JP6975081B2 - 半導体測定装置および半導体測定方法 - Google Patents
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- H01L22/14—Measuring as part of the manufacturing process for electrical parameters, e.g. resistance, deep-levels, CV, diffusions by electrical means
Description
図1は、第1実施形態によるプローブ顕微鏡装置1の構成例を示す概略図である。プローブ顕微鏡装置(以下、単に、装置ともいう)1は、ステージ10と、プローブ20と、プローブ駆動部30と、プローブ制御部40と、アンプ50と、測定演算部60と、記憶部70と、表示部80と、電源90とを備えている。本実施形態による装置1は、プローブ20を試料2の表面に接触させて、電流と電圧との特性(I−V特性)を測定し、そのI−V特性から試料2の導電型(p型またはn型)、pn接合部の位置を判断可能にする半導体測定装置である。
図8は、第2実施形態によるプローブ20と試料2との接触部分を示す概略断面図である。第2実施形態では、絶縁膜21は、試料2のプローブ接触面に設けられており、プローブ20の先端部には設けられていない。絶縁膜21の膜厚は、例えば、約10nm以下である。この場合、プローブ20を或る程度の力で試料2に押圧すれば、試料2の絶縁膜21がプローブ20の先端部で除去され、プローブ20の先端部の一部が試料2に直接あるいは電気的に接触する。一方、プローブ20の先端部の他の部分と試料2との間には、絶縁膜21が残存する。従って、図8に示すように、プローブ20と試料2との間には、直接接触領域Rcおよび間接接触領域Riの両方が形成される。第2実施形態のその他の構成および動作は、第1実施形態の対応する構成および動作と同様でよい。従って、第2実施形態は、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。
図9は、第3実施形態によるプローブ20と試料2との接触部分を示す概略断面図である。第3実施形態では、絶縁膜21は、プローブ20の先端部および試料2のプローブ接触面の両方に設けられている。プローブ20の先端部に設けられた絶縁膜21aおよび試料2のプローブ接触面に設けられた絶縁膜21bの膜圧の総和は、例えば、約10nm以下である。この場合、プローブ20を或る程度の力で試料2に押圧すれば、絶縁膜21aおよび21bがプローブ20の先端部で除去され、プローブ20の先端部の一部が試料2に直接あるいは電気的に接触する。一方、プローブ20の先端部の他の部分と試料2との間には、絶縁膜21aおよび21bが残存する。従って、図9に示すように、プローブ20と試料2との間には、直接接触領域Rcおよび間接接触領域Riの両方が形成さられる。第3実施形態のその他の構成および動作は、第1実施形態の対応する構成および動作と同様でよい。従って、第3実施形態は、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。
上記第1〜第3実施形態では、装置1は複数の測定点におけるI−V特性を表示し、オペレータがI−V特性を参照して、試料2の導電型、pn接合部、実行チャネル長Leffを判断している。これに対し、第4実施形態による装置1は、複数の測定点におけるI−V特性に基づいて、試料2の導電型、pn接合部、実行チャネル長Leffを自動で判断する。
Claims (13)
- 半導体試料に設けられた電極と、
前記半導体試料に接触可能なプローブと、
前記半導体試料に対する前記プローブの接触位置を移動させる駆動部と、
前記プローブと前記電極との間に電力を印加する電源と、
前記半導体試料の表面の複数の測定点を前記プローブで走査しながら、あるいは、前記複数の測定点に前記プローブを順次接触させながら、該複数の測定点のそれぞれにおいて前記プローブと前記電極との間に印加する電圧を変化させたときに前記プローブと前記電極との間の前記半導体試料に流れる電流を測定する測定演算部と、
前記複数の測定点のそれぞれにおいて測定された前記電圧と前記電流との関係を表示する表示部とを備え、
前記プローブの少なくとも先端部は、絶縁膜で被覆されている、半導体測定装置。 - 前記半導体試料において前記プローブの接触箇所は、絶縁膜で被覆されている、請求項1に記載の半導体測定装置。
- 前記半導体試料において前記プローブの接触箇所の不純物は不活性化されている、請求項1に記載の半導体測定装置。
- 前記電流の互いに極性の異なる第1閾値電流および第2閾値電流を格納する記憶部をさらに備え、
前記表示部は、前記電圧と前記電流との関係に重ねてさらに前記第1および第2閾値電流を表示する、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の半導体測定装置。 - 負極の第1閾値電流および正極の第2閾値電流を格納する記憶部をさらに備え、
前記測定演算部は、前記電流が前記第1閾値電流を下回ったときに前記測定点の導電型を第1導電型と判断し、前記電流が前記第2閾値電流を超えたときに前記測定点の導電型を第2導電型と判断し、前記電流が絶対値として前記第1および第2閾値電流を下回っているときに前記測定点にpn接合部が存在すると判断する、請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の半導体測定装置。 - 前記測定演算部は、複数の前記pn接合部が検出された場合、該複数のpn接合部間の距離を計算し、
前記表示部は、前記複数のpn接合部間の距離を表示する、請求項5に記載の半導体測定装置。 - 半導体試料に設けられた電極と、
前記半導体試料に接触可能なプローブと、
前記半導体試料に対する前記プローブの接触位置を移動させる駆動部と、
前記プローブと前記電極との間に電力を印加する電源と、
前記半導体試料の表面の複数の測定点を前記プローブで走査しながら、あるいは、前記複数の測定点に前記プローブを順次接触させながら、該複数の測定点のそれぞれにおいて前記プローブと前記電極との間に印加する電圧を変化させたときに前記プローブと前記電極との間の前記半導体試料に流れる電流を測定する測定演算部と、
前記複数の測定点のそれぞれにおいて測定された前記電圧と前記電流との関係を表示する表示部とを備え、
前記半導体試料において前記プローブの接触箇所の不純物は不活性化されている、半導体測定装置。 - 半導体試料に設けられた電極と、
前記半導体試料に接触可能なプローブと、
前記半導体試料に対する前記プローブの接触位置を移動させる駆動部と、
前記プローブと前記電極との間に電力を印加する電源と、
前記半導体試料の表面の複数の測定点を前記プローブで走査しながら、あるいは、前記複数の測定点に前記プローブを順次接触させながら、該複数の測定点のそれぞれにおいて前記プローブと前記電極との間に印加する電圧を変化させたときに前記プローブと前記電極との間の前記半導体試料に流れる電流を測定する測定演算部と、
前記複数の測定点のそれぞれにおいて測定された前記電圧と前記電流との関係を表示する表示部と、
前記電流の互いに極性の異なる第1閾値電流および第2閾値電流を格納する記憶部とを備え、
前記表示部は、前記電圧と前記電流との関係に重ねてさらに前記第1および第2閾値電流を表示する、半導体測定装置。 - 半導体試料に設けられた電極と、
前記半導体試料に接触可能なプローブと、
前記半導体試料に対する前記プローブの接触位置を移動させる駆動部と、
前記プローブと前記電極との間に電力を印加する電源と、
前記半導体試料の表面の複数の測定点を前記プローブで走査しながら、あるいは、前記複数の測定点に前記プローブを順次接触させながら、該複数の測定点のそれぞれにおいて前記プローブと前記電極との間に印加する電圧を変化させたときに前記プローブと前記電極との間の前記半導体試料に流れる電流を測定する測定演算部と、
前記複数の測定点のそれぞれにおいて測定された前記電圧と前記電流との関係を表示する表示部と、
負極の第1閾値電流および正極の第2閾値電流を格納する記憶部とを備え、
前記測定演算部は、前記電流が前記第1閾値電流を下回ったときに前記測定点の導電型を第1導電型と判断し、前記電流が前記第2閾値電流を超えたときに前記測定点の導電型を第2導電型と判断し、前記電流が絶対値として前記第1および第2閾値電流を下回っているときに前記測定点にpn接合部が存在すると判断する、半導体測定装置。 - 半導体試料に設けられた電極と、
前記半導体試料に接触可能なプローブと、
前記半導体試料に対する前記プローブの接触位置を移動させる駆動部と、
前記プローブと前記電極との間に電力を印加する電源と、
前記半導体試料の表面の複数の測定点を前記プローブで走査しながら、あるいは、前記複数の測定点に前記プローブを順次接触させながら、該複数の測定点のそれぞれにおいて前記プローブと前記電極との間に印加する電圧を変化させたときに前記プローブと前記電極との間の前記半導体試料に流れる電流を測定する測定演算部と、
前記複数の測定点のそれぞれにおいて測定された前記電圧と前記電流との関係を表示する表示部と、
負極の第1閾値電流および正極の第2閾値電流を格納する記憶部とを備え、
前記測定演算部は、前記電流が前記第1閾値電流を下回ったときに前記測定点の導電型を第1導電型と判断し、前記電流が前記第2閾値電流を超えたときに前記測定点の導電型を第2導電型と判断し、前記電流が絶対値として前記第1および第2閾値電流を下回っているときに前記測定点にpn接合部が存在すると判断し、
前記測定演算部は、複数の前記pn接合部が検出された場合、該複数のpn接合部間の距離を計算し、
前記表示部は、前記複数のpn接合部間の距離を表示する、半導体測定装置。 - 前記プローブは、前記半導体試料と前記プローブとの接触領域が、前記半導体試料と前記プローブとを電気的に接触させる直接接触領域と、前記半導体試料と前記プローブとを電気的に絶縁している間接接触領域とを含むように、前記半導体試料に接触する、請求項1から請求項10のいずれか一項に記載の半導体測定装置。
- 半導体試料に接触可能なプローブと、前記半導体試料に対する前記プローブの接触位置を移動させる駆動部と、前記プローブと前記半導体試料に設けられた電極との間に電力を印加する電源と、前記半導体試料に流れる電流を測定する測定演算部と、前記電流の測定結果を表示する表示部と、前記電流の互いに極性の異なる第1閾値電流および第2閾値電流を格納する記憶部とを備えた半導体測定装置を用いた半導体測定方法であって、
前記半導体試料の表面の複数の測定点を前記プローブで走査しながら、あるいは、前記複数の測定点に前記プローブを順次接触させながら、該複数の測定点のそれぞれにおいて、前記プローブと前記電極との間に印加する電圧を変化させたときに前記プローブと前記電極との間の前記半導体試料に流れる電流を測定し、
前記複数の測定点のそれぞれにおいて測定された前記電圧と前記電流との関係に重ねてさらに前記第1および第2閾値電流を表示することを具備する半導体測定方法。 - 前記プローブは、前記半導体試料と前記プローブとの接触領域が、前記半導体試料と前記プローブとを電気的に接触させる直接接触領域と、前記半導体試料と前記プローブとを電気的に絶縁している間接接触領域とを含むように、前記半導体試料に接触する、請求項12に記載の半導体測定方法。
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