JP6966526B2 - 配線回路基板の製造方法 - Google Patents
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Description
図1A〜図3D、図5、および図6を参照して上述した各工程を下記のように実施して、金属製基材10上に絶縁層21とその上の配線35とを所定パターンで形成し、実施例1〜7の配線回路基板を作製した(実施例ごとに、20ロールのワークフィルムWのそれぞれにおける全長100mの領域にわたり複数の配線回路基板を作製した)。
保護フィルムFを使用しなかったこと以外は実施例1〜7の配線回路基板と同様にして、比較例1の配線回路基板を作製した。
実施例1〜7および比較例1の各配線回路基板において、形成した配線ごとに金属製基材との間にショートが発生しているかどうかを調べた。そして、形成した配線の総数に対する、金属製基材との間にショートが発生している配線の数の割合を不良率(%)として算出した。この不良率について、10%未満である場合を「〇」と評価し、10%以上である場合を「×」と評価した。その結果を表1に掲げる。
実施例1〜7の各配線回路基板の製造過程で使用した保護フィルムの耐熱性について、保護フィルムの溶融温度が140℃以上である場合を「〇」と評価し、保護フィルムの溶融温度が140℃未満である場合を「×」と評価した。その結果を表1に掲げる。
実施例1〜7の各配線回路基板について、しわの抑制の程度を調べた。具体的には、しわの抑制の程度に関し、実施例ごとの20ロールのワークフィルム(配線回路基板形成領域は1ロールにつき全長100m)のうち、しわの発生したワークフィルムの数の割合が、10%未満であった場合を「〇」と評価し、10%以上25%未満であった場合を「△」と評価した。25%以上であった場合を「×」と評価した。その結果を表1に掲げる。
W ワークフィルム
F 保護フィルム
10 金属製基材
11 第1面
12 第2面
C1,C2 組成物
20,40 絶縁膜
20’,40’ 潜像パターン
21,41 絶縁層
31 シード層
32 レジスト膜
33 レジストパターン
33a 開口部
34 配線
R1〜R6 ロール
Claims (7)
- 第1面と当該第1面とは反対側の第2面とを有する長尺の金属製基材であるワークフィルムをロールトゥロール方式により送り出し及び巻き取りながら、前記第1面上に、感光性樹脂を含有する組成物を塗工して絶縁膜を形成し、且つ、巻き取られる前記ワークフィルムにおいて前記第2面と前記絶縁膜との間に保護フィルムを介在させる、第1工程と、
前記第1工程を経た前記ワークフィルムをロールトゥロール方式により送り出し及び巻き取りながら、前記絶縁膜上から前記保護フィルムを剥離し、且つ当該絶縁膜に対して露光処理して潜像パターンを形成する、第2工程と、
前記第2工程を経た前記絶縁膜を現像処理してパターニングする第3工程と、を含むことを特徴とする、配線回路基板の製造方法。 - 前記第3工程を経た前記絶縁膜上に配線を形成する第4工程を更に含むことを特徴とする、請求項1に記載の配線回路基板の製造方法。
- 前記第1工程における前記ワークフィルムは、前記金属製基材の前記第1面上のベース絶縁層と、当該ベース絶縁層上の配線とを更に含み、
前記第1工程において形成される前記絶縁膜は、カバー絶縁層として、前記金属製基材の前記第1面上において前記ベース絶縁層および前記配線を覆うことを特徴とする、請求項1に記載の配線回路基板の製造方法。 - 前記金属製基材は、CuまたはCu合金よりなることを特徴とする、請求項1から3のいずれか一つに記載の配線回路基板の製造方法。
- 前記保護フィルムはポリプロピレンフィルムであることを特徴とする、請求項1から4のいずれか一つに記載の配線回路基板の製造方法。
- 前記保護フィルムは、30μm以上70μm以下の厚みを有することを特徴とする、請求項1から5のいずれか一つに記載の配線回路基板の製造方法。
- 前記感光性樹脂はポリイミド樹脂であることを特徴とする、請求項1から6のいずれか一つに記載の配線回路基板の製造方法。
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