CN102375351B - 一种信号归一化掩模对准系统 - Google Patents

Abstract

一种用于光刻设备的掩模对准系统，该对准系统包括照明模块、标记模块、投影模块、光强测量模块、位置测量模块、运动控制模块、能量探测模块、对准操作模块。本发明利用能量探测模块获得照明模块输出能量波动，并利用该能量数据对精对准时分支标记原始光强数据进行归一化，在消除照明模块输出能量波动的同时，避免了引入新的误差，提高了精对准的精度。

Description

一种信号归一化掩模对准系统

技术领域

本发明涉及集成电路或其它微型器件制造领域的光刻装置，尤其涉及一种用于光刻装置的信号归一化掩模对准系统。

背景技术

在半导体IC集成电路制造过程中，一个完整的芯片通常需要经过多次光刻曝光才能制作完成。除了第一次光刻外，其余层次的光刻在曝光前都要将该层次的图形与以前层次曝光留下的图形进行精确定位，这样才能保证每一层图形之间有正确的相对位置，即套刻精度。通常情况下，套刻精度为光刻机分辨率指标的1/3～1/5，对于100纳米的光刻机而言，套刻精度指标要求小于35nm。套刻精度是投影光刻机的主要技术指标之一，而掩模与硅片之间的对准精度是影响套刻精度的关键因素。当特征尺寸CD要求更小时，对套刻精度的要求以及由此产生的对准精度的要求变得更加严格，如90nm的CD尺寸要求10nm或更小的对准精度。

掩模与硅片之间的对准可采用掩模对准加硅片对准的方式，即以工件台基准板标记为桥梁，建立掩模标记和硅片标记之间的位置关系。对准的基本过程为：首先通过掩模对准系统，实现掩模标记与工件台基准板标记之间的对准，然后利用硅片对准系统，完成硅片标记与工件台基准板标记之间的对准，进而间接实现硅片标记与掩模标记之间对准。

中国专利CN200910045415.X、CN200810036910.X、CN200810036911.4等公开了用于实现第一物件(位于掩模或掩模基准版上的透射式标记)相对于第二物件(位于工件台基准板上的参考标记)的位置关系的对准系统或对准标记。在该对准系统的对准标记(透射式标记和参考标记)中，通常包括归一化标记和分支标记。如图1所示，标记中用于归一化级光光强的子标记为归一化标记；标记中用于精对准的子标记，叫分支标记。在该对准系统中，采用曝光光源作为对准光源，由于激光器的功率存在波动(每次激光脉冲的能量波动甚至高达10％以上)，导致一次精对准对准扫描时，不同时刻获得原始光强数据不具备可比性，无法获得准确的对准信号，即分支标记获得原始光强数据I_raw为：

I_raw＝γ_laser∫ρ_gratingds_grating                                           公式一

式中，ρ_grating为透射式标记的分支标记成像能量分布函数，s_grating为参考标记的分支标记透光面积，γ_laser为激光脉冲的能量。显然，精对准扫描时，当γ_laser存在波动时，在不同位置采集到的分支标记的原始光强I_raw将不具备位置意义下的可比性。

为解决该问题，现有的掩模对准系统中通常利用归一化标记光强对分支标记原始光强数据进行归一化，以消除激光器的功率波动对分支标记光强信号的影响。在精对准扫描时，归一化标记获得光强I_grid为：

I_gridγ_laser∫ρ_gridds_grid                                        公式二

式中，ρ_grid为透射式标记的归一化标记成像能量分布函数，s_grid为参考标记的归一化标记透光面积，γ_laser为激光脉冲的能量。由于精对准扫描时，透射式标记的归一化标记成像自始自终均全部透过参考标记的归一化标记(如附图2所示)，故理想情况下，∫ρ_gridds_grid为定值，即I_grid仅随激光脉冲的变化而变化。利用I_grid对I_raw进行归一化：

公式三

此时，获得光强数据I_normlized将不随激光脉冲的波动而变化，从而使得精对准扫描时，不同位置的光强数据具备了可比性。

但是，该方法在消除激光器输出功率波动的同时，也将引入一个新的误差。∫ρ_gridds_grid只是理想情况下的定值。在实际情况中，即便是透射式标记的归一化标记成像均包含在参考标记的归一化标记中，在不同的空间像位置(X、Y或Z，如附图2的位置1和位置2是在不同的X向位置)，ρ_grid是不同的，故∫ρ_gridds_grid不是定值，只是这种变动相对于激光器的脉冲波动小得多。此外，激光器脉冲的光强在空间上是分布不均匀的，照射到透射式标记的分支标记上的总能量与透射式标记的归一化标记总能量是非线性相关的，故利用I_grid不能完全反映照射到透射式标记的分支标记上的能量随激光器脉冲波动的情况。因此，采用归一化标记不能完全消除激光器波动导致的对准误差，通常会残留0.4nm左右的精对准误差。为了提高对准精度，有必要提出一种新的对准系统。

发明内容

本发明的目的在于提供一种新的具有高对准精度的对准系统。

根据本发明的对准系统，可用于确定第一物件相对于第二物件的位置关系，该系统包括：

照明模块，用于提供对准照明辐射；

标记模块，包括透射式标记和参考标记；

投影模块，用于对透射式标记进行成像；

光强测量模块，用于采集透射式标记的像扫描过参考标记时透过的原始光强数据；

位置测量模块包括掩模台测量子模块和工件台测量子模块，分别用于测量与采集掩模台位置数据和工件台位置数据；

能量探测模块，用于探测和采集照明模块的能量数据；

所述对准系统利用所述能量数据、原始光强数据、掩模台位置数据、工件台位置数据经处理后获得对准位置。

其中，所述能量探测模块位于照明模块的内部或照明模块与投影模块之间，或位于投影模块与工件台之间。

其中，所述照明模块提供紫外光和极紫外光进行对准照明辐射。

其中，所述光强测量模块中含一集成传感器，所述集成传感器内包含有光子晶体，所述光子晶体将透过所述参考标记的紫外光或极紫外光转换为可见波长段的荧光，并被集成传感器内的光电探测器探测，生成电信号。

其中，所述能量探测模块内置有光子晶体，将紫外波长的激光脉冲或连续光束转换为可见波长段的荧光，然后通过光电探测器探测荧光的能量。

其中，照明模块提供可见光进行对准照明辐射。

其中，所述光强测量模块中含一集成传感器，通过集成传感器内的光电探测器直接探测透过参考标记的光强，生成电信号。

通过所述能量探测模块内的光电探测器直接探测可见光的能量。

其中所述透射式标记和参考标记均包括分支标记和归一化标记。

在所述光强测量模块中，各分支标记和归一化标记透过的原始光强通过相互独立的通道采集。

所述透射式标记的分支标记成像到所述参考标记的分支标记上，所述透射式标记的归一化标记成像到所述参考标记的归一化标记上。

对准操作模块将对获得原始光强数据、掩模台位置数据、工件台位置数据和能量数据进行处理的过程如下：

将掩模台位置坐标数据和工件台位置坐标数据转换到工件台坐标系下，处理公式为：

$(X_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{WSCS}},Y_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{WSCS}},{\mathrm{Rz}}_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{WSCS}},{\mathrm{Rx}}_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{WSCS}},{\mathrm{Ry}}_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{WSCS}},Z_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{WSCS}})=$

$(X_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{RSCS}},Y_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{RSCS}},{\mathrm{Rz}}_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{RSCS}},{\mathrm{Rx}}_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{RSCS}},{\mathrm{Ry}}_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{RSCS}},Z_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{RSCS}})\left(\begin{array}{cccccc}\mathrm{lm}& 0& 0& 0& 0& 0\\ 0& \mathrm{lm}& 0& 0& 0& 0\\ 0& 0& 1& 0& 0& 0\\ 0& 0& 0& \mathrm{lm}& 0& 0\\ 0& 0& 0& 0& \mathrm{lm}& 0\\ 0& 0& 0& 0& 0& {\left(\mathrm{lm}\right)}^2\end{array}\right)$

其中，

为掩模台六自由度位置坐标在掩模台坐标系下的位置，lm为投影模块的放大倍率，

为掩模台六自由度位置坐标转换到工件台坐标系下的位置数据；

计算工件台和掩模台之间的相对位置(X，Y，Rz，Rx，Ry，Z)：

$(X,Y,\mathrm{Rz},\mathrm{Rx},\mathrm{Ry},Z)=(X_{\mathrm{WS}}^{\mathrm{WSCS}},Y_{\mathrm{WS}}^{\mathrm{WSCS}},{\mathrm{Rz}}_{\mathrm{WS}}^{\mathrm{WSCS}},{\mathrm{Rx}}_{\mathrm{WS}}^{\mathrm{WSCS}},{\mathrm{Ry}}_{\mathrm{WS}}^{\mathrm{WSCS}},Z_{\mathrm{WS}}^{\mathrm{WSCS}})-$

$(X_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{WSCS}},Y_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{WSCS}},{\mathrm{Rz}}_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{WSCS}},{\mathrm{Rx}}_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{WSCS}},{\mathrm{Ry}}_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{WSCS}},Z_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{WSCS}})$

利用所述能量数据对所述原始光强数据进行归一化，以消除所述照明辐射的波动造成的影响，获得归一化光强数据I_normlized，归一化公式为：

I_normlized＝I_raw/I_ES

式中：I_raw为探测标记采样获得的原始光强数据，I_ES为能量探测模块采样获得的能量数据，I_normlized为归一化后的光强数据。

在X或Y方向做一维精对准扫描，通过所述一维精对准扫描和对准信号的拟合，确定X或Y方向的精对准位置。

在X与Z方向或者Y与Z方向做二维精对准扫描，通过所述二维精对准扫描和对准信号的拟合，确定X或Y方向的精对准位置和最佳焦面Z的位置。

本发明采用的对准系统未采用归一化标记对分支原始光强进行归一化，而是采用能量探测器，直接探测激光器输出功率，并利用该探测器来归一化参考标记的分支原始光强，从而在消除激光器波动的同时，避免了引入新的误差，提高了精对准的精度。

附图说明

通过本发明实施例并结合其附图的描述，可以进一步理解其发明的目的、具体结构特征和优点。其中，附图为：

图1所示为透射式标记(掩模标记)和参考标记(基准板标记)；

图2所示为对准扫描不同位置时，透射式标记成像到参考标记上的情况；

图3所示为根据本发明的一种掩模对准系统；

图4所示为光子晶体受激后的荧光效应示意图；

图5所示为一维扫描获得的对准信号示意图；

图6所示为二维扫描获得的对准信号示意图。

具体实施方式

下面，结合附图详细描述根据本发明的优选实施例。为了便于描述和突出显示本发明，附图中省略了现有技术中已有的相关部件，并将省略对这些公知部件的描述。

图3为根据本发明的一种掩模对准系统，用于实现第一物件相对于第二物件的位置关系。该对准系统包括照明模块1、标记模块、投影模块5、光强测量模块、位置测量模块、运动控制模块、能量探测模块16和对准操作模块15。

照明模块1用于提供对准照明辐射，该照明模块中的光源可采用硅片曝光时用的曝光光源，也可采用专门的对准激光光源。照明激光可采用紫外光(UV)(例如波长为193、246纳米)、极紫外光(EUV)(例如具有5-20纳米范围的波长)或者可见光。照明光束的形式可为脉冲光形式，也可为连续光的形式。

投影模块5由一系列透镜组成，用于透射式标记2的成像。投影模块应被广义地解释为包括任何类型的投影系统包括折射式、反射式、反射折射式或者他们的任意组合等。

如图1和2所示，标记模块包括透射式标记2和参考标记6。透射式标记2位于投影模块5的物面，可放置在掩模台4上、掩模台基准板3上或掩模上。掩模台基准板3和掩模位于掩模台4上(图中未示出掩模位置)。参考标记6位于投影物镜的像面上，可放置在工件台8上或工件台基准板7上。透射式标记2和参考标记6均包括分支标记和归一化标记，可采用图1给出的标记形式、中国专利CN200910045415.X给出的形式，以及其它类似形式。但无论采用哪一种标记的形式，均不影响本专利的技术方案和技术效果。透射式标记2通过投影模块5而成像到参考标记6上，参考标记6用来调制透射式标记2的成像，形成所需的光强信号。

光强测量模块包括集成传感器9、光强采集板10，用于采集透射式标记2的像扫描过参考标记6时透过的光强。根据对准照明光源波长的不同，集成传感器9可以有不同的实施例。对于UV或者EUV对准照明光源，集成传感器9内包含有光子晶体，可将紫外波长的激光脉冲或连续光束转换为可见波长段的荧光，并被集成传感器9内的光电探

器探测，生成电信号；对于可见光对准照明光源，集成传感器9不需要内置光子晶体，可由集成传感器9内的光电探测器直接探测透过参考标记6的光强，生成电信号。光强采集板10用来对集成传感器9输出的电信号进行后续的处理后(如放大、滤波等)，并采集为原始光强数据传输给对准操作模块15。在集成传感器9中，各分支标记和归一化标记透过的原始光强是在相互独立的通道进行采集的。本发明中，归一化标记的光强不再用来归一化分支标记的原始光强。

位置测量模块包括掩模台测量子模块12和工件台测量子模块14，分别用于测量与采集掩模台4位置数据和工件台8位置数据。掩模台测量子模块12和工件台测量子模块14中可以采用激光干涉仪进行测量，也可以采用其它的测量方式，如光栅尺等。通过位置测量模块，可获得掩模台六自由度的位置数据和工件台六自由度的位置数据，并传输给对准操作模块15。

运动控制模块包括掩模台运动控制子模块11和工件台运动控制子模块13，分别用于控制掩模台4和工件台8的定位与运动。

能量探测模块16用于探测照明模块1输出的光强波动。能量探测模块16可位于照明模块1的内部、照明模块1与投影模块5之间，或者位于投影模块5与工件台8之间。根据对准照明光源波长的不同，能量探测模块16可以有不同的实施例。对于UV或者EUV对准照明光源，能量探测模块16内置有光子晶体，可将紫外波长的激光脉冲或连续光束转换为可见波长段的荧光，然后通过光电探测器探测荧光的能量。此时，能量探测模块16测量值的变化，即反映了激光器的输出波动。为了保证更好的一致性，能量探测模块16中的光子晶体与集成传感器9内的光子晶体具有同样或类似的物理特性，但此处不应理解为二者必须具备相同的物理特性。对于可见光对准照明光源，能量探测模块16无需内置有光子晶体，可由光电探测器直接探测可见光的能量。精对准时，能量探测模块16将获得能量数据传输给对准操作模块15。

对准操作模块15用于对准控制，并利用掩模台4位置数据、工件台8位置数据、原始光强数据和能量数据经处理后获得对准位置。所述的处理将在下文的实施例中给予说明。

在一个实施例中，光刻设备进行精对准时，照明模块1发射紫外脉冲到透射式标记2上，经投影模块5成像到参考标记6上。其中，透射式标记2的分支标记成像到参考标记6的分支标记上，透射式标记2的归一化标记成像到参考标记6的归一化标记上。透过参考标记6的光束照射在集成传感器9的光子晶体上，光子晶体受激发后，将紫外光转换为可见波段的荧光，如附图4所示。集成传感器9的光电探测器探测荧光的电信号(模拟信号)，并由光强采集板10进行放大和滤波等处理，然后采集荧光效应最高点处的信号强度，该信号强度作为该处的原始光强数据I_raw，并传输给对准操作模块15；同时，在照明模块1发射紫外脉冲到透射式标记2时，位置测量模块的掩模台测量子模块12和工件台测量子模块14分别采集此时掩模台4和工件台8的六自由度位置数据，作为该处的位置数据传输给对准操作模块15；在照明模块1发射紫外脉冲到透射式标记2时，能量探测模块16采集此时照明模块1发射出的紫外脉冲能量，并将此时能量数据I_ES传输给对准操作模块15。然后，对准操作模块15通过运动控制模块控制工件台8和掩模台4运行到下一位置，重复上述过程，采集该处的原始光强数据、位置数据和能量数据，并传输到对准操作模块15。如此类推，直到精对准结束。上述过程中，工件台8和掩模台4的运动可采用扫描的方式，也可采用步进的方式进行。通常，扫描的方式能够有着更高的对准效率。上述过程中，掩模台4也可定位到预定的位置，精对准过程不进行移动。

对准操作模块15将对获得原始光强数据、位置数据和能量数据进行处理。

首先对位置数据进行处理，获取相对位置数据。即将掩模台4位置坐标数据和工件台8位置坐标数据转换到统一的坐标系下(如工件台坐标系下，但本发明并不限于该坐标系)，然后计算获得相对位置数据。

统一到工件台坐标系下的掩模台4位置数据处理公式为：

$(X_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{WSCS}},Y_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{WSCS}},{\mathrm{Rz}}_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{WSCS}},{\mathrm{Rx}}_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{WSCS}},{\mathrm{Ry}}_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{WSCS}},Z_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{WSCS}})=$

$(X_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{RSCS}},Y_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{RSCS}},{\mathrm{Rz}}_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{RSCS}},{\mathrm{Rx}}_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{RSCS}},{\mathrm{Ry}}_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{RSCS}},Z_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{RSCS}})\left(\begin{array}{cccccc}\mathrm{lm}& 0& 0& 0& 0& 0\\ 0& \mathrm{lm}& 0& 0& 0& 0\\ 0& 0& 1& 0& 0& 0\\ 0& 0& 0& \mathrm{lm}& 0& 0\\ 0& 0& 0& 0& \mathrm{lm}& 0\\ 0& 0& 0& 0& 0& {\left(\mathrm{lm}\right)}^2\end{array}\right)$ 公式四

式中，X、Y、Z、Rz、Rx、Ry为笛卡儿位置坐标系下的6自由度坐标，

为掩模台六自由度位置坐标在掩模台坐标系下的位置，lm为投影模块的放大倍率，

为掩模台六自由度位置坐标转换到工件台坐标系下的位置数据。

工件台8和掩模台4之间的相对位置(X，Y，Rz，Rx，Ry，Z)为：

$(X,Y,\mathrm{Rz},\mathrm{Rx},\mathrm{Ry},Z)=(X_{\mathrm{WS}}^{\mathrm{WSCS}},Y_{\mathrm{WS}}^{\mathrm{WSCS}},{\mathrm{Rz}}_{\mathrm{WS}}^{\mathrm{WSCS}},{\mathrm{Rx}}_{\mathrm{WS}}^{\mathrm{WSCS}},{\mathrm{Ry}}_{\mathrm{WS}}^{\mathrm{WSCS}},Z_{\mathrm{WS}}^{\mathrm{WSCS}})-$ 公式五

$(X_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{WSCS}},Y_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{WSCS}},{\mathrm{Rz}}_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{WSCS}},{\mathrm{Rx}}_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{WSCS}},{\mathrm{Ry}}_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{WSCS}},Z_{\mathrm{RS}}^{\mathrm{WSCS}})$

对原始光强数据进行处理，利用能量数据对原始光强数据进行归一化，以消除激光器脉冲光束之间的波动造成的影响，获得归一化光强数据I_normlized。归一化公式为：

I_normlized＝I_raw/I_ES                                         公式六

式中：I_raw为探测标记采样获得的原始光强数据，I_ES为能量探测模块采样获得的能量数据，I_normlized为归一化后的光强数据。

则获得对准信号的形式为附图5或附图6所示。其中，图5是在X/Y(即X或Y方向)做一维精对准扫描，通过该一维精对准扫描和对准信号的拟合，可以确定X/Y的精对准位置。信号拟合的方法具体可参见中国专利CN 200910201611.1，这里作为公知技术引入，不再具体描述。

附图6是在X/Y与Z(即X与Z的方向，或者Y与Z的方向)之间做二维精对准扫描。通过该二维精对准扫描和对准信号的拟合，可以确定X/Y的精对准位置和最佳焦面Z的位置。具体方法可参考中国专利CN200910045415.X、CN200810036910.X、CN200810036911.4、CN200710044848.4、CN200710044559.4等，这里作为公知技术引入。

在另外一个实施例中，照明模块1也可发射连续照明光到透射式标记2上。同样，在另一个实施例中，照明模块1也可以采用可见光，在可见光对准照明下，探测模块和能量探测模块16可直接采用光电传感器进行探测，而无需先通过光子转换晶体，转换成可见光后进行探测。以上实施例不影响本发明技术方案的实施和技术效果。

本说明书中所述的只是本发明的几种较佳具体实施例，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非对本发明的限制。凡本领域技术人员依本发明的构思通过逻辑分析、推理或者有限的实验可以得到的技术方案，皆应在本发明的范围之内。

Claims (14)

1.一种用于光刻设备的对准系统，用于确定透射标记相对于参考标记的位置关系，该系 

统包括： 

照明模块，用于提供对准照明辐射； 

标记模块，包括透射式标记和参考标记； 

投影模块，用于对透射式标记进行成像； 

光强测量模块，用于采集透射式标记的像扫描过参考标记时透过的原始光强数据； 

位置测量模块包括掩模台测量子模块和工件台测量子模块，分别用于测量与采集掩模台位置数据和工件台位置数据； 

能量探测模块，用于探测和采集照明模块的能量数据； 

其特征在于，所述对准系统利用所述能量数据、原始光强数据、掩模台位置数据、工件台位置数据经处理后获得对准位置。 

2.根据权利要求1所述的对准系统，其特征在于，所述能量探测模块位于照明模块的内部或照明模块与投影模块之间，或位于投影模块与工件台之间。 

3.根据权利要求2所述的对准系统，其特征在于，所述照明模块提供紫外光和极紫外光进行对准照明辐射。 

4.根据权利要求3所述的对准系统，其特征在于，所述光强测量模块中含一集成传感器，所述集成传感器内包含有光子晶体，所述光子晶体将透过所述参考标记的紫外光或极紫外光转换为可见波长段的荧光，并被集成传感器内的光电探测器探测，生成电信号。 

5.根据权利要求4所述的对准系统，其特征在于，所述能量探测模块内置有光子晶体，将紫外波长的激光脉冲或连续光束转换为可见波长段的荧光，然后通过光电探测器探测荧光的能量。 

6.根据权利要求1所述的对准系统，其特征在于，照明模块提供可见光进行对准照明辐射。 

7.根据权利要求6所述的对准系统，其特征在于，所述光强测量模块中含一集成传感器，通过集成传感器内的光电探测器直接探测透过参考标记的光强，生成电信号。 

8.根据权利要求7所述的对准系统，其特征在于，通过所述能量探测模块内的光电探测器直接探测可见光的能量。 

9.根据权利要求1所述的对准系统，其特征在于，所述透射式标记和参考标记均包括分支标记和归一化标记。

10.根据权利要求8所述的对准系统，其特征在于，在所述光强测量模块中，各分支标记和归一化标记透过的原始光强通过相互独立的通道采集。

11.根据权利要求10所述的对准系统，其特征在于，所述透射式标记的分支标记成像到所述参考标记的分支标记上，所述透射式标记的归一化标记成像到所述参考标记的归一化标记上。

12.根据权利要求1-11中任意一个所述的对准系统，其特征在于，对准操作模块将对获得原始光强数据、掩模台位置数据、工件台位置数据和能量数据进行处理的过程如下：

将掩模台位置坐标数据和工件台位置坐标数据转换到工件台坐标系下，处理公式为：

其中， 

为掩模台六自由度位置坐标在掩模台坐标系下的位置，lm为投影模块的放大倍率， 

为掩模台六自由度位置坐标转换到工件台坐标系下的位置数据；

计算工件台和掩模台之间的相对位置(X，Y，Rz，Rx，Ry，Z)：

利用所述能量数据对所述原始光强数据进行归一化，以消除所述照明辐射的波动造成的影响，获得归一化光强数据I_normlized，归一化公式为：

I_normlized＝I_raw/I_ES

式中：I_raw为探测标记采样获得的原始光强数据，I_ES为能量探测模块采样获得的能量数据，I_normlized为归一化后的光强数据。

13.根据权利要求12所述的对准系统，其特征在于，在X或Y方向做一维精对准扫描， 通过所述一维精对准扫描和对准信号的拟合，确定X或Y方向的精对准位置。

14.根据权利要求12所述的对准系统，其特征在于，在X与Z方向或者Y与Z方向做二维精对准扫描，通过所述二维精对准扫描和对准信号的拟合，确定X或Y方向的精对准位置和最佳焦面Z的位置。

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