JP6984183B2 - 半導体パッケージ、半導体装置および半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
特許文献1 特開平7−249707号公報
特許文献2 特開2006−210956号公報
特許文献3 特開平3−147353号公報
図1は、実施例1に係る半導体装置100を説明するための図である。半導体装置100は、半導体パッケージ10および実装基板20を備える。図1は、半導体パッケージ10と実装基板20とをはんだ付けするためのフロー工程を示している。
図3は、実施例2に係る半導体パッケージ10の構成の一例を示す。本例の半導体パッケージ10は、第1電極31と、第2電極32と、第1突起部41とを備える。
図4は、実施例3に係る半導体パッケージ10の構成の一例を示す。本例の半導体パッケージ10は、第1電極31と、第2電極32と、第1突起部41と、第2突起部42とを備える。本例の半導体パッケージ10は、第1突起部41の個数が実施例2に係る半導体パッケージ10と相違する。また、本例の半導体パッケージ10は、第2突起部42を備える点で、実施例2に係る半導体パッケージ10と相違する。本例では、実施例2に係る半導体パッケージ10と相違する点について特に説明する。
図5は、実施例4に係る半導体パッケージ10の構成の一例を示す。本例の半導体パッケージ10は、第1電極31と、4つの第2電極32a〜32dと、2つの第1突起部41a,41bと、1つの第2突起部42とを備える。本例の半導体パッケージ10は、第2突起部42を1つ備える点で、実施例3に係る半導体パッケージ10と相違する。本例では、実施例3に係る半導体パッケージ10と相違する点について特に説明する。
[0]
図6は、実施例5に係る半導体パッケージ10の構成の一例を示す。本例の半導体パッケージ10は、第1電極31と、4つの第2電極32a〜32dと、2つの第1突起部41a,41bと、第2突起部42とを備える。本例の半導体パッケージ10は、第2突起部42の配置が実施例4に係る半導体パッケージ10と相違する。本例では、実施例4と相違する点について特に説明する。
図7は、実施例6に係る半導体パッケージ10の構成の一例を示す。本例の半導体パッケージ10は、第1電極31と、4つの第2電極32a〜32dと、4つの第1突起部41a〜41dとを備える。本例の半導体パッケージ10は、第2突起部42の配置および形状が実施例2に係る半導体パッケージ10と相違する。本例では、実施例2に係る半導体パッケージ10と相違する点について特に説明する。
Claims (16)
- 半導体チップを含む半導体パッケージであって、
パッケージ本体と、
前記パッケージ本体の底面において露出した複数の電極と、
前記パッケージ本体の底面から、前記複数の電極よりも突出した突起部と
を備え、
前記突起部は、前記複数の電極のうち、最も間隔の狭い2つの電極が配列された第1方向と異なる第2方向において、当該2つの電極と重ならないように配置され、
前記複数の電極は、
前記第2方向において前記突起部と重なる第1電極と、
前記第1電極よりも露出面積が小さく、前記第2方向において前記突起部と重ならない第2電極と
を有する
半導体パッケージ。 - 半導体チップを含む半導体パッケージであって、
パッケージ本体と、
前記パッケージ本体の底面において露出した複数の電極と、
前記パッケージ本体の底面から、前記複数の電極よりも突出した突起部と
を備え、
前記突起部は、前記複数の電極のうち、前記半導体パッケージの端部に設けられた最も間隔の狭い2つの電極が配列された第1方向と異なる第2方向において、当該2つの電極と重ならないように配置されている
半導体パッケージ。 - 複数の前記突起部を備え、
複数の前記突起部は、前記第2方向において、前記2つの電極と重ならないように配置されている
請求項1又は2に記載の半導体パッケージ。 - 前記複数の電極は、
前記第2方向において前記突起部と重なる第1電極と、
前記第1電極よりも露出面積が小さく、前記第2方向において前記突起部と重ならない第2電極と
を有する
請求項2に記載の半導体パッケージ。 - 前記突起部は、
前記パッケージ本体の底面の角に配置された第1突起部と、
前記第1電極と前記第2電極との間に配置された第2突起部と
を有する
請求項4に記載の半導体パッケージ。 - 前記第1方向に配列された複数の前記第2電極を備え、
前記第2突起部の前記第1方向における幅が、複数の前記第2電極の前記第1方向における間隔と同一である
請求項5に記載の半導体パッケージ。 - 前記第2突起部の前記第1方向における幅が、前記第1突起部の前記第1方向における幅よりも大きい
請求項5又は6に記載の半導体パッケージ。 - 前記第2突起部の前記第2方向における幅は、前記第2突起部の前記第1方向における幅よりも大きい
請求項5から7のいずれか一項に記載の半導体パッケージ。 - 前記第2方向における前記第1電極と前記第2突起部との間の距離L1は、前記第2方向における前記第2電極と前記第2突起部との間の距離L2よりも小さい
請求項5から8のいずれか一項に記載の半導体パッケージ。 - 前記第2方向における前記第1電極と前記第2突起部との間の距離L1は、前記第2方向における前記第2電極と前記第2突起部との間の距離L2よりも大きい
請求項5から8のいずれか一項に記載の半導体パッケージ。 - 前記突起部の先端が丸みを有する
請求項1から10のいずれか一項に記載の半導体パッケージ。 - 前記突起部の平面形状が丸みを有する
請求項1から11のいずれか一項に記載の半導体パッケージ。 - 請求項1から12のいずれか一項に記載の半導体パッケージと、
前記半導体パッケージが取り付けられた実装基板と、
前記実装基板と前記半導体パッケージとの間に設けられたはんだと
を備える半導体装置。 - パッケージ本体と、前記パッケージ本体の底面において露出した複数の電極と、前記複数の電極のうち、最も間隔の狭い2つの電極が配列された第1方向と異なる第2方向において、当該2つの電極と重ならないように配置され、前記複数の電極よりも突出した突起部とを備える半導体パッケージを用意する段階と、
前記半導体パッケージと実装基板とを仮止めする段階と、
前記半導体パッケージと前記実装基板との間にはんだを流す段階と
を備え、
前記複数の電極は、
前記第2方向において前記突起部と重なる第1電極と、
前記第1電極よりも露出面積が小さく、前記第2方向において前記突起部と重ならない第2電極と
を有する
半導体装置の製造方法。 - パッケージ本体と、前記パッケージ本体の底面において露出した複数の電極と、前記複数の電極のうち、半導体パッケージの端部に設けられた最も間隔の狭い2つの電極が配列された第1方向と異なる第2方向において、当該2つの電極と重ならないように配置され、前記複数の電極よりも突出した突起部とを備える半導体パッケージを用意する段階と、
前記半導体パッケージと実装基板とを仮止めする段階と、
前記半導体パッケージと前記実装基板との間にはんだを流す段階と
を備える
半導体装置の製造方法。 - 前記はんだを流す段階において、前記半導体パッケージが前記第2方向に移動する
請求項14又は15に記載の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017111214A JP6984183B2 (ja) | 2017-06-05 | 2017-06-05 | 半導体パッケージ、半導体装置および半導体装置の製造方法 |
CN201810177954.8A CN108987353B (zh) | 2017-06-05 | 2018-03-05 | 半导体封装件、半导体装置以及半导体装置的制造方法 |
US15/914,990 US10607906B2 (en) | 2017-06-05 | 2018-03-07 | Semiconductor package, semiconductor device and semiconductor device manufacturing method |
TW107107816A TWI745558B (zh) | 2017-06-05 | 2018-03-08 | 半導體封裝、半導體裝置及半導體裝置之製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017111214A JP6984183B2 (ja) | 2017-06-05 | 2017-06-05 | 半導体パッケージ、半導体装置および半導体装置の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018206977A JP2018206977A (ja) | 2018-12-27 |
JP2018206977A5 JP2018206977A5 (ja) | 2020-07-16 |
JP6984183B2 true JP6984183B2 (ja) | 2021-12-17 |
Family
ID=64460337
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017111214A Active JP6984183B2 (ja) | 2017-06-05 | 2017-06-05 | 半導体パッケージ、半導体装置および半導体装置の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10607906B2 (ja) |
JP (1) | JP6984183B2 (ja) |
CN (1) | CN108987353B (ja) |
TW (1) | TWI745558B (ja) |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03147353A (ja) | 1989-11-02 | 1991-06-24 | New Japan Radio Co Ltd | 表面実装型半導体パッケージ |
US5220200A (en) * | 1990-12-10 | 1993-06-15 | Delco Electronics Corporation | Provision of substrate pillars to maintain chip standoff |
US5186383A (en) * | 1991-10-02 | 1993-02-16 | Motorola, Inc. | Method for forming solder bump interconnections to a solder-plated circuit trace |
US5269453A (en) * | 1992-04-02 | 1993-12-14 | Motorola, Inc. | Low temperature method for forming solder bump interconnections to a plated circuit trace |
JPH07249707A (ja) | 1994-03-09 | 1995-09-26 | Fujitsu Ltd | 半導体パッケージ |
JP2944449B2 (ja) * | 1995-02-24 | 1999-09-06 | 日本電気株式会社 | 半導体パッケージとその製造方法 |
US5796169A (en) * | 1996-11-19 | 1998-08-18 | International Business Machines Corporation | Structurally reinforced ball grid array semiconductor package and systems |
JP2006210956A (ja) | 1997-02-27 | 2006-08-10 | Fujitsu Ltd | 半導体装置 |
US6118182A (en) * | 1998-06-25 | 2000-09-12 | Intel Corporation | Integrated circuit package with rectangular contact pads |
US6122171A (en) * | 1999-07-30 | 2000-09-19 | Micron Technology, Inc. | Heat sink chip package and method of making |
US6531335B1 (en) * | 2000-04-28 | 2003-03-11 | Micron Technology, Inc. | Interposers including upwardly protruding dams, semiconductor device assemblies including the interposers, and methods |
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JP3942457B2 (ja) * | 2002-02-27 | 2007-07-11 | Necエレクトロニクス株式会社 | 電子部品の製造方法 |
US20060108678A1 (en) * | 2002-05-07 | 2006-05-25 | Microfabrica Inc. | Probe arrays and method for making |
CN100587930C (zh) * | 2005-05-17 | 2010-02-03 | 松下电器产业株式会社 | 倒装片安装体及倒装片安装方法 |
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WO2007039960A1 (ja) * | 2005-10-05 | 2007-04-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | 配線基板及びそれを備えた表示装置 |
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JP4752586B2 (ja) * | 2006-04-12 | 2011-08-17 | ソニー株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
-
2017
- 2017-06-05 JP JP2017111214A patent/JP6984183B2/ja active Active
-
2018
- 2018-03-05 CN CN201810177954.8A patent/CN108987353B/zh active Active
- 2018-03-07 US US15/914,990 patent/US10607906B2/en active Active
- 2018-03-08 TW TW107107816A patent/TWI745558B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201903978A (zh) | 2019-01-16 |
TWI745558B (zh) | 2021-11-11 |
CN108987353B (zh) | 2023-10-24 |
JP2018206977A (ja) | 2018-12-27 |
US10607906B2 (en) | 2020-03-31 |
CN108987353A (zh) | 2018-12-11 |
US20180350705A1 (en) | 2018-12-06 |
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A521 | Request for written amendment filed |
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