JP6633743B2 - 光学システムのためのコントローラ - Google Patents
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Description
本出願は、2015年10月27日に出願された「CONTROLLER FOR AN OPTICAL SYSTEM」と題する米国連続番号第14/924,576号の利益を主張する。この出願はその全体が参照により本願に含まれる。
Claims (28)
- パルス状光ビームを発するように構成された光学源と、
光学システムであって、前記光学源からの前記パルス状光ビームを第1の側で受光するように、かつ前記パルス状光ビームを第2の側で出射するように位置決めされた光学システムを備えるリソグラフィ装置と、
前記光学源及び前記光学リソグラフィ装置に結合された制御システムであって、
前記光学システムの前記第2の側における前記パルス状光ビームのエネルギ量の指示を受信し、
前記エネルギ量の前記受信した指示に基づくエネルギ誤差を決定し、
リソグラフィシステムに関連付けられ、前記リソグラフィシステムの想定されるエネルギ誤差を訂正するように構成された初期制御シーケンスにアクセスし、
前記決定したエネルギ誤差及び前記初期制御シーケンスに基づいて第2の制御シーケンスを決定し、
前記第2の制御シーケンスを前記光学源に適用する、
ように構成された制御システムと、
を備えるリソグラフィシステム。 - 前記制御システムは更に、ターゲットエネルギ及び以前の制御シーケンスにアクセスするように構成されている、請求項1に記載のリソグラフィシステム。
- エネルギ誤差を決定するように構成された前記制御システムは、前記エネルギ量の前記受信した指示及び予想エネルギから前記エネルギ誤差を決定するように構成された前記制御システムを含み、前記予想エネルギは、前記アクセスしたターゲットエネルギ及び前記以前の制御シーケンスからの少なくとも1つの値に基づくものであり、前記以前の制御シーケンスからの前記少なくとも1つの値は、非線形の関係によって前記光学源に適用される前記少なくとも1つの値に応じて光学源によって生成されるエネルギー量に関連付けられている、請求項2に記載のリソグラフィシステム。
- 前記以前の制御シーケンスは、前記第2の制御シーケンスの前記決定に先立って前記光学源に適用された制御シーケンスを含む、請求項3に記載のリソグラフィシステム。
- 前記以前の制御シーケンスは、前記第2の制御シーケンスの前記決定に先立って前記光学源に適用されなかった少なくとも1つの所定の値を含む、請求項3に記載のリソグラフィシステム。
- 前記ターゲットエネルギは、前記光学源又は前記光学システムにおいて外乱が存在しない場合の前記光学システムの前記第2の側における前記パルス状光ビームのエネルギである、請求項2に記載のリソグラフィシステム。
- 前記光学源はレーザを含む、請求項1に記載のリソグラフィシステム。
- 前記光学源は、主発振器及び電力増幅器を備える2段階レーザシステムを含む、請求項1に記載のリソグラフィシステム。
- 前記制御システムは、1つ以上の電子プロセッサと、前記1つ以上の電子プロセッサの1つ以上に結合された非一時的コンピュータ読み取り可能ストレージ媒体と、を備え、前記コンピュータ読み取り可能ストレージ媒体は記憶された命令を有し、前記命令は、前記1つ以上の電子プロセッサによって実行された場合、前記1つ以上のプロセッサに動作を実行させる、請求項1に記載のリソグラフィシステム。
- 前記光学源は放電電極を備え、
前記第2の制御シーケンスは電圧を表す少なくとも1つの値を含み、
前記第2の制御シーケンスを前記光学源に適用するように構成された前記制御システムは、電圧を表す前記少なくとも1つの値を前記放電電極に適用するように構成された前記制御システムを含む、請求項1に記載のリソグラフィシステム。 - 光学システムの第2の側におけるパルス状光ビームのエネルギ量の指示を受信することであって、前記パルス状光ビームは前記光学システムの第1の側における光学源によって生成される、ことと、
前記エネルギ量の前記受信した指示に基づくエネルギ誤差を決定することと、
前記決定したエネルギ誤差及び前記光学源を備えるリソグラフィシステムに関連付けられた初期制御シーケンスとに基づいて第2の制御シーケンスを決定することであって、前記初期制御シーケンスは前記リソグラフィシステムの想定されるエネルギ誤差を訂正するように構成された制御シーケンスであることと、
前記第2の制御シーケンスを前記光学源に適用することと、
を含む方法。 - 前記エネルギ量の前記受信した指示に基づくエネルギ誤差を決定することは、前記エネルギ量の前記受信した指示及び予想エネルギから前記エネルギ誤差を決定することを含み、前記予想エネルギは、ターゲットエネルギ及び以前の制御シーケンスからの少なくとも1つの値に基づくものであり、前記以前の制御シーケンスからの前記少なくとも1つの値は、非線形の関係によって前記光学源に適用される前記少なくとも1つの値に応じて光学源によって生成されるエネルギー量に関連付けられている、請求項11に記載の方法。
- 前記以前の制御シーケンスは、前記第2の制御シーケンスの前記決定に先立って前記光学源に適用された制御シーケンスを含む、請求項12に記載の方法。
- 前記以前の制御シーケンスは、前記第2の制御シーケンスの前記決定に先立って前記光学源に適用されなかった少なくとも1つの所定の値を含む、請求項12に記載の方法。
- 前記第2の制御シーケンスを前記光学源に適用することは、前記ターゲットエネルギと前記エネルギ量の前記受信した指示との差に基づくドーズ誤差を低減させる、請求項12に記載の方法。
- 前記第2の制御シーケンスを前記光学源に適用することは、ドーズ誤差及び制御尺度のうち1つ以上を低減させ、前記ドーズ誤差は前記ターゲットエネルギと前記エネルギ量の前記受信した指示との差に基づき、前記制御尺度は前記光学源に適用される制御シーケンスにおける値の変動量に基づく、請求項13に記載の方法。
- 前記光学システムの前記第2の側におけるエネルギ量の第2の指示にアクセスすることと、
前記エネルギ量の前記第2の指示及び予想エネルギに基づいて第2のエネルギ誤差を決定することであって、前記予想エネルギは、前記第2の制御シーケンスの少なくとも1つの値とターゲットエネルギとを含み、前記第2の制御シーケンスからの前記少なくとも1つの値は、非線形の関係によって光学源に適用される前記少なくとも1つの値に応じて前記光学源によって生成されるエネルギー量に関連付けられている、ことと、
前記決定した第2のエネルギ誤差及び初期制御シーケンスに基づいて第3の制御シーケンスを決定することと、
前記第3の制御シーケンスを前記光学源に適用することと、
を更に含む、請求項11に記載の方法。 - 前記第2の制御シーケンスは、前記光学源が第1のパルスを生成する前に前記光学源に適用され、前記第3の制御シーケンスは、前記光学源が第2のパルスを生成する前に前記光学源に適用され、前記第1及び第2のパルスは前記パルス状光ビームの任意の2つの連続したパルスである、請求項17に記載の方法。
- 前記初期制御シーケンスを決定することを更に含み、前記初期制御シーケンスを決定することは、
前記光学源に関連付けられたモデルにアクセスすることと、
前記アクセスしたモデルに基づいて、N個の値を含むモデル化ドーズ誤差を決定することと、
M個の値を含む候補制御シーケンスを決定することと、
前記モデル化ドーズ誤差の前記N個の値の変動量に関連付けられたエネルギ尺度の値を決定することと、
前記候補制御シーケンスの前記M個の値の変動量に関連付けられた制御尺度の値を決定することと、
前記エネルギ尺度の前記値及び前記制御尺度の前記値に基づくコスト尺度の初期値を決定することと、
を含む、請求項11に記載の方法。 - 複数の光パルスを含むパルス状光ビームを発するように構成された光学源と、
光学システムであって、前記光学源からの前記パルス状光ビームを第1の側で受光するように、かつ前記パルス状光ビームを第2の側で出射するように位置決めされた光学システムを備えるリソグラフィ装置と、
前記光学源及び前記光学リソグラフィ装置に結合された制御システムであって、
複数のコントローラであって、各コントローラに、利得値のシーケンス、下限値、及び上限値が関連付けられた複数のコントローラと、
1つ以上の電子プロセッサと、前記1つ以上の電子プロセッサの1つ以上に結合された非一時的コンピュータ読み取り可能ストレージ媒体であって、前記コンピュータ読み取り可能ストレージ媒体は記憶された命令を有し、前記命令は、前記1つ以上の電子プロセッサによって実行された場合、
前記光学システムの前記第2の側における前記パルス状光ビームのパルスのサブセットのエネルギ量の指示を受信すること、
前記パルスのサブセットの前記エネルギ量の前記受信した指示に基づくエネルギ誤差を決定すること、
前記決定したエネルギ誤差に関連したエネルギ尺度を決定すること、
前記コンピュータ読み取り可能ストレージ媒体に記憶されている、以前生成された制御シーケンスにアクセスすること、
前記決定したエネルギ誤差、前記複数のコントローラの各コントローラに関連付けられた利得値のシーケンス、及びアクセスした以前選択された制御シーケンスに関連した、複数の制御シーケンスを生成すること、
各制御シーケンスを前記上限値及び前記下限値と比較することによって、前記生成した複数の制御シーケンスから制御シーケンスを選択すること、
前記選択した制御シーケンスを前記光学源に適用して前記エネルギ尺度を低減させること、
を前記1つ以上のプロセッサに実行させる、コンピュータ読み取り可能ストレージ媒体と、
を備える制御システムと、
を備えるリソグラフィシステム。 - 前記光学システムの前記第2の側に位置決めされたウェーハを受容するように構成されたウェーハホルダを更に備え、前記光学システムの前記第2の側における前記パルス状光ビームの前記パルスの前記エネルギ量の前記受信した指示は、前記ウェーハホルダにおける前記パルス状光ビームの前記パルスの前記エネルギ量の指示を含む、請求項20に記載のリソグラフィシステム。
- 光学リソグラフィシステムを制御する方法であって、
光学源から発するパルス状光ビームにおけるパルスのサブセットである複数の光パルスのエネルギ量の指示を受信することと、
前記受信した指示に基づいてエネルギ尺度を決定することであって、前記エネルギ尺度は前記パルスのサブセットの測定されたエネルギ量を表す、ことと、
前記決定したエネルギ尺度を基準エネルギ値と比較することと、
前記比較に基づいてエネルギ誤差を決定することと、
前記エネルギ誤差から複数の制御シーケンスを決定することであって、前記複数の制御シーケンスの各々は利得値及び前記エネルギ誤差に基づいて決定される、ことと、
前記決定した制御シーケンスを制御限度と比較することと、
前記決定した複数の制御シーケンスの中から前記制御限度内にある制御シーケンスを選択することと、
を含む方法。 - 前記制御限度は複数の制御限度を含む、請求項22に記載の方法。
- 前記決定した制御シーケンスの各々は前記複数の制御限度の1つと比較される、請求項23に記載の方法。
- 光学源に関連付けられた予測エネルギ誤差であるエネルギ誤差にアクセスすることと、
前記光学源のモデルにアクセスすることと、
前記アクセスしたエネルギ誤差及び前記光学源の前記モデルに基づいて、複数の値を含む推定ドーズ誤差を決定することと、
複数の値を含む第1の候補制御シーケンスにアクセスすることと、
前記推定ドーズ誤差の前記値に基づいてエネルギ尺度の値を決定することと、
前記第1の候補制御シーケンスの前記値に基づいて制御尺度の第1の値を決定することと、
前記エネルギ尺度の前記値及び前記制御尺度の前記第1の値に基づいてコスト尺度の第1の値を決定することと、
複数の値を含む第2の候補制御シーケンスにアクセスすることと、
前記第2の候補制御シーケンスの前記値に基づいて前記制御尺度の第2の値を決定することと、
前記エネルギ尺度及び前記制御尺度の前記第2の値に基づいて前記コスト尺度の第2の値を決定することと、
前記コスト尺度の前記第2の値が前記コスト尺度の前記第1の値よりも小さい場合、前記第2の候補制御シーケンスを選択された制御シーケンスとして選択することと、
前記コスト尺度の前記第2の値が前記コスト尺度の前記第1の値以上である場合、前記第1の候補制御シーケンスを前記選択された制御シーケンスとして選択することと、
を含む方法。 - 重み付け係数にアクセスすることを更に含み、前記コスト尺度の前記第1の値及び前記コスト尺度の前記第2の値を決定することは更に前記重み付け係数に基づく、請求項25に記載の方法。
- 前記コスト尺度の前記第1の値は、前記重み付け係数と、前記制御尺度の前記第1の値及び前記エネルギ尺度の和と、に基づき、
前記コスト尺度の前記第2の値は、前記重み付け係数と、前記制御尺度の前記第2の値及び前記エネルギ尺度の和と、に基づく、請求項26に記載の方法。 - 前記選択された制御シーケンスを前記光学源に適用することを更に含む、請求項25に記載の方法。
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