JP6966059B2 - インク組成物および有機発光素子の製造方法 - Google Patents

インク組成物および有機発光素子の製造方法 Download PDF

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Description

本出願は、2017年12月12日付で韓国特許庁に提出された韓国特許出願第10−2017−0170407号の出願日の利益を主張し、その内容のすべては本明細書に組み込まれる。
本出願は、2018年11月20日付で韓国特許庁に提出された韓国特許出願第10−2018−0143421号の出願日の利益を主張し、その内容のすべては本明細書に組み込まれる。
本明細書は、化学式1で表される溶媒、化学式2で表される溶媒、および化学式3で表される溶媒を含む溶媒;および電荷輸送性材料または発光材料を含むインク組成物および前記インク組成物を用いて形成された有機発光素子の製造方法に関する。
溶液工程により有機発光素子を製造しようとする努力が進められており、材料の消耗量を最小化し、機器が小型化されたり、ディスプレイの解像度が高くなるにつれ、精密パターンの形成が求められていて、経済的かつ安定したインクジェットプリンティング(Inkjet printing)工程で有機発光素子を製造する方法が注目されている。
インクジェットプリンティング(Inkjet printing)工程に用いられるインク組成物は、安定した吐出が可能で、電荷輸送性材料または発光材料などの機能材料と溶媒は相分離が起こらず、膜形成時に均一な膜を形成できなければならない。
従来は、前記インク組成物に極性が比較的低いエーテル(ether)類の溶媒やハイドロカーボン(hydrocarbon)類の溶媒を多く使用したが、例えば、フェノキシトルエン(phenoxytoluene)、シクロヘキシルベンゼン(cyclohexylbenzene)などの溶媒を使用した。しかし、前記溶媒を主溶媒として用いる場合、機能材料に対する溶解度が低くてインクの固形分を高めるのに限界があり、これによって工程時間が長くかかる問題があり、乾燥時に相分離が起こるなど安定した膜を形成できない問題点があった。また、機能材料に対する溶媒の溶解度が低い場合、インクに溶かすことが可能な機能材料の量が限られるため、所望の厚さを得るために、ピクセルに落とすべき滴(drop)数が多くなるので、平坦なプロファイルを得にくくなり、所望の厚さを得ることが困難である。
追加的に、インク組成物に使用される溶媒の場合、機能材料に対する溶解度が高いとしても、ノズル部が乾燥する問題を防ぐために、高い沸点を有しなければならない。例えば、シクロヘキサノン(cyclohexanone)の場合、溶解度が良い溶媒に相当するが、沸点が低くて、インク組成物に使用される場合、ノズル部が乾燥するので、インクジェット工程に適切でない。
したがって、当技術分野では、機能材料に対する溶解度に優れ、沸点が高い溶媒を含むインク組成物の開発が求められている。
本明細書は、有機発光素子において使用可能なインク組成物およびこれを用いた有機発光素子の製造方法を提供することを目的とする。
本明細書は、下記化学式1で表される溶媒、下記化学式2で表される溶媒、および下記化学式3で表される溶媒を含む溶媒;および電荷輸送性材料または発光材料を含むインク組成物を提供する。
Figure 0006966059
前記化学式1〜3において、
〜Xは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルケニル基;置換もしくは非置換のアルコキシ基;置換もしくは非置換のエステル基;または置換もしくは非置換のアリール基であり、X〜Xのうちの少なくとも1つは、置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のエステル基;または置換もしくは非置換のアルコキシ基であり、
は、置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルケニル基;または置換もしくは非置換のアリール基であり、
は、置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルケニル基;または置換もしくは非置換のアリール基であり、
は、置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;または置換もしくは非置換のシクロアルケニル基であり、
が置換もしくは非置換のアリール基の時、Rは、置換もしくは非置換の炭素数4〜15のアルキル基であり、
およびYは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;ヒドロキシ基;カルボニル基;エステル基;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のアルケニル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルケニル基;置換もしくは非置換のアルコキシ基;または置換もしくは非置換のアリール基である。
本明細書は、基板を用意するステップと、前記基板上にカソードまたはアノードを形成するステップと、前記カソードまたはアノード上に1層以上の有機物層を形成するステップと、前記有機物層上にアノードまたはカソードを形成するステップとを含み、前記有機物層を形成するステップは、前記インク組成物を用いて1層以上の有機物層を形成するステップを含むものである有機発光素子の製造方法を提供する。
本明細書の一実施態様に係るインク組成物は、機能材料に対する溶媒の溶媒度が高くてインク組成物内における機能材料に対する含有量を高めることができ、これによってインク組成物の安定性を高めることができる。また、一部の高沸点特性を有する溶媒を含むことにより、低い蒸気圧特性によってインク組成物の乾燥過程で蒸発速度を制御して均一な膜を形成することができる。
本明細書の一実施態様に係る有機発光素子の例を示すものである。 本明細書の一実施態様に係るインク組成物を用いて形成された膜の表面のイメージに関する図である。 比較例によるインク組成物を用いて形成された膜の表面のイメージに関する図である。 膜の中心部の平坦度評価のための、ピクセル(Pixel)内に満たされたインクの各地点における厚さを示す図である。 エッジ(edge)形状評価のための、ピクセル(Pixel)内に満たされたインクの形状を示す図である。
以下、本発明を詳細に説明する。
本明細書において、ある部材が他の部材の「上に」位置しているとする時、これは、ある部材が他の部材に接している場合のみならず、2つの部材の間にさらに他の部材が存在する場合も含む。
本明細書において、ある部分がある構成要素を「含む」とする時、これは、特に反対の記載がない限り、他の構成要素を除くのではなく、他の構成要素をさらに包含できることを意味する。
本明細書において、マーカッシュ形式の表現に含まれた「これらの組み合わせ」の用語は、マーカッシュ形式の表現に記載された構成要素からなる群より選択される2つ以上の混合または結合した状態を意味するものであって、前記構成要素からなる群より選択される1つ以上を含むことを意味する。
本明細書において、「光硬化性基または熱硬化性基」とは、熱および/または光に露出させることにより、化合物の間に架橋をさせる反応性置換基を意味することができる。架橋は、熱処理または光を照射して、炭素−炭素多重結合、環状構造の分解とともに生成されたラジカルが連結されながら生成される。
以下、本明細書の置換基を詳細に説明する。
本明細書において、
Figure 0006966059
は、他の置換基または結合部に結合する部位を意味する。
本明細書において、前記「置換」という用語は、化合物の炭素原子に結合した水素原子が他の置換基に変わることを意味し、置換される位置は、水素原子の置換される位置すなわち、置換基が置換可能な位置であれば限定せず、2以上置換される場合、2以上の置換基は、互いに同一でも異なっていてもよい。2以上の置換基が隣接する場合、隣接する基が結合して芳香族または脂肪族環を形成してもよい。
本明細書において、「置換もしくは非置換の」という用語は、重水素;ニトリル基;ニトロ基;ヒドロキシ基;カルボニル基;エステル基;アルキル基;シクロアルキル基;シクロアルケニル基;アルコキシ基;アルケニル基;アリール基;アミン基;およびヘテロ環基からなる群より選択された1個以上の置換基で置換もしくは非置換であるか、前記例示された置換基のうち2以上の置換基が連結された置換もしくは非置換であることを意味する。例えば、「2以上の置換基が連結された置換基」は、ビフェニル基であってもよい。すなわち、ビフェニル基は、アリール基であってもよく、2個のフェニル基が連結された置換基と解釈されてもよい。
本明細書において、ハロゲン基は、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素である。
本明細書において、前記アルキル基は、直鎖もしくは分枝鎖であってもよく、一実施態様によれば、前記アルキル基の炭素数は1〜20である。もう一つの実施態様によれば、前記アルキル基の炭素数は1〜10である。もう一つの実施態様によれば、前記アルキル基の炭素数は1〜6である。アルキル基の具体例としては、メチル基、イソプロピル基、ペンチル基、n−ブチル基、イソブチル基、またはt−ブチル基などがあるが、これらに限定されない。一実施態様において、ブチル基は、アミル基(amyl group)で表されてもよい。
本明細書において、前記アルケニル基は、直鎖もしくは分枝鎖であってもよく、炭素数は特に限定されないが、2〜40のものが好ましい。一実施態様によれば、前記アルケニル基の炭素数は2〜20である。もう一つの実施態様によれば、前記アルケニル基の炭素数は2〜10である。もう一つの実施態様によれば、前記アルケニル基の炭素数は2〜6である。具体例としては、ビニル、1−プロペニル、イソプロペニル、1−ブテニル、2−ブテニル、3−ブテニル、1−ペンテニル、2−ペンテニル、3−ペンテニル、3−メチル−1−ブテニル、1,3−ブタジエニル、アリル、1−フェニルビニル−1−イル、2−フェニルビニル−1−イル、2,2−ジフェニルビニル−1−イル、2−フェニル−2−(ナフチル−1−イル)ビニル−1−イル、2,2−ビス(ジフェニル−1−イル)ビニル−1−イル、スチルベニル基、スチレニル基などがあるが、これらに限定されない。
本明細書において、前記アルコキシ基は、直鎖、分枝鎖もしくは環鎖であってもよい。アルコキシ基の炭素数は特に限定されないが、炭素数は1〜20であってもよい。具体的には、メトキシ基などになってもよいが、これらに限定されるものではない。
本明細書に記載のアルキル基、アルコキシ基、およびその他のアルキル基部分を含む置換体は、直鎖もしくは分鎖形態をすべて含む。
本明細書において、カルボニル基の炭素数は特に限定されないが、炭素数1〜20のものが好ましい。前記カルボニル基は、−CORで表されてもよいし、前記Rは、置換もしくは非置換のアルキル基、または置換もしくは非置換のアリール基であってもよいが、これに限定されるものではない。具体的には、メチルケトン基などになってもよい。
本明細書において、エステル基は、エステル基の酸素が炭素数1〜25の直鎖、分枝鎖もしくは環鎖アルキル基、または炭素数6〜25のアリール基で置換されていてもよい。具体的には、下記構造式の化合物になってもよいが、これに限定されるものではない。
Figure 0006966059
本明細書において、シクロアルキル基は特に限定されないが、一実施態様によれば、前記シクロアルキル基の炭素数は3〜40である。もう一つの実施態様によれば、前記シクロアルキル基の炭素数は3〜20である。もう一つの実施態様によれば、前記シクロアルキル基の炭素数は3〜6である。シクロヘキシル基などがあるが、これらに限定されない。
本明細書において、シクロアルケニル基は特に限定されないが、炭素数3〜40である。もう一つの実施態様によれば、前記シクロアルケニル基の炭素数は3〜20である。具体的には、シクロヘキセニル基などがあるが、これらに限定されない。
本明細書において、アリール基は特に限定されないが、炭素数は6〜40または6〜20であってもよい。単環式アリール基または多環式アリール基であってもよい。前記アリール基は、フェニル基などになってもよいが、これらに限定されるものではない。
本明細書において、ヘテロ環基は、異種原子としてN、O、P、S、Si、およびSeのうちの1個以上を含むヘテロ環基であって、炭素数は特に限定されないが、炭素数1〜60のものが好ましい。一実施態様によれば、前記ヘテロ環基の炭素数は1〜30である。
本明細書において、ヘテロアリール基は、芳香族であることを除けば、前述したヘテロ環基に関する説明が適用可能である。
本明細書において、前記アリーレン基は、2価の基であることを除けば、前述したアリール基の例示の中から選択されてもよい。
本明細書において、前記アルキレン基は、2価の基であることを除けば、前述したアルキル基の例示の中から選択されてもよい。
本明細書において、前記シクロアルキレン基は、2価の基であることを除けば、前述したシクロアルキル基の例示の中から選択されてもよい。
本明細書において、前記ヘテロアリーレン基は、2価の基であることを除けば、前述したヘテロアリール基の例示の中から選択されてもよい。
本明細書において、「隣接した」基は、当該置換基が置換された原子と直接連結された原子に置換された置換基、当該置換基と立体構造的に最も近く位置した置換基、または当該置換基が置換された原子に置換された他の置換基を意味することができる。例えば、ベンゼン環におけるオルト(ortho)位に置換された2個の置換基、および脂肪族環における同一炭素に置換された2個の置換基は、互いに「隣接した」基と解釈される。
本明細書において、隣接する基が互いに結合して形成された環は、単環もしくは多環であってもよいし、脂肪族、芳香族、または脂肪族と芳香族との縮合環であってもよいし、炭化水素環またはヘテロ環を形成してもよい。
前記炭化水素環は、前記1価の基でないものを除き、前記シクロアルキル基またはアリール基の例示の中から選択されてもよい。前記ヘテロ環は、脂肪族、芳香族、または脂肪族と芳香族との縮合環であってもよいし、1価の基でないものを除き、前記ヘテロ環基の例示の中から選択されてもよい。
本発明の一実施態様において、前記インク組成物は、下記化学式1で表される溶媒、下記化学式2で表される溶媒、および下記化学式3で表される溶媒を含む溶媒;および電荷輸送性材料または発光材料を含む。
Figure 0006966059
前記化学式1〜3において、
〜Xは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルケニル基;置換もしくは非置換のアルコキシ基;置換もしくは非置換のエステル基;または置換もしくは非置換のアリール基であり、X〜Xのうちの少なくとも1つは、置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のエステル基;または置換もしくは非置換のアルコキシ基であり、
は、置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルケニル基;または置換もしくは非置換のアリール基であり、
は、置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルケニル基;または置換もしくは非置換のアリール基であり、
は、置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;または置換もしくは非置換のシクロアルケニル基であり、
が置換もしくは非置換のアリール基の時、Rは、置換もしくは非置換の炭素数4〜15のアルキル基であり、
およびYは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;ヒドロキシ基;カルボニル基;エステル基;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のアルケニル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルケニル基;置換もしくは非置換のアルコキシ基;または置換もしくは非置換のアリール基である。
本発明において、前記化学式1で表される溶媒および前記化学式2で表される溶媒は、機能層材料に対する溶解度が良く、低い蒸気圧を有するので、前記溶媒を含むことにより、インク安定性を確保することができる。前記化学式1で表される溶媒および前記化学式2で表される溶媒を含む溶媒としてインク組成物を形成する場合、溶媒の高い溶解度によって凝集現象が現れず、機能層膜の形成時、綺麗な表面の膜を形成することができる。
具体的には、前記化学式1で表される溶媒は、前記インク組成物に含まれる前記電荷輸送性材料または発光材料の溶解度を高める役割を果たすことができる。前記インク組成物が前記化学式1で表される溶媒を含むことによって、前記インク組成物を用いて膜を製造した時、膜のイメージ改善効果に優れる。
前記化学式2で表される溶媒が前記インク組成物に含まれる場合、前記インク組成物を用いて膜を製造した時、膜の中心部の平坦度を高める役割を果たすことができる。
一方、前記化学式1で表される溶媒および前記化学式2で表される溶媒は、カルボニル基またはエステル基のような官能基を含むことにより、極性が過度に高くなりうる。しかし、前記化学式3で表される溶媒は、比較的低い極性を有するので、前記化学式1で表される溶媒および前記化学式2で表される溶媒のみを含むことより、前記化学式3で表される溶媒をさらに含むことにより、インク組成物の極性が過度に高くなるのを防止することができる。また、前記化学式3で表される溶媒は、比較的低い極性を有することにより、機能層膜の形成時、レベリング効果によって膜の表面粗さを低下させる。すなわち、前記化学式3で表される溶媒は、bankの壁面に形成するインクエッジ(edge)部の形状を平坦にする役割を果たすことができる。これに加えて、前記化学式3で表される溶媒は、低い蒸気圧を有するので、インクの乾燥過程で溶媒の蒸発速度を制御して、優れた膜形状を有する機能層を形成することができる。
本明細書の一実施態様において、X〜Xは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基;置換もしくは非置換の炭素数3〜40のシクロアルキル基;置換もしくは非置換の炭素数3〜40のシクロアルケニル基;置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルコキシ基;置換もしくは非置換の炭素数1〜25のエステル基;または置換もしくは非置換の炭素数6〜40のアリール基であり、X〜Xのうちの少なくとも1つは、置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基;置換もしくは非置換の炭素数1〜25のエステル基;または置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルコキシ基である。
もう一つの実施態様において、X〜Xは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;置換もしくは非置換の炭素数1〜10のアルキル基;置換もしくは非置換の炭素数3〜20のシクロアルキル基;置換もしくは非置換の炭素数3〜20のシクロアルケニル基;置換もしくは非置換の炭素数1〜10のアルコキシ基;置換もしくは非置換の炭素数6〜25のエステル基;または置換もしくは非置換の炭素数6〜20のアリール基であり、X〜Xのうちの少なくとも1つは、置換もしくは非置換の炭素数1〜10のアルキル基;置換もしくは非置換の炭素数6〜25のエステル基;または置換もしくは非置換の炭素数1〜10のアルコキシ基である。
もう一つの実施態様において、X〜Xは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;置換もしくは非置換のメチル基;置換もしくは非置換のエチル基;置換もしくは非置換のメトキシ基;置換もしくは非置換のエトキシ基;または−OCO−R’であり、前記R’は、置換もしくは非置換の炭素数1〜10のアルキル基であり、X〜Xのうちの少なくとも1つは、置換もしくは非置換のメチル基;置換もしくは非置換のエチル基;置換もしくは非置換のメトキシ基;置換もしくは非置換のエトキシ基;または−OCO−R’であり、前記R’は、置換もしくは非置換の炭素数1〜10のアルキル基である。
もう一つの実施態様において、X〜Xは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;置換もしくは非置換のメチル基;置換もしくは非置換のエチル基;置換もしくは非置換のメトキシ基;置換もしくは非置換のエトキシ基;または−OCO−R’であり、前記R’は、置換もしくは非置換のメチル基;または置換もしくは非置換のエチル基であり、X〜Xのうちの少なくとも1つは、置換もしくは非置換のメチル基;置換もしくは非置換のエチル基;置換もしくは非置換のメトキシ基;置換もしくは非置換のエトキシ基;または−OCO−R’であり、前記R’は、置換もしくは非置換のメチル基;または置換もしくは非置換のエチル基である。
もう一つの実施態様において、X〜Xは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;メチル基;エチル基;メトキシ基;エトキシ基;または−OCO−R’であり、前記R’は、メチル基;またはエチル基であり、X〜Xのうちの少なくとも1つは、メチル基;エチル基;メトキシ基;エトキシ基;または−OCO−R’であり、前記R’は、メチル基;またはエチル基である。
本発明の一実施態様において、前記Rは、置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基;置換もしくは非置換の炭素数3〜40のシクロアルキル基;置換もしくは非置換の炭素数3〜40のシクロアルケニル基;または置換もしくは非置換の炭素数6〜40のアリール基である。
もう一つの実施態様において、前記Rは、置換もしくは非置換の炭素数1〜10のアルキル基;置換もしくは非置換の炭素数3〜20のシクロアルキル基;置換もしくは非置換の炭素数3〜20のシクロアルケニル基;または置換もしくは非置換の炭素数6〜20のアリール基である。
もう一つの実施態様において、前記Rは、置換もしくは非置換のメチル基;置換もしくは非置換のエチル基;置換もしくは非置換のプロピル基;置換もしくは非置換のイソプロピル基;置換もしくは非置換のブチル基;置換もしくは非置換のt−ブチル基;置換もしくは非置換のペンチル基;または置換もしくは非置換のヘキシル基であってもよい。
もう一つの実施態様において、前記Rは、メチル基;エチル基;プロピル基;イソプロピル基;ブチル基;t−ブチル基;ペンチル基;またはヘキシル基であってもよい。
もう一つの実施態様において、前記Rは、メチル基;エチル基;またはブチル基であってもよい。
本発明の一実施態様において、前記化学式1は、下記の構造のうちのいずれか1つであってもよい。
Figure 0006966059
本発明の一実施態様において、前記Rは、置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基;置換もしくは非置換の炭素数3〜40のシクロアルキル基;置換もしくは非置換の炭素数3〜40のシクロアルケニル基;または置換もしくは非置換の炭素数6〜40のアリール基である。
もう一つの実施態様において、前記Rは、置換もしくは非置換の炭素数1〜10のアルキル基;置換もしくは非置換の炭素数3〜20のシクロアルキル基;置換もしくは非置換の炭素数3〜20のシクロアルケニル基;または置換もしくは非置換の炭素数6〜20のアリール基である。
もう一つの実施態様において、前記Rは、置換もしくは非置換のメチル基;置換もしくは非置換のエチル基;置換もしくは非置換のプロピル基;置換もしくは非置換のイソプロピル基;置換もしくは非置換のブチル基;置換もしくは非置換のt−ブチル基;置換もしくは非置換のペンチル基;置換もしくは非置換のヘキシル基;置換もしくは非置換のヘプチル基;置換もしくは非置換のオクチル基;置換もしくは非置換のノニル基;または置換もしくは非置換のフェニル基である。
もう一つの実施態様において、前記Rは、メチル基;エチル基;プロピル基;イソプロピル基;ブチル基、t−ブチル基;ペンチル基;ヘキシル基;n−ヘプチル基;オクチル基;n−ノニル基;またはフェニル基である。
もう一つの実施態様において、前記Rは、n−ヘプチル基;n−ノニル基;またはフェニル基である。
本発明の一実施態様において、前記Rは、置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基;置換もしくは非置換の炭素数3〜40のシクロアルキル基;または置換もしくは非置換の炭素数3〜40のシクロアルケニル基である。
本発明の一実施態様において、前記Rは、置換もしくは非置換の炭素数1〜15のアルキル基;置換もしくは非置換の炭素数3〜20のシクロアルキル基;または置換もしくは非置換の炭素数3〜20のシクロアルケニル基である。
本発明の一実施態様において、Rは、置換もしくは非置換の炭素数1〜15のアルキル基である。
本発明の一実施態様において、Rは、置換もしくは非置換の炭素数4〜15のアルキル基である。
本発明の一実施態様において、Rは、置換もしくは非置換のエチル基;置換もしくは非置換の直鎖もしくは分枝鎖のブチル基;置換もしくは非置換の直鎖もしくは分枝鎖のペンチル基;置換もしくは非置換の直鎖もしくは分枝鎖のヘキシル基;置換もしくは非置換の直鎖もしくは分枝鎖のヘプチル基;置換もしくは非置換の直鎖もしくは分枝鎖のオクチル基;または置換もしくは非置換の直鎖もしくは分枝鎖のノニル基である。
本発明の一実施態様において、Rは、置換もしくは非置換のエチル基;置換もしくは非置換の直鎖もしくは分枝鎖のブチル基;置換もしくは非置換の直鎖もしくは分枝鎖のペンチル基;または置換もしくは非置換の直鎖もしくは分枝鎖のヘキシル基である。
本発明の一実施態様において、Rは、エチル基;直鎖もしくは分枝鎖のブチル基;直鎖もしくは分枝鎖のペンチル基;または直鎖もしくは分枝鎖のヘキシル基である。
本発明の一実施態様において、Rは、エチル基;n−ブチル基;n−ペンチル基(n−アミル基);イソペンチル基(イソアミル基);またはn−ヘキシル基である。
本発明の一実施態様において、Rが置換もしくは非置換のアリール基の時、Rは、置換もしくは非置換の炭素数4〜15のアルキル基である。
本発明の一実施態様において、Rが置換もしくは非置換のフェニル基の時、Rは、置換もしくは非置換の炭素数4〜15のアルキル基である。
本発明の一実施態様において、Rがフェニル基の時、Rは、置換もしくは非置換の直鎖もしくは分枝鎖のブチル基;置換もしくは非置換の直鎖もしくは分枝鎖のペンチル基;または置換もしくは非置換の直鎖もしくは分枝鎖のヘキシル基である。
本発明の一実施態様において、Rがフェニル基の時、Rは、n−ブチル基;n−ペンチル基(n−アミル基);イソペンチル基(イソアミル基);またはn−ヘキシル基である。
本発明の一実施態様において、前記化学式2は、下記の構造のうちのいずれか1つであってもよい。
Figure 0006966059
本発明の一実施態様において、YおよびYは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;ヒドロキシ基;カルボニル基;エステル基;置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基;置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルケニル基;置換もしくは非置換の炭素数3〜40のシクロアルキル基;置換もしくは非置換の炭素数3〜40のシクロアルケニル基;置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルコキシ基;または置換もしくは非置換の炭素数6〜40のアリール基である。
本発明の一実施態様において、YおよびYは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;ヒドロキシ基;カルボニル基;エステル基;置換もしくは非置換の炭素数1〜10のアルキル基;置換もしくは非置換の炭素数1〜10のアルケニル基;置換もしくは非置換の炭素数3〜20のシクロアルキル基;置換もしくは非置換の炭素数3〜20のシクロアルケニル基;置換もしくは非置換の炭素数1〜10のアルコキシ基;または置換もしくは非置換の炭素数6〜20のアリール基である。
本発明の一実施態様において、YおよびYは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;置換もしくは非置換のメチル基;置換もしくは非置換のエチル基;置換もしくは非置換のブチル基;置換もしくは非置換のペンチル基;置換もしくは非置換のデシル基;置換もしくは非置換のフェニル基;または置換もしくは非置換のナフチル基である。
本発明の一実施態様において、YおよびYは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;フェニル基で置換もしくは非置換のメチル基;ヒドロキシ基、メトキシ基、メトキシ基で置換されたエトキシ基、ブトキシ基、ヒドロキシ基で置換されたエトキシ基、ブトキシ基で置換されたエトキシ基、またはヒドロキシ基で置換されたエトキシ基で置換されたエトキシ基で置換されたエチル基;n−ブチル基;メチル基で置換もしくは非置換のフェニル基;ナフチル基;または1,2,3,4−テトラヒドロナフチル基である。
本発明の一実施態様において、前記化学式3は、下記の構造のうちのいずれか1つであってもよい。
Figure 0006966059
本発明の他の実施態様において、前記化学式3で表される溶媒は、トリエチレングリコールモノベンジルエーテル(Triethylene Glycol monobenzyl Ether)、テトラエチレングリコールモノメチルエーテル(Tetraethylene Glycol Monomethyl Ether)、トリエチレングリコールn−ブチルエーテル(Triethylene Glycol n−Butyl Ether)、テトラエチレングリコールジメチルエーテル(Tetraethylene Glycol Dimethyl Ether)、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル(Triethylene Glycol butyl methyl ether)、トリエチレングリコールモノイソプロピルエーテル(Triethylene Glycol monoisopropyl Ether)、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル(Diethylene Glycol monohexyl Ether)、トリエチレングリコールモノエチルエーテル(Triethylene Glycol monoethyl Ether)、ジエチレングリコールジブチルエーテル(Diethylene glycol dibutyl ether)、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート(Diethylene Glycol Monobutyl Ether Acetate)、ジエチレングリコール(Diethylene glycol)、トリエチレングリコールモノメチルエーテル(Triethylene glycol monomethyl ether)、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート(Diethylene Glycol Monoethyl Ether Acetate)、ジプロピレングリコールプロピルエーテル(Dipropylene glycol propyl ether)、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル(Diethylene glycol butyl methyl ether)、ジエチレングリコールn−ブチルエーテル(Diethylene glycol n−butyl ether)、ジプロピレングリコールメチルエーテル(Dipropylene glycol methyl ether)、ジエチレングリコールモノエチルエーテル(Diethylene Glycol monoethyl Ether)、ジプロピレングリコールn−ブチルエーテル(Dipropylene glycol n−butyl ether)、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート(Dipropylene glycol methyl ether acetate)、ジエチレングリコールジビニルエーテル(Diethylene glycol divinyl ether)、ジエチレングリコールモノメチルエーテル(Diethylene Glycol monomethyl Ether)、またはトリエチレングリコールジメチルエーテル(Triethylene glycol dimethyl ether)であってもよい。
本発明の一実施態様において、前記電荷輸送性材料または発光材料は、下記化学式4で表される。
Figure 0006966059
前記化学式4において、
L1〜L4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、直接結合;置換もしくは非置換のアルキレン基;置換もしくは非置換のシクロアルキレン基;置換もしくは非置換のアリーレン基;または置換もしくは非置換のヘテロアリーレン基であり、
Lは、置換もしくは非置換のアリーレン基;または置換もしくは非置換のヘテロアリーレン基であり、
Ar1およびAr2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、置換もしくは非置換のアリール基;または置換もしくは非置換のヘテロアリール基であり、
R1〜R4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のアルコキシ基;置換もしくは非置換のアリール基;または置換もしくは非置換のヘテロアリール基であり、
Y1〜Y4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;置換もしくは非置換のアリール基;または光硬化性基または熱硬化性基であり、Y1〜Y4のうちの2以上は、光硬化性基または熱硬化性基であり、
n1およびn4は、それぞれ0〜4の整数であり、
n2およびn3は、それぞれ0〜3の整数であり、
n1〜n4がそれぞれ2以上の場合、括弧内の置換基は、互いに同一または異なる。
本発明のインク組成物は、前記化学式1で表される溶媒、前記化学式2で表される溶媒、および前記化学式3で表される溶媒を含む溶媒;および前記化学式4で表される電荷輸送性材料または発光材料を含むことにより、インク安定性を確保することができ、有機発光素子の製造時に平坦な膜を形成することができる。
本発明の前記化学式1で表される溶媒および前記化学式2で表される溶媒は、カルボニル基またはエステル基のような極性官能基を含んでいて、電荷輸送性材料または発光材料の溶解度が良くてインク組成物の安定性が高い。特に、前記化学式1で表される溶媒は、溶解度が高く、蒸気圧が低くて、インク組成物を乾燥する場合、凝集現象が現れず、有機発光素子の製造時に平坦な膜を形成することができる。
前記化学式1で表される溶媒および前記化学式2で表される溶媒が極性官能基を有するのに対し、前記化学式3で表される溶媒が比較的低い極性を有することにより、インク組成物の極性が過度に高くなるのを防止することができる。本発明のインク組成物が前記化学式3で表される溶媒を含むことにより、有機発光素子の製造時、形成された膜の一部分が厚く形成されるのを防止する。また、前記化学式3で表される溶媒は、蒸気圧が低くて、インク組成物を乾燥する場合に蒸発速度を制御して、表面の粗さが小さく平坦な膜を形成することができる。
本発明の一実施態様において、前記L1〜L4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、直接結合;置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキレン基;置換もしくは非置換の炭素数3〜30のシクロアルキレン基;置換もしくは非置換の炭素数6〜30のアリーレン基;または置換もしくは非置換の炭素数2〜30のヘテロアリーレン基である。
本発明の一実施態様において、前記L1〜L4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、直接結合;置換もしくは非置換の炭素数1〜10のアルキレン基;置換もしくは非置換の炭素数3〜20のシクロアルキレン基;置換もしくは非置換の炭素数6〜20のアリーレン基;または置換もしくは非置換の炭素数2〜20のヘテロアリーレン基である。
本発明の一実施態様において、前記L1〜L4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、直接結合;置換もしくは非置換の炭素数1〜10のアルキレン基;または置換もしくは非置換の炭素数6〜30のアリーレン基である。
本発明の一実施態様において、前記L1〜L4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、直接結合;置換もしくは非置換のヘキシレン基;置換もしくは非置換のヘプチレン基;または置換もしくは非置換のフェニレン基である。
本発明の一実施態様において、前記L1〜L4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、直接結合;ヘキシレン基;ヘプチレン基;またはメチル基で置換もしくは非置換のフェニレン基である。
本発明の一実施態様において、前記L1は、直接結合;またはフェニレン基である。
本発明の一実施態様において、前記L2は、直接結合である。
本発明の一実施態様において、前記L2は、ヘキシレン基である。
本発明の一実施態様において、前記L2は、ヘプチレン基である。
本発明の一実施態様において、前記L2は、フェニレン基である。
本発明の一実施態様において、前記L2は、メチル基で置換されたフェニレン基である。
本発明の一実施態様において、前記L3は、直接結合である。
本発明の一実施態様において、前記L3は、ヘキシレン基である。
本発明の一実施態様において、前記L3は、ヘプチレン基である。
本発明の一実施態様において、前記L3は、フェニレン基である。
本発明の一実施態様において、前記L4は、直接結合;またはフェニレン基である。
本発明の一実施態様において、前記Lは、置換もしくは非置換の炭素数6〜30のアリーレン基;または置換もしくは非置換の炭素数2〜30のヘテロアリーレン基である。
本発明の一実施態様において、前記Lは、置換もしくは非置換の炭素数6〜20のアリーレン基;または置換もしくは非置換の炭素数2〜20のヘテロアリーレン基である。
本発明の一実施態様において、前記Lは、置換もしくは非置換の炭素数6〜12のアリーレン基である。
本発明の一実施態様において、前記Lは、置換もしくは非置換のビフェニレン基である。
本発明の一実施態様において、前記Lは、ビフェニレン基である。
本発明の一実施態様において、Ar1およびAr2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、置換もしくは非置換の炭素数6〜30のアリール基;または置換もしくは非置換の炭素数6〜30のヘテロアリール基である。
本発明の一実施態様において、Ar1およびAr2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、置換もしくは非置換の炭素数6〜20のアリール基;または置換もしくは非置換の炭素数6〜20のヘテロアリール基である。
本発明の一実施態様において、Ar1およびAr2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、置換もしくは非置換のフェニル基;置換もしくは非置換のビフェニル基;または置換もしくは非置換のナフチル基である。
本発明の一実施態様において、Ar1およびAr2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、フェニル基;ビフェニル基;またはナフチル基である。
本発明の一実施態様において、R1〜R4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;置換もしくは非置換の炭素数1〜20のアルキル基;置換もしくは非置換の1〜20のアルコキシ基;置換もしくは非置換の6〜30のアリール基;または置換もしくは非置換の6〜30のヘテロアリール基である。
本発明の一実施態様において、R1〜R4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;置換もしくは非置換の炭素数1〜10のアルキル基;置換もしくは非置換の1〜10のアルコキシ基;置換もしくは非置換の6〜20のアリール基;または置換もしくは非置換の6〜20のヘテロアリール基である。
本発明の一実施態様において、R1〜R4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素である。
本発明の一実施態様において、Y1〜Y4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;置換もしくは非置換のアリール基;または下記の構造のうちの1つであり、Y1〜Y4のうちの2以上は、下記の構造のうちのいずれか1つである。
Figure 0006966059
前記構造において、A〜Aは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、置換もしくは非置換の炭素数1〜6のアルキル基である。
本発明の一実施態様において、Y1〜Y4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;置換もしくは非置換の炭素数6〜30のアリール基;または光硬化性基または熱硬化性基であり、Y1〜Y4のうちの2以上は、光硬化性基または熱硬化性基である。
本発明の一実施態様において、Y1〜Y4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;置換もしくは非置換の炭素数6〜20のアリール基;または光硬化性基または熱硬化性基であり、Y1〜Y4のうちの2以上は、光硬化性基または熱硬化性基である。
本発明の一実施態様において、Y1〜Y4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;置換もしくは非置換の炭素数6〜12のアリール基;または光硬化性基または熱硬化性基であり、Y1〜Y4のうちの2以上は、光硬化性基または熱硬化性基である。
本発明の一実施態様において、Y1〜Y4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;置換もしくは非置換のフェニル基;または光硬化性基または熱硬化性基であり、Y1〜Y4のうちの2以上は、光硬化性基または熱硬化性基である。
本発明の一実施態様において、前記Y1〜Y4の定義のうち、光硬化性基または熱硬化性基は、下記の構造のうちのいずれか1つである。
Figure 0006966059
前記構造において、
〜Aは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、置換もしくは非置換の炭素数1〜6のアルキル基である。
本発明の一実施態様のように、光硬化性基または熱硬化性基を含むカルバゾール誘導体の場合、溶液塗布法によって有機発光素子を製造可能で、時間および費用的に経済的な効果がある。
本発明の一実施態様において、前記インク組成物は、p−ドーピング材料をさらに含んでもよい。
前記p−ドーピング材料とは、化合物にp−半導体特性をもたせる役割を果たすものを意味する。
前記p−半導体特性とは、HOMO(highest occupied molecular orbital)エネルギー準位で正孔注入を受けたり輸送する特性、すなわち正孔の伝導度が大きい物質の特性を意味する。
前記p−ドーピング材料としては、下記化学式5で表されるアニオン性化合物、および/または下記化学式6および7のうちのいずれか1つで表される陽イオン性化合物を含むことができる。
本発明の一実施態様において、前記インク組成物は、下記化学式5で表されるアニオン性化合物をさらに含んでもよい。
Figure 0006966059
前記化学式5において、
R1’〜R5’およびR6〜R20は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;ハロゲン基;ニトロ基;−C(O)R100;−OR101;−SR102;−SO103;−COOR104;−OC(O)R105;−C(O)NR106107;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のアルケニル基;置換もしくは非置換のアルキニル基;置換もしくは非置換のアミン基;置換もしくは非置換のアリール基;または置換もしくは非置換のヘテロ環基であり、
100〜R107は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;または置換もしくは非置換のアルキル基である。
本発明の一実施態様において、R1’〜R5’およびR6〜R20は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;ハロゲン基;置換もしくは非置換のアルキル基;または置換もしくは非置換のアルケニル基である。
本発明の一実施態様において、R1’〜R5’およびR6〜R20は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;ハロゲン基;炭素数1〜30の置換もしくは非置換のアルキル基;または炭素数1〜30の置換もしくは非置換のアルケニル基である。
本発明の一実施態様において、R1’〜R5’およびR6〜R20は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;ハロゲン基;炭素数1〜20の置換もしくは非置換のアルキル基;または炭素数1〜20の置換もしくは非置換のアルケニル基である。
本発明の一実施態様において、R1’〜R5’およびR6〜R20は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;ハロゲン基;炭素数1〜10の置換もしくは非置換のアルキル基;または炭素数1〜10の置換もしくは非置換のアルケニル基である。
本発明の一実施態様において、R1’〜R5’およびR6〜R20は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;フッ素;または置換もしくは非置換のビニル基である。
本発明の一実施態様において、R1’〜R5’およびR6〜R20は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;フッ素;またはフッ素で置換もしくは非置換のビニル基である。
本発明の一実施態様によれば、前記化学式5は、下記の化合物のうちのいずれか1つであってもよい。
Figure 0006966059
本発明の一実施態様において、前記インク組成物は、下記化学式6および7のうちのいずれか1つで表される陽イオン性化合物をさらに含む。
Figure 0006966059
前記化学式6および7において、
100〜X124は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;ニトリル基;ニトロ基;ヒドロキシ基;ハロゲン基;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のアルケニル基;置換もしくは非置換のアルコキシ基;置換もしくは非置換のアリールオキシ基;置換もしくは非置換のアミン基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;または置換もしくは非置換のアリール基である。
本発明の一実施態様において、X100〜X109は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;または置換もしくは非置換のアルキル基である。
本発明の一実施態様において、X100〜X109は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;または炭素数1〜30の置換もしくは非置換のアルキル基である。
本発明の一実施態様において、X100〜X109は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;または炭素数1〜20の置換もしくは非置換のアルキル基である。
本発明の一実施態様において、X100〜X109は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;または炭素数1〜10の置換もしくは非置換のアルキル基である。
本発明の一実施態様において、X100〜X109は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;置換もしくは非置換のメチル基;または置換もしくは非置換のイソプロピル基である。
本発明の一実施態様において、X100〜X109は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;メチル基;またはイソプロピル基である。
本発明の一実施態様において、X110〜X124は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;またはハロゲン基である。
本発明の一実施態様において、X110〜X124は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;またはフッ素である。
本発明の一実施態様において、前記化学式6および7のうちのいずれか1つで表される陽イオン性化合物は、下記の化合物のうちのいずれか1つであってもよい。
Figure 0006966059
本発明の一実施態様において、前記p−ドーピング材料は、前記化学式5で表されるアニオン性化合物、および前記化学式6および7のうちのいずれか1つで表される陽イオン性化合物を含むものであり、これは、下記の化合物のうちのいずれか1つであってもよいが、これに限定されるものではない。
Figure 0006966059
本発明の一実施態様において、前記化学式3で表される溶媒は、前記溶媒100重量部に対して、50重量部未満で含まれる。
具体的には、前記化学式3で表される溶媒は、前記溶媒100重量部に対して、10重量部以上45重量部以下で含まれる。さらに具体的には、前記化学式3で表される溶媒は、前記溶媒100重量部に対して、20重量部以上43重量部以下で含まれる。
前記化学式3で表される溶媒が前記範囲に相当する場合、膜の中心部の平坦度が低下するのを防止することができる。
本発明の一実施態様において、前記化学式4は、下記化学式4−1〜4−6のうちのいずれか1つで表される。
Figure 0006966059
本発明の一実施態様において、前記インク組成物の電荷輸送性材料または発光材料は、溶媒100重量部に対して、0.1重量部〜10重量部含まれる。好ましくは、前記インク組成物の電荷輸送性材料または発光材料は、溶媒100重量部に対して、1重量部〜5重量部含まれる。前記含有量範囲に含まれる場合、滴(drop)数を調節して所望の厚さの膜を得ることが容易である。特に、高い厚さの膜が得られ、乾燥後に平坦な膜を形成できるという利点がある。本明細書の一実施態様において、前記インク組成物に含まれる、前記化学式1で表される溶媒および前記化学式2で表される溶媒は、極性を有するので、機能層材料に対する溶解度に優れてインク組成物の安定性を確保することができる。また、前記化学式3で表される溶媒は、比較的低い極性を有するので、インク組成物の極性が過度に高くなることによって膜の平坦性が低下するのを防止することができる。したがって、前記化学式1で表される溶媒、前記化学式2で表される溶媒、および前記化学式3で表される溶媒を含む溶媒は、機能層材料を十分に溶解させることができ、前記溶媒を含むインク組成物を用いて膜を形成する場合、平坦で均一な膜を製造することができる。
本発明の一実施態様において、前記溶媒の全体重量に対する前記電荷輸送性材料または発光材料の溶解度は、25℃、1atm(気圧)で2wt%(質量%)以上15wt%(質量%)以下である。
本発明の一実施態様において、前記インク組成物の粘度は、2cP以上20cP以下である。より好ましくは、3cP以上15cP以下である。前記のような範囲の粘度を有する場合、吐出安定性を有することができて、素子の製造に容易である。前記粘度は、25℃で測定された値であってもよい。
本発明の一実施態様において、前記インク組成物は、分子内に架橋可能な官能基が導入された化合物および高分子化合物からなる群より選択される1種または2種の化合物をさらに含んでもよい。
本発明の一実施態様において、前記インク組成物は、分子内に架橋可能な官能基が導入された化合物をさらに含んでもよい。前記コーティング組成物が分子内に架橋可能な官能基が導入された化合物をさらに含む場合には、コーティング組成物の硬化度をさらに高めることができる。
本発明の一実施態様によって、分子内に架橋可能な官能基が導入された化合物の分子量は、100g/mol〜3,000g/molである。本明細書の他の実施態様において、分子内に架橋可能な官能基が導入された化合物の分子量は、500g/mol〜2,000g/molがさらに好ましい。
本発明の一実施態様において、前記インク組成物は、高分子化合物をさらに含んでもよい。前記インク組成物が高分子化合物をさらに含む場合には、インク組成物のインク特性を高めることができる。すなわち、前記高分子化合物をさらに含むインク組成物は、コーティングまたはインクジェットするのに適当な粘度を提供することができ、平坦な膜を形成することができる。
本発明の一実施態様において、前記高分子化合物の分子量は、10,000g/mol〜200,000g/molである。
本発明の一実施態様において、前記高分子化合物は、光硬化性基または熱硬化性基をさらに含んでもよい。
本発明の一実施態様において、前記インク組成物は、液状であってもよい。前記「液状」は、常温および常圧で液体状態であることを意味する。
本発明の一実施態様によれば、前記インク組成物の製造時、前記化学式1で表される溶媒、前記化学式2で表される溶媒、および前記化学式3で表される溶媒を含む溶媒のほか、他の溶媒を副溶媒としてさらに含んでもよい。例えば、フェノキシトルエン、3,4−ジメチルアニソールなどのエーテル系溶媒;メチルベンゾエート、ジメチルフタレートなどのエステル系溶媒;シクロヘキシルベンゼン、メチルナフタレン、エチルナフタレン、トリメチルベンゼン、メシチレンなどの芳香族炭化水素系溶媒;シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、n−ノナン、n−デカンなどの脂肪族炭化水素系溶媒;ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、トリエチレングリコールモノベンジルエーテルなどのグリコールエーテル類の溶媒;フッ素系溶媒などの溶媒が例示されるが、これらを限定しない。
前記副溶媒は、全体溶媒に対して、0.1wt%(質量%)〜40wt%(質量%)含まれてもよいし、好ましくは、1wt%〜30wt%であってもよい。
本発明の一実施態様において、前記インク組成物は、熱重合開始剤および光重合開始剤からなる群より選択される1種または2種以上の添加剤をさらに含んでもよい。
前記熱重合開始剤としては、メチルエチルケトンパーオキサイド、メチルイソブチルケトンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、イソブチリルパーオキサイド、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ビス−3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、p−クロルベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−(t−ブチルオキシ)−ヘキサン、1,3−ビス(t−ブチルパーオキシ−イソプロピル)ベンゼン、t−ブチルクミル(cumyl)パーオキサイド、ジ−tブチルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−(ジt−ブチルパーオキシ)ヘキサン−3、トリス−(t−ブチルパーオキシ)トリアジン、1,1−ジt−ブチルパーオキシ−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ジt−ブチルパーオキシシクロヘキサン、2,2−ジ(t−ブチルパーオキシ)ブタン、4,4−ジ−t−ブチルパーオキシバレリックアッシドn−ブチルエステル、2,2−ビス(4,4−t−ブチルパーオキシシクロヘキシル)プロパン、t−ブチルパーオキシイソブチレート、ジt−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサエート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ジt−ブチルパーオキシトリメチルアジペートなどの過酸化物、あるいはアゾビスイソブチルニトリル、アゾビスジメチルバレロニトリル、アゾビスシクロヘキシルニトリルなどのアゾ系があるが、これらに限定されない。
前記光重合開始剤としては、ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタノン−1,2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−メチル−2−モルホリノ(4−メチルチオフェニル)プロパン−1−オン、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシムなどのアセトフェノン系またはケタール系光重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどのベンゾインエーテル系光重合開始剤、ベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、2−ベンゾイルナフタレン、4−ベンゾイルビフェニル、4−ベンゾイルフェニルエーテル、アクリル化ベンゾフェノン、1,4−ベンゾイルベンゼンなどのベンゾフェノン系光重合開始剤、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントンなどのチオキサントン系光重合開始剤、その他の光重合開始剤としては、エチルアントラキノン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、メチルフェニルグリオキシエステル、9,10−フェナントレン、アクリジン系化合物、トリアジン系化合物、イミダゾール系化合物が挙げられる。また、光重合促進効果を有するものを単独または前記光重合開始剤と併用して用いてもよい。例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸(2−ジメチルアミノ)エチル、4,4’−ジメチルアミノベンゾフェノンなどがあるが、これらに限定されない。
本発明の一実施態様において、前記インク組成物は、界面活性剤などの他の添加剤をさらに含んでもよい。前記界面活性剤は、非イオン性界面活性剤が好ましく、シリコーン系またはフッ素系界面活性剤などであってもよいが、これらに限定されない。
本発明の一実施態様において、前記インク組成物は、pドーピング物質をさらに含まない。
他の実施態様において、前記インク組成物は、pドーピング物質をさらに含む。
本明細書において、前記pドーピング物質とは、熱硬化または光硬化を促進させることもできる。
本明細書において、前記pドーピング物質とは、ホスト物質にp半導体特性をもたせる物質を意味する。p半導体特性とは、HOMO(highest occupied molecular orbital)エネルギー準位で正孔注入を受けたり輸送する特性すなわち、正孔の伝導度が大きい物質の特性を意味する。
本発明はまた、前記インク組成物を用いて形成された有機発光素子を提供する。
本発明の一実施態様において、カソードと、前記カソードに対向して備えられたアノードと、前記カソードと前記アノードとの間に備えられる1層以上の有機物層とを含み、前記有機物層のうちの1層以上は、前記インク組成物を用いて形成される。
本発明の一実施態様において、前記インク組成物を用いて形成された有機物層は、正孔輸送層、正孔注入層、または正孔輸送および正孔注入を同時に行う層である。
他の実施態様において、前記インク組成物を用いて形成された有機物層は、発光層である。
本発明の一実施態様において、前記有機発光素子は、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層、電子阻止層、および正孔阻止層からなる群より選択される1層または2層以上をさらに含む。
もう一つの実施態様において、有機発光素子は、基板上に、アノード、1層以上の有機物層、およびカソードが順次に積層された構造(normal type)の有機発光素子であってもよい。
もう一つの実施態様において、有機発光素子は、基板上に、カソード、1層以上の有機物層、およびアノードが順次に積層された逆方向構造(inverted type)の有機発光素子であってもよい。
本発明の有機発光素子の有機物層は、単層構造からなってもよいが、2層以上の有機物層が積層された多層構造からなってもよい。例えば、本発明の有機発光素子は、有機物層として、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層などを含む構造を有することができる。しかし、有機発光素子の構造はこれに限定されず、より少数の有機層を含んでもよい。
例えば、本明細書の一実施態様に係る有機発光素子の構造は、図1に例示されている。
図1には、基板101上に、アノード201、正孔注入層301、正孔輸送層401、発光層501、電子輸送層601、およびカソード701が順次に積層された有機発光素子の構造が例示されている。
前記図1で、正孔注入層301、正孔輸送層401、または発光層501は、前記インク組成物を用いて形成される。
前記図1は、有機発光素子を例示したものであるが、有機発光素子はこれに限定されない。
前記有機発光素子が複数の有機物層を含む場合、前記有機物層は、同一の物質または異なる物質で形成される。
本発明の有機発光素子は、有機物層のうちの1層以上が前記インク組成物を用いて形成されることを除けば、当技術分野で知られている材料および方法で製造される。
例えば、本発明の有機発光素子は、基板上に、アノード、有機物層、およびカソードを順次に積層させることにより製造することができる。この時、スパッタリング法(sputtering)や電子ビーム蒸発法(e−beam evaporation)のようなPVD(Physical Vapor Deposition)方法を利用して、基板上に金属または導電性を有する金属酸化物またはこれらの合金を蒸着させてアノードを形成し、その上に正孔注入層、正孔輸送層、発光層、および電子輸送層を含む有機物層を形成した後、その上にカソードとして使用可能な物質を蒸着させることにより製造される。このような方法以外にも、基板上に、カソード物質から有機物層、アノード物質を順次に蒸着させて有機発光素子を作ることができる。
本発明はまた、前記インク組成物を用いて形成された有機発光素子の製造方法を提供する。
本発明の一実施態様は、基板を用意するステップと、前記基板上にカソードまたはアノードを形成するステップと、前記カソードまたはアノード上に1層以上の有機物層を形成するステップと、前記有機物層上にアノードまたはカソードを形成するステップとを含み、前記有機物層を形成するステップは、前記インク組成物を用いて1層以上の有機物層を形成するステップを含むものである有機発光素子の製造方法を提供する。
具体的には、本発明の一実施態様において、基板を用意するステップと、前記基板上にカソードまたはアノードを形成するステップと、前記カソードまたはアノード上に1層以上の有機物層を形成するステップと、前記有機物層上にアノードまたはカソードを形成するステップとを含み、前記有機物層のうちの1層以上は、前記インク組成物を用いて形成される。
本発明の一実施態様において、前記インク組成物を用いて形成された有機物層は、インクジェットプリンティング(Inkjet printing)方式を利用して形成される。
本発明の一実施態様において、前記インク組成物を用いて1層以上の有機物層を形成するステップの後に、前記インク組成物を用いて形成された有機物層を熱処理するステップをさらに含んでもよい。
本発明の一実施態様において、前記インク組成物を用いて形成された有機物層を熱処理するステップの時間は、好ましくは、1時間以内、さらに好ましくは、30分以内である。
本発明の一実施態様において、前記インク組成物を用いて形成された有機物層を熱処理するステップの雰囲気は、好ましくは、アルゴン、窒素などの不活性気体である。
前記インク組成物を用いて形成された有機物層を形成するステップにおいて、前記熱処理または光処理ステップを含む場合には、インク組成物に含まれた複数の光硬化性基または熱硬化性基が架橋を形成して薄膜化された構造が含まれた有機物層を提供することができる。この場合、前記インク組成物を用いて形成された有機物層の表面上に蒸着された溶媒によって溶解したり、形態学的に影響を受けたり分解されるのを防止することができる。
したがって、前記インク組成物を用いて形成された有機物層が熱処理または光処理ステップを含んで形成された場合には、溶媒に対する抵抗性が増加して溶液蒸着および架橋方法を繰り返し行って多層を形成することができ、安定性が増加して素子の寿命特性を増加させることができる。
本発明の一実施態様において、前記インク組成物は、高分子結合剤に混合して分散させることができる。
本発明の一実施態様において、高分子結合剤としては、電荷輸送を極度に阻害しないものが好ましく、また、可視光に対する吸収が強くないものが好ましく用いられる。高分子結合剤としては、ポリ(N−ビニルカルバゾール)、ポリアニリンおよびその誘導体、ポリチオフェンおよびその誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)およびその誘導体、ポリ(2,5−チエニレンビニレン)およびその誘導体、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリシロキサンなどが例示される。
前記アノード物質としては、通常、有機物層への正孔注入が円滑となるように仕事関数の大きい物質が好ましい。本発明で使用可能なアノード物質の具体例としては、バナジウム、クロム、銅、亜鉛、金のような金属、またはこれらの合金;亜鉛酸化物、インジウム酸化物、インジウムスズ酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)のような金属酸化物;ZnO:AlまたはSnO:Sbのような金属と酸化物との組み合わせ;ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリ[3,4−(エチレン−1,2−ジオキシ)チオフェン](PEDOT)、ポリピロールおよびポリアニリンのような導電性高分子などがあるが、これらにのみ限定されるものではない。
前記カソード物質としては、通常、有機物層への電子注入が容易となるように仕事関数の小さい物質であることが好ましい。カソード物質の具体例としては、マグネシウム、カルシウム、ナトリウム、カリウム、チタン、インジウム、イットリウム、リチウム、ガドリニウム、アルミニウム、銀、スズおよび鉛のような金属、またはこれらの合金;LiF/AlまたはLiO/Alのような多層構造の物質などがあるが、これらにのみ限定されるものではない。
前記正孔注入層は、電極から正孔を注入する層で、正孔注入物質としては、正孔を輸送する能力を有し、アノードからの正孔注入効果、発光層または発光材料に対して優れた正孔注入効果を有し、発光層で生成された励起子の電子注入層または電子注入材料への移動を防止し、また、薄膜形成能力の優れた化合物が好ましい。正孔注入物質のHOMO(highest occupied molecular orbital)がアノード物質の仕事関数と周辺の有機物層のHOMOとの間であることが好ましい。正孔注入物質の具体例としては、金属ポルフィリン(porphyrin)、オリゴチオフェン、アリールアミン系の有機物、ヘキサニトリルヘキサアザトリフェニレン系の有機物、キナクリドン(quinacridone)系の有機物、ペリレン(perylene)系の有機物、アントラキノンおよびポリアニリンとポリチオフェン系の導電性高分子などがあるが、これらにのみ限定されるものではない。
前記正孔輸送層は、正孔注入層から正孔を受け取って発光層まで正孔を輸送する層で、正孔輸送物質としては、アノードや正孔注入層から正孔輸送を受けて発光層に移しうる物質で、正孔に対する移動性の大きい物質が好適である。具体例としては、アリールアミン系の有機物、導電性高分子、および共役部分と非共役部分が共にあるブロック共重合体などがあるが、これらにのみ限定されるものではない。
前記発光物質としては、正孔輸送層と電子輸送層から正孔と電子の輸送をそれぞれ受けて結合させることにより可視光線領域の光を発しうる物質であって、蛍光や燐光に対する量子効率の良い物質が好ましい。具体例としては、8−ヒドロキシ−キノリンアルミニウム錯体(Alq);カルバゾール系化合物;二量体化スチリル(dimerized styryl)化合物;BAlq;10−ヒドロキシベンゾキノリン−金属化合物;ベンゾキサゾール、ベンズチアゾールおよびベンズイミダゾール系の化合物;ポリ(p−フェニレンビニレン)(PPV)系の高分子;スピロ(spiro)化合物;ポリフルオレン、ルブレンなどがあるが、これらにのみ限定されるものではない。
前記発光層は、ホスト材料およびドーパント材料を含むことができる。ホスト材料は、縮合芳香族環誘導体またはヘテロ環含有化合物などがある。具体的には、縮合芳香族環誘導体としては、アントラセン誘導体、ピレン誘導体、ナフタレン誘導体、ペンタセン誘導体、フェナントレン化合物、フルオランテン化合物などがあり、ヘテロ環含有化合物としては、カルバゾール誘導体、ジベンゾフラン誘導体、ラダー型フラン化合物、ピリミジン誘導体などがあるが、これらに限定されない。
ドーパント材料としては、芳香族アミン誘導体、スチリルアミン化合物、ホウ素錯体、フルオランテン化合物、金属錯体などがある。具体的には、芳香族アミン誘導体としては、置換もしくは非置換のアリールアミノ基を有する縮合芳香族環誘導体であって、アリールアミノ基を有するピレン、アントラセン、クリセン、ペリフランテンなどがあり、スチリルアミン化合物としては、置換もしくは非置換のアリールアミンに少なくとも1個のアリールビニル基が置換されている化合物で、アリール基、シリル基、アルキル基、シクロアルキル基、およびアリールアミノ基からなる群より1または2以上選択される置換基が置換もしくは非置換である。具体的には、スチリルアミン、スチリルジアミン、スチリルトリアミン、スチリルテトラアミンなどがあるが、これらに限定されない。また、金属錯体としては、イリジウム錯体、白金錯体などがあるが、これらに限定されない。
前記電子輸送層は、電子注入層から電子を受け取って発光層まで電子を輸送する層で、電子輸送物質としては、カソードから電子注入をきちんと受けて発光層に移しうる物質であって、電子に対する移動性の大きい物質が好適である。具体例としては、8−ヒドロキシキノリンのAl錯体;Alqを含む錯体;有機ラジカル化合物;ヒドロキシフラボン−金属錯体などがあるが、これらにのみ限定されるものではない。電子輸送層は、従来技術により使用されているような、任意の所望のカソード物質と共に使用可能である。特に、適切なカソード物質の例は、低い仕事関数を有し、アルミニウム層またはシルバー層が後に続く通常の物質である。具体的には、セシウム、バリウム、カルシウム、イッテルビウム、およびサマリウムであり、各場合、アルミニウム層またはシルバー層が後に続く。
前記電子注入層は、電極から電子を注入する層で、電子を輸送する能力を有し、カソードからの電子注入効果、発光層または発光材料に対して優れた電子注入効果を有し、発光層で生成された励起子の正孔注入層への移動を防止し、また、薄膜形成能力の優れた化合物が好ましい。具体的には、フルオレノン、アントラキノジメタン、ジフェノキノン、チオピランジオキシド、オキサゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、イミダゾール、ペリレンテトラカルボン酸、フレオレニリデンメタン、アントロンなどとそれらの誘導体、金属錯体化合物、および含窒素5員環誘導体などがあるが、これらに限定されない。
前記金属錯体化合物としては、8−ヒドロキシキノリナトリチウム、ビス(8−ヒドロキシキノリナト)亜鉛、ビス(8−ヒドロキシキノリナト)銅、ビス(8−ヒドロキシキノリナト)マンガン、トリス(8−ヒドロキシキノリナト)アルミニウム、トリス(2−メチル−8−ヒドロキシキノリナト)アルミニウム、トリス(8−ヒドロキシキノリナト)ガリウム、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリナト)ベリリウム、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリナト)亜鉛、ビス(2−メチル−8−キノリナト)クロロガリウム、ビス(2−メチル−8−キノリナト)(o−クレゾラート)ガリウム、ビス(2−メチル−8−キノリナト)(1−ナフトラート)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリナト)(2−ナフトラート)ガリウムなどがあるが、これらに限定されない。
前記正孔阻止層は、正孔のカソード到達を阻止する層で、一般的に、正孔注入層と同じ条件で形成される。具体的には、オキサジアゾール誘導体やトリアゾール誘導体、フェナントロリン誘導体、BCP、アルミニウム錯体(aluminum complex)などがあるが、これらに限定されない。
本発明に係る有機発光素子は、使用される材料によって、前面発光型、後面発光型、または両面発光型であってもよい。
以下、本発明を具体的に説明するために実施例を挙げて詳細に説明する。しかし、本発明に係る実施例は種々の異なる形態に変形可能であり、本発明の範囲が以下に述べる実施例に限定されると解釈されない。本発明の実施例は、当業界における平均的な知識を有する者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。
<実施例>
下記表1に実施例および比較例で使用した溶媒の種類を示した。
Figure 0006966059
Figure 0006966059
実施例1〜12.
前記化学式4−1で表される化合物および前記化学式Cで表される化合物を、溶媒100重量部に対して、3重量部溶解させた。前記化学式4−1で表される化合物に対する、前記化学式Cで表される化合物の重量比は8:2であり、下記表2に記載の溶媒を用いて実施例1〜12のインク組成物を製造した。
前記溶媒に含まれる、前記化学式1〜3で表される溶媒の各含有量は、溶媒100重量部を基準として、下記の3つの組成比で製造した。それぞれの組成比による評価結果は下記表6に記載した。
1)前記化学式1で表される溶媒40重量部、前記化学式2で表される溶媒40重量部、および前記化学式3で表される溶媒20重量部
2)前記化学式1で表される溶媒30重量部、前記化学式2で表される溶媒40重量部、および前記化学式3で表される溶媒30重量部
3)前記化学式1で表される溶媒25重量部、前記化学式2で表される溶媒25重量部、および前記化学式3で表される溶媒50重量部
Figure 0006966059
実施例13〜24.
前記実施例1において、前記化学式4−1を前記化学式4−2に変更し、前記化学式Cを前記化学式Eに変更したことを除けば、前記実施例1と同一の組成で実施例13〜24のインク組成物を製造した。それぞれの組成比による評価結果は下記表7に記載した。
実施例25〜36
前記化学式4−3で表される化合物および前記化学式Cで表される化合物を、溶媒100重量部に対して、3重量部溶解させた。前記化学式4−3で表される化合物に対する、前記化学式Cで表される化合物の重量比は8:2であり、下記表3に記載の溶媒を用いて実施例25〜36のインク組成物を製造した。
前記溶媒に含まれる、前記化学式1〜3で表される溶媒の各含有量は、溶媒100重量部を基準として、下記の3つの組成比で製造した。それぞれの組成比による評価結果は下記表8に記載した。
1)前記化学式1で表される溶媒40重量部、前記化学式2で表される溶媒40重量部、および前記化学式3で表される溶媒20重量部
2)前記化学式1で表される溶媒30重量部、前記化学式2で表される溶媒40重量部、および前記化学式3で表される溶媒30重量部
3)前記化学式1で表される溶媒25重量部、前記化学式2で表される溶媒25重量部、および前記化学式3で表される溶媒50重量部
Figure 0006966059
実施例37〜48
前記実施例25において、前記化学式4−3を前記化学式4−4に変更したことを除けば、前記実施例25と同一の組成で実施例37〜48のインク組成物を製造した。それぞれの組成比による評価結果は下記表9に記載した。
実施例49〜60
前記化学式4−5で表される化合物および前記化学式Eで表される化合物を、溶媒100重量部に対して、3重量部溶解させた。前記化学式4−5で表される化合物に対する、前記化学式Eで表される化合物の重量比は8:2であり、下記表4に記載の溶媒を用いて実施例49〜60のインク組成物を製造した。
前記溶媒に含まれる前記化学式1〜3で表される溶媒の各含有量は、溶媒100重量部を基準として、下記の3つの組成比で製造した。それぞれの組成比による評価結果は下記表10に記載した。
1)前記化学式1で表される溶媒40重量部、前記化学式2で表される溶媒40重量部、および前記化学式3で表される溶媒20重量部
2)前記化学式1で表される溶媒30重量部、前記化学式2で表される溶媒40重量部、および前記化学式3で表される溶媒30重量部
3)前記化学式1で表される溶媒25重量部、前記化学式2で表される溶媒25重量部、および前記化学式3で表される溶媒50重量部
Figure 0006966059
実施例61〜72
前記実施例49において、前記化学式4−5を前記化学式4−6に変更したことを除けば、前記実施例49と同一の組成で実施例61〜72のインク組成物を製造した。それぞれの組成比による評価結果は下記表11に記載した。
比較例1〜12.
下記表5に記載のところにより、電荷輸送性材料または発光材料および前記p−ドーピング材料を、溶媒100重量部に対して、3重量部溶解させた。前記電荷輸送性材料または発光材料に対する、前記p−ドーピング材料の重量比は8:2であり、下記表5に記載の各溶媒を用いて比較例1〜12のインク組成物を製造した。
前記溶媒に含まれる、前記化学式1〜3で表される溶媒の各含有量は、溶媒100重量部を基準として、下記の3つの組成比で製造した。それぞれの組成比による評価結果は下記表12に記載した。
1)前記化学式1で表される溶媒25重量部、前記化学式2で表される溶媒または前記化学式3で表される溶媒75重量部
2)前記化学式1で表される溶媒50重量部、前記化学式2で表される溶媒または前記化学式3で表される溶媒50重量部
3)前記化学式1で表される溶媒80重量部、前記化学式2で表される溶媒または前記化学式3で表される溶媒20重量部
Figure 0006966059
前記実施例1〜72および比較例1〜12で製造されたインク組成物の、25℃、1atm(気圧)での溶解度、吐出安定性および形成された膜の均一性を測定して、下記表6〜12に記載した。具体的な評価基準は後述の通りである。
1)溶解度評価:0.5wt%未満溶ける:X
0.5以上2.0wt%未満溶ける:△
2.0wt%以上溶ける:○
2)吐出安定性評価:Fujifilm、Dimatix DMP−2800装備、10pl cartridge(DMC−11610)を用いて測定し、下記の基準で評価した。
液滴が揺れずに安定して吐出:○
液滴が揺れたり吐出されず:X
3)膜のイメージ評価:ITO基板にインクをジェッティング(jetting)した後、乾燥して膜が良く形成されたかを光学顕微鏡を通して観察し、下記の基準で評価した。
膜形成が良くなる:○
材料の析出および粒が形成されたり膜の表面粗さが激しくなる(空きピクセル(Pixel)のイメージと比較した時、インク膜の表面にwhite spotまたはblue spotが少しでも存在する):X
前記膜のイメージ評価に関連し、図2は、膜表面が均一に良く形成されたことを示す図である。
図3は、材料の析出および粒が形成されたり膜の表面粗さが激しくなったことを示す図である。
4)膜の均一性評価:ITO基板にインクをジェッティング(jetting)した後、乾燥して膜が良く形成されたかを観察し、OP(Optical Profiler)を用いて膜厚さを測定し、下記の基準で膜の中心部の平坦度およびエッジ形状を評価した。
(1)膜の中心部の平坦度評価
Flatness0.5未満:○
Flatness0.5以上:X
前記Flatnessは下記の計算式を用いて計算した。
[計算式]
Figure 0006966059
前記計算式中、Hmaxは、ピクセル(Pixel)内に満たされたインクの最大厚さを意味し、Hminは、ピクセル(Pixel)内に満たされたインクの最小厚さを意味し、Hcenterは、ピクセル(Pixel)の底面の中心からピクセル内に満たされたインクの厚さを意味する。具体的には、図4を参照すれば、Hmax、Hmim、およびHcenterが表示されている。
(2)エッジ(edge)形状の評価
膜がbankの壁面に沿って300nm以上上がったり下がる形状:X
膜がbankの壁面に沿って300nm前後で水平に接する形状:○
具体的には、エッジ(edge)形状の評価に関連し、図5を参照すれば、(a)のような形状の時、膜がbankの壁面に沿って300nm前後で水平に接する形状を意味するものであり、(b)のような形状の時、膜がbankの壁面に沿って300nm以上下がる形状を意味するものであり、(c)のような形状の時、膜がbankの壁面に沿って300nm以上上がる形状を意味するものである。
Figure 0006966059
Figure 0006966059
Figure 0006966059
Figure 0006966059
Figure 0006966059
Figure 0006966059
Figure 0006966059
前記表6〜12から、前記比較例1〜12で製造されたインク組成物に比べて、実施例1〜72で製造されたインク組成物は、溶解度、吐出安定性、および膜の均一性評価におけるエッジ(edge)形状の評価結果が優れ、追加的に膜のイメージ評価および/または膜の均一性評価における中心部の膜の平坦度に優れていることを確認することができた。
101:基板
201:アノード
301:正孔注入層
401:正孔輸送層
501:発光層
601:電子輸送層
701:カソード
(a):膜がbankの壁面に沿って300nm前後で水平に接する形状
(b):膜がbankの壁面に沿って300nm以上下がる形状
(c):膜がbankの壁面に沿って300nm以上上がる形状

Claims (8)

  1. 下記グループ1のいずれか1つの溶媒、下記グループ2のいずれか1つの溶媒、及び下記グループ3のいずれか1つの溶媒を含む溶媒;
    下記化学式4で表される電荷輸送性材料または発光材料、及び
    下記化学式5で表されるアニオン性化合物を含むインク組成物:
    Figure 0006966059
    Figure 0006966059
    Figure 0006966059
    トリエチレングリコールモノベンジルエーテル(Triethylene Glycol monobenzyl Ether)、テトラエチレングリコールモノメチルエーテル(Tetraethylene Glycol Monomethyl Ether)、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル(Triethylene Glycol butyl methyl ether)、トリエチレングリコールモノイソプロピルエーテル(Triethylene Glycol monoisopropyl Ether)、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル(Diethylene Glycol monohexyl Ether)、トリエチレングリコールモノエチルエーテル(Triethylene Glycol monoethyl Ether)トリエチレングリコールモノメチルエーテル(Triethylene glycol monomethyl ether)ジエチレングリコールブチルメチルエーテル(Diethylene glycol butyl methyl ether)、ジエチレングリコールn−ブチルエーテル(Diethylene glycol n−butyl ether)ジエチレングリコールモノエチルエーテル(Diethylene Glycol monoethyl Ether)ジエチレングリコールモノメチルエーテル(Diethylene Glycol monomethyl Ether)、またはトリエチレングリコールジメチルエーテル(Triethylene glycol dimethyl ether)
    Figure 0006966059
    前記化学式4において、
    L1〜L4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、直接結合;置換もしくは非置換のアルキレン基;置換もしくは非置換のシクロアルキレン基;置換もしくは非置換のアリーレン基;または置換もしくは非置換のヘテロアリーレン基であり、
    Lは、置換もしくは非置換のアリーレン基;または置換もしくは非置換のヘテロアリーレン基であり、
    Ar1およびAr2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、置換もしくは非置換のアリール基;または置換もしくは非置換のヘテロアリール基であり、
    R1〜R4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のアルコキシ基;置換もしくは非置換のアリール基;または置換もしくは非置換のヘテロアリール基であり、
    Y1〜Y4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;置換もしくは非置換のアリール基;または光硬化性基または熱硬化性基であり、Y1〜Y4のうちの2以上は、光硬化性基または熱硬化性基であり、
    n1およびn4は、それぞれ0〜4の整数であり、
    n2およびn3は、それぞれ0〜3の整数であり、
    n1〜n4がそれぞれ2以上の場合、括弧内の置換基は、互いに同一または異なり、
    さらに、
    Y1〜Y4の定義のうち、光硬化性基または熱硬化性基は、下記の構造のうちのいずれか1つである:
    Figure 0006966059
    前記構造において、
    〜A は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、置換もしくは非置換の炭素数1〜6のアルキル基である;
    Figure 0006966059
    前記化学式5において、
    R1’〜R5’およびR6〜R20は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;ハロゲン基;ニトロ基;−C(O)R 100 ;−OR 101 ;−SR 102 ;−SO 103 ;−COOR 104 ;−OC(O)R 105 ;−C(O)NR 106 107 ;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のアルケニル基;置換もしくは非置換のアルキニル基;置換もしくは非置換のアミン基;置換もしくは非置換のアリール基;または置換もしくは非置換のヘテロ環基であり、
    100 〜R 107 は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;または置換もしくは非置換のアルキル基である。
  2. 前記溶媒全体に対する前記電荷輸送性材料または発光材料の溶解度は、25℃、1気圧(atm)で2質量%〜15質量%である、請求項1に記載のインク組成物。
  3. 前記電荷輸送性材料または発光材料は、溶媒100重量部に対して、0.1重量部〜10重量部を含むものである、請求項1に記載のインク組成物。
  4. 前記インク組成物の粘度は、2cP以上20cP以下である、請求項1〜3のいずれか一項に記載のインク組成物。
  5. 前記インク組成物は、下記化学式6および7のうちのいずれか1つで表される陽イオン性化合物をさらに含むものである、請求項に記載のインク組成物:
    Figure 0006966059
    Figure 0006966059
    前記化学式6および7において、
    100〜X124は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;ニトリル基;ニトロ基;ヒドロキシ基;ハロゲン基;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のアルケニル基;置換もしくは非置換のアルコキシ基;置換もしくは非置換のアリールオキシ基;置換もしくは非置換のアミン基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;または置換もしくは非置換のアリール基である。
  6. 前記グループ3のいずれか1つの溶媒は、前記溶媒100重量部に対して、0重量部より多く且つ50重量部未満で含まれるものである、請求項に記載のインク組成物。
  7. 基板を用意するステップと、
    前記基板上にカソードまたはアノードを形成するステップと、
    前記カソードまたはアノード上に1層以上の有機物層を形成するステップと、
    前記有機物層上にアノードまたはカソードを形成するステップとを含み、
    前記有機物層を形成するステップは、請求項1〜のいずれか1項に記載のインク組成物を用いて1層以上の有機物層を形成するステップを含むものである有機発光素子の製造方法。
  8. 前記インク組成物を用いて形成された有機物層は、インクジェットプリンティング(Inkjet printing)方式によって形成されるものである、請求項に記載の有機発光素子の製造方法。
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