JP6967086B2 - 組成物、ウェットワイパー、スプレー、表面処理基材の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、組成物、ウェットワイパー、スプレー、及び、表面処理基材の製造方法に関する。

抗菌作用を持つ材料を含む組成物として、例えば、特許文献１で、「１）抗菌作用をもつ金属イオンをそれぞれ有するガラス粒子、セラミックス粒子、又は多孔質シリカゲル粒子と、２）加水分解及び重縮合が可能なオルガノシラン又はその部分加水分解物を主成分とする抗菌性コーティング用組成物。」が記載されている。

特開平８−０２７４０４号公報

一方で、近年、抗菌性に関して要求性能の更なる向上が求められている。特に、尿中の尿素を分解してアンモニアを発生させる酵素を生み出す菌（例えば、クレブシエラ属の菌）に対する抗菌性が高い組成物が求められている。
一方で、組成物が接触する被処理物の美観を保つ点からは、組成物と被処理物とを接触させた後に、被処理物に着色が生じないことが望ましい。

そこで、本発明は、抗菌性に優れ、かつ、被処理物の着色を抑制できる組成物を提供することを課題とする。
また、本発明は、ウェットワイパー、スプレー、及び、表面処理基材の製造方法を提供することも課題とする。

本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、所定の成分を含む組成物によれば、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。

（１） 銅原子が担持されておらず、かつ、リン原子を含まない無機酸化物と、抗菌剤とを含むか、又は、
上記無機酸化物と無機酸化物上に担持された抗菌性を有する成分とを含む複合物を含む、組成物。
（２） 無機酸化物が、ケイ酸塩である、（１）に記載の組成物。
（３） 抗菌剤が、無機物である、（１）又は（２）に記載の組成物。
（４） 抗菌剤の平均粒径が０．３μｍ以上である、（３）に記載の組成物。
（５） 抗菌剤が、金属を含む、（１）〜（４）のいずれかに記載の組成物。
（６） 金属が、銀である、（５）に記載の組成物。
（７） 更に、親水性バインダー前駆体及び親水性バインダーからなる群より選ばれる親水性成分を含む、（１）〜（６）のいずれかに記載の組成物。
（８） 親水性成分が、シリケート系化合物、親水性基を有するモノマー、及び、親水性基を有するポリマーからなる群より選ばれる少なくとも１種を含む、（７）に記載の組成物。
（９） 基布と、基布に含浸させた（１）〜（８）のいずれかに記載の組成物と、を含む、ウェットワイパー。
（１０） スプレー容器と、スプレー容器に収納された（１）〜（８）のいずれかに記載の組成物と、を含むスプレー。
（１１） （１）〜（８）のいずれかに記載の組成物と基材とを接触させて表面処理基材を製造する、表面処理基材の製造方法。

本発明によれば、抗菌性に優れ、かつ、被処理物の着色を抑制できる組成物を提供できる。
また、本発明によれば、ウェットワイパー、スプレー、及び、表面処理基材の製造方法を提供できる。

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に制限されるものではない。
なお、本明細書における基（原子群）の表記において、置換、及び、無置換を記していない表記は、本発明の効果を損ねない範囲で、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。このことは、各化合物についても同義である。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートの双方、又は、いずれかを表し、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタクリルの双方、又は、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」はアクリロイル及びメタクリロイルの双方、又は、いずれかを表す。
また、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値、及び、上限値として含む範囲を意味する。

本発明の組成物（以後、「本組成物」ともいう）は、銅原子が担持されておらず、かつ、リン原子を含まない無機酸化物（以後、「特定無機酸化物」ともいう）と抗菌剤とを含むか、又は、特定無機酸化物と特定無機酸化物上に担持された抗菌性を有する成分とを含む複合物を含む。
本組成物が優れた抗菌性を示す理由としては、特定無機酸化物と抗菌剤、又は、特定無機酸化物と抗菌性を有する成分とを併用している点が挙げられる。また、本発明の組成物において用いられる特定無機酸化物は銅原子が担持されておらず、かつ、リン原子を含まないため、着色の発生が抑制される。

なお、後段で詳述するように、本組成物の適用対象（被処理物）は特に制限されないが、例えば、介護現場にて用いられるオムツ等の尿臭の抑制が求められるものに好適に適用できる。
尿臭は、尿に含まれているアンモニア及びトリメチルアミン等の物質により生じる。オムツに吸収された尿を長時間放置すると、尿臭の原因である上記物質が、細菌による酵素分解によって更に増えるため、オムツの臭気がより強くなる。
これに対し、本組成物は、尿中の尿素を分解してアンモニアを発生させる酵素を生み出す菌（例えば、クレブシエラ属の菌）に対して優れた抗菌性を示すため、尿臭の発生が抑制される。
以下に、本組成物に含まれる各成分について詳述する。
以下では、組成物が特定無機酸化物と抗菌剤との２種の材料を含む場合を第１態様、組成物が上記複合物を含む場合を第２態様として、説明する。

＜第１態様＞
（銅原子が担持されておらず、かつ、リン原子を含まない無機酸化物）
本組成物の第１態様は、銅原子が担持されておらず、かつ、リン原子を含まない無機酸化物を含む。
特定無機酸化物には、銅原子が担持されておらず、かつ、リン原子が含まれない。言い換えれば、特定無機酸化物には、銅原子が担持された無機酸化物、リン酸塩ガラス、及び、銅原子が担持されたリン酸塩ガラス等は含まれない。なお、銅原子は、金属状態であっても、イオン状態であってもよい。
上述したように、特定無機酸化物を用いれば、本組成物を適用した被処理物の着色が抑制される。

特定無機酸化物の種類は特に制限されないが、抗菌性がより優れる点、及び、被処理物の着色がより抑制される点の少なくとも一方が得られる点（以後、単に「本発明の効果がより優れる点」ともいう）で、金属酸化物が好ましい。金属酸化物に含まれる金属原子としては、例えば、ケイ素原子、アルミニウム原子、マグネシウム原子、アルカリ金属原子（例えば、ナトリウム原子）、アルカリ土類金属原子（例えば、カルシウム原子）、鉄原子、ニッケル原子、及び、亜鉛原子等が挙げられる。

特定無機酸化物としては、本発明の効果がより優れる点で、ケイ酸塩が好ましい。
ケイ酸塩としては、例えば、ケイ酸アルミニウム及びケイ酸マグネシウム等が挙げられる。ケイ酸アルミニウム及びケイ酸マグネシウムは、天然物又は合成物であってもよい。ケイ酸アルミニウムとしては、下記一般式（１）で表される化合物が好ましい。
Ａｌ_２Ｏ_３・ｎＳｉＯ_２・ｍＨ_２Ｏ （１）
式（１）におけるｎは６以上の正数（好ましくは、６〜５０）であり、ｍは１〜２０の正数である。なかでも、ｎが８〜１５で、ｍが３〜１５であることが好ましい。
また、ケイ酸マグネシウムとしては、下記式（２）で表される化合物が好ましい。
ＭｇＯ・ｎＳｉＯ_２・ｍＨ_２Ｏ （２）
式（２）におけるｎは１以上の正数（好ましくは、１〜２０）であり、ｍは０．１〜２０の正数である。なかでも、ｎが１〜１５であり、かつ、ｍが０．３〜１０であることが好ましく、ｎが３〜１５であり、かつ、ｍが１〜８であることがより好ましい。

なお、本組成物の第１態様で用いられる特定無機酸化物には、後述する抗菌性を示す成分は担持されていない。

特定無機酸化物は、粒子状であることが好ましい。
特定無機酸化物が粒子状である場合、その平均粒径は特に制限されないが、０．００１〜５０μｍが好ましく、０．１〜２０μｍがより好ましい。
なお、上記特定無機酸化物の平均粒径の測定方法としては、後述する抗菌剤の平均粒径の測定方法と同じ方法が用いられる。

本組成物の第１態様中における特定無機酸化物の含有量は特に制限されないが、組成物の全固形分に対して、０．００１〜５０質量％が好ましく、０．０１〜４０質量％がより好ましく、０．１０〜１０質量％が更に好ましく、１．０〜５質量％特に好ましい。
固形分とは、組成物中の溶媒を除いた成分を意図する。
なお、特定無機酸化物は１種を単独で用いても、２種以上を用いてもよい。２種以上の特定無機酸化物を用いる場合、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。

本組成物の第１態様中における特定無機酸化物の含有量は特に制限されないが、組成物全質量に対して、０．０００１〜２０質量％が好ましく、０．００１〜５質量％がより好ましく、０．０１０〜３質量％が更に好ましく、０．０２０〜１質量％が特に好ましい。

なお、本組成物の第１態様においては、後述する第２態様で説明する複合体を、更に含んでいてもよい。

（抗菌剤）
本組成物の第１態様は、抗菌剤を含む。
抗菌剤は特に制限されず、公知の抗菌剤が挙げられる。
抗菌剤としては、無機物であっても、有機物であってもよい。言い換えれば、抗菌剤としては、無機系抗菌剤及び有機系抗菌剤が挙げられる。なかでも、優れた抗菌性を長期間にわたって維持できる点で、無機物（無機系抗菌剤）が好ましい。

無機系抗菌剤としては、例えば、金属を含む抗菌剤が挙げられる。
上記金属としては、例えば、銀、銅、亜鉛、水銀、鉄、鉛、ビスマス、チタン、錫、及び、ニッケル等が挙げられる。また、抗菌剤に含まれる金属の態様は特に制限されず、金属粒子、金属イオン、金属酸化物、及び、金属塩（金属錯体を含む）等の形態が挙げられる。
なかでも、本組成物の抗菌性がより優れる点で、金属としては、銀、銅、及び、亜鉛からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましく、銀がより好ましい。

金属を含む抗菌剤としては、担体と、担体上に担持された上記金属を含む金属担持担体が好ましい。
担体の種類は特に制限されず、公知の担体が挙げられる。担体としては、例えば、無機酸化物（例えば、ゼオライト、シリカゲル、リン酸ジルコニウム、及び、リン酸カルシウム等）；活性炭；金属担体；有機金属；ポリマー粒子等が挙げられる。なかでも、本組成物の抗菌性がより優れる点で、担体としては、無機酸化物、又は、ポリマー粒子が好ましく、ガラス、又は、ポリマー粒子がより好ましい。

担体である無機酸化物としては、より具体的には、リン酸亜鉛カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸ジルコニウム、リン酸アルミニウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸カルシウム、活性炭、活性アルミナ、シリカゲルゼオライト、アパタイト、ヒドロキシアパタイト、リン酸チタン、チタン酸カリウム、含水酸化ビスマス、含水酸化ジルコニウム、及び、ハイドロタルサイト等が挙げられる。
なお、担体としては、結晶性であっても、非晶性（アモルファス）であってもよいが、非晶性であることが好ましく、ガラスがより好ましい。ガラスを構成し得る材料としては、例えば、ケイ酸塩、ホウケイ酸塩、及び、リン酸塩等が挙げられる。

金属を含む抗菌剤としては、本組成物の抗菌性がより優れる点で、銀系抗菌剤、又は、銅系抗菌剤が好ましい。
上記銀系抗菌剤は、銀を含む抗菌剤を意図する。銀の形態は特に制限されず、例えば、金属銀、銀イオン、及び、銀塩（銀錯体を含む）等の形態で含まれる。なお、本明細書では、銀錯体は銀塩の範囲に含まれる。
なお、銀塩としては、例えば、酢酸銀、アセチルアセトン酸銀、アジ化銀、銀アセチリド、ヒ酸銀、安息香酸銀、フッ化水素銀、臭素酸銀、臭化銀、炭酸銀、塩化銀、塩素酸銀、クロム酸銀、クエン酸銀、シアン酸銀、シアン化銀、（ｃｉｓ，ｃｉｓ−１，５−シクロオクタジエン）−１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトン酸銀、ジエチルジチオカルバミン酸銀、フッ化銀（Ｉ）、フッ化銀（ＩＩ）、７，７−ジメチル−１，１，１，２，２，３，３−ヘプタフルオロ−４，６−オクタンジオン酸銀、ヘキサフルオロアンチモン酸銀、ヘキサフルオロヒ酸銀、ヘキサフルオロリン酸銀、ヨウ素酸銀、ヨウ化銀、イソチオシアン酸銀、シアン化銀カリウム、乳酸銀、モリブデン酸銀、硝酸銀、亜硝酸銀、酸化銀（Ｉ）、酸化銀（ＩＩ）、シュウ酸銀、過塩素酸銀、ペルフルオロ酪酸銀、ペルフルオロプロピオン酸銀、過マンガン酸銀、過レニウム酸銀、リン酸銀、ピクリン酸銀一水和物、プロピオン酸銀、セレン酸銀、セレン化銀、亜セレン酸銀、スルファジアジン銀、硫酸銀、硫化銀、亜硫酸銀、テルル化銀、テトラフルオロ硼酸銀、テトラヨードムキュリウム酸銀、テトラタングステン酸銀、チオシアン酸銀、ｐ−トルエンスルホン酸銀、トリフルオロメタンスルホン酸銀、トリフルオロ酢酸銀、及び、バナジン酸銀等が挙げられる。
また、銀錯体の一例としては、ヒスチジン銀錯体、メチオニン銀錯体、システイン銀錯体、アスパラギン酸銀錯体、ピロリドンカルボン酸銀錯体、オキソテトラヒドロフランカルボン酸銀錯体、及び、イミダゾール銀錯体等が挙げられる。

銀系抗菌剤としては、銀担持無機酸化物が好ましい。銀担持無機酸化物は、無機酸化物と、無機酸化物上に担持された銀とを含む。
銀担持無機酸化物としては、なかでも、銀担持ゼオライト、銀担持アパタイト、銀担持ガラス、銀担持リン酸ジルコニウム、銀又は、銀担持ケイ酸カルシウムが好ましく、銀担持アパタイト、又は、銀担持ガラスがより好ましく、銀担持ガラスが更に好ましい。

また、上記銅系抗菌剤は、銅を含む抗菌剤を意図する。例えば、銅粒子；銅酸化物粒子；これらを上記担体に担持させた銅担持担体；等が挙げられる。なかでも、ポリマー粒子を担体とする銅担持ポリマー粒子が好ましい。

有機系抗菌剤としては、例えば、第４アンモニウム塩、フェノールエーテル誘導体、イミダゾール誘導体、スルホン誘導体、Ｎ−ハロアルキルチオ化合物、アニリド誘導体、ピロール誘導体、ピリジン系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾイソチアゾリン系化合物、及び、イソチアゾリン系化合物等が挙げられる。

抗菌剤は粒子状であることが好ましい。特に、抗菌剤が無機物である場合、抗菌剤は粒子状であることが好ましい。
抗菌剤が粒子状である場合、その平均粒径は特に制限されないが、０．０１μｍ以上が好ましく、０．３μｍ以上がより好ましい。なお、その上限は、３．０μｍ以下が好ましく、１．０μｍ以下がより好ましい。
抗菌剤の平均粒径は、電子顕微鏡を用いて測定できる。具体的には、上記平均粒径は、抗菌剤の粒子について、一次粒子及び二次粒子（なお、「二次粒子」とは、一次粒子同士が融合あるいは接触して構成される集合体と定義する。）の直径を電子顕微鏡の画像から計測し、全粒子数の中の最も直径が小さい側の粒子数５％と、最も直径が大きい側の粒子数５％を除いた、９０％の範囲の粒子の直径を平均した値である。つまり、平均粒径は、一次粒子及び二次粒子から求められる値である。また、直径とは、粒子の外接円相当直径のことをいう。
また、粒子形状に大きく違いがない場合、堀場製作所社製のレーザー回折／散乱式粒度分布測定装置を用いて５０％体積累積径（Ｄ５０）を３回測定して、３回測定した値の平均値を平均粒径として代用してもよい。

抗菌剤の平均粒径は従来公知の方法により調節でき、例えば、乾式粉砕及び湿式粉砕等の方法が挙げられる。乾式粉砕においては、例えば、乳鉢、ジェットミル、ハンマーミル、ピンミル、回転ミル、振動ミル、遊星ミル、及び、ビーズミル等が適宜用いられる。また、湿式粉砕においては、各種ボールミル、高速回転粉砕機、ジェットミル、ビーズミル、超音波ホモジナイザー、及び、高圧ホモジナイザー等が適宜用いられる。
例えば、ビーズミルにおいては、メディアとなるビーズの径、種類、及び、混合量等を調節することで平均粒径を制御できる。

本組成物の第１態様中における抗菌剤の含有量は特に制限されないが、組成物の全固形分に対して、０．００１〜５０質量％が好ましく、０．０１〜４０質量％がより好ましく、０．０１〜１０質量％が更に好ましく、０．０３〜５質量％が特に好ましい。
また、本組成物の第１態様中における抗菌剤の含有量は、組成物全質量に対して、０．０００１〜２０質量％が好ましく、０．００１〜５質量％がより好ましい。
なお、抗菌剤は１種を単独で用いても、２種以上を用いてもよい。２種以上の抗菌剤を用いる場合、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。

また、抗菌剤中における金属の含有量は特に制限されないが、例えば、抗菌剤が金属担持担体の場合、金属の含有量は、金属担持担体全質量に対して、０．００１〜３０質量％が好ましく、０．０１〜１０質量％がより好ましい。

＜第２態様＞
（特定無機酸化物と特定無機酸化物上に担持された抗菌性を有する成分とを含む複合物）
本組成物の第２態様は、特定無機酸化物と特定無機酸化物上に担持された抗菌性を有する成分とを含む複合物を含む。
特定無機酸化物の説明は、上述した通りである。
抗菌性を有する成分としては、主に、抗菌性を示す金属成分が挙げられる。金属成分としては、例えば、銀、亜鉛、水銀、鉄、鉛、ビスマス、チタン、錫、及び、ニッケル等が挙げられる。また、金属成分の態様は特に制限されず、金属粒子、金属イオン、金属酸化物、及び、金属塩（金属錯体を含む）等の形態が挙げられる。
なかでも、組成物の抗菌性がより優れる点で、金属成分は、銀、及び、亜鉛からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましく、銀がより好ましい。

本組成物の第２態様中における複合物の含有量は特に制限されないが、組成物の全固形分に対して、０．００１〜５０質量％が好ましく、０．０１〜４０質量％がより好ましい。
なお、複合物は１種を単独で用いても、２種以上を用いてもよい。２種以上の複合物を用いる場合、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。

＜他の成分＞
本組成物は、上記以外の他の成分を含んでいてもよい。他の成分としては、親水性成分、溶媒、重合開始剤、分散剤、界面活性剤、造膜剤、触媒、香料、紫外線吸収剤、防腐剤、ｐＨ調整剤、消泡剤、光触媒性材料、充填剤、老化防止剤、帯電防止剤、難燃剤、酸性剤、アルカリ剤、接着性付与剤、酸化防止剤、レベリング剤、艶消し剤、光安定剤、染料、顔料、及び、分散安定剤等の公知の添加剤が挙げられる。
以下、代表的な添加剤について説明する。

（親水性成分）
本組成物は、親水性バインダー前駆体及び親水性バインダーからなる群より選ばれる親水性成分を含むことが好ましい。
なお、親水性バインダー前駆体とは、縮合及び重合等の硬化反応により親水性バインダーを形成可能な材料を意図である。
また、親水性バインダーは、抗菌剤等を支持可能な親水性の膜を形成できる材料を意図する。親水性バインダーとしては、ガラス基板上に上記親水性バインダーからなる膜を形成した場合、例えば、水接触角が６０°以下となるもの好ましく、５０°以下となるものが好ましい。水接触角の下限については特に制限はないが、一般に５°以上である。
なお、水接触角は、ＪＩＳ Ｒ ３２５７：１９９９の静滴法に基づいて測定を行う。測定には、協和界面科学株式会社製ＦＡＭＭＳ ＤＭ−７０１を用いる。
親水性バインダーの具体例としては、ケイ素原子に加水分解性基が結合した化合物の加水分解物、及び、その加水分解縮合物；親水性基を有するポリマー等が挙げられる。それぞれの成分の詳細については、後段で説明する。

親水性成分としては、堅牢性により優れる点で、シリケート系化合物、親水性基を有するモノマー（以下、「親水性モノマー」ともいう。）、及び、親水性基を有するポリマー（以下、「親水性ポリマー」ともいう。）からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましい。
なお、親水性基を有するモノマーとは、親水性基と重合性基とを有する化合物を意図する。親水性モノマーは、本組成物が後述する重合開始剤を含む場合、重合して親水性ポリマーを形成する。
以下に、シリケート系化合物、親水性モノマー、及び、親水性ポリマーについて、それぞれ説明する。

（シリケート系化合物）
本明細書において、シリケート系化合物とは、ケイ素原子に加水分解性基が結合した化合物、その加水分解物、及び、その加水分解縮合物からなる群から選択される化合物であり、例えば、下記式（１）で表される化合物、その加水分解物、及び、その加水分解縮合物からなる群から選択される少なくとも１種が挙げられる。
式（１） Ｓｉ−（ＯＲ）_４
上記式（１）中、Ｒは、炭素数１〜４のアルキル基を表し、同一でも異なっていてもよい。

式（１）で表される化合物の加水分解物とは、式（１）で表される化合物中のＯＲ基が加水分解して得られる化合物を意図する。なお、上記加水分解物は、ＯＲ基のすべてが加水分解されているもの（完全加水分解物）であっても、ＯＲ基の一部が加水分解されているもの（部分加水分解物）であってもよい。つまり、上記加水分解物は、完全加水分解物、部分加水分解物、又は、これらの混合物であってもよい。
また、式（１）で表される化合物の加水分解縮合物とは、式（１）で表される化合物中のＯＲ基が加水分解し、得られた加水分解物を縮合して得られる化合物を意図する。なお、上記加水分解縮合物としては、すべてのＯＲ基が加水分解され、かつ、加水分解物がすべて縮合されているもの（完全加水分解縮合物）であっても、一部のＯＲ基が加水分解され、一部の加水分解物が縮合しているもの（部分加水分解縮合物）であってもよい。つまり、上記加水分解縮合物は、完全加水分解縮合物、部分加水分解縮合物、又は、これらの混合物であってもよい。
なお、加水分解縮合物の縮合度としては、１〜１００が好ましく、１〜２０がより好ましく、３〜１５が更に好ましい。

式（１）で表される化合物は、水成分と共に混合されることにより、少なくとも一部が加水分解された状態となる。式（１）で表される化合物の加水分解物は、式（１）で表される化合物を水成分と反応させ、ケイ素に結合したＯＲ基をヒドロキシ基に変化させることにより得られる。加水分解に際しては必ずしも全てのＯＲ基が反応する必要はないが、塗布後に親水性を発揮するためにはなるべく多くのＯＲ基が加水分解されることが好ましい。また、加水分解に際して最低限必要な水成分の量は式（１）で表される化合物のＯＲ基と等しいモル量となるが、反応を円滑に進めるには大過剰の量の水が存在することが好ましい。

なお、上記シリケート系化合物の加水分解反応及び縮合反応は室温でも進行するが、反応促進のために加温してもよい。また反応時間は長い方がより反応が進むため好ましい。また、触媒の存在下であれば半日程度でも加水分解物を得ることが可能である。

上記シリケート系化合物の好適態様としては、式（Ｘ）で表される化合物が挙げられる。

ここで、式（Ｘ）中、Ｒ^１〜Ｒ^４はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキル基を表す。また、ｎは２〜１００の整数を表す。
ｎは、３〜１５が好ましく、５〜１０がより好ましい。

上記シリケート系化合物の市販品としては、例えば、コルコート社製「エチルシリケート４８」、及び、三菱化学社製「ＭＫＣシリケート ＭＳ５１」等が挙げられる。
なお、シリケート系化合物は１種を単独で用いても、２種以上を用いてもよい。

（親水性を有するモノマー（親水性モノマー））
親水性基は特に制限されず、例えば、ポリオキシアルキレン基（例えば、ポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基、オキシエチレン基とオキシプロピレン基がブロック又はランダム結合したポリオキシアルキレン基）、アミノ基、カルボキシ基、カルボキシ基のアルカリ金属塩、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイル基、スルホン酸基、及び、スルホン酸基のアルカリ金属塩等が挙げられる。親水性モノマー中における親水性基の数は特に制限されないが、得られる膜がより親水性を示す点より、２個以上が好ましく、２〜６個がより好ましく、２〜３個が更に好ましい。

重合性基は特に制限されず、例えば、ラジカル重合性基、カチオン重合性基、及び、アニオン重合性基等が挙げられる。ラジカル重合性基としては、（メタ）アクリロイル基、アクリルアミド基、ビニル基、スチリル基、及び、アリル基等が挙げられる。カチオン重合性基としては、ビニルエーテル基、オキシラニル基、及び、オキセタニル基等が挙げられる。重合性基としては、なかでも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
親水性モノマー中における重合性基の数は特に制限されないが、得られる膜の機械的強度がより優れる点で、２個以上が好ましく、２〜６個がより好ましく、２〜３個が更に好ましい。

親水性モノマーの重合により形成される親水性ポリマーの主鎖の構造は特に制限されず、例えば、ポリウレタン、ポリ（メタ）アクリレート、ポリスチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、及び、ポリウレア等が挙げられる。
親水性モノマーは１種を単独で用いても、２種以上を用いてもよい。

（親水性を有するポリマー（親水性ポリマー））
親水性ポリマーの種類は特に制限されず、公知のものを使用できる。なお、親水性基の定義は、上述したとおりである。
親水性ポリマーとしては、上記親水性モノマーを重合して得られるポリマーが挙げられる。それ以外にも、例えば、セルロース系化合物が挙げられる。セルロース系化合物とは、セルロースを母核とする化合物を意図し、例えば、カルボキシメチルセルロースのほか、トリアセチルセルロースを原料とするナノファイバー等が挙げられる。
親水性ポリマーの重量平均分子量は特に制限されないが、溶解性等の取扱い性がより優れる点で、１，０００〜１，０００，０００が好ましく、１０，０００〜５００，０００がより好ましい。なお、本明細書において、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー測定でのポリスチレン換算値として定義される。
親水性ポリマーは１種を単独で用いても、２種以上を用いてもよい。

本組成物中における親水性成分の含有量は特に制限されないが、組成物の全固形分に対して、２０〜９９．８質量％が好ましく、２０〜９０質量％がより好ましく、４０〜９９質量％が更に好ましい。
なお、親水性成分は１種を単独で用いても、２種以上を用いてもよい。２種以上の親水性成分を用いる場合、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。

（溶媒）
本組成物は、溶媒を含むことが好ましい。
溶媒は特に制限されず、水及び／又は有機溶媒が挙げられる。有機溶媒としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、イソペンタノール、フェニルエチルアルコール、カプリルアルコール、ラウリルアルコール、及び、ミリスチルアルコール等のアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル、及び、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル等のグリコールエーテル系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン、及び、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒；シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、及び、エチルシクロヘキサン等の脂環族炭化水素系溶媒；テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、及び、ジ−ｎ−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、及び、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ−アミル、酢酸イソアミル、酢酸ヘキシル、プロピオン酸エチル、及び、プロピオン酸ブチル等のエステル系溶媒；１０質量％安息香酸デナトニウムアルコール溶液、ゲラニオール、八アセチル化ショ糖、ブルシン、リナロール、リナリールアセテート、及び、酢酸等の親水性溶媒；が挙げられる。

本組成物の固形分量は特に制限されないが、組成物がより優れた塗布性を有する点で、組成物全質量に対して、０．００１〜８０質量％が好ましく、０．０１〜１０質量％がより好ましく、０．１〜５．０質量％が更に好ましい。上記固形分になるよう、組成物中は、溶媒を含むことが好ましい。
溶媒は１種を単独で用いても、２種以上を用いてもよい。

（重合開始剤）
上記組成物が親水性モノマーを含む場合、上記組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤は特に制限されず、公知の重合開始剤が挙げられる。
重合開始剤としては、例えば、熱重合開始剤、及び、光重合開始剤等が挙げられる。
重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、及び、フェニルフォスフィンオキシド等の芳香族ケトン類；α−ヒドロキシアルキルフェノン系化合物（ＢＡＳＦ社製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、１２７、２９５９、及び、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３等）；フェニルフォスフィンオキシド系化合物（モノアシルフォスフィンオキサイド：ＢＡＳＦ社製 ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＴＰＯ、ビスアシルフォスフィンオキサイド：ＢＡＳＦ社製 ＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９）；等が挙げられる。
なかでも、反応効率の点で、光重合開始剤が好ましい。

上記組成物中における重合開始剤の含有量は特に制限されないが、親水性モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部が好ましく、１〜６質量部がより好ましい。
重合開始剤は、１種を単独で用いても、２種以上を用いてもよい。２種以上の重合開始剤を用いる場合、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。

（分散剤）
上記組成物が粒子状の抗菌剤を含む場合、本組成物は分散剤を含むことが好ましい。
分散剤は特に制限されず、公知の分散剤が挙げられる。
分散剤としては、ノニオン系又はアニオン系の分散剤が好ましい。抗菌剤に対する親和性の点から、なかでも、カルボキシ基、リン酸基、及び、水酸基等のアニオン性の極性基を有する分散剤（アニオン系分散剤）がより好ましい。
アニオン系分散剤としては、市販品を使用できる。その具体例としては、ＢＹＫ社の商品名ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ（登録商標）−１１０、−１１１、−１１６、−１４０、−１６１、−１６２、−１６３、−１６４、−１７０、−１７１、−１７４、−１８０、及び、−１８２等が挙げられる。

本組成物中における分散剤の含有量は特に制限されないが、組成物の全固形分に対して、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましく、８質量％以下が更に好ましい。
分散剤は、１種を単独で用いても、２種以上を用いてもよい。２種以上の分散剤を用いる場合、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。

（触媒）
上記組成物がシリケート系化合物を含む場合、組成物は、シリケート系化合物の縮合を促進する触媒（以下「反応触媒」ともいう。）を含んでもよい。

触媒は特に制限されないが、アルカリ触媒、及び、有機金属触媒等が挙げられる。
アルカリ触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、及び、水酸化テトラメチルアンモニウム等が挙げられる。
有機金属触媒としては、アルミニウムビス（エチルアセトアセテート）モノ（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、及び、アルミニウムエチルアセトアセテートジイソプロピレート等のアルミキレート化合物、ジルコニウムテトラキス（アセチルアセトネート）、及び、ジルコニウムビス（ブトキシ）ビス（アセチルアセトネート）等のジルコニウムキレート化合物、チタニウムテトラキス（アセチルアセトネート）、及び、チタニウムビス（ブトキシ）ビス（アセチルアセトネート）等のチタンキレート化合物、並びに、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジラウレート、及び、ジブチルスズジオクチエート等の有機スズ化合物等が挙げられる。
触媒の種類は特に制限されないが、有機金属触媒が好ましく、なかでも、アルミキレート化合物、又は、ジルコニウムキレート化合物がより好ましく、アルミキレート化合物が更に好ましい。

触媒の含有量は、組成物の全固形分１００質量部に対して、０．１〜２０質量部が好ましく、０．２〜１５質量部がより好ましく、０．３〜１０質量部が更に好ましい。
触媒は１種を単独で用いても、２種以上を用いてもよい。２種以上の触媒を用いる場合、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。

（界面活性剤）
上記組成物は、界面活性剤を含んでいてもよい。界面活性剤は本組成物の塗布性を向上する作用を有する。
界面活性剤は特に制限されず、例えば、ノニオン性界面活性剤、及び、イオン性界面活性剤（例えば、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、及び、両性型界面活性剤）等が挙げられる。
界面活性剤の含有量は、組成物の全固形分１００質量部に対して、０．０１質量部以上が好ましい。なお、界面活性剤の含有量の上限値は特に制限されないが、組成物の全固形分１００質量部に対して、１０質量部以下が好ましく、５質量部以下がより好ましく、４質量部以下が更に好ましい。
界面活性剤は１種を単独で用いても、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、それらの合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。

ノニオン性界面活性剤としては、ポリエチレングリコールモノラウリルエーテル、ポリエチレングリコールモノステアリルエーテル、ポリエチレングリコールモノセチルエーテル、ポリエチレングリコールモノラウリルエステル、及び、ポリエチレングリコールモノステアリルエステル等が挙げられる。

イオン性界面活性剤としては、アルキル硫酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、及び、アルキルリン酸塩等のアニオン性界面活性剤；アルキルトリメチルアンモニウム塩、及び、ジアルキルジメチルアンモニウム塩等のカチオン性界面活性剤；アルキルカルボキシベタイン等の両性型界面活性剤が挙げられる。

（香料）
上記組成物は、香料を含んでいてもよい。
香料として、長谷川香料社製のフレーバーＨ−１、Ｈ−２、Ｈ−３、Ｈ−４、Ｈ−６、Ｈ−９、Ｈ−１０、Ｈ−１１、Ｈ−１２、Ｈ−１３、Ｈ−１４、高砂香料工業社製のフレーバーＴ−１００、Ｔ−１０１、Ｔ−１０２、Ｔ−１０３、Ｔ−１０４、Ｔ−１０５、Ｔ−１０６、Ｔ−１０７、ＥＤＡ−１７１、曽田香料社製フレーバーＳ−２０１、及び、理研香料工業社製フレーバーＤＡ−４０等が挙げられる。
香料の含有量は、組成物の全質量に対して、０．０１〜５質量％が好ましい。

（造膜剤）
上記組成物は、造膜剤を含んでいてもよい。ここでいう造膜剤は、上述した、シリケート系化合物、親水性モノマー、及び、親水性ポリマーを含まない。
造膜剤としては、熱可塑性樹脂が挙げられる。造膜剤は、例えば、後述する膜を形成した場合には、バインダーとして機能する。
以下に、熱可塑性樹脂について説明する。
熱可塑性樹脂は、最低造膜温度が０〜３５℃の樹脂であることが好ましい。熱可塑性樹脂としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、（メタ）アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素化ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、セルロースアシレート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、シクロオレフィンコポリマーからなる樹脂、フルオレン環変性ポリカーボネート樹脂、脂環変性ポリカーボネート樹脂、及び、フルオレン環変性ポリエステル樹脂等が挙げられる。なかでも、（メタ）アクリル樹脂、又は、ウレタン樹脂が好ましい。
なお、熱可塑性樹脂は、１種を単独で用いても、２種以上を用いてもよい。
熱可塑性樹脂の含有量は、熱可塑性樹脂の種類等に応じて適宜調節すればよいが、組成物の全固形分に対して、３０質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましい。

＜組成物のｐＨ＞
本組成物のｐＨは特に制限されないが、実使用環境で使用者の手荒れ等を考慮した場合、ｐＨを適切な範囲に調整することが好ましい。
本組成物のｐＨは、２〜１２が好ましく、３〜１１がより好ましい。
ｐＨ調整の方法としては、本組成物中に、酸及びアルカリを配合する方法が挙げられる。
なお、ｐＨは、市販のｐＨ測定メータ（例えば、東亜ディーケーケー社製のｐＨメータ ＨＭ−３０Ｒ等）を用いて室温（２５℃）で測定できる。

＜組成物の粘度＞
本組成物の粘度は特に制限されず、用途に応じて調整すればよい。
例えば、本組成物を塗布又はスプレー等に適用する場合、本組成物の２５℃における粘度は、３００ｃＰ（センチポアズ：１ｃｐ＝１ｍＰａ・ｓ）以下が好ましく、２００ｃＰ以下がより好ましく、０．１〜１５０ｃＰが更に好ましい。
また、抗菌性の効果を長時間持続させる場合は、本組成物の２５℃における粘度は、２５０ｃＰ以上が好ましく、３００ｃＰ以上がより好ましく、４００ｃＰ以上が更に好ましい。なお、その上限は、例えば、５００ｃＰ以下が好ましい。
なお、粘度は、東機産業社製ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ ＴＵＢ−１０、又は、セコニック社製ＳＥＫＯＮＩＣ ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲを用いて測定できる。

＜ゼータ電位＞
本組成物のゼータ電位は、特に限定されないが、本組成物中において、粒状物が適度に分散して耐沈降性により優れることを考慮すると、適切な範囲に調整することが好ましい。上記組成物のゼータ電位は、−８０ｍＶ〜８０ｍＶが好ましく、−７０ｍＶ〜７０ｍＶがより好ましく、−６０ｍＶ〜６０ｍＶが更に好ましい。
なお、ゼータ電位は、公知の方法を用いて測定でき、本組成物をガラス製の専用測定セルに所定量導入し、大塚電子社製 ＥＬＳＺ１ＥＡＳを用いて測定できる。

＜組成物の製造方法＞
本組成物は、上述した必須成分及び任意成分を、適宜混合することによって調製できる。なお、上記成分の混合の順番は特に制限されない。

＜ウェットワイパー＞
本発明のウェットワイパーは、基布と、上記基布に含浸させた本組成物と、を有する。
本組成物は、既に説明したとおりである。
基布の種類は特に制限されず、天然繊維で形成されたものであっても、化学繊維で形成されたものであってもよい。

天然繊維としては、例えば、パルプ、綿、麻、亜麻、羊毛、キヤメル、カシミヤ、モヘヤ、及び、絹等が挙げられる。
化学繊維の材料としては、レーヨン、ポリノジック、アセテート、トリアセテート、ナイロン、ポリエステル、ポリアクリロニトリル、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリウレタン、ポリアルキレンパラオキシベンゾエート、及び、ポリクラール等が挙げられる。
なかでも、これらの基布のうち、本組成物が含浸しやすい点で、親水性の基布が好ましい。親水性の基布とは、例えば、水酸基、アミノ基、カルボキシ基、アミド基、及び、スルホニル基等の親水性基を有する繊維を含む基布である。親水性の基布としては、具体的には、植物性繊維、綿、パルプ、動物性繊維、レーヨン、ナイロン、ポリエステル、ポリアクリロニトリル、及び、ポリビニルアルコール等で構成される基布が挙げられる。

上記ウェットワイパーの基布としては、不織布、布、タオル、ガーゼ、及び、脱脂綿等が挙げられ、不織布が好ましい。
また、基布の目付（単位面積当たりの質量）は、１００ｇ／ｍ^２以下が好ましい。上記本組成物を基布に含浸させる際の含浸量は、基布の質量に対して１倍以上の量が好ましい。

＜スプレー＞
本発明のスプレーは、スプレー容器と、上記スプレー容器に収納された本組成物と、を有する。
本組成物は、既に説明したとおりである。
本発明のスプレーとしては、本組成物と噴射剤とを所定の容器に充填した形態が一例として挙げられる。用いられる噴射剤は特に制限されないが、例えば、液化石油ガス等が挙げられる。

＜表面処理基材の製造方法＞
本組成物を基材と接触させることにより表面処理基材を製造できる。つまり、本発明は、本組成物と基材とを接触させて表面処理基材を製造する、表面処理基材の製造方法を含む。
本組成物と基材とを接触させる方法は特に制限されないが、例えば、スプレー法、ロールコータ法、グラビアコータ法、スクリーン法、スピンコータ法、フローコータ法、インクジェット法、静電塗装法、及び、ワイプ法等が挙げられる。なかでも、既存の物品の表面に、需要に応じて膜を形成して処理（オンデマンド処理）ができる点で、スプレー法、又は、ワイプ法が好ましい。
なお、ワイプ法としては、上述したウェットワイパーを用いて、基材を拭いて、本組成物と基材とを接触させる方法が好ましい。
また、スプレー法としては、上述したスプレーを用いて、基材に本組成物を噴霧して、基材と本組成物とを接触させる方法が好ましい。

本組成物と基材とを接触させた後、溶媒を除去するために加熱処理を行ってもよい。その場合の加熱処理の条件は特に制限されず、例えば、加熱温度としては、５０〜２００℃が好ましく、加熱時間としては、１５〜６００秒間が好ましい。

基材は特に制限されないが、例えば、下着類を含む衣服、寝具、おむつ等の介護用品、便器、床、及び、壁等が挙げられる。
基材を構成する材料は特に制限されず、例えば、金属、ガラス、セラミックス、及び、プラスチック（樹脂）等が挙げられる。

本組成物中に親水性バインダー前駆体が含まれる場合、本組成物と基材とを接触させた後、必要に応じて、得られた基材に対して硬化処理を施してもよい。硬化処理を施すことにより、親水性バインダー前駆体が親水性バインダーとなる。結果として、基材上に、特定無機酸化物、抗菌剤及び親水性バインダー、又は、複合物及び親水性バインダーを含む膜が得られる。

硬化処理の方法は特に制限されないが、例えば、加熱処理及び／又は露光処理が挙げられる。
露光処理は特に制限されないが、例えば、紫外線ランプにより１００〜６００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量の紫外線を照射する態様が挙げられる。
紫外線照射の場合、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、及び、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。
加熱処理の温度は特に制限されないが、例えば、５０〜１５０℃が好ましく、８０〜１２０℃がより好ましい。

得られる膜の膜厚は特に制限されないが、０．００１〜５０μｍが好ましく、０．０１〜１０μｍがより好ましい。
なお、上記膜厚とは、膜のサンプル片を樹脂に包埋して、ミクロトームで断面を削り出し、削り出した断面を走査電子顕微鏡で観察し測定する。膜の任意の１０点の位置における厚みを測定し、それらを算術平均した値を意図する。

以下に実施例に基づいて本発明を更に詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更できる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により制限的に解釈されるべきものではない。

＜実施例１＞
容器中でエタノール２７８ｇを攪拌しながら、純水１５２ｇ、シロキサン化合物であるバインダー（三菱化学社製「ＭＫＣ（登録商標）シリケートＭＳ５１」）９．５ｇ、アルミキレートＤ（アルミニウムビス（エチルアセトアセテート）モノ（アセチルアセトネート）、エタノール希釈：固形分濃度１質量％）１５ｇ、ノニオン性界面活性剤（日本エマルジョン社製「エマレックス７１５」、純水希釈：固形分濃度０．５質量％）４０ｇ、アニオン性界面活性剤（ジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム、純水希釈：固形分濃度０．２質量％）１０ｇ、を順次加えた後、イソプロパノール１５ｇ、分散剤（ＢＹＫ社製「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ（登録商標）−１８０」）１ｇ、平均粒径を０．５μｍに制御した銀担持ガラス（富士ケミカル社製「バクテライト」、固形分含有量２５質量％、銀担持ガラスは、ガラス上に銀を担持した抗菌剤に該当）０．１６ｇを加え、ケイ酸アルミニウム（東亞合成製「ＮＳ−２０」、平均粒径１１μｍ）１．３０ｇを加え、２０分間攪拌し、組成物１を得た。

抗菌剤及び無機酸化物の種類及び使用量を表１のように変更した以外は、実施例１と同様にして、各実施例及び各比較例に係る組成物を得た。
なお、表１中における各略号は、以下の内容を表す。
・抗菌剤１：平均粒径を０．５μｍに制御した銀担持ガラス（富士ケミカル社製「バクテライト」）
・抗菌剤２：平均粒径を１．０μｍに制御した銀担持リン酸ジルコニウム（東亞合成社製「ノバロン」）
・特定無機酸化物１：ケイ酸アルミニウム（東亞合成社製「ＮＳ−２０」、平均粒径１１μｍ）
・無機化合物１：リン酸ジルコニウム（東亞合成社製「ＮＳ−１０」、平均粒径１μｍ）
・無機化合物２：銅担持ケイ酸アルミニウム（東亞合成社製「ＮＳ−２０Ｃ」、平均粒径３．３μｍ）
抗菌剤１〜２、特定無機酸化物１、及び、無機化合物１〜２の平均粒径については、電子顕微鏡を用いた観察により測定した。具体的な測定方法は、抗菌剤の平均粒径の測定方法で説明したとおりである。
・「−」：その化合物を用いなかったことを表す。

＜抗菌性評価＞
不織布を準備し、不織布１００ｃｍ^２当たり、各実施例及び比較例の組成物が１ｇ付着するように、不織布に対して組成物を噴射した。次に、得られた組成物付き不織布を２５℃にて２日間乾燥し、膜付き基材を得た。
得られた膜付き基材について、ＪＩＳ Ｚ ２８０１：２０１２記載の評価方法に準拠し、特定細菌（Klebsiella pneumoniae [K.pneumoniae]）を培養して得た菌液への接触時間を３時間に変更して試験を実施した。試験後の抗菌活性値を測定し、結果を表１の「抗菌性」欄に示した。
なお、表１中「≧３．５」は、「３．５以上」であることを意図する。

＜着色性評価＞
上記＜抗菌性評価＞で得られた膜付き基材（不織布に組成物を噴霧したもの）について、色味が付いているかどうかを目視にて評価した。色味がない場合は、表１の着色性の評価は「無し」、色味がある場合は、表１の着色性の評価は「有り」とした。

表中の「濃度（質量％）」は、組成物全質量に対する含有量（質量％）を表す。

表１の結果より、本組成物を用いると所望の効果が得られることが確認された。

Claims (10)

1. 銅原子が担持されておらず、かつ、リン原子を含まない無機酸化物と、抗菌剤とを含む組成物であって、
   前記無機酸化物が、ケイ酸塩であり、
   前記抗菌剤が、銀を含み、
   前記無機酸化物は、抗菌性を示す成分が担持されていない無機酸化物である、組成物。
2. 前記抗菌剤が、無機物である、請求項１に記載の組成物。
3. 前記抗菌剤の平均粒径が０．３μｍ以上である、請求項２に記載の組成物。
4. 銅原子が担持されておらず、かつ、リン原子を含まない無機酸化物と前記無機酸化物上に担持された抗菌性を有する成分とを含む複合物を含む、組成物であって、
   前記無機酸化物が、ケイ酸塩である、組成物。
5. 前記ケイ酸塩がケイ酸アルミニウムである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物。
6. 更に、親水性バインダー前駆体及び親水性バインダーからなる群より選ばれる親水性成分を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の組成物。
7. 前記親水性成分が、シリケート系化合物、親水性基を有するモノマー、及び、親水性基を有するポリマーからなる群より選ばれる少なくとも１種を含む、請求項６に記載の組成物。
8. 基布と、前記基布に含浸させた請求項１〜７のいずれか１項に記載の組成物と、を含む、ウェットワイパー。
9. スプレー容器と、前記スプレー容器に収納された請求項１〜７のいずれか１項に記載の組成物と、を含むスプレー。
10. 請求項１〜７のいずれか１項に記載の組成物と基材とを接触させて表面処理基材を製造する、表面処理基材の製造方法。