JP6975650B2 - 検査用基板を用いる電流測定モジュールおよび検査用基板 - Google Patents
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Description
等)で洗浄される。ブロー槽132では、洗浄後の基板の液切りが行われる。第2洗浄槽130bでは、めっき後の基板が基板ホルダ60と共に洗浄液で洗浄される。ストッカ124、プリウェット槽126、プリソーク槽128、第1洗浄槽130a、ブロー槽132、第2洗浄槽130b、及びめっき槽10は、この順に配置されている。
奨される。なお、ハンドルバー111には、腐食耐性の高いチタンを用いることもできる。
回転する。押え部材12は例えば略円形のリング状である。
図5は、一実施形態による、電流測定モジュール200を概略的に示す図である。電流測定モジュール200は、後述する検査用基板WTを使用して、基板ホルダ60の複数の電気接点21のそれぞれの電気抵抗またはそこを流れる電流を測定するためのモジュールである。図示の明瞭化のために図5には示していないが、検査用基板WTは基板ホルダ60に保持されており、基板ホルダ60の外部接点114を経由して電気接点21から検査用基板WTに電流が供給される。図5に示されるように、電流測定モジュール200は、基板ホルダ60の電気接点21のそれぞれから検査用基板WTに電流を流すための電源316および電流を測定するための電流測定器318を備える。電流測定器318は、データロガーおよびコンピュータなどを含む制御装置314に接続されている。電流測定モジュール200が、めっき装置内に内蔵される場合は、制御装置314は、めっき装置の全体を制御する制御装置500と同一のハードウェアとしてもよい。また、電流測定器318に代えて抵抗測定器を使用することで、基板ホルダ60の電気接点21のそれぞれの電気抵抗を測定する抵抗測定モジュールとすることもできる。
。ヘッド部1100は棒状のシャフト1130を備える。シャフト1130を移動させることで、ヘッド部1100の回転板1150を回転させ、基板ホルダ60の可動保持部材11を固定保持部材15へと固定および固定解除することができる。なお、シャフト1130の移動は手動により行ってもよいし、シャフト1130を移動させるためのアクチュエータを設けてもよい。シャフト1130を移動させるためのアクチュエータは、たとえば、電気モータにより駆動できる電動式のアクチュエータや、エアシリンダ、液圧シリンダなどを備える流体駆動式のアクチュエータとすることができる。
施できるようにしてもよい。この場合、図5に示される基板ホルダ開閉機構400のケーシング402はなくてもよい。また、めっき装置内で、基板ホルダ60の検査をする場合、基板ホルダ60への検査用基板WTの設置は搬送用のロボットなどにより人の手を介さずに行うことが望ましい。基板ホルダ60に異常が見つかった場合、その基板ホルダ60は使用せずに、他の正常な基板ホルダ60を使用してめっき処理を行い、めっき装置のメンテナンス時に異常のあった基板ホルダ60を交換または修理することができる。
図9は、一実施形態による電流測定モジュール200を示す概略図である。図10は、図9に示される電流測定モジュール200に使用される検査用基板WTを示す平面図である。図10に示されるように、検査用基板WTは、表面を絶縁性とした基材の上に全面に導電層を有し、導電層の表面は対してさらに外周部310および複数の検査領域311を除いて絶縁膜312で覆われている。つまり、検査用基板WTは、外周部310および検査領域311のみが導電層が露出しており、その他の部分は絶縁膜312で覆われている。基材は、たとえば表面に酸化層を有するシリコン(Si)基板とすることができる。絶縁膜312はレジストなどとすることができる。また、検査用基板WTの複数の検査領域311は、たとえば、基板がめっき装置によりめっきされる領域に概ね対応する領域に設けるようにしてもよい。検査用基板WTの導電層は、めっき装置によりめっきされる基板の導電層と同程度の厚さを有することが望ましい。図9に示されるように、電流測定モジュール200は、複数の検査プローブ320を備える。複数の検査プローブ320は支持部材322により支持されている。支持部材322は、検査用基板WTと向かい合うように配置され、検査用基板WTの表面に垂直な方向に移動可能に構成される。一実施形態において、検査プローブ320の数は、検査用基板WTの検査領域311と同じ数とし、また、電流測定モジュール200は、支持部材322を検査用基板WTの方に移動すると、複数の検査プローブ320のそれぞれが、検査用基板WTの複数の検査領域311のそれぞれに接触するように構成される。図示の明瞭化のために図9には示されていないが、検査用基板WTは基板ホルダ60に保持されており、基板ホルダ60のホルダ電気接点21を介して、検査用基板WTへ電流を流すことができる。図9に示される電流測定モジュール200は、検査プローブ320により、検査用基板WTの外周部310から任意の検査領域311に流れる電流を測定することができる。
6)。一実施形態において、所定の範囲は、めっき時に正常な基板ホルダ60を通じて基板Wに流れる電流値を予め測定しておき、実測した正常な電流値に基づいて決定しておくことができる。たとえば、正常な電流値の平均値から20%以内の範囲を所定の範囲とすることができる。判断の一例として、基板ホルダ60の各電気接点21の全てに流れる電流値が所定の範囲内である場合に、正常な基板ホルダ60であると判断することができる。また、さらに、各電気接点21を流れる電流値のばらつきが10%以内であるときに正常な基板ホルダ60であると判断してもよい。例えば、ばらつきは、最大値と最小値との差や、平均値からの最大乖離から判断することができる。また、より高電流密度でめっきを行う場合ほど、各電気接点21を流れる電流値のばらつきはより小さくした方が好ましい。さらに、各電気接点21を流れる電流値を測定するときに、同一の電気接点21を流れる電流値を複数回測定して、平均値をその各電気接点21を流れる電流値としてもよい。S108において、基板ホルダ60に流れる電流値が所定の範囲にない場合、その基板ホルダ60を使用不可ステータスにする。制御装置、314、500により、使用不可ステータスとなった基板ホルダ60は、めっき処理において使用されない。使用不可ステータスの基板ホルダ60は、メンテナンス時に交換または修理される。その後、基板ホルダ60から検査用基板WTを取り外す(S110)。また、このとき、制御装置、314、500は、アラームや警告表示などにより、基板ホルダ60に異常があることを使用者に知らせるようにしてもよい。電流値が所定の範囲にない基板ホルダ60は、異常がある基板ホルダなので、めっき処理には使用できないので、基板ホルダ60をストッカ124に戻す(S112)。S106において、基板ホルダ60に流れる電流値が所定の範囲にある場合、検査用基板WTを基板ホルダ60から取り外し(S114)、めっき対象である基板Wを同基板ホルダ60に保持させる(S116)。その後、基板ホルダ60に基板Wを保持したまま、後続のめっき処理を行う(S118)。
はない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明には、その均等物が含まれることはもちろんである。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、特許請求の範囲および明細書に記載された各構成要素の任意の組み合わせ、または、省略が可能である。
12…押え部材
13…耳部
14…基板載置箇所
15…固定保持部材
16…クランパ
18…シールリング
21…電気接点
60…基板ホルダ
112…ハンガー部
114…外部接点
120…フィキシングユニット
124…ストッカ
134…めっきセル
140…基板ホルダ搬送装置
200…電流測定モジュール
301…基板電気接点
302…測定点
303…配線
304…コネクタ
310…外周部
311…検査領域
312…絶縁膜
314…制御装置
318…電流測定器
320…検査プローブ
322…支持部材
400…基板ホルダ開閉機構
402…ケーシング
500…制御装置
1300…コネクタ
W…基板
WT…検査用基板
Claims (7)
- 検査用基板を用いて基板ホルダに流れる電流を測定するための電流測定モジュールであって、
前記基板ホルダは、保持された基板に電流を供給するための、基板に接触可能な複数のホルダ電気接点を有し、
前記基板ホルダは、前記基板ホルダに流れる電流を測定するための検査用基板を保持することができ、検査用基板を保持した状態において、複数の前記ホルダ電気接点の各々が、前記検査用基板に設けられた電気的に独立した複数の基板電気接点のそれぞれに接触するように構成され、
前記検査用基板は、
配線により複数の前記基板電気接点とそれぞれ接続されている複数の測定点と、
前記複数の測定点に電気的に連結されている基板側コネクタと、を有し、
前記電流測定モジュールは、前記基板ホルダに保持された検査用基板の前記複数の測定点のそれぞれに接触可能な複数の検査プローブと、
前記複数の検査プローブに電気的に連結されている測定側コネクタと、を有し、
前記基板側コネクタと前記測定側コネクタとを接続することで、前記検査用基板の複数の測定点のそれぞれと、前記複数の検査プローブのそれぞれが電気的に接続されるように構成される、
電流測定モジュール。 - 請求項1に記載の電流測定モジュールであって、
前記基板ホルダの前記ホルダ電気接点から、前記基板電気接点、前記配線、および前記測定点に、基板を電気めっきするときに基板に付与する電圧と同じ大きさの電圧を印加することで、前記基板ホルダに流れる電流を測定する、
電流測定モジュール。 - 請求項1または2に記載の電流測定モジュールであって、前記検査用基板の前記複数の
基板電気接点のそれぞれと前記複数の測定点のそれぞれを接続するそれぞれの配線の長さは等しい、
電流測定モジュール。 - 請求項1乃至3のいずれか一項に記載の電流測定モジュールであって、
前記基板ホルダは、互いに電気的に独立した複数の接点保持部材を有し、前記複数のホルダ電気接点は、前記接点保持部材のそれぞれに設けられている、
電流測定モジュール。 - 基板ホルダに流れる電流を測定するときに用いる検査用基板であって、
前記検査用基板の表面の外側部分に配置されている、電気的に独立した複数の基板電気接点と、
前記検査用基板の表面の内側部分に配置されている、複数の測定点と、
前記複数の基板電気接点のそれぞれと前記複数の測定点のそれぞれとを接続する複数の配線と、
前記複数の測定点に電気的に連結されている基板側コネクタと、を有する、
検査用基板。 - 検査用基板を用いて基板ホルダに流れる電流を測定するための電流測定モジュールであって、
前記基板ホルダは、保持された基板に電流を供給するための、基板に接触可能な複数のホルダ電気接点を有し、
前記基板ホルダは、前記基板ホルダに流れる電流を測定するための検査用基板を保持することができ、検査用基板を保持した状態において、複数の前記ホルダ電気接点の各々が、前記検査用基板に設けられた複数の基板電気接点のそれぞれに接触するように構成され、
前記検査用基板は、導電層である表面が絶縁層により被覆されており、前記絶縁層に複数の孔を備え、前記複数の孔により前記検査用基板の前記導電層が露出されており、前記複数の基板電気接点は前記絶縁層により被覆されていない前記導電層により構成されており、
前記電流測定モジュールは、前記基板ホルダに保持された検査用基板の前記導電層に前記孔を通じて接触可能な検査プローブを有する、
電流測定モジュール。 - 基板ホルダに流れる電流を測定するときに用いる検査用基板であって、
前記検査用基板の表面の外側部分に配置されている、複数の基板電気接点を有し、
前記検査用基板の導電層である表面は絶縁層により被覆されており、前記絶縁層に複数の孔を備え、前記複数の孔により前記検査用基板の前記導電層が露出されており、前記複数の基板電気接点は前記絶縁層により被覆されていない前記導電層により構成されている、
検査用基板。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018006570A JP6975650B2 (ja) | 2018-01-18 | 2018-01-18 | 検査用基板を用いる電流測定モジュールおよび検査用基板 |
TW107147589A TWI781271B (zh) | 2018-01-18 | 2018-12-28 | 使用檢查用基板之電流測定模組及檢查用基板 |
US16/245,154 US10830834B2 (en) | 2018-01-18 | 2019-01-10 | Current measuring module using inspection substrate and inspection substrate |
KR1020190005090A KR102447665B1 (ko) | 2018-01-18 | 2019-01-15 | 검사용 기판을 이용하는 전류 측정 모듈 및 검사용 기판 |
CN201910042284.3A CN110055569B (zh) | 2018-01-18 | 2019-01-16 | 使用检查用基板的电流测定模块及检查用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018006570A JP6975650B2 (ja) | 2018-01-18 | 2018-01-18 | 検査用基板を用いる電流測定モジュールおよび検査用基板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019123918A JP2019123918A (ja) | 2019-07-25 |
JP6975650B2 true JP6975650B2 (ja) | 2021-12-01 |
Family
ID=67213800
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018006570A Active JP6975650B2 (ja) | 2018-01-18 | 2018-01-18 | 検査用基板を用いる電流測定モジュールおよび検査用基板 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10830834B2 (ja) |
JP (1) | JP6975650B2 (ja) |
KR (1) | KR102447665B1 (ja) |
CN (1) | CN110055569B (ja) |
TW (1) | TWI781271B (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018070996A1 (en) | 2016-10-11 | 2018-04-19 | Whirlpool Corporation | Structural cabinet for an appliance incorporating unitary metallic boxes |
CN110528042B (zh) * | 2019-08-28 | 2021-02-09 | 深圳赛意法微电子有限公司 | 一种半导体器件电镀方法及用于电镀的活化槽 |
JP7264780B2 (ja) * | 2019-09-10 | 2023-04-25 | 株式会社荏原製作所 | 基板ホルダ及びそれを備えた基板めっき装置、並びに電気接点 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3493858A (en) * | 1966-01-14 | 1970-02-03 | Ibm | Inflatable probe apparatus for uniformly contacting and testing microcircuits |
JP4173306B2 (ja) * | 2001-11-30 | 2008-10-29 | 東京エレクトロン株式会社 | 信頼性評価試験装置、信頼性評価試験システム及び信頼性評価試験方法 |
JP2005146399A (ja) | 2003-11-19 | 2005-06-09 | Ebara Corp | めっき装置及び接点の接触状態検査方法 |
KR20070070069A (ko) * | 2005-12-28 | 2007-07-03 | 니혼덴산리드가부시키가이샤 | 기판 검사 장치 및 기판 검사 방법 |
JP2008211121A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-11 | Shinka Jitsugyo Kk | 半導体素子の特性検査用治具、特性検査装置、特性検査方法 |
KR101138194B1 (ko) * | 2007-06-29 | 2012-05-10 | 가부시키가이샤 어드밴티스트 | 시험 장치 |
SG187305A1 (en) * | 2011-07-19 | 2013-02-28 | Ebara Corp | Plating apparatus and plating method |
JP6259590B2 (ja) * | 2013-06-12 | 2018-01-10 | 株式会社日本マイクロニクス | プローブカード及びその製造方法 |
JP6328582B2 (ja) | 2014-03-31 | 2018-05-23 | 株式会社荏原製作所 | めっき装置、および基板ホルダの電気接点の電気抵抗を決定する方法 |
JP6421463B2 (ja) * | 2014-06-02 | 2018-11-14 | 日本電産リード株式会社 | 基板検査装置、及び基板検査方法 |
JP6317299B2 (ja) * | 2015-08-28 | 2018-04-25 | 株式会社荏原製作所 | めっき装置、めっき方法、及び基板ホルダ |
-
2018
- 2018-01-18 JP JP2018006570A patent/JP6975650B2/ja active Active
- 2018-12-28 TW TW107147589A patent/TWI781271B/zh active
-
2019
- 2019-01-10 US US16/245,154 patent/US10830834B2/en active Active
- 2019-01-15 KR KR1020190005090A patent/KR102447665B1/ko active IP Right Grant
- 2019-01-16 CN CN201910042284.3A patent/CN110055569B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN110055569A (zh) | 2019-07-26 |
JP2019123918A (ja) | 2019-07-25 |
KR20190088417A (ko) | 2019-07-26 |
US10830834B2 (en) | 2020-11-10 |
TW201937661A (zh) | 2019-09-16 |
TWI781271B (zh) | 2022-10-21 |
KR102447665B1 (ko) | 2022-09-26 |
US20190219627A1 (en) | 2019-07-18 |
CN110055569B (zh) | 2022-10-25 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200930 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210916 |
|
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