JP6987543B2 - 液体吐出ヘッド用基板 - Google Patents

Description

本発明は、液体吐出ヘッド用基板に関するものである。また、本発明は該液体吐出ヘッド用基板を備える液体吐出ヘッドに関する。

インクジェットプリンター等の液体吐出ヘッドから液滴を吐出する記録装置では、液室から圧力発生室に液体を供給し、圧力発生素子にエネルギーを加えて吐出口から液体を吐出させる。液室の構成を共通液室と独立液室に分けて、独立液室から個々の吐出口に連通する圧力発生室に独立に液体を供給することでノズル密度を上げ、高速印刷を実現する構成が知られている。複数の独立液室から一つの圧力発生室に液体を供給する場合、液体の供給性が向上し、さらに液体の吐出方向も安定するため、高精度で高速な記録物の形成が可能となる。またこのような共通液室と独立液室の構成を採ることで、液体を圧力発生室内で循環させることも可能となり、濃度や粘度の変化した液体を排出することができ、安定した品質で記録物の形成が可能となる。特許文献１には独立液室と共通液室の構成を採る液体吐出ヘッドが開示されている。

特開２０１１−１６１９１５号公報

独立液室と共通液室の構成を採る液体吐出ヘッドにおいて、機械的強度や放熱性等を向上させる目的や、液体を循環させる目的のため、共通液室に隔壁を設ける場合がある。このような構成で高速記録を行う場合、一吐出後に圧力発生素子の表面へ液体を素早く充填（リフィル）する必要があるため、独立液室から圧力発生素子までの距離（リフィル距離）をなるべく短くすることが求められる。リフィル距離は単純に独立液室を圧力発生素子に近づけることでは不十分であり、隔壁の幅を狭くすることで初めて短くすることが可能となる。しかしながら、特許文献１のような構成で一対の独立液室間に隔壁を設け、その幅を狭くした場合、隔壁の機械的強度が低下する傾向にある。その結果、液体吐出ヘッド用基板の製造工程で歩留りが低下したり、ヘッドに振動や衝撃が加わった際に破損しやすくなるなど、ヘッドの生産性や信頼性が低下してしまうことがある。

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、独立液室と共通液室の構成を採る液体吐出ヘッドにおいて、共通液室の隔壁の機械的強度を落とさずにリフィル距離を短くし、高速記録を可能とする液体吐出ヘッド用基板を提供することを目的とする。

本発明の一形態によれば、支持基板の第一面上の圧力発生素子と、該圧力発生素子の両側に相対し、該支持基板の第一面に開口する一対の独立液室とを含む単位の複数が配列され、該支持基板内に、前記一対の独立液室の一方の複数と連通する第一の共通液室と、前記一対の独立液室の他方の複数と連通する第二の共通液室と、該第一の共通液室と該第二の共通液室とを分離する隔壁とを有する液体吐出ヘッド用基板であって、該隔壁が前記圧力発生素子の配列方向に延伸しており、該隔壁は前記一対の独立液室間の距離よりも狭い幅を有し、且つ、前記支持基板の厚さ方向の平面視で前記配列方向に規則的に変曲する形状を有することを特徴とする液体吐出ヘッド用基板、が提供される。

本発明によれば、隔壁の機械的強度を落とさずにリフィル距離を短くすることが可能となり、生産性が高く、信頼性のある高速記録が可能な液体吐出ヘッド用基板が実現できる。

実施形態１に係る液体吐出ヘッド用基板を説明するものであり、（Ａ）は、液体吐出ヘッド用基板を共通液室側から見た平面模式図であり、（Ｂ）は、そのＡ−Ａ’の断面模式図である。 実施形態１の変形例に係る液体吐出ヘッド用基板を説明するものであり、（Ａ）は、液体吐出ヘッド用基板を共通液室側から見た平面模式図であり、（Ｂ）は、その拡大図である。 実施形態２に係る液体吐出ヘッド用基板を説明するものであり、（Ａ）は、液体吐出ヘッド用基板を共通液室側から見た平面模式図であり、（Ｂ）は、そのＡ−Ａ’の断面模式図である。 実施形態１の変形例に係る液体吐出ヘッド用基板を説明するものであり、（Ａ）は、液体吐出ヘッド用基板を共通液室側から見た平面模式図であり、（Ｂ）は、その拡大図である。 その他の実施形態に係る液体吐出ヘッド用基板の一例で、共通液室側から見た平面模式図である。 （Ａ）は、液体吐出ヘッド用基板を共通液室側から見た平面模式図である。（Ｂ）は、そのＡ−Ａ’の断面模式図である。 独立液室と共通液室がクランク形状で接続した液体吐出ヘッド用基板の断面模式図（Ａ）とその部分拡大図（Ｂ）で、接続部に発生するエッチング不良を説明する図である。 （Ａ）は、隔壁の幅を狭くしてリフィル距離を短くした液体吐出ヘッド用基板を共通液室側から見た平面模式図である。（Ｂ）は、そのＡ−Ａ’の断面模式図である。

以下、図面を参照しながら本発明の実施形態に係る液体吐出ヘッド用基板について説明する。なお、以下に述べる実施形態では本発明を十分に説明するため具体的記述を行う場合もあるが、これらは技術的に好ましい一例を示しており、特に本発明の範囲を限定しているものではない。

図６に、液体を循環する流路構成を採る従来の液体吐出ヘッド用基板１０の一例を示す。図６（Ａ）は、液体吐出ヘッド用基板を共通液室側から見た平面模式図である。図６（Ｂ）は、そのＡ−Ａ’線での断面模式図である。図６（Ｂ）に示すように、一対の独立液室５ａおよび５ｂとそれぞれの独立液室と連結した共通液室（便宜的に、５ａと連結した方を第一の共通液室６ａ、５ｂと連結した方を第二の共通液室６ｂと呼ぶ）を通して圧力発生室４に液体が供給される。そして、圧力発生素子３を駆動させることで、吐出口２から液体を吐出する構成を採る。圧力発生素子３は、支持基板１の第一面上に設けられ、該圧力発生素子の両側に相対する位置に、支持基板１の第一面に開口する一対の独立液室５ａおよび５ｂが設けられる。第一の共通液室６ａと第二の共通液室６ｂは、支持基板１の第一面と対向する第二面に開口しており、共通液室と独立液室を合わせて支持基板１を貫通している。共通液室と独立液室は、支持基板１の厚み方向に対して、ほぼ垂直な壁面を有するように構成される。支持基板の第一面上には、圧力発生室４及び吐出口２を画定する吐出口部材９が設けられている。ここで、吐出口２、圧力発生素子３、圧力発生室４および一対の独立液室５ａおよび５ｂを一単位とし、図６（Ａ）に示すように、紙面上下方向に複数の単位が配列されている。それぞれの共通液室は前記単位の配列方向に延伸しており、一つ以上の単位の独立液室と連結される。第一の共通液室６ａと第二の共通液室６ｂとは、前記単位の配列方向に延伸する隔壁７で分離されている。一つの圧力発生室に連結するそれぞれ二つの独立液室および共通液室は、一方が液体の供給の役割を担い、他方が排出の役割を担う。図６では、前記単位が２列に配列された態様を示しているが、列数は限定されるものではなく、以下に示す本発明の構成についても同様である。

ほぼ垂直な壁面を有する液室を支持基板としてのシリコン基板に形成するには、ドライエッチング法により実施され、特に深掘りを可能にする方法としてボッシュプロセスが知られている。ボッシュプロセスは、例えばＣ_４Ｆ_８のようなＣリッチのフルオロカーボン系ガスプラズマによるデポ膜の形成、ＳＦ_６プラズマのイオン成分による側面以外のデポ膜除去、ラジカルによるシリコンエッチングを繰り返し行うものである。特にエッチング深さ／開口幅で表されるアスペクト比の大きい独立液室では有効な方法である。

高速印字が可能な液体吐出ヘッド用基板に求められる要件の一つは、一吐出後に圧力発生素子３表面に液体を素早く再充填（リフィル）できることである。これは、独立液室の圧力発生素子側の開口端から圧力発生素子の中心までの距離、すなわちリフィル距離８が短いことで達成される。リフィル距離８が長いと、吐出後の液体の充填スピードが次の吐出に間に合わず、圧力発生素子３が熱エネルギーを発生させて液体に膜沸騰させ、液体を吐出するサーマルヘッドの場合は空焚き状態となり、印字ができなくなる。特に圧力発生室４および吐出口部材９をフォトリソグラフィーで形成した場合、圧力発生室４の高さは大きくても数十ミクロン程度であり、流路断面積が小さく流抵抗が大きいためにリフィルのスピードが遅くなる。よって高速印字可能な液体吐出ヘッド用基板では、リフィル距離８をより短くするために、流抵抗の小さい独立液室５を圧力発生素子３により近づける必要がある。リフィル距離８は、通常は圧力発生室４の高さの１０倍程度であるため、それよりも短く、例えば、８倍以下とすることが望まれる。より好ましくは独立液室の圧力発生素子側の開口端から圧力発生素子の端部までの距離をゼロに近づけることである。

単純には図７に示すように、独立液室５のみを圧力発生素子３に近づけることが考えられる。しかしながら、近づける距離によっては共通液室６との接続部分がクランク形状となることがある（図７）。例えば、共通液室６を支持基板１の裏面（第二面）から加工し、支持基板１の表面（第一面）からボッシュプロセスによるドライエッチングでクランク形状に独立液室５を加工する。そうすると図７（Ｂ）の拡大図に示すように、当該クランク形状部にエッチング不良（バリ）１１が発生することが知られており、接続部を精度良く加工することは難しい。そのため、独立液室５の隔壁までの距離は、ある程度以上の距離が必要である。このように独立液室５のみを近づけるだけではリフィル距離８を短くできる範囲に制約がついてしまう。よって、精度良く独立液室５と共通液室６を連結形成し、かつリフィル距離８を短くするには、独立液室５および共通液室６を共に圧力発生素子３に近づける、すなわち隔壁７の幅を狭くして、独立液室５の隔壁までの距離は維持することで達成することが望ましい。隔壁７の幅を狭くした液体吐出ヘッド用基板の一例を図８に示す。この場合、隔壁７の幅を狭くすることで確かに独立液室５の隔壁までの距離を確保した上でリフィル距離８は短くなるものの、隔壁７の肉厚が減ることで機械的強度は低下してしまう。隔壁７の機械的強度が低下することで、独立液室５および共通液室６を加工した後の製造プロセスにおける基板搬送衝撃やプロセス処理中の物理衝撃（超音波処理、薬液揺動洗浄等）が隔壁７の欠けや割れの原因となり、歩留り低下を招いてしまう。

そこで、本発明に係る液体吐出ヘッド用基板では、隔壁７の幅を狭くしながらも機械的強度が低下しない形状とすることで、独立液室と共に共通液室を圧力発生素子に近づけることができるものである。すなわち、本発明に係る液体吐出ヘッド用基板は、支持基板の第一面上の圧力発生素子と、該圧力発生素子の両側に相対し、該支持基板の第一面に開口する一対の独立液室とを含む単位の複数が配列され、該支持基板内に、前記一対の独立液室の一方の複数と連通する第一の共通液室と、前記一対の独立液室の他方の複数と連通する第二の共通液室と、該第一の共通液室と該第二の共通液室とを分離する隔壁とを有する液体吐出ヘッド用基板であって、該隔壁が該単位の配列方向に延伸しており、前記支持基板の厚さ方向の平面視で、該隔壁は前記一対の独立液室間の距離よりも狭い幅を有し、且つ、前記配列方向に規則的に変曲する形状を有することを特徴とする。

以下、本発明の実施形態について、例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではない。

〔実施形態１〕
図１は、実施形態１に係る液体吐出ヘッド用基板を説明するもので、（Ａ）は、液体吐出ヘッド用基板を共通液室側から見た平面模式図であり、（Ｂ）は、そのＡ−Ａ’の断面模式図である。隔壁７は、平面視で圧力発生素子３の配列方向に規則的に変曲する形状として波線状に延伸して形成される。波線の形状に関し、隔壁７の幅の中心線で波線の形状を規定すると、波線形状の局所的な曲率半径や、曲率半径の変化率は自由に設定することができる。例えば曲率半径が一定であるサインカーブを描く波線とすることができる。隔壁７に対する独立液室５の配置も自由である。例えば図１のように、一つの圧力発生室４に連通する一対の独立液室５ａ、および５ｂをそれぞれ曲面の内側の領域Ｒｉ（凹部）と曲面の外側の領域Ｒｏ（凸部）に配置する。そして、一対の独立液室５ａ、５ｂを結ぶ直線Ｌ２が波線形状の隔壁７の重心線Ｌ１と直交し、かつ５ａ、５ｂの隔壁７からの距離Ｄ１、Ｄ２が等しくなるように配置する。この構成では、隔壁７の幅が狭くなりリフィル距離８が短くなり、かつ隔壁７が波線状になるため幅Ｗ１を狭くしても、同じ幅Ｗ１の直線状の隔壁に比較して機械的強度が向上する。さらに隔壁７が規則的に変曲する構造のため、単位毎のリフィル距離もほぼ等しくなり、圧力発生素子３への液体の供給がバランスよく行える。

距離Ｄ１、Ｄ２は短くしすぎると、隔壁７の根本の形状によっては図７と同様の問題が発生することがある。距離Ｄ１、Ｄ２は、例えば５μｍ以上とすることが好ましい。
隔壁７の幅Ｗ１は、あまり狭くしすぎると、形状変更による補強を行っても強度が不足して隔壁７の欠けや割れといった不良の原因となるため、１０μｍ以上であることが好ましい。また、隔壁７の変曲による拡幅幅Ｗ２は、あまり大きくなると共通液室での液体の流動性に影響を及ぼすことがあるため、一対の独立液室５ａ、５ｂの開口中心の距離以下の幅であることが好ましい。

図２は、図１に対して一対の独立液室５ａ、５ｂをより好ましい配置とした一例である。独立液室５および共通液室６をドライエッチングで形成する場合は、エッチング側壁の近傍ではエッチングレートが低下することがある。例えば図１の例の場合、一対の独立液室５ａ、５ｂのうち、一方の独立液室５ａは領域Ｒｉに配置され、一方の独立液室５ｂは領域Ｒｏに配置されるため独立液室の深さにバラツキが発生することがある。図２のように一対の独立液室５ａ、５ｂを隔壁７の領域Ｒｉに配置する。そして、一対の独立液室５ａ、５ｂの開口中心を結んだ直線Ｌ２が、波線形状の隔壁７の延伸方向の重心線Ｌ１と隔壁の幅の中心線Ｌ３の交点Ｃを通り、かつ５ａから隔壁７までの距離Ｄ１と、５ｂから隔壁７までの距離Ｄ２とを等しい配置（Ｄ１／Ｄ２＝１）とする。このような配置とすることで、図１に示す構成の効果に加え、５ａ、５ｂと隔壁７との位置関係における環境が均一となり、独立液室５の深さバラツキを低減できる。

〔実施形態２〕
図３は、実施形態２に係る液体吐出ヘッド用基板を説明するもので、（Ａ）は、液体吐出ヘッド用基板を共通液室側から見た平面模式図であり、（Ｂ）は、そのＡ−Ａ’の断面模式図である。隔壁７は、圧力発生素子３の配列方向に規則的に変曲する形状としてジグザグ形状に延伸して形成する。ジグザグ形状は、折り返しの角度や、直線部分の長さおよび圧力発生素子３の配列方向に対する角度等を自由に設計可能である。また独立液室５の配置も自由である。例えば図３のように、一つの圧力発生室４に連通する一対の独立液室５ａ、および５ｂをそれぞれジグザグ形状の内側の領域Ｒｉ（谷）とジグザグ形状の外側の領域Ｒｏ（山）に配置する。そして、一対の独立液室５ａ、５ｂを結ぶ直線Ｌ２が隔壁７のジグザグ形状の重心線Ｌ３と直交し、かつ５ａ、５ｂの隔壁７からの距離Ｄ１、Ｄ２を等しく配置する。この構成でも、隔壁７の幅が狭くしてもジグザグ形状になるため機械的強度を確保することができる。リフィル距離８が短くなり、かつ隔壁７がさらに独立液室５ａ、５ｂの隔壁７からの距離が等しいため圧力発生素子３への液体の供給がバランスよく行える。

図４は、図３に対して独立液室５をより好ましい配置とした一例である。図３の場合、一対の独立液室５ａ、５ｂのうち、一方の独立液室５ａはジグザグ形状の内側領域Ｒｉに配置され、一方の独立液室５ｂは外側領域Ｒｏに配置されるため、図１の波線形状の場合と同様に独立液室の深さにバラツキが発生することがある。図４のように一対の独立液室５ａ、５ｂを隔壁７のジグザグ形状の直線部分Ｒｓに対向配置する。そして、一対の独立液室５ａ、５ｂの開口中心を結んだ直線Ｌ２がジグザグ形状の隔壁７の延伸方向の重心線Ｌ１と隔壁の幅の中心線Ｌ３の交点Ｃを通り、かつ５ａから隔壁７までの距離Ｄ１と、５ｂから隔壁７までの距離Ｄ２が等しい配置とする。このような配置とすることで、図３に示す構成の効果に加え、５ａ、５ｂと隔壁との位置関係における環境が均一となり、独立液室５の深さバラツキを低減できる。

以上の実施形態では、前記隔壁の一周期に対して一つの前記単位が配列される構造を示したが、例えば、図５（Ａ）に示すように、複数周期（ここでは一周期）毎に一つの前記単位が配列される構造であってもよい。独立液室の深さばらつきを抑制するには、前記隔壁の一周期に対して一つの前記単位が配列される構造が好ましい。

また、隔壁７の規則的に変曲する形状としては、上記の波線形状あるいはジグザグ形状のみに限定されず、図５（Ｂ）に示すような凸凹形状などでもよい。また、図５（Ｃ）に示すような曲線と直線との組み合わせにより規則的に変曲する形状でもよい。

また、上記の実施形態では、圧力発生素子３が隔壁７の上方に形成されるように、距離Ｄ１と距離Ｄ２が等しい配置となるように一対の独立液室を形成していたが、これに限定されない。しかしながら、Ｄ１とＤ２が大きく異なることは液体の供給のバランスや、吐出口からの液体の吐出方向の安定性が悪化する原因ともなるため、Ｄ１とＤ２の比（Ｄ１／Ｄ２）は０．９から１．１の範囲であることが好ましい。また、圧力発生素子３が隔壁７の重心線Ｌ３上に配置されることが好ましい。

共通液室及び独立液室は、上記の通り、支持基板１を垂直にエッチングして形成されるが、支持基板１としては、特許文献１に記載される中間層を介して２枚のシリコン基板を貼り合わせた構造よりも、一枚のシリコン基板を加工することが好ましい。隔壁７の幅を狭くすることで、中間層を介した基板では隔壁７が中間層から剥離して、脱落しやすくなる。

本発明に係る液体吐出ヘッド用基板１０を用いた液体吐出ヘッドでは、支持基板１の第一面上に、圧力発生素子３と一対の独立液室５ａ、５ｂで構成される単位毎に、５ａ、５ｂに連通する一つの圧力発生室４を有する。さらに、支持基板１の第一面上に、該圧力発生室に連通する吐出口２を備える吐出口部材９を有する。そして、第一及び第二の共通液室６ａ、６ｂの一方から他方に向けて、５ａ，５ｂを介して圧力発生室４内の液体を循環可能である。例えば、第一の共通液室６ａを供給側、第二の共通液室６ｂを排出側として、液体を循環することができる。

以下、実施例により、さらに具体的に本発明について説明する。

（実施例１）
図１を参照しながら説明する。圧力発生室４の高さは１０μｍである。独立液室５は開口部の平面寸法が５０μｍ×５０μｍの正方形で、深さ１００μｍに設定した。共通液室６の平面寸法は、２００μｍ（配列方向に直交する方向で隔壁７の凸部からの幅）×２００００μｍ（配列方向の長さ）、深さ３００μｍで支持基板１としてのシリコン基板に形成した。同時に波線形状の隔壁７を幅５０μｍで、最小曲率半径１００μｍ、最大曲率半径２００μｍで図１（Ａ）の左右方向に蛇行するように規則的に形成した。圧力発生室４には液体の供給および排出を行うための一対の独立液室５ａ、５ｂを連通させた。共通液室および独立液室は六フッ化硫黄とフルオロカーボンガスを用いたボッシュプロセスによるドライエッチングで形成した。５ａ、５ｂは、５ａ、５ｂを結ぶ直線Ｌ３が波線形状の隔壁７の重心線Ｌ１に対して直交するように配置し、かつ５ａは隔壁７の波線の曲面の内側領域Ｒｉに、５ｂは波線の曲面の外側領域Ｒｏに配置した。このときのリフィル距離８は７５μｍである。図６に示すようなストレート形状の隔壁７の場合のリフィル距離８が１００μｍであるのに対して短くなった。一対の独立液室５ａ、５ｂの深さは、領域Ｒｉに配置される独立液室５ａでは９０μｍ、領域Ｒｏに配置される５ｂでは１００μｍであり、１０μｍの深さバラツキがあった。
隔壁７を波線形状とした液体吐出ヘッド用基板では、製造プロセス中に隔壁７の欠けや割れといった不良は見られず、リフィル距離８も短縮することができた。

（実施例２）
図２を参照しながら説明する。独立液室５の配置以外は実施例１と同様である。
一対の独立液室５ａ、５ｂを、隔壁７の波線の曲面の内側領域Ｒｉにそれぞれ配置した。独立液室５ａ、５ｂは、５ａ、５ｂを結ぶ直線Ｌ３が波線の重心線Ｌ１と中心線Ｌ２の交点を通り、かつ５ａと隔壁７からの距離Ｄ１は５０μｍ、５ｂと隔壁７の距離Ｄ２は５０μｍと等しくなるように配置した。このときのリフィル距離８は７５μｍである。図６に示すようなストレート形状の隔壁７の場合のリフィル距離８が１００μｍであるのに対して短くなった。一対の独立液室５ａ、５ｂの深さは、何れも１００μｍであり、深さバラツキは無かった。実施例１に対して独立液室５の深さバラツキを抑制することができた。
製造プロセス中に隔壁７の欠けや割れといった不良は見られず、リフィル距離８も短縮することができた。

（実施例３）
図２を参照しながら説明する。距離Ｄ１、Ｄ２をそれぞれ５０μｍ、５５μｍとした以外は実施例２と同一である。
このときのリフィル距離８は、５ａ側が７５μｍ、５ｂ側で８０μｍである。図６に示すようなストレート形状の隔壁７の場合のリフィル距離８が１００μｍであるのに対して短くなった。一対の独立液室５ａ、５ｂの深さは、５ａで１００μｍ、５ｂで１０２μｍとなり、実施例１に対して深さバラツキを抑制することができた。
製造プロセス中に隔壁７の欠けや割れといった不良は見られず、リフィル距離８も短縮することができた。

（実施例４）
図３を参照しながら説明する。隔壁７の形状および独立液室５の配置以外は、実施例１と同様である。
隔壁７の形状は、幅５０μｍ、直線部分の長さが１２５μｍで左右に１５０°でジグザグ形状に折り返すように規則的に形成した。一対の独立液室５ａ、５ｂは、５ａ、５ｂを結ぶ直線Ｌ３がジグザグ形状の隔壁７の重心線Ｌ１に対して直交するように配置し、かつ５ａは隔壁７のジグザグ形状の内側領域Ｒｉに、５ｂはジグザグ形状の外側領域Ｒｏに配置した。このときのリフィル距離８は７５μｍである。図６に示すようなストレート形状の隔壁７の場合のリフィル距離８が１００μｍであるのに対して短くなった。一対の独立液室５ａ、５ｂの深さは、領域Ｒｉに配置される独立液室５ａでは９０μｍ、領域Ｒｏに配置される５ｂでは１００μｍであり、１０μｍの深さバラツキがあった。
隔壁７をジグザグ形状とした液体吐出ヘッド用基板でも、製造プロセス中に隔壁７の欠けや割れといった不良は見られず、リフィル距離８も短縮することができた。

（実施例５）
図４を参照しながら説明する。隔壁７の形状および独立液室５の配置以外は、実施例１と同様である。また、隔壁７の形状は実施例４と同様である。
一対の独立液室５ａ、５ｂを、隔壁７のジグザグ形状の直線部分Ｒｓに対向してそれぞれ配置した。独立液室５ａ、５ｂは、５ａ、５ｂを結ぶ直線Ｌ３がジグザグ形状の重心線Ｌ１と中心線Ｌ３の交点を通り、かつ５ａと隔壁７からの距離Ｄ１は５０μｍ、５ｂと隔壁７の距離Ｄ２は５０μｍと等しくなるように配置した。このときのリフィル距離８は７５μｍである。図６に示すようなストレート形状の隔壁７の場合のリフィル距離８が１００μｍであるのに対して短くなった。一対の独立液室５ａ、５ｂの深さは、何れも１００μｍであり、深さバラツキは無かった。実施例４に対して独立液室５の深さバラツキを抑制することができた。
製造プロセス中に隔壁７の欠けや割れといった不良は見られず、リフィル距離８も短縮することができた。

（実施例６）
図４を参照しながら説明する。隔壁７からの距離Ｄ１、Ｄ２をそれぞれ５０μｍ、５５μｍとした以外は実施例５と同一である。
このときのリフィル距離８は、５ａ側が７５μｍ、５ｂ側で８０μｍである。図７に示すようなストレート形状の隔壁７の場合のリフィル距離８が１００μｍであるのに対して短くなった。一対の独立液室５ａ、５ｂの深さは、５ａで１００μｍ、５ｂで１０２μｍとなり、実施例４に対して深さバラツキを抑制することができた。
製造プロセス中に隔壁７の欠けや割れといった不良は見られず、リフィル距離８も短縮することができた。

１ 支持基板
２ 吐出口
３ 圧力発生素子
４ 圧力発生室
５（５ａ、５ｂ） 独立液室
６ 共通液室
６ａ 第一の共通液室
６ｂ 第二の共通液室
７ 隔壁
８ リフィル距離
９ 吐出口部材
１０ 液体吐出ヘッド用基板

Claims (9)

1. 支持基板の第一面上の圧力発生素子と、該圧力発生素子の両側に相対し、該支持基板の第一面に開口する一対の独立液室とを含む単位の複数が配列され、該支持基板内に、前記一対の独立液室の一方の複数と連通する第一の共通液室と、前記一対の独立液室の他方の複数と連通する第二の共通液室と、該第一の共通液室と該第二の共通液室とを分離する隔壁とを有する液体吐出ヘッド用基板であって、
   前記隔壁が圧力発生素子の配列方向に延伸しており、該隔壁は前記一対の独立液室間の距離よりも狭い幅を有し、且つ、前記支持基板の厚さ方向の平面視で前記配列方向に規則的に変曲する形状を有することを特徴とする液体吐出ヘッド用基板。
2. 前記隔壁の規則的に変曲する形状の一周期に対して一つの前記単位が配列される請求項１に記載の液体吐出ヘッド用基板。
3. 前記隔壁の規則的に変曲する形状が波線形状である請求項１又は２に記載の液体吐出ヘッド用基板。
4. 前記隔壁の規則的に変曲する形状がジグザグ形状である請求項１又は２に記載の液体吐出ヘッド用基板。
5. 前記単位は、前記一対の独立液室の開口中心を結んだ直線が、前記隔壁の延伸方向の重心線と直交する方向に配置されている請求項１乃至４のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッド用基板。
6. 前記単位は、前記一対の独立液室の開口中心を結んだ直線が、前記隔壁の延伸方向の重心線と直交しない方向に配置されている請求項１乃至４のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッド用基板。
7. 前記一方の独立液室の前記圧力発生素子側の開口端から前記隔壁までの距離Ｄ１と、他方の独立液室の前記圧力発生素子側の開口端から前記隔壁までの距離Ｄ２の比（Ｄ１／Ｄ２）が０．９から１．１の範囲である請求項６に記載の液体吐出ヘッド用基板。
8. 前記支持基板の第一面上に、前記単位毎に前記一対の独立液室に連通する一つの圧力発生室と、該圧力発生室に連通する吐出口とを備える部材を有する請求項１乃至７のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッド用基板。
9. 請求項１乃至８のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッド用基板を備える液体吐出ヘッドであって、前記支持基板の第一面上に、前記単位毎に前記一対の独立液室に連通する一つの圧力発生室と、該圧力発生室に連通する吐出口を備える部材を有し、前記第一及び第二の共通液室の一方から他方に向けて、前記一対の独立液室を介して前記圧力発生室内の液体を循環可能であることを特徴とする液体吐出ヘッド。

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