JP6985338B2 - 光源のための波長安定化 - Google Patents
光源のための波長安定化 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6985338B2 JP6985338B2 JP2019129528A JP2019129528A JP6985338B2 JP 6985338 B2 JP6985338 B2 JP 6985338B2 JP 2019129528 A JP2019129528 A JP 2019129528A JP 2019129528 A JP2019129528 A JP 2019129528A JP 6985338 B2 JP6985338 B2 JP 6985338B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pulse
- burst
- wavelength
- pulses
- light source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
- G03F7/70575—Wavelength control, e.g. control of bandwidth, multiple wavelength, selection of wavelength or matching of optical components to wavelength
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
- G03F7/70041—Production of exposure light, i.e. light sources by pulsed sources, e.g. multiplexing, pulse duration, interval control or intensity control
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/136—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity
- H01S3/137—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity for stabilising of frequency
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0971—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/1305—Feedback control systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Lasers (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
Claims (13)
- 時間的に分離され、それぞれが動作状態と共に変動する過渡的波長誤差を含む、少なくとも光パルスの第1のバースト及び光パルスの第2のバーストを含む、光源から放射されたパルス光ビームを受けることと、
特定のパルスの波長誤差が前記特定のパルスの波長と目標波長の差である、前記パルスの第1のバースト内の2つ以上のパルスの波長誤差を決定することと、
前記光パルスの第1のバーストの前記過渡的波長誤差を、前記決定された波長誤差に基づいて決定することと、
前記光源の動作中に前記光源の動作状態の事前の知識なしに、決定された前記過渡的波長誤差に基づいて毎パルス補正信号を決定することと、
前記毎パルス補正信号に基づく補正を前記光パルスの第2のバーストのパルスの少なくともいくつかに適用することによって、前記パルスの第1のバーストの前記過渡的波長誤差と比較して前記パルスの第2のバーストの前記過渡的波長誤差を低減することと、を含み、
前記過渡的波長誤差を決定することは、前記過渡的波長誤差の1つ以上の特性を決定することを含み、前記1つ以上の特性は、形状、大きさ、及び持続時間のうちの1つ以上を含む、
方法。 - 時間的に分離され、それぞれが動作状態と共に変動する過渡的波長誤差を含む、少なくとも光パルスの第1のバースト及び光パルスの第2のバーストを含む、光源から放射されたパルス光ビームを受けることと、
特定のパルスの波長誤差が前記特定のパルスの波長と目標波長の差である、前記パルスの第1のバースト内の2つ以上のパルスの波長誤差を決定することと、
前記光パルスの第1のバーストの前記過渡的波長誤差を、前記決定された波長誤差に基づいて決定することと、
前記光源の動作中に前記光源の動作状態の事前の知識なしに、決定された前記過渡的波長誤差に基づいて毎パルス補正信号を決定することと、
前記毎パルス補正信号に基づく補正を前記光パルスの第2のバーストのパルスの少なくともいくつかに適用することによって、前記パルスの第1のバーストの前記過渡的波長誤差と比較して前記パルスの第2のバーストの前記過渡的波長誤差を低減することと、を含み、
前記過渡的波長誤差は、前記パルス光ビームを放射する前記光源のチャンバ内の音響事象から生じる、
方法。 - 動作状態と共に変動する前記過渡的波長誤差は、与えられた一組の動作状態の下で発生したパルスのバースト間でほぼ不変である、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記パルスの第1のサブセットは、前記光パルスの第1のバーストの全てのパルスより少ないパルスを含み、前記パルスの第2のサブセットは、前記光パルスの第2のバーストの全てのパルスより少ないパルスを含む、請求項1又は2に記載の方法。
- パルス光ビームを放射する光源用の、前記光源に結合するように構成されたコントローラであって、前記コントローラは、
1つ以上の電子プロセッサと、
前記1つ以上の電子プロセッサの1つ以上に結合された非一時的コンピュータ可読記憶媒体であって、
前記1つ以上の電子プロセッサにより実行されるとき、
パルスの第1のサブセットを含む光パルスの第1のバースト、及びパルスの第2のサブセットを含む光パルスの第2のバーストを少なくとも含む、前記光源から放射されたパルス光ビームの情報にアクセスすることと、
特定のパルスの波長と目標波長の差である、前記パルスの第1のサブセット中の各パルスの波長誤差を決定することと、
前記光源の動作中に前記光源の動作状態の事前の知識なしに、決定された前記波長誤差に基づいて、前記パルスの第1のサブセット中の各パルスに関連付けられた補正信号を含む毎パルス補正信号を決定することと、
決定された前記毎パルス補正信号に基づく補正を、前記パルスの第2のサブセット中の各パルスに適用することにより、前記パルスの波長誤差を低減することと、
を含む動作を前記1つ以上のプロセッサに実行させる命令が記憶されたコンピュータ可読記憶媒体と、を含むコントローラ。 - 一時的期間により分離され、それぞれが一時的繰り返し率で発生する光パルスを含むバーストを含む光ビームを放射するように構成された光源と、
前記光のバースト内の光パルスの波長を測定するように構成された線中心分析モジュールと、
前記一時的繰り返し率で前記波長の測定値を受けるように構成されたコントローラと、を含む光システムであって、
前記コントローラは、
パルスの第1のバースト内の前に発生したパルスの波長誤差に基づくフィードバック補正信号を決定して、前記パルスの第1のバースト内の特定のパルスの波長誤差を補償するように構成されたフィードバックモジュールと、
前記光源の動作中に前記光源の動作状態の事前の知識なしに、前に発生したバースト内の対応するパルスに基づいて、前記パルスの第1のバースト内の特定のパルスの波長誤差を補償するためのフィードフォワード毎パルス補正信号を決定するように構成されたフィードフォワード安定化モジュールと、
実行されるとき、前記特定のバーストに対するフィードフォワード毎パルス補正信号と前記特定のバーストに対するフィードバック信号を結合して、前記特定のバーストに対する結合補正信号を形成させ、前記結合補正信号を前記光源に供給して、前記第1のバースト内の前記特定のパルスの波長誤差を低減させる命令を含む非一時的なコンピュータ可読媒体に結合された1つ以上の電子プロセッサと、を含む、光システム。 - 前記フィードフォワード安定化モジュールと、前記フィードバックモジュールとは、別個のモジュールであり、互いに独立している、請求項6に記載の光システム。
- 前記波長誤差は複数の要因によって生じ、前記フィードバック補正信号は、前記複数の要因のうちのいくつかの要因によって生じる前記波長誤差を低減するように構成され、前記フィードフォワード毎パルス補正信号は、前記複数の要因のうちの別のいくつかの要因によって生じる前記波長誤差を低減するように構成される、請求項6に記載の光システム。
- 前記フィードフォワード毎パルス補正信号は、与えられた1組の動作状態において、前記第1のバーストと、後に発生するバーストとの間で実質的に不変である要因によって生じる波長誤差を低減するように構成され、
前記フィードバック補正信号は、バースト間で変動する要因によって生じる波長誤差を低減するように構成される、請求項8に記載の光システム。 - 前記過渡的波長誤差を決定することは、前記過渡的波長誤差の1つ以上の特性を決定することを含み、前記1つ以上の特性は、形状、大きさ、及び持続時間のうちの1つ以上を含む、請求項2に記載の方法。
- 前記過渡的波長誤差の前記決定された1つ以上の特性は、前記光源の前記動作状態の変化に関する知識無しに、前記光源の前記動作状態の変化を解消するように変化する、請求項1又は10に記載の方法。
- 前記動作状態は、繰り返し率、前記光源によって生成される前記パルスの作動パターンの変化、及び前記光源の利得媒体の温度のうちの1つ以上を含む、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記光源の動作中、前記光源の物理的幾何形状に関する事前の知識無しに、前記過渡的波長誤差の1つ以上の特性が継続的に決定される、請求項1又は2に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US14/681,675 US10816905B2 (en) | 2015-04-08 | 2015-04-08 | Wavelength stabilization for an optical source |
US14/681,675 | 2015-04-08 | ||
JP2017550719A JP6557353B2 (ja) | 2015-04-08 | 2016-03-18 | 光源のための波長安定化 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017550719A Division JP6557353B2 (ja) | 2015-04-08 | 2016-03-18 | 光源のための波長安定化 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019179935A JP2019179935A (ja) | 2019-10-17 |
JP6985338B2 true JP6985338B2 (ja) | 2021-12-22 |
Family
ID=57073328
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017550719A Active JP6557353B2 (ja) | 2015-04-08 | 2016-03-18 | 光源のための波長安定化 |
JP2019129528A Active JP6985338B2 (ja) | 2015-04-08 | 2019-07-11 | 光源のための波長安定化 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017550719A Active JP6557353B2 (ja) | 2015-04-08 | 2016-03-18 | 光源のための波長安定化 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10816905B2 (ja) |
JP (2) | JP6557353B2 (ja) |
KR (2) | KR102123856B1 (ja) |
CN (1) | CN107925214B (ja) |
TW (1) | TWI600993B (ja) |
WO (1) | WO2016164157A1 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10816905B2 (en) * | 2015-04-08 | 2020-10-27 | Cymer, Llc | Wavelength stabilization for an optical source |
US10096967B2 (en) * | 2016-12-07 | 2018-10-09 | Cymer, Llc | Wavelength control system for pulse-by-pulse wavelength target tracking in DUV light source |
US10234769B2 (en) | 2017-05-22 | 2019-03-19 | Cymer, Llc | Monitoring system for an optical lithography system |
US10050407B1 (en) * | 2017-07-12 | 2018-08-14 | Raytheon Company | Cavity stabilized laser drift compensation |
US9983122B1 (en) * | 2017-08-03 | 2018-05-29 | Sea-Bird Electronics, Inc. | Aqueous solution constituent analyzer |
WO2020157839A1 (ja) * | 2019-01-29 | 2020-08-06 | ギガフォトン株式会社 | レーザ装置の波長制御方法及び電子デバイスの製造方法 |
CN109638629B (zh) * | 2019-02-19 | 2020-02-14 | 北京科益虹源光电技术有限公司 | 一种准分子激光脉冲能量稳定性控制方法及系统 |
TWI749546B (zh) * | 2019-05-14 | 2021-12-11 | 美商希瑪有限責任公司 | 用於調變光源波長的裝置及方法 |
KR102628796B1 (ko) | 2019-07-23 | 2024-01-23 | 사이머 엘엘씨 | 반복률 편차에 의해 유도된 파장 오차를 보상하는 방법 |
JP2023500603A (ja) * | 2019-11-08 | 2023-01-10 | サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー | 放射のパルスのバーストを制御するための放射システム |
KR20230010237A (ko) * | 2020-06-09 | 2023-01-18 | 사이머 엘엘씨 | 중심 파장 제어를 위한 시스템 및 방법 |
TW202307578A (zh) * | 2021-04-19 | 2023-02-16 | 美商希瑪有限責任公司 | 在單一微影曝光遍次中形成多個空間影像 |
JPWO2022244237A1 (ja) * | 2021-05-21 | 2022-11-24 | ||
JPWO2022259352A1 (ja) * | 2021-06-08 | 2022-12-15 | ||
CN117397134A (zh) * | 2021-07-01 | 2024-01-12 | 极光先进雷射株式会社 | 波长控制方法、激光装置和电子器件的制造方法 |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0794389A (ja) | 1993-09-21 | 1995-04-07 | Sony Corp | 半導体露光装置 |
US5473409A (en) * | 1993-09-21 | 1995-12-05 | Sony Corporation | Semiconductor light exposure device |
JP3830591B2 (ja) * | 1996-11-05 | 2006-10-04 | 株式会社小松製作所 | レーザ装置 |
KR100250575B1 (ko) * | 1997-03-31 | 2000-04-01 | 전주범 | 광 디스크 시스템의 기록파형 보상장치 및 그 보상방법 |
US5982800A (en) | 1997-04-23 | 1999-11-09 | Cymer, Inc. | Narrow band excimer laser |
US6621846B1 (en) | 1997-07-22 | 2003-09-16 | Cymer, Inc. | Electric discharge laser with active wavelength chirp correction |
US6078599A (en) | 1997-07-22 | 2000-06-20 | Cymer, Inc. | Wavelength shift correction technique for a laser |
US5978405A (en) | 1998-03-06 | 1999-11-02 | Cymer, Inc. | Laser chamber with minimized acoustic and shock wave disturbances |
US6532247B2 (en) | 2000-02-09 | 2003-03-11 | Cymer, Inc. | Laser wavelength control unit with piezoelectric driver |
US6650666B2 (en) | 2000-02-09 | 2003-11-18 | Cymer, Inc. | Laser wavelength control unit with piezoelectric driver |
JP3722200B2 (ja) * | 2000-02-29 | 2005-11-30 | ウシオ電機株式会社 | 放電励起ガスレーザ装置の出力制御方法及び放電励起ガスレーザ装置 |
JP2001257406A (ja) | 2000-03-10 | 2001-09-21 | Nikon Corp | エキシマレーザーの絶対波長安定化方法、安定化装置、及び露光装置 |
US6618403B2 (en) * | 2000-03-16 | 2003-09-09 | Lambda Physik Ag | Method and apparatus for compensation of beam property drifts detected by measurement systems outside of an excimer laser |
JP2001320118A (ja) * | 2000-05-11 | 2001-11-16 | Komatsu Ltd | レーザ装置 |
US6973355B2 (en) * | 2001-04-25 | 2005-12-06 | Tisue J Gilbert | Accurate positioner suitable for sequential agile tuning of pulse burst and CW lasers |
US6735225B2 (en) | 2001-06-07 | 2004-05-11 | Lambda Physik Ag | Chirp compensation method and apparatus |
JP3957517B2 (ja) * | 2002-01-28 | 2007-08-15 | ギガフォトン株式会社 | レーザ装置及びその制御方法 |
KR100545294B1 (ko) * | 2002-05-10 | 2006-01-24 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치, 디바이스 제조방법, 성능측정방법,캘리브레이션 방법 및 컴퓨터 프로그램 |
JP2005196926A (ja) * | 2004-01-09 | 2005-07-21 | Toshiba Corp | 記録媒体、記録媒体書込装置、記録媒体読取装置、記録媒体書込方法、および記録媒体読取方法 |
US7116695B2 (en) * | 2004-09-28 | 2006-10-03 | Cymer, Inc. | Laser output light pulse beam parameter transient correction system |
JP2006134393A (ja) * | 2004-11-04 | 2006-05-25 | Hitachi Maxell Ltd | バーストカッティングエリアの記録方法及び光ディスク |
US7643522B2 (en) * | 2004-11-30 | 2010-01-05 | Cymer, Inc. | Method and apparatus for gas discharge laser bandwidth and center wavelength control |
US7653095B2 (en) * | 2005-06-30 | 2010-01-26 | Cymer, Inc. | Active bandwidth control for a laser |
JP4116053B2 (ja) * | 2006-09-20 | 2008-07-09 | 北陽電機株式会社 | 測距装置 |
US7830942B2 (en) * | 2007-09-11 | 2010-11-09 | Cymer, Inc. | Ultraviolet laser light source pulse energy control system |
KR101742715B1 (ko) * | 2008-10-21 | 2017-06-01 | 사이머 엘엘씨 | 2 챔버 가스 방전 레이저의 레이저 제어 방법 및 장치 |
KR101603816B1 (ko) * | 2009-03-04 | 2016-03-16 | 퍼펙트 아이피, 엘엘씨 | 렌즈 형성 및 변경을 위한 시스템 그리고 그에 따라 형성된 렌즈 |
US8254420B2 (en) * | 2009-11-18 | 2012-08-28 | Cymer, Inc. | Advanced laser wavelength control |
US8310671B1 (en) * | 2010-09-29 | 2012-11-13 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of National Aeronautics And Space Administration | Interference-free optical detection for Raman spectroscopy |
CN102364886A (zh) * | 2011-08-29 | 2012-02-29 | 大连明江咨询服务有限公司 | 一种译码容错方法 |
US10816905B2 (en) * | 2015-04-08 | 2020-10-27 | Cymer, Llc | Wavelength stabilization for an optical source |
-
2015
- 2015-04-08 US US14/681,675 patent/US10816905B2/en active Active
-
2016
- 2016-03-18 CN CN201680027079.4A patent/CN107925214B/zh active Active
- 2016-03-18 KR KR1020197028558A patent/KR102123856B1/ko active IP Right Grant
- 2016-03-18 WO PCT/US2016/023281 patent/WO2016164157A1/en active Application Filing
- 2016-03-18 KR KR1020177032257A patent/KR102028679B1/ko active IP Right Grant
- 2016-03-18 JP JP2017550719A patent/JP6557353B2/ja active Active
- 2016-03-31 TW TW105110381A patent/TWI600993B/zh active
-
2019
- 2019-07-11 JP JP2019129528A patent/JP6985338B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20160299441A1 (en) | 2016-10-13 |
KR20170136575A (ko) | 2017-12-11 |
CN107925214B (zh) | 2020-04-03 |
US10816905B2 (en) | 2020-10-27 |
JP6557353B2 (ja) | 2019-08-07 |
WO2016164157A1 (en) | 2016-10-13 |
KR102028679B1 (ko) | 2019-10-04 |
JP2018517278A (ja) | 2018-06-28 |
KR20190112865A (ko) | 2019-10-07 |
CN107925214A (zh) | 2018-04-17 |
TWI600993B (zh) | 2017-10-01 |
TW201640246A (zh) | 2016-11-16 |
JP2019179935A (ja) | 2019-10-17 |
KR102123856B1 (ko) | 2020-06-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6985338B2 (ja) | 光源のための波長安定化 | |
JP6970141B2 (ja) | 光源内の外乱の補償 | |
JP6633743B2 (ja) | 光学システムのためのコントローラ | |
TWI688796B (zh) | 控制光學系統之方法 | |
JP2008153645A (ja) | パルス放射線源の放出される放射線の出力の平均を安定化するための方法及び装置 | |
JP6935581B2 (ja) | フォトリソグラフィのためのディザ不要な適応ドーズ制御及びロバストドーズ制御の方法 | |
CN109690400B (zh) | 估计光源的增益关系 | |
KR20220109471A (ko) | 광원용 제어 시스템 | |
US9927292B2 (en) | Beam position sensor |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190731 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190731 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200813 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20201110 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132 Effective date: 20210412 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210706 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211102 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211125 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6985338 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |