 대칭으로 배치되는 것이 바람직하다.

2 이상의 상기 지주는 서로 다른 모양으로 이루어지거나 또는 적어도 하나의 지주가 다른 지주와 다른 모양으로 이루어지는 것이 바람직하다.

2 이상의 상기 지주는 발뒤꿈치 또는 발허리 중의 하나를 지지하는 지주와 상기 발뒤꿈치 또는 상기 발허리 중의 다른 하나를 지지하는 또 다른 지주로 이루어지는 것이 바람직하다.

상기 힐부는 후방부위에 힐스트라이크부가 제공되는 것이 바람직하다.

상기 힐스트라이크부는 후방부를 중심으로 일측에 제공되는 것이 바람직하다.

상기 지주부는 전방으로 만곡된 형태로 제공되는 것이 바람직하다.

상기 지주부는 전방부위보다 후방부위의 만곡도가 더 크게 이루어지는 것이 바람직하다.

상기 발바닥 커버부는 발뒤꿈치부터 발허리 내지 발볼 부분까지 연장되거나, 또는 발바닥 전체를 커버할 수 있도록 연장되는 것이 바람직하다.

상기 지주부는 외부측을 향해 만곡된 형태로 제공되는 것이 바람직하다.

상기 힐부는 평면에서 볼 때 발바닥 커버부의 폭 보다 적어도 어느 한쪽이 더 크게 돌출되는 것이 바람직하다.

상기 발바닥 커버부는 발뒤꿈치부터 발허리 내지 발볼까지 연장되거나, 또는 발바닥 전체를 커버할 수 있도록 연장되며, 상기 지주부와 상기 발바닥 커버부는 연결부에 의해 연결되고, 상기 발바닥 커버부와 지주부 사이에는 공간부가 제공되는 것이 바람직하다.

상기 연결부는 만곡된 형태로 이루어지는 것이 바람직하다.

상기 발바닥 커버부는 하부에 홈부가 제공되고, 상기 지주부 상부를 연장하여 상기 홈부에 삽입되는 스토퍼가 제공되는 것이 바람직하다.

상기 힐부에는 중기입각기에 지면과 선형으로 접촉되는 지면접촉부가 결합되는 것이 바람직하다.

상기 힐부와 상기 지면접촉부 사이에 제공되는 틈부를 포함하는 것이 바람직하다.

이와 같은 본 발명은 맨발 뒤꿈치의 외측 경계선과 동일 또는 유사한 형태를 이루어 지지기저면(BOS; Base of support)을 넓게 확보하여 안정성(stability)을 증대시키는 효과를 가진다.

또한, 본 발명은 보행 시에도 체중부하선(load line)의 이동이 중간 안정 영역(medio-lateral boundary of stable area)의 중앙과 가까운 곳에서 이루어지기 때문에 맨발과 유사하거나 보다 높은 안정성을 확보할 수 있는 효과를 가진다.

또한, 본 발명은 체중부하선(load line) 바깥 방향에서 체중부하선(load line)과 충분한 거리가 있는 지점에서 지면반력(GRF; ground reaction force)이 작용하게 되어 외적 모멘트(external moment)가 안쪽으로 생성되므로 정상적인 보행 메커니즘을 수행할 수 있다.

또한, 본 발명은 선형으로 제공되는 힐부와 2 이상의 지주로 제공되는 지주부로부터 하이힐 자체의 무게를 경량화할 수 있다.

또한, 본 발명은 여러 가지 형태의 다양한 지주부 구성으로부터 심미감을 추구할 수 있다.

또한, 본 발명은 발뒤축접지(heel strike) 및 하중반응기(loading response)에서 자연스럽게 외번(eversion)과 유사한 움직임을 유도하게 되며, 이에 따라 거골하관절(subtalar joint)의 움직임이 부드러우면서 지연된 운동을 하게 되어 충격 및 체중부하를 흡수하거나 분산하는 효과가 있다.

도 1은 일반적인 인간의 보행 주기를 설명하기 위해 5 단계로 분류한 입각기를 나타낸 도면이다.
도 2는 일반적인 인간의 보행 시 발의 움직임 중 회내(pronation)와 회외(supination)를 나타내는 도면이다.
도 3은 일반적인 인간의 보행 시 발의 움직임 중 회내(pronation)와 회외(supination)를 모형으로 보여주는 도면이다.
도 4는 일반적인 인간의 보행시 발의 움직임에 대한 용어를 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 일반적인 인간 발의 골격 구조를 나타낸 도면이다.
도 6은 일반적인 인간 발의 보행 과정 중 나타나는 윈드래스 효과(windlass effect)를 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 발의 지면접촉 상태에 따른 윈드래스 효과(windlass effect)를 나타내는 도면이다.
도 8은 일반적인 하이힐을 신은 발의 상태를 설명하기 위한 도면이다.
도 9는 일반적인 지지기저면(BOS, Base of support)과 안정성(stability)과의 관계를 설명하기 위한 도면이다.
도 10은 본 발명의 제1 실시예를 설명하기 위해 하이힐의 체중부하 구조물이 적용된 하이힐을 도시한 도면이다.
도 11은 도 10의 주요부를 정면에서 본 정면도이다.
도 12는 도 11의 저면 사시도이다.
도 13은 힐부의 폭 결정 목적으로 진행된 실험 결과를 얻는 과정을 설명하기 위한 도면이다.
도 14는 맨발, 스틸레토 힐, ?지 힐 그리고 본 발명의 체중부하 구조물이 적용된 하이힐의 착용 상태에서 지지기저면(BOS)과 체중부하선(load line)의 이동을 비교하여 설명하기 위한 도면이다.
도 15는 체중부하선(load line), 지면반력(GRF, ground reaction force), 및 외적 모멘트(external moment) 간의 관계를 설명하기 위한 도면이다.
도 16은 본 발명의 제2 실시예를 설명하기 위해 하이힐의 체중부하 구조물을 도시한 도면이다.
도 17은 본 발명의 제3 실시예를 설명하기 위해 하이힐의 체중부하 구조물을 도시한 도면이다.
도 18은 본 발명의 제4 실시예의 다른 예시를 설명하기 위해 하이힐의 체중부하 구조물을 도시한 도면이다.
도 19는 본 발명의 제5 실시예를 설명하기 위해 하이힐의 체중부하 구조물을 도시한 도면이다.
도 20은 본 발명의 제6 실시예에 따른 하이힐의 체중부하 구조물을 도시한 배면도이다.
도 21은 본 발명의 제7 실시예를 설명하기 위해 하이힐의 체중부하 구조물에서 발 전체를 커버하는 발바닥 커버부를 나타낸 평면도이다.
도 22는 본 발명의 제8 실시예를 설명하기 위해 하이힐의 체중부하 구조물을 도시한 측면도이다.
도 23은 본 발명의 제9 실시예에 따른 하이힐의 체중부하 구조물의 공간부와 연결부를 나타낸 사시도이다.
도 24는 본 발명의 제10 실시예에 따른 하이힐의 체중부하 구조물에서 연결부의 만곡부를 설명하기 위한 사시도이다.
도 25는 본 발명의 제11 실시예에 따른 하이힐의 체중부하 구조물에서 홈부와 스토퍼를 설명하기 위한 저면 사시도이다.
도 26은 본 발명의 제11 실시예에 따른 하이힐의 체중부하 구조물에서 홈부와 스토퍼의 일 예를 보여주는 평면도이다.
도 27은 본 발명의 제12 실시예에 따른 하이힐의 체중부하 구조물의 힐스트라이크부를 나타내는 저면도이다.
도 28은 본 발명의 제12 실시예에 따른 하이힐의 체중부하 구조물의 힐스트라이크부가 힐부의 저면과 이루는 각도를 설명하기 위한 도면이다.
도 29는 본 발명의 제13 실시예에 따른 하이힐의 체중부하 구조물의 지면접촉부를 설명하기 위한 도면이다.
도 30은 본 발명의 제14 실시예에 따른 하이힐의 체중부하 구조물의 틈부를 설명하기 위한 도면이다.
도 31은 본 발명의 제15 실시예에 따른 하이힐의 체중부하 구조물의 힐부와지면접촉부를 설명하기 위한 도면이다.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대해 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세하게 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 다른 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조부호를 부여하기로 한다.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.

이제 본 발명의 실시예에 따른 지면과 선형접촉을 갖는 하이힐의 체중부하 구조물에 대하여 도면을 참조로 하여 상세하게 설명한다.

이하 별다른 언급이 없는 한 오른발을 기준으로 하여 설명하고, 이하 설명의 편의를 위해 몸 중심 방향을 '내측', '내측'과 반대 방향을 '외측', 발가락 방향을 '전방', 발뒤꿈치 방향을 '후방'이라고 정의한다.

맨발 또는 일반적인 신발을 착용한 인간의 보행 주기에 따른 발의 움직임은 다음과 같다.

도 1의 (a) 내지 (e)는 인간의 보행 주기를 설명하기 위한 도면이다.

인간의 보행 주기는 한쪽 발(도면에서 빗금으로 표시한 부분)을 기준으로 크게 입각기(stance phase)와 유각기(swing phase)로 구분된다.

입각기(stance phase)는 보행 중 발의 일부분이 지면에 닿아 있는 상태이다. 이러한 입각기(stance phase)는 발뒤축접지(a, heel strike), 하중반응기(b, loading response), 입각중기(c, midstance), 발뒤축들림(d, heel off), 및 발가락들림(e, toe off)의 5단계로 구분할 수 있다.

발뒤축접지(heel strike)는 입각기 중에 발뒤꿈치 부분의 외측이 지면에 접촉되는 순간을 의미한다. 이때에는 지면반력(GRF, ground reaction force)에 의해 거골하관절(subtalar joint)에서 회내(pronation)와 외번(eversion)이 발생하여 지면 충돌로 인한 충격을 흡수할 수 있다(도 1의 (a)에 도시함).

하중반응기(loading response)는 발뒤축접지(heel strike) 후에 발바닥 전체가 지면에 접촉되면서 지속적인 회내(pronation)가 발생하여 발에 가해지는 충격을 흡수하고 체중을 분산하여 불규칙한 지면에 발을 적응시키는 과정이다(도 1의 (b)에 도시함).

입각중기(midstance)는 발에 체중이 실리는 단계이다(도 1의 (c)에 도시함).

발뒤축들림(heel off)은 발의 뒤축이 들리는 단계이다(도 1의 (d)에 도시함).

발가락들림(toe off)은 발 끝이 들리는 단계이다(도 1의 (e)에 도시함).

한편, 유각기(swing phase)는 발 전체가 지면과 떨어져 있는 상태를 의미한다.

보행은 입각기와 유각기(swing phase)가 반복적으로 순환하여 이루어진다.

도 2 내지 도 4는 보행 과정에서 발생할 수 있는 발의 움직임에 따른 용어를 설명하기 위한 도면이다. 도 2는 오른발의 발목(ankle)을 뒤쪽에서 본 상태를 도시한 도면이고, 도 3은 왼발을 기준으로 회내(pronation)와 회외(supination)를 모형화하여 도시한 도면이다.

먼저, 회내(pronation)는, 도 2의 (a)에 도시한 바와 같이, 오른발의 발목을 기준으로 발목 부분이 몸의 안쪽인 화살표 방향으로 움직이는 것을 의미하며, 도 3의 A 및 C와 같은 운동이 발생한다.

그리고 회외(supination)는, 도 2의 (b)에 도시한 바와 같이, 오른발의 발목을 기준으로 발목 부분이 몸의 바깥쪽 방향으로 움직이는 것을 의미하며, 도 3의 B 및 D와 같은 운동이 발생한다.

내번(inversion)은, 도 4의 (a)에 도시한 바와 같이, 발이 내측으로 회전이동(twisting movement of the foot inward)하는 것을 의미한다.

외번(eversion)은, 도 4의 (b)에 도시한 바와 같이, 발이 외측으로 회전이동(twisting movement of the foot outward)하는 것을 의미한다.

발바닥쪽 굽힘(plantarflexion)은, 도 4의 (c)에 도시한 바와 같이, 발이 발바닥 방향으로 구부러짐이 발생하는 것을 의미한다.

발등굽힘(dorsiflexion)은, 도 4의 (d)에 도시한 바와 같이, 발이 발등 방향으로 구부러짐이 발생하는 것을 의미한다.

내전(adduction)은, 도 4의 (e)에 도시한 바와 같이, 바디의 센터라인에서 내측으로 이동하는 것을 의미한다.

외전(abduction)은, 도 4의 (f)에 도시한 바와 같이, 바디의 센터라인에서부터 외측으로 이동하는 것을 의미한다.

상술한 유각기(swing phase)에서는 신체의 원위부(사지의 말단부위)가 자유로운 상태로 수행되는 운동인 열린 사슬운동(OKC: open kinetic chain)이 진행되며, 발은 회외(supination) 상태가 된다. 회외(supination)는 거골하 내번(subtalar inversion), 발목관절의 발바닥쪽굽힘(ankle plantarflexion), 및 전족부 내전(forefoot adduction)이 동시에 발생한 상태로, 유각기(swing phase)에서의 발은 회외에 의하여 발뼈들이 서로 간에 맞물리게 되어 발길이가 짧아지고 단단한 상태(rigid lever)에 놓이게 된다.

발뒤축접지(heel strike) 시에는 발뒤꿈치가 지면과 접촉하면서 지면반력(GRF, ground reaction force)이 발생한다. 유각기(swing phase)의 딱딱해진 발은 지면반력(GRF)을 받으면서 회내(pronation)가 발생한다. 회내(pronation) 상태에서는 거골하 외번(subtalar eversion), 발목관절의 발등쪽굽힘(ankle dorsiflexion), 전족부 외전(forefoot abduction)이 발생하는데, 이러한 회내(pronation)에 의하여 압축된 발이 펴지고 유연해지면서 지면충돌로 인한 충격을 흡수하게 된다. 특히 거골하 외번(subtalar eversion)은 발뼈들 사이를 벌어지게 하는데, 발뒤축접지(heel strike) 이후 하중반응기(loading response)가 이어지면서 지속적으로 거골하 외번(subtalar eversion)이 발생하여 발에 가해지는 충격을 흡수하고 부하되는 체중은 분산되어 불규칙한 지면에 발을 적응시키게 된다.

발뒤축접지(heel strike)와 하중반응기(loading response)를 거치면서 유연해진 발은 입각중기(midstance) 이후 지면을 밀치면서 전진하여야 하므로 다시 단단한 상태로 변화하게 된다. 즉, 입각중기 이후 회외(supination)가 다시 유발되고 이와 함께 중족지관절이 신전되면서 윈드래스 효과(windlass effect)가 발생하여 발은 다시 단단한 상태에 놓이게 된다.

도 5는 발의 골격 구조로 중족지관절에서 신전 및 굴곡이 발생하는 부분을 선으로 도식하였고, 도 6과 도 7은 발의 윈드래스 효과(windlass effect)를 설명하기 위한 도면이다. 입각기 중 입각중기(midstance) 이후에는 발의 윈드래스 효과(windlass effect)가 발생한다. 발의 윈드래스 효과는 입각중기 이후 발뒤꿈치가 지면에서 떨어지면서 중족지관절(도 4에 도시)이 신전(MTP extension, extension of metatarsophalangeal joints)되고, 이로 인하여 족저근막(plantar fascia)이 팽팽해지고, 결과적으로 발의 세로활(longitudinal arch)이 올라가면서 발뼈들이 서로 간에 단단히 맞물리면서 발이 압축되고 단단해지는 상태로 변화하게 된다.

하이힐을 신은 경우에는 상기와 같은 발의 자연스러운 움직임이 극히 제한된다. 도 8의 (a)는 하이힐을 신은 상태의 외형도이고, 도 8의 (b)는 하이힐을 신은 상태에서의 윈드래스 효과(windlass effect)를 도시하고 있다.

하이힐을 신은 발은 항상 중족지관절이 신전된 상태이므로 보행 주기와 관계없이 윈드래스 효과(windlass effect)가 지속적으로 발생하게 된다. 또한 발목관절의 바닥쪽굴곡(plantarflexion)과 함께 과도한 회외(supination)가 지속적으로 유지되므로 결과적으로 발목과 발관절의 움직임이 제한(limited motion of ankle and foot joints)되는 상태가 계속적으로 유지된다.

이러한 상태에서 발뒤축접지(heel strike) 단계에 진입하더라도 회내(pronation)가 발생하지 않고 중족지관절(metatarsophalangeal joints)은 신전상태가 유지되므로 지면충돌로 인한 충격을 흡수하지 못하고 지면접촉 시에 부하되는 체중도 분산되지 않는다.

또한, 기존의 하이힐을 신게 되면 안정성 측면에서도 문제가 발생할 수 있다.

지면과 접촉되는 모든 지점들 중에서 가장 외측에 위치하는 점들을 연결한 영역을 지지기저면(BOS, base of support)이라 하는데, 지지기저면(BOS)은 기립 시 또는 보행 시의 안전성(stability)와 밀접한 관련이 있다.

도 9는 지지기저면(BOS)과 안정성과의 관계를 설명하기 위한 도면이다.

도 9의 (a)는 기립 시 발을 약간 벌린 상태의 지지기저면(BOS)을 나타낸다. 점선은 발의 최외각 점들을 연결한 것으로 지지기저면(BOS)을 나타낸다. 그리고 도 9의 (b)는 양쪽으로 지팡이를 짚고 서 있는 상태의 지지기저면(BOS)을 나타낸다. 이 경우의 지지기저면은 발바닥 면적을 포함하는 점선 내부의 면적이다. 도 9의 (b)에서 양쪽의 P1은 지팡이가 지면과 접촉하는 지팡이 지면 접촉부이다.

이러한 지지기저면(BOS)이 넓은 도 9 (b)의 안정성이 높고, 지지기저면(BOS)이 좁은 (a)의 안정성이 낮다. 즉, 지지기저면(BOS)의 넓이와 안정성은 상호 비례하는 관계가 있다. 또한, 다리의 축을 따라 지면으로 내려오는 체중부하선(load line)이 지지기저면의 안쪽으로 떨어져야 안정성(stability)이 유지된다.

도 10은 본 발명의 제1 실시예를 설명하기 위해 하이힐의 체중부하 구조물이 적용된 하이힐을 도시한 도면이고, 도 11는 도 10의 정면도이고, 도 12은 도 11의 저면 사시도이다. 하이힐은 사람의 발을 감싸는 몸체부(B)와 몸체부(B)에 결합되는 체중부하 구조물을 포함한다.

본 발명의 실시예에 따른 지면과 선형접촉을 갖는 하이힐의 체중부하 구조물은 힐부(1), 지주부(3), 및 발바닥 커버부(5)를 포함한다.

힐부(1)는 보행 시 지면과 접촉되는 구조물로써 지면과 선형으로 접촉된다.

즉, 힐부(1)는 지면과 접촉되는 부분 또는 이를 포함한 전체가 일정한 두께를 가지는 라운드 모양으로 이루어질 수 있다.

힐부(1)는 사람의 발뒤꿈치의 외측면의 모양과 같은 형태로 이루어지는 것이바람직하다.

도 13은 본 발명의 힐부(1)의 폭(W) 결정 목적으로 진행된 실험 결과를 얻는 과정을 설명하기 위한 도면이다.

적정한 힐부(1)의 폭(W)을 결정하기 위해 스틸레토 힐을 신은 다수의 여성들을 대상으로 초고속 동영상 촬영을 이용하여 발뒤축접지(heel strike) 순간 내번(inversion) 각도를 측정하기 위한 실험을 진행하였다. A는 발 뒤꿈치 중심선(O)과 체중부하선(LL)의 교차점으로서 내번(inversion)이 되는 기점이고, B는 하이힐의 체중부하 구조물의 최상단 중심점이다. 다수의 여성들을 대상으로 측정한 결과, A와 B 사이 거리의 평균값은 7.5cm였다. 상기 평균값과 실제 측정값과의 편차는 ±0.35cm 내로서 오차범위가 비교적 작아서 평균값 7.5cm를 힐부(1)의 폭(W)을 결정하기 위한 표준값으로 사용하였다.

체중부하선(load line)과 발 뒤꿈치 중심선(O)이 이루는 각도를 'α', 하이힐의 체중부하 구조물의 높이를 'H', 그리고 발 뒤꿈치 중심선(O)의 최하단 지점(C)으로부터 체중부하선(LL)까지의 거리를 'L'이라 하면, 다음과 같은 관계식이 성립한다.

tan α = L / (7.5 + H)

다수의 여성들을 대상을 실험을 진행한 결과, 전체 여성들의 상기 α는 평균 4.489°였으나, 평소에 하이힐을 거의 신지 않는 여성들의 상기 α는 평균 5.384°로 유의미하게 달랐다. 아래 표는 상기 실험결과에 따라 발 뒤꿈치 중심선(O)의 최하단 지점(C)으로부터 체중부하선(LL, load line)까지의 거리를 나타낸 표이다.

	heel height (cm)
	6	7	8	9	10	11	12	13
α = 4.489' (전체 평균값)	1.06	1.14	1.22	1.30	1.37	1.45	1.53	1.61
α = 5.384' (평소 하이힐을 신지 않는 군의 평균값)	1.27	1.37	1.46	1.56	1.65	1.74	1.84	1.93

<표 1: 발 뒤꿈치 중심선의 최하단 지점과 체중부하선간 거리 1>

	heel height (cm)
	14	15	16	17	18	19	20
α = 4.489' (전체 평균값)	1.69	1.77	1.84	1.92	2.00	2.08	2.16
α = 5.384' (평소 하이힐을 신지 않는 군의 평균값)	2.23	2.12	2.21	2.31	2.40	2.50	2.59

<표 2: 발 뒤꿈치 중심선의 최하단 지점과 체중부하선간 거리 2>

상기 실험에 의해서 도출된 표의 수치는 힐부(1)의 폭(W)을 결정하는 수치로 사용될 수 있다. 즉, 하이힐의 체중부하 구조물의 높이(H)에 따라 상기 표 수치의 2배 이상이 되도록 힐부(1)의 폭(W)을 결정할 수 있다. 예를 들어, 구조물의 높이가 9cm인 경우 1.30cm의 2배인 2.6cm 이상이 되도록 힐부(1)의 폭(W)을 결정할 수 있다.

또는, 하이힐의 체중부하 구조물의 높이(H)에 따라 변동하지 않는 힐부(1)의 폭이 선택될 수 있으며, 상기 실험 결과를 반영하여 보행 시 안정성이 유지되도록 힐부(1)의 폭(W)을 결정할 수 있다. 이 경우 구조물 높이(H)가 6cm인 경우의 하이힐에 익숙한 군을 기준으로 하여 힐부(1)의 폭(W)은 2.12cm 이상으로 제공되는 것이 바람직하다. 더욱 바람직하게는, 하이힐의 체중부하 구조물의 높이(H)가 20cm가 되는 경우도 있으나 일반적으로 하이힐의 체중부하 구조물의 높이(H)는 6~13cm인 경우가 대부분이라는 점을 반영하여, 평소 하이힐을 신지 않는 군 그리고 체중부하 구조물의 높이 13cm를 기준으로 힐부(1)의 폭(W)은 3.86cm 이상으로 제공될 수 있다.

힐부(1)의 폭(W)이 2.12cm 이상이면 체중부하선(LL)이 지면으로 떨어지는 지점이 지지기저면(BOS, base of support) 내부에 형성되어 안정성을 확보할 수 있다. 힐부(1)의 폭(W)이 3.86cm 이상이면 체중부하선(LL)이 지면으로 떨어지는 지점이 대부분 지지기저면(BOS) 내부에 형성되므로 보행 시 충분한 안정성을 확보할 수 있다.

또한, 힐부(1)의 폭(W)의 최대치도 제한될 수 있다. 예를 들어, 하이힐의 체중부하 구조물의 높이(H)가 13cm인 경우를 기준으로, 체중부하선(LL)이 지면으로 떨어지는 지점이 발 뒤꿈치 중심선(O)의 최하단 지점(C)과 힐부(1)의 사이드 측 사이의 중간 지점에 형성될 수 있도록 힐부(1)의 폭(W)이 결정될 수 있다. 이 경우 힐부(1)의 폭(W)은 7.72cm가 될 것이다. 상기와 같이 힐부(1)의 폭(W)의 최대치를 제한함으로써 힐부(1)의 폭(W)이 지나치게 넓어져서 발생할 수 있는 심미감의 저하를 방지할 수 있다.

힐부(1)는 최대폭보다 자유단(발 끝을 향하는 부분) 사이의 폭이 좁게 이루어질 수 있다.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 지면과 선형접촉을 갖는 하이힐의 체중부하 구조물은 지면과 선형접촉성을 위해 힐부(1)의 두께를 제한할 수 있다.

힐부(1)의 두께 T1은, 도 12에 도시한 바와 같이, 힐부(1)의 지면과 접촉하는 가운데 부분의 두께이며, T2는 발끝 쪽 방향을 향하는 자유단 측 부분의 두께를 의미한다.

힐부(1)의 두께가 일정할 필요는 없으며 부분별로 두께가 달라질 수 있다.

힐부(1)의 두께의 최대폭은 제한될 수 있으며, 힐부(1)의 최대폭이 1.8cm 이하가 되도록 형성되는 것이 바람직하다. 힐부(1) 두께의 최대치가 1.8cm를 초과하면, 지면접촉시의 선형성이 약화될 수 있고 지나치게 투박하여 심미감이 저하될 수 있다.

또한, 힐부(1)의 두께는, 디자인이나 안정성 측면에서, 가운데 부분(T1으로 표시)에서 두껍고 자유단(T2)으로 갈수록 얇아지도록 제공될 수 있다.

힐부(1)는 플라스틱과 같은 비금속 재료 또는 금속재료 등 다양한 소재의 탄성재로 이루어질 수 있다.

이와 같이 지면과 접촉하는 힐부(1)는 입각기의 하중반응기(loading response)에서 지면과 선접촉될 수 있고, 하이힐 전체의 무게도 줄일 수 있다.

이러한 본 발명의 실시예는 보행의 안정성을 향상시킬 수 있고, 무게가 줄어들어 보행이 편리한 이점이 있다.

일반적인 보행주기에서 발뒤축접지(heel strike) 시에는 지면과 점 또는 선형접촉이 발생하지만 하중반응기(loading response) 이후에는 발바닥이 지면과 접촉하는 면접촉이 발생한다. 실제 세계에서 완전한 '점'과 완전한 '선'은 존재하지 않으므로, 상기의 '점'과 '선'은 '면'에 대응한 상대적인 개념이며, 이하에서도 '점'과 '선'은 '면'에 대응한 상대적인 개념으로 기재한다.

하중반응기(loading response) 이후 뒤꿈치 영역에서 스틸레토 힐(stiletto)의 경우 점 접촉이, ?지 힐(wedge heel)의 경우 면 접촉이 발생한다.

본 발명의 실시예에 따른 지면과 선형접촉을 갖는 하이힐의 체중부하 구조물은 하중반응기(loading response) 이후에도 뒤꿈치 영역에서 지면과 선형으로 접촉된다.

본 발명의 실시예에 따른 지면과 선형접촉을 갖는 하이힐의 체중부하 구조물의 힐부(1)는 지면과 곡선(curved linear)으로 접촉하도록 제공될 수 있다. 예를 들어, 힐부(1)는 발끝 부분이 오픈되고 발 뒤꿈치 측이 라운드 모양으로 만곡되는 형태로 제공될 수 있다.

본 발명에 따른 지면과 선형접촉을 갖는 하이힐의 체중부하 구조물은 ?지 힐(wedge heel)보다도 기립 시의 지지기저면(BOS)이 넓어 더욱 안정적이다. 또한, 발뒤축접지(heel strike) 시에 힐부(1)의 넓이에 의해서 지지기저면(BOS)이 좌우되기 때문에 보행 시에도 안정성이 높다.

또한, 힐부(1)가 지면과 선 접촉을 유지하기 때문에 면접촉을 하는 ?지 힐에 비해 하이힐의 무게를 경량화할 수 있다.

힐부(1)가 탄성재로 제공되면 발뒤축접지(heel strike) 시에 발생하는 충격이 발목관절, 거골하관절, 무릎관절 등에 그대로 전달되는 것을 완화할 수 있다.

지주부(3)는 힐부(1)에서 연장된다. 이러한 지주부(3)는 발바닥 커버부(5)와 힐부(1)를 연결하면서 하이힐의 높이를 유지하는 기능을 수행할 수 있다. 지주부(3)는 힐부(1)의 단면 형태와 동일하거나 유사한 형태의 하나의 지주로 제공될 수 있다.

지주부(3)는 본 발명의 제1 실시예에서 힐부(1)의 뒤쪽 부분에서 연장되어 발바닥 커버부(5)와 연결되는 예를 도시하여 설명한다.

본 발명의 제1 실시예의 지주부(3)는 발뒤꿈치 측을 향하는 부분이 볼록한 라운드 형태를 이루고 일정한 두께를 가지며 발끝 부분 측이 라운드 형태로 오픈된 모양을 이룰 수 있다.

본 발명의 제1 실시예의 지주부(3)는 힐부(1)와 동일한 두께를 가질 수 있다. 그리고 본 발명의 제1 실시예의 지주부(3)는 측면이 오픈된 공간을 이룰 수 있다. 즉, 지주부(3)는 힐부(1)에서 뒤꿈치 부분만 발바닥 커버부(5)에 연결되고 사이드측 부분은 공간으로 이루어질 수 있다. 본 발명의 제1 실시예의 지주부(3)는 힐부(1)와 발바닥 커버부(5)가 연결되는 사이드측 부분이 만곡된 모양, 즉, 발끝 측을 향해 오목한 모양의 곡선으로 이루어질 수 있다.

이러한 본 발명의 지주부(3)의 구조는 하이힐의 안정성을 확보하고 기존에 비해 더욱 경량화할 수 있으면서 외관의 미려함을 증대시킬 수 있다.

특히, 본 발명의 지주부(3)의 힐부(1)와 발바닥 커버부(5)를 연결하는 형상은 구조적 안정성을 가짐과 동시에 충격을 흡수하는 구조가 될 수 있다.

지주부(3)는 플라스틱과 같은 비금속 재료 또는 금속재료 등 다양한 소재의 탄성재로 이루어질 수 있다. 지주부(3)가 탄성재로 이루어지는 경우, 발뒤축접지(heel strike) 시 발생되는 충격을 흡수하여 인체에 가해지는 충격을 충분하게 흡수할 수 있다. 본 발명의 힐부(1), 지주부(3) 그리고 발바닥 커버부(5)는 동일한 재질로 일체로 성형되거나 포밍되어 제작될 수 있다.

발바닥 커버부(5)가 지주부(3)에 연장되어 제공된다. 발바닥 커버부(5)는 하이힐의 겉창(outsole) 또는 몸체부(B)에 연결될 수 있다.

본 발명이 제1 실시예의 발바닥 커버부(5)는 지주부(3)가 발 뒤꿈치 부분에 연결될 수 있다.

힐부(1), 지주부(3) 그리고 발바닥 커버부(5)는 소정의 두께를 가지는 구조로 이루어지고 그의 내부가 공간으로 이루어져 더욱 경량화할 수 있으며, 외관의 미려함을 가지도록 디자인할 수 있다.

도 14는 맨발과 하이힐 착용 상태의 지지기저면(BOS)과 체중부하선(load line)의 이동을 기존의 것과 본 발명의 실시예를 비교하여 설명하기 위한 도면이다.

도 14의 Ⅰ은 맨발, 스틸레토힐, ?지 힐, 그리고 본 발명의 실시예의 바닥의 모양을 비교한 도면이다. 도 14의 Ⅱ는 맨발, 스틸레토힐, ?지 힐, 그리고 본 발명의 실시예의 지면접촉면의 모양을 비교한 도면이다. 도 14의 Ⅲ은 맨발, 스틸레토힐, ?지 힐, 그리고 본 발명의 실시예를 비교하여 기립시 지지기저면(BOS)을 도시한 도면이다(빗금으로 표시).

도 14의 Ⅳ는 맨발, 스틸레토 힐, ?지 힐, 그리고 본 발명의 실시예를 비교하여 이동시의 지지기저면(BOS_빗금 부분)과 체중부하선(load line)의 이동(화살표로 표시)을 표시하여 비교한 도면이다. 도 14의 Ⅳ의 (d)에서 이동시는 발뒤축접지(heel strike) 후 하중 반응기(loading reponse)의 전까지(발가락이 지면에 접촉되기 전까지)의 이동을 의미한다. 그리고 도 14의 Ⅳ의 점선은 이동시의 지지기저면(BOS)에 의해 형성된 중간 안정 영역(medio-lateral boundary of stable area)의 경계를 표시한 것이다. 첨부된 도 14의 Ⅲ을 참조하면, 기립 시 스틸레토 힐(stiletto)의 지지기저면(BOS)이 가장 좁아 안정성이 가장 낮다는 사실을 알 수 있다. ?지 힐(wedge heel)의 경우 스틸레토 힐(stiletto)보다는 지지기저면(BOS)이 넓어 안정성이 다소 높지만, 맨발의 경우보다는 안정성이 떨어진다.

도 14의 Ⅳ를 참조하면, 화살표는 발뒤축접지(heel strike) 이후 하중반응기(loading response)로 진행되면서 체중부하선(load line)의 이동을 나타내고, 점선은 힐 구조의 지지기저면(BOS)에 의해 형성되는 중간 안정 영역(medio-lateral boundary of stable area)을 나타낸다. 스틸레토 힐(stiletto heel)의 경우 체중부하선(load line) 이동이 중간 안정 영역(medio-lateral boundary of stable area) 외부에서 이루어지기 때문에 보행이 매우 불안정할 수 있다. 이러한 보행시 불안전성 때문에 보행주기에서 발뒤축접지(heel strike)를 생략하고 바로 하중반응기(loading response)로 이행되기도 하는데, 이러한 보행 패턴은 지면 접촉 시 발생하는 충격을 흡수하지 못하고 그대로 관절에 전달하게 한다.

?지 힐(wedge heel)의 경우에도 체중부하선(load line) 이동이 중간 안정 영역(medio-lateral boundary of stable area)의 경계선 근처에서 이루어지기 때문에 안정성이 떨어진다.

도 14의 Ⅳ의 (d)는 본 발명의 실시예로 체중부하선(load line) 이동이 중간 안정 영역(medio-lateral boundary of stable area)의 중심선에 가까운 부분에 형성되어 보행시 안정성을 확보할 수 있다.

도 15의 (a)는 맨발인 경우, (b)는 스틸레토의 힐의 경우, (c)는 ?지 힐의 경우, 그리고 (d)는 본 발명의 실시예의 경우로, 보행시 체중부하선(load line), 지면반력(GRF, ground reaction force), 및 외적 모멘트(external moment) 간의 관계를 나타낸다. 스틸레토 힐(stiletto heel)의 경우 체중부하선(load line)을 기준으로 내측 방향에 지면반력의 작용점이 존재하기 때문에 외적 모멘트(external moment)가 바깥 방향으로 작용하여 발뒤축접지(heel strike)와 하중반응기(loading response) 동안 발목이 바깥 방향으로 꺾이게 되어 발목이 손상될 위험이 커진다.

?지 힐(wedge heel)의 경우 체중부하선(load line)을 기준으로 외측 방향에 지면반력의 작용점이 존재하지만 체중부하선(load line)이 지면에 떨어지는 지점과 지면반력의 작용점이 가까워서 외적 모멘트(external moment)가 안쪽 방향과 바깥 방향으로 동시에 작용하므로 여전히 발목의 손상 위험이 존재한다.

상기와 같은 발목 손상의 위험을 피하기 위하여 스틸레토 힐(stiletto heel)이나 ?지 힐(wedge heel)을 착용하는 경우에는 입각기(stance phase)에 발뒤축접지(heel strike) 단계와 하중반응기(loading response) 단계를 생략한 채 바로 중기입각기(midstance) 단계로 진입하게 됨으로써 비정상적인 보행 메커니즘이 수행되어 충격 및 체중부하를 흡수하는 데 장애가 발생하게 된다.

본 발명의 실시예는 맨발과 마찬가지로 체중부하선(load line)을 기준으로 외측 방향에 지면반력(GRF)의 작용점이 존재하고 체중부하선(load line)이 지면에 떨어지는 지점과 지면반력의 작용점이 충분하게 떨어져 외적 모멘트(external moment)가 작용한다. 그리고 본 발명의 실시예는 이와 동시에 외적 모멘트(external moment)가 지면 반발력(GRF)과 반대 방향으로 작용하여 서로의 힘이 상쇄되어 더욱 안정적인 보행을 할 수 있다.

본 발명의 실시예에 따른 지면과 선형접촉을 갖는 하이힐의 체중부하 구조물의 효과를 설명한다.

본 발명의 실시예에 따른 지면과 선형접촉을 갖는 하이힐의 체중부하 구조물은 힐부(1)가 맨발 뒤꿈치의 외측 경계선 형태를 따르도록 제공되기 때문에 맨발과 지지기저면(BOS)의 넓이가 유사하거나 보다 넓다. 따라서, 본 발명에 따른 지면과 선형접촉을 갖는 하이힐의 체중부하 구조물은 매우 높은 안정성(stability)을 제공할 수 있다.

보행 시에도 본 발명의 실시예에 따른 지면과 선형접촉을 갖는 하이힐의 체중부하 구조물의 경우 체중부하선(load line) 이동이 중간 안정 영역(medio-lateral boundary of stable area)의 중앙과 가까운 곳에서 이루어지기 때문에 맨발과 유사하거나 보다 높은 안정성을 확보할 수 있다.

본 발명의 실시예에 따른 지면과 선형접촉을 갖는 하이힐의 체중부하 구조물은 맨발의 경우와 유사하게 체중부하선(load line) 바깥 방향에서 체중부하선(load line)과 충분한 거리가 있는 지점에서 지면반력이 작용하게 되어 외적 모멘트(external moment)가 안쪽으로 생성되므로 정상적인 보행 메커니즘을 수행할 수 있다. 따라서, 보행 시 발생하는 충격 및 체중부하를 효율적으로 흡수할 수 있다.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 지면과 선형접촉을 갖는 하이힐의 체중부하 구조물은 힐부(1)가 선형으로 제공되기 때문에 ?지 힐(wedge heel)에 비해서 하이힐의 무게를 경량화할 수 있다.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 지면과 선형접촉을 갖는 하이힐의 체중부하 구조물은 지주부(3)가 일정한 두께를 가지는 라운드 모양이나 2 이상의 지주로 제공되어 하이힐의 무게를 경량화할 수 있다. 특히, 지주부(3)가 2 이상의 지주로 제공될 경우, 투박한 형태의 ?지 힐(wedge heel)과는 달리, 여러 가지 형태의 지주로 구성될 수 있어서 다양한 디자인적 변형을 추구할 수 있으므로 디자인 면에서 뛰어난 효과가 있다.

본 발명의 실시예에 따른 하이힐의 체중부하 구조물의 충격 및 체중부하를 흡수하는 메커니즘을 설명한다.

본 발명의 실시예에 따른 하이힐의 체중부하 구조물은 발뒤축접지(heel strike) 및 하중반응기(loading response)에서 자연스럽게 외번(eversion)과 유사한 움직임을 유도하게 되며, 이에 따라 거골하관절은 부드럽고 지연된 운동을 하게 되어 충격 및 체중부하를 흡수하거나 분산할 수 있다.

본 발명의 실시예에 따른 하이힐의 체중부하 구조물은 힐부(1), 지주부(3) 등이 탄성재로 제공될 경우, 발뒤축접지(heel strike) 시에 발생하는 충격을 탄성에 의해 일정한 정도가 흡수될 수 있어서, 발목관절, 거골하관절, 무릎관절 등에 충격이 그대로 전달되는 것을 완화할 수 있다.

발뒤축접지(heel strike) 시 지면반력(GRF)이 유발되고, 지면반력(GRF)에 의하여 하이힐의 체중부하 구조물을 지면쪽으로 회전시키는 모멘트와 내측으로 회전시키는 모멘트가 발생된다. 본 발명에 따른 지면과 선형접촉을 갖는 하이힐의 체중부하 구조물은 발뒤축접지(heel strike) 시 지주부(3)의 후방 영역이 벌어지면서 충격을 흡수하고, 상기 회전 모멘트를 감소시켜 지면반력이 유발할 수 있는 관절의 급격한 움직임이 부드럽고 지연된 움직임으로 전환되도록 하는 기능을 수행할 수 있다.

도 16은 본 발명의 제2 실시예를 설명하기 위해 하이힐의 체중부하 구조물을 도시한 도면이다.

본 발명의 실시예의 다른 예시의 설명은 상술한 예의 설명과 동일한 부분에 대해서는 상기한 설명으로 대치하여 생략하고 다른 부분만을 설명하기로 한다.

본 발명의 제2 실시예의 힐부(1)는 그의 형상이 지면과 선접촉으로 이루어지는 구조는 동일하다.

본 발명의 제2 실시예는 지주부(3)가 2개의 지주(3a, 3b)로 구성될 수 있다. 지주부(3)가 2개의 지주(3a, 3b)로 제공될 경우, 2개의 지주(3a, 3b)는 직선형으로 서로 나란한 형태로 제공될 수 있다. 2개의 지주(3a, 3b)는 힐부(1)의 내측과 외측에서 각각 연장되어 발바닥 커버부(5)의 내측과 외측을 지지하는 형태로 제공될 수 있다.

본 발명의 제2 실시예의 지주부(3)는 발뒤꿈치 뒤쪽 방향이 발의 길이 방향으로 관통된 모양으로 이루어진다. 지주부(3)는 힐부(1)의 선단부(발끝을 향하는 부분) 측에서 연장되어 발바닥 커버부(5)에 결합될 수 있다.

또한, 본 발명의 제2 실시예는 지주부(3)가 발바닥 커버부(5)에 연결될 때, 측면에서 보아 위쪽 방향으로 경사지는 모양으로 이루어질 수 있다. 즉, 지주부(3)는 하이힐의 체중부하 구조물을 측면에서 보아 힐부(1)에서 발바닥 커버부(5)의 뒤쪽(발뒤꿈치 쪽)으로 연결되어 경사진 모양을 이룰 수 있다.

또한, 본 발명의 제2 실시예는 제1 지주(3a)는 힐부(1)의 외측에서 연장되어발바닥 커버부(5)의 내측을 지지하고 제2 지주(3b)는 힐부(1)의 내측에서 연장되어 발바닥 커버부(5)의 외측을 지지하는 형태로 제공될 수 있는데, 이 경우 제1 지주(3a)와 제2 지주(3b)는 서로 교차하는 모양으로 형성될 수 있다.

이러한 본 발명의 제2 실시예는 다양한 형상으로 구성하여 심미감을 향상시킬 수 있다.

도 17은 본 발명의 제3 실시예를 설명하기 위해 하이힐의 체중부하 구조물을 도시한 도면이다.

본 발명의 제3 실시예는 상술한 실시예와 동일한 부분은 그의 설명으로 대치하고 다른 점만을 설명하기로 한다.

본 발명의 제3 실시예는 지주부(3)가 2개의 지주(3a, 3b)로 구성될 수 있다. 2개의 지주(3a, 3b) 중 하나의 지주(3b)는 발바닥 커버부(5)의 발뒤꿈치의 후방을 지지할 수 있다. 그리고 2개의 지주(3a, 3b) 중 다른 하나의 지주(3a)는 발바닥 커버부(5)의 발뒤꿈치의 전방 부분을 지지하는 형태로 제공될 수 있다.

2개의 지주(3a, 3b)는 각각 곡선형으로 제공될 수 있다. 2개의 지주(3a, 3b)는 비대칭이거나 서로 형상이 다르게 제공될 수 있다. 2개의 지주(3a, 3b)는 배면에서 보아 서로 엇갈려서 교차되는 모양으로 이루어질 수 있다.

본 발명의 제3 실시예의 다른 예시로, 하나의 지주가 발바닥 커버부(5)의 일측면에 연결될 수 있고, 다른 하나의 지주는 발바닥 커버부(5)의 반대측 측면에 연결되거나 또는 발바닥 커버부(5)의 발뒤꿈치 전방측에 연결될 수 있다.

이러한 본 발명의 제3 실시예는 탄성체로 이루어진 경우 체중을 분산시키는데 더욱 유리한 구조이며, 외관의 미려함을 더욱 증대시킬 수 있다.

도 18은 본 발명의 제4 실시예를 설명하기 위해 하이힐의 체중부하 구조물을 도시한 도면이다.

본 발명의 제4 실시예는 상술한 실시예와 비교하여 동일한 부분은 그의 설명으로 대치하고 다른 점만을 설명하기로 한다.

본 발명의 제4 실시예의 지주부(3)는 3개 이상의 지주(3a, 3b, 3c)로 구성될 수 있다. 3개 이상의 지주(3a, 3b, 3c)는 각각 발바닥 커버부(5)의 내측을 지지하는 제1 지주(3a), 외측을 지지하는 제2 지주(3b), 그리고 후방을 지지하는 제3 지주(3c)를 포함할 수 있다.

제1 지주(3a)와 제2 지주(3b)는 발바닥 커버부(5)에 연결되는 부분에서 서로 모아지는 형태로 이루어질 수 있다. 그리고 제3 지주(3c)는 힐부(1)의 발 뒤꿈치 측에서 발바닥 커버부(5)로 연결될 수 있다.

지주부(3)가 3개 이상의 지주(3a, 3b, 3c)로 제공될 경우, 직선형 및 다양한 곡선형으로 제공될 수 있고, 발바닥 커버부(5)의 다양한 지점을 연결하여 지지할 수 있기 때문에, 지면과 선형접촉을 갖는 하이힐의 체중부하 구조물은 하이힐에 디자인적 다양성을 부여할 수 있다.

본 발명의 제4 실시예에서 제1 지주부(3a)와 제2 지주(3b)는 서로 대칭을 이루어 발바닥 커버부(5)의 발뒤꿈치 전방 측에 연결될 수 있다. 그리고 제1 지주(3a)와 제2 지주(3b)는 측면에서 보아 중간부가 발끝을 향하는 방향으로 돌출되어 만곡된 모양을 이룰 수 있다. 이러한 본 발명의 제4 실시예는 탄성력에 의해 충격흡수를 극대화시키면서도 외관의 미려함을 유지할 수 있다.

도 19는 본 발명의 제5 실시예를 설명하기 위해 하이힐의 체중부하 구조물을 도시한 사시도이다.

본 발명의 제5 실시예의 설명은 상술한 실시예의 설명과 비교하여 다른 점만을 설명하고 상술한 실시예와 동일한 부분은 그의 설명으로 대치하기로 한다.

본 발명의 제5 실시예에 따른 지면과 선형접촉을 갖는 하이힐의 체중부하 구조물의 지주부(3)는 전방으로 만곡되는 형태로 제공될 수 있다. 바람직하게는, 지주부(3)는 그의 만곡 정도가 전방의 만곡도(c1)보다 후방의 만곡도(c2)가 더 큰 형태로 이루어질 수 있다. 또한, 본 발명의 제5 실시예는 전방의 만곡도(c1)는 제공되지 않고 후방의 만곡도(c2)만으로 이루어질 수 있다.

이와 같이 이루어지는 경우 발뒤축접지(heel strike) 시 지면반력(GRF)에 의하여 하이힐의 체중부하 구조물을 지면쪽으로 회전시키는 회전 모멘트(rotational moment)는 하이힐의 뒤꿈치 쪽이 내려가면서 지면쪽으로 회전시키는 회전 모멘트(rotational moment)를 더 잘 흡수할 수 있다.

도 20은 본 발명의 제6 실시예에 따른 지면과 선형접촉을 갖는 하이힐의 체중부하 구조물의 지주부(3)의 전방부위와 후방부위의 지주간 폭 차이를 설명하기 위한 도면이다.

본 발명의 제6 실시예는 상술한 실시예와 비교하여 동일한 부분은 그의 설명으로 대치하고 다른 점만을 설명하기로 한다.

지주부(3)가 후방부위 지주 사이의 폭(w1)이 전방부위 지주 사이의 폭(w2)보다 넓은 형태로 제공될 수 있다.

한편으로, 제1 실시예와 같이 지주부(3)가 하나의 지주로 구성될 경우, 후방부위(발뒤꿈치 측)의 지주부(3) 최대폭이 전방부위(발 끝을 향하는 측)의 폭보다 넓은 형태로 제공되는 것이 바람직하다.

이러한 구성은 하중을 더욱 안정적으로 지지하면서도 외관의 미려함을 증대시킬 수 있다.

힐부(1)와 지주부(3)는 발바닥 커버부(5)의 폭보다 더 크게 폭 방향으로 돌출되는 돌출부를 구비하여 간격 d1과 d2를 이룰 수 있다 (도 20에 도시함). 돌출부의 간격(d1, d2)은 발바닥 커버부(5)와 비교하여 내측으로 돌출되어 있는 내측의 돌출부가 이루는 간격(d2)과 발바닥 커버부(5)와 비교하여 외측으로 돌출되어 있는 외측의 돌출부가 이루는 간격(d1) 중 어느 하나를 포함하거나, 외측의 돌출부가 이루는 간격(d1)와 내측의 돌출부가 이루는 간격(d2)을 모두 포함할 수 있다. 외측의 돌출부가 이루는 간격(d1)와 내측의 돌출부가 이루는 간격(d2)을 모두 포함하는 경우, 외측의 돌출부가 이루는 간격(d1)이 내측의 돌출부가 이루는 간격(d2)에 비해 넓은 것이 바람직하다.

발뒤축접지(heel strike) 시 지면반력(GRF)에 의하여 하이힐의 체중부하 구조물을 내측으로 회전시키는 회전 모멘트(rotational moment)가 발생하는데, 탄성재로 제공된 지주부(3)의 전방부위 지주 사이의 폭이 후방부위 지주 사이의 폭보다 좁게 제공되거나 지주부(3)가 하나의 지주만으로 구성되어 지주부(3) 최대폭이 전방부위의 자유단 사이의 폭보다 넓은 형태로 제공될 경우, 발뒤축접지(heel strike) 시 발생하는 충격을 전방부위 쪽이 벌려지면서 내측으로 회전시키는 회전 모멘트(rotational moment)가 흡수될 수 있고, 이렇게 흡수된 에너지는 지주부(3)가 원상태로 리턴되면서 관절이 보다 부드럽고 지연되어 움직일 수 있도록 전환될 수 있다.

외측의 돌출부의 간격(d1)과 내측의 돌출부의 간격(d2)은 맨발 직립이나 맨발 보행의 경우보다 더 넓은 지지기저면(BOS)를 제공하여 맨발의 경우보다 높은 안정성(stability)을 제공할 수 있다.

도 21은 본 발명의 제7 실시예를 설명하기 위해 하이힐의 체중부하 구조물에서 발 전체를 커버하는 발바닥 커버부(5)를 나타낸 평면도이다.

본 발명의 제7 실시예는 상술한 실시예와 동일한 부분은 그의 설명으로 대치하고 다른 부분만을 설명하기로 한다.

본 발명이 제7 실시예의 발바닥 커버부(5)는 발꿈치 커버부(41), 발허리 커버부(43), 발볼 커버부(45), 및 발가락 영역을 하방에서 커버하는 발가락 커버부(47)를 포함할 수 있다. 발바닥 커버부(5)가 발꿈치 커버부(41), 발허리 커버부(43), 발볼 커버부(45), 및 발가락 커버부(47)를 모두 포함하는 경우 발바닥 커버부(5)는 겉창(outsole)의 역할을 할 수도 있다.

도 22는 본 발명의 제8 실시예를 설명하기 위해 하이힐의 체중부하 구조물을 도시한 측면도이다.

본 발명의 제8 실시예는 상술한 실시예와 동일한 부분은 그의 설명으로 대치하고 다른 부분만을 설명하기로 한다.

본 발명의 제8 실시예의 지주부(3)는 2 이상의 지주(3a, 3b)로 구성될 수 있고, 이 경우 발꿈치 커버부(41)를 하방에서 지지하는 제1 지주(3a)와 발허리 커버부(43)를 하방에서 지지하는 제2 지주(3b)를 포함할 수 있다.

제1 지주(3a)는 힐부(1)에서 연장되어 발꿈치 커버부(41)에 연결될 수 있다. 그리고 제2 지주(3b)는 힐부(1)에서 연장되어 발허리 커버부(43)에 연결될 수 있다. 이러한 본 발명의 제8 실시예의 구성은 발바닥 커버부(5)가 발허리 커버부(43)까지 연장되어 이루어진 경우이다.

발허리 커버부(43)는 저면이 지면에 측으로 돌출되어 연장되는 연장부(49)를 포함할 수 있다.

이러한 본 발명의 제8 실시예의 하이힐의 체중부하 구조물은 발허리 지주부(3)가 발바닥 커버부(5)에서 연장된 발허리 커버부(43)에 연결되어 하이힐에 디자인의 다양성을 부여할 수 있다.

도 23은 본 발명의 제9 실시예에 따른 하이힐의 체중부하 구조물의 공간부와 연결부를 나타낸 저면 사시도이다.

본 발명의 제9 실시예는 상술한 실시예와 동일한 부분은 그의 설명으로 대치하고 다른 부분만을 설명하기로 한다.

본 발명의 제9 실시예의 체중부하 구조물은 발바닥 커버부(5)의 발뒤꿈치 영역과 지주부(3) 사이에 일정한 간격(G)을 가지는 공간부(21)를 포함할 수 있다. 이 공간부(21)는 발바닥 커버부(5)가 하중을 지지할 때 탄성력에 의해 충격을 완충시키는 역할을 할 수 있다. 이러한 본 발명의 제9 실시예는 지주부(3)의 높이를 줄이면서도 하이힐의 체중부하 구조물의 전체 높이를 증대시켜 소비자의 욕구를 만족시킬 수 있다.

또한, 본 발명의 제9 실시예의 체중부하 구조물은 발바닥 커버부(5)와 지주부(3) 사이에 연결부(23)가 제공될 수 있다.

본 발명의 제9 실시예에서는 지주부(3)가 발허리 부분 또는 발 끝까지 연장된 예이다.

도 24는 본 발명의 제10 실시예를 설명하기 위하여 하이힐의 체중부하 구조물을 도시한 사시도이다.

본 발명의 제10 실시예는 상술한 실시예와 비교하여 동일한 부분은 그의 설명으로 대치하고 다른 부분만을 설명하기로 한다.

본 발명의 제10 실시예는 연결부(23)가 지면 방향으로 돌출되어 만곡되는 모양을 가진다. 즉, 연결부(23)는 발축 방향의 만곡도(r)와 발폭 방향의 만곡도(r')을 동시에 가질 수 있다.

본 발명의 제10 실시예에 따른 하이힐의 체중부하 구조물은 발뒤축접지(heel strike) 시 발생하는 충격을 발바닥 커버부(5)의 발바닥 커버부(5)의 발뒤꿈치 부분과 연결부(23)가 휘어지면서 흡수할 수 있다. 특히, 본 발명의 제10 실시예는 연결부(23)가 양 방향 만곡도(r, r')를 가지는 경우에는 길이 방향 및 폭 방향으로 동시에 휘어지면서 충격 흡수 효과가 증대될 수 있다.

도 25는 본 발명의 제11 실시예의 하이힐의 체중부하 구조물을 가지는 저면 사시도이고, 도 26은 도 25의 평면도이다.

본 발명의 제11 실시예는 상술한 실시예의 설명과 동일한 부분은 그의 설명으로 대치하고 다른 부분만을 설명하기로 한다.

본 발명의 제11 실시예에 따른 지면과 선형접촉을 갖는 하이힐의 체중부하 구조물은 홈부(25)가 발바닥 커버부(5)의 내부에 제공될 수 있다. 홈부(25)는 발바닥 커버부(5)에 관통되어 이루어지거나 또는 발바닥 커버부(5)의 위면의 일부가 막혀 있는 구조로 이루어질 수 있다. 지주부(3) 상부에는 홈부(25) 내부로 삽입되는 스토퍼(27)가 제공될 수 있다. 지주부(3)의 상부인 스토퍼(27)가 홈부(25)에 삽입되는 경우에는 스토퍼(27)가 외부의 충격에 의해 이동할 때 발바닥 커버부(5)의 측면에 지지되어 스토퍼의 기능을 할 수 있다.

본 발명의 제11 실시예에서 스토퍼(27)는 홈부(25)로 삽입되는 예를 도시하여 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니며 단지 발바닥 커버부(5)와 지주부(3)가 일정한 거리가 떨어져 배치되는 것도 가능하다.

본 발명의 제11 실시예에 따른 지면과 선형접촉을 갖는 하이힐의 체중부하 구조물은 지주부(3)와 발바닥 커버부(5)가 실제로는 떨어져 있지만 연결되어 보이는 디자인적 효과가 부여될 수 있다.

본 발명의 제11 실시예는 제10 실시예와 마찬가지로 지주부(3)의 탄성 작용에 의해 보행시 충격을 흡수할 수 있다.

본 발명의 제11 실시예에 따른 하이힐의 체중부하 구조물은 공간부(21)와 연결부(23) 또는 홈부(25)와 연결부(23)가 제공될 경우, 발뒤축접지(heel strike) 시 발생하는 충격을 발바닥 커버부(5)가 공간부(21) 또는 홈부(25)를 향하여 구부러지고 연결부(23)가 한 방향으로 구부러지면서 충격을 흡수할 수 있다.

도 27은 본 발명의 제12 실시예에 따른 하이힐의 체중부하 구조물을 지면 측에서 보아 힐부만 도시한 도면이다. 그리고 도 28은 본 발명의 제12 실시예를 설명하기 위해 하이힐의 체중부하 구조물을 측면에서 본 도면이다.

본 발명의 제12 실시예는 상술한 실시예와 동일한 부분은 그의 설명으로 대치하고 다른 부분만을 설명하기로 한다.

본 발명의 제12 실시예는 힐스트라이크부(31)가 힐부(1)에 제공된다. 힐스트라이크부(31)는 힐부(1)의 발뒤축접지(heel strike) 시 지면과 접촉이 발생하는 저면 후방에 제공된다. 힐스트라이크부(31)는 여러 가지 형태, 예를 들어 힐부(1)의 저면과 일정한 각도를 이루어 평면으로 이루어지거나 또는 지면과 일정한 각도를 이루어 라운드(round bottom)로 이루어질 수 있다. 힐스트라이크부(31)는 후방의 중간에서 가장 넓게, 내측과 외측으로 가면서 점점 좁아지도록 제공될 수 있다. 힐스트라이크부(31)는 후방부를 중심으로 일측에 제공될 수 있으며, 보다 바람직하게는, 힐스트라이크부(31)는 발뒤축접지(heel strike) 시 지면과 최초로 접촉하게 되는 측후방(S)을 중심으로, 즉 측후방(S)에서 가장 넓게, 측후방(S)에서 멀어지면서 점점 좁아지도록 제공될 수 있다.

힐스트라이크부(31)는 보행 시 발생하는 충격과 체중부하를 분산하는 기능을 제공할 수 있다. 유각기(swing phase)에 하이힐을 착용한 발은 매우 단단하고 관절 움직임들이 심하게 제한된 상태인데, 이런 상태에서 발뒤축접지(heel strike) 단계로 진입하면 거골하관절에서 충분한 외번(eversion)을 유발하지 못하므로 충격과 체중부하를 흡수 및 분산하는 데 한계가 있다. 힐스트라이크부(31)는 발뒤축접지(heel strike) 시 거골하관절 및 하지의 움직임을 부드럽고 지연된 움직임으로 전화시키는 기능을 수행할 수 있다.

본 발명의 제12 실시예는 힐스트라이크부(31)는 힐부(1)의 저면과 일정한 각도(θ), 예를 들어 8° ~ 25° 의 범위로 이루어지는 것이 바람직하다.

도 29는 본 발명의 제13 실시예에 따른 하이힐의 체중부하 구조물의 주요부를 도시한 도면이다.

본 발명의 제13 실시예는 상술한 실시예와 동일한 부분은 그의 설명으로 대치하고 다른 부분만을 설명하기로 한다.

본 발명의 제13 실시예는 지면접촉부(7)가 힐부(1)의 저면에 별도의 부재가결합되어 제공될 수 있다.

지면접촉부(7)는 힐부(1)와 탈부착이 가능하도록 제공될 수 있다. 지면접촉부(7)가 힐부(1)와 탈부착이 가능한 구조로 이루어질 수 있다. 예를 들어 힐부(1)에 끼움결합 홈부(1a) 및 지면접촉부(7)에 끼움결합 돌기(7a)가 제공될 수 있다. 그러나 본 발명의 제13 실시예는 이에 한정되는 것은 아니며 끼움결합 홈부(1a) 및 지면접촉부(7)에 끼움결합 돌기(7a)가 서로 바뀌어 구성되는 것도 가능하다.

지면접촉부(7)는 힐부(1)와 같은 형태로 제공될 수 있다. 지면접촉부(7)가 포함되는 경우, 상기한 힐부(1)에 포함될 수 있는 구성, 예를 들어 발뒤꿈치의 외측면 형태를 따르는 구성, 지면과 선형접촉을 갖는 구성, 최대폭에 관한 구성, 또는 힐스트라이크부(31) 구성 등이 지면접촉부(7)에 포함될 수 있다.

지면접촉부(7)는 하이힐의 체중부하 구조물의 수선이 용이하도록 하는 효과를 제공할 수 있다.

도 30은 본 발명의 제14 실시예에 따른 지면과 선형접촉을 갖는 하이힐의 체중부하 구조물의 틈부(33)을 나타낸다.

본 발명의 제14 실시예는 상술한 실시예와 동일한 부분은 그의 설명으로 대치하고 다른 부분만을 설명하기로 한다.

본 발명의 제14 실시예의 하이힐의 체중부하 구조물은 힐부(1)와 지면접촉부(7) 사이의 일측에 일정한 공간을 구비한 틈부(33)가 제공될 수 있다. 틈부(33)는 힐부(1)와 지면접촉부(7)의 후방 영역 사이에 제공되는 것이 바람직하다.

틈부(33)는 발뒤축접지(heel strike) 시 지면과 최초로 접촉하게 되는 측후방(S)을 중심으로 제공될 수 있다.

본 발명의 제14 실시예의 지면 접촉부(7)는 복원력이 우수한 탄성체로 이루어지는 것이 바람직하다. 이러한 지면접촉부(7)는 힐부(1)에 접착제에 의해 부착되거나 또는 상술한 제13 실시예와 마찬가지로 힐부(1)에 마주하는 부분에 홈 또는 돌기가 제공되어 끼움 결합으로 이루어질 수 있다. 틈부(33)가 포함되는 경우, 발뒤축접지(heel strike) 시 지면접촉부(7)가 탄성력에 의해 휘어지면서 충격을 흡수할 수 있다. 흡수된 충격은 지면접촉부(7)가 원상태로 리턴되면서 관절이 보다 부드럽고 지연되어 움직일 수 있도록 전환될 수 있다.

본 발명에 따른 하이힐의 체중부하 구조물은 틈부(33)가 제공될 경우, 발뒤축접지(heel strike) 시 발생하는 충격이 지면접촉부(7)가 구부러지면서 충격을 흡수하고 충격으로 흡수되는 에너지는 지면접촉부(7)가 원상태로 리턴되면서 전환되어 부드럽고 지연되어 관절이 움직일 수 있게 된다.

도 31은 본 발명의 제15 실시예에 따른 하이힐의 체중부하 구조물의 힐부(1)와 지면접촉부(7)를 나타낸다.

본 발명의 제15 실시예는 상술한 실시예와 동일한 부분은 그의 설명으로 대치하고 다른 부분만을 설명하기로 한다.

본 발명의 제15 실시예의 하이힐의 체중부하 구조물은 지면접촉부(7)에 지면접촉선단부(7b, 7c)가 포함될 수 있다. 지면접촉선단부(7b, 7c)는 지면접촉부(7)의 중심축(O) 방향을 향하도록 연장되는 것이 바람직하다.

지면접촉선단부(7b, 7c)가 지면접촉부(7)에 포함되는 경우, 힐부(1)에 힐선단부(1b, 1c)가 포함될 수 있다. 힐선단부(1b, 1c)는 지면접촉선단부(7b, 7c)와 동일한 모양으로 형성되는 것이 바람직하다.

지면접촉부(7)에 지면접촉선단부(7b, 7c)가 포함되고 힐부(1)에 힐선단부(1b, 1c)가 포함되는 경우, 틈부(33) 구성시 힐부(1)와 결착되는 지면접촉부(7)의 결착 부위를 넓게 확보할 수 있어서, 틈부(33)가 제공되는 경우에도 힐부(1)와 지면접촉부(7)가 안정적으로 결합될 수 있다. 또한 틈부(33)를 보다 넓게 확보할 수 있어서, 틈부(33)에 의해서 충격을 보다 효과적으로 흡수할 수 있다.

틈부(33)가 측후방(S)을 중심으로 제공되는 경우, 지면접촉부(7)는 외측의 지면접촉선단부(7b)만 포함할 수 있고, 이에 대응하여 힐부(1)도 외측의 힐선단부(1b)만 포함할 수 있다. 틈부(33)가 측후방(S)을 중심으로 제공되는 경우, 외측의 지면접촉선단부(7b)와 외측의 힐선단부(1b)만 포함되더라도 힐부(1)와 지면접촉부(7)의 결합의 안정성과 틈부(33)에 의한 보다 효과적인 충격 흡수 효과를 달성할 수 있다.

이상을 통해 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.

1. 힐부 3. 지주부
5. 발바닥 커버부 7. 지면접촉부
21. 공간부 23. 연결부
25. 홈부 27. 스토퍼
31. 힐스트라이크부 33. 틈부
41. 발꿈치 커버부 43. 발허리 커버부
45. 발볼 커버부 47. 발가락 커버부

Claims (19)

1. 보행주기 중 입각중기에 지면과 곡선으로 접촉되는 힐부,
   상기 힐부에서 연장되는 지주부, 그리고
   상기 지주부에서 연장되는 발바닥 커버부를 포함하며,
   상기 힐부는
   저면을 기준으로 볼 때 발 뒤꿈치부의 외곽선 모양에 대응하는 라운드 모양의 선형의 곡선으로 이루어지는 하이힐의 체중부하 구조물.
2. 삭제
3. 제 1 항에 있어서,
   상기 힐부는
   폭이 2.12cm 이상으로 이루어지는 하이힐의 체중부하 구조물.
4. 제 1 항에 있어서,
   상기 지주부는
   2 이상의 지주로 제공되는 하이힐의 체중부하 구조물.
5. 제 4 항에 있어서,
   상기 지주는
   서로 나란하게 배치되거나 또는 대칭으로 배치되는 하이힐의 체중부하 구조물.
6. 제 4 항에 있어서,
   상기 지주는
   서로 다른 모양으로 이루어지거나 또는 적어도 하나의 지주가 다른 지주와 다른 모양으로 이루어지는 하이힐의 체중부하 구조물.
7. 제 4 항에 있어서,
   상기 지주는
   발뒤꿈치 또는 발허리 중의 하나를 지지하는 지주와
   상기 발뒤꿈치 또는 상기 발허리 중의 다른 하나를 지지하는 또 다른 지주로 이루어지는 하이힐의 체중부하 구조물.
8. 제 1 항에 있어서,
   상기 힐부는
   후방부위에 힐스트라이크부가 제공되는 하이힐의 체중부하 구조물.
9. 제 8 항에 있어서,
   상기 힐스트라이크부는
   후방부를 중심으로 일측에 제공되는 하이힐의 체중부하 구조물.
10. 제 1 항에 있어서,
    상기 지주부는
    전방으로 만곡된 형태로 제공되는 하이힐의 체중부하 구조물.
11. 제 10 항에 있어서,
    상기 지주부는
    전방부위보다 후방부위의 만곡도가 더 큰 하이힐의 체중부하 구조물.
12. 제 1 항에 있어서,
    상기 발바닥 커버부는
    발뒤꿈치부터 발허리 내지 발볼 부분까지 연장되거나 또는 발바닥 전체를 커버할 수 있도록 연장되는 하이힐의 체중부하 구조물.
13. 제 1 항에 있어서,
    상기 지주부는
    외부측를 향해 만곡된 형태로 제공되는 하이힐의 체중부하 구조물.
14. 제 1 항에 있어서,
    상기 힐부는
    평면에서 볼 때 발바닥 커버부의 폭 보다 적어도 어느 한쪽이 더 크게 돌출되는 하이힐의 체중부하 구조물.
15. 제 1 항에 있어서,
    상기 발바닥 커버부는
    발뒤꿈치부터 발허리 내지 발볼까지 연장되거나 또는 발바닥 전체를 커버할 수 있도록 연장되며,
    상기 지주부와 상기 발바닥 커버부는 연결부에 의해 연결되고,
    상기 발바닥 커버부와 지주부 사이에는 공간부가 제공되는 하이힐의 체중부하 구조물.
16. 제 15 항에 있어서,
    상기 연결부는
    만곡된 형태로 이루어지는 하이힐의 체중부하 구조물.
17. 제 1 항에 있어서,
    상기 발바닥 커버부는 하부에
    홈부가 제공되고,
    상기 지주부 상부를 연장하여 상기 홈부에 삽입되는 스토퍼가 제공되는 하이힐의 체중부하 구조물.
18. 제 1 항에 있어서,
    상기 힐부에는
    중기입각기에 지면과 선형으로 접촉되는 지면접촉부가 결합되는 하이힐의 체중부하 구조물.
19. 제 18 항에 있어서,
    상기 힐부와 상기 지면접촉부 사이에 제공되는 틈부를 포함하는 하이힐의 체중부하 구조물

Images