JP6949947B2 - チオ(ジ)シラン - Google Patents

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Description

本発明は、全般的に、チオ(ジ)シラン化合物、それを含む組成物、その製造方法及び使用方法、その合成に有用な中間体、それから調製された膜及び材料、並びにその膜及び材料の製造方法に関する。
単体ケイ素、及び酸素、炭素、又は窒素のうちの1つ以上を有するケイ素化合物には、様々な用途がある。例えば、単体ケイ素、酸化ケイ素、炭化ケイ素、窒化ケイ素、炭窒化ケイ素、又は酸炭窒化ケイ素から構成される膜を、エレクトロニクスデバイス又は光起電デバイス用の電子回路の製造における半導体、絶縁層、又は犠牲層として使用することができる。
ケイ素材料を調製する公知の方法では、化学蒸着プロセス又は原子層堆積プロセスなどのプロセスを使用して、1つ以上のケイ素生成前駆体材料を使用することができる。これらの前駆体は、エレクトロニクス用途又は光起電用途のケイ素の製造に限定されるものではない。
しかし、数十年の研究にもかかわらず、ケイ素生成前駆体のほとんどの設計者は、イオウ含有部分を回避してきた。これは、イオウ含有ケイ素化合物の合成が困難であること、及び従来のイオウ含有ケイ素化合物の分子の不安定性により、イオウ含有ケイ素化合物は前駆体として不適であるという認識に一部起因していると、本発明者たちからは考えられている。エレクトロニクス産業及び光起電産業で、ケイ素生成前駆体について改良要望が長年にわたって満たされていないことは、本発明者らの知るところである。イオウによる問題が克服され得る場合、本発明者らは、1分子当たり1個以上のイオウ原子を有するイオウ含有ケイ素生成前駆体により、新たなケイ素膜及び硫化ケイ素材料の製造が可能になると考える。また、新たなイオウ含有ケイ素生成前駆体により、堆積温度を低下させることが可能になり、及びより良好な性能のエレクトロニクスデバイス及び光起電デバイス用の、より精細な半導体フィーチャが実現可能になり得る。本発明者らは、新たな改良されたイオウ含有ケイ素化合物及びその新たな合成を追究した。理想的には、イオウ含有ケイ素化合物は、貯蔵温度及び輸送温度(例えば、20℃〜30℃)において、純粋な形態(純度≧95%〜100%)で分子として安定である。
本発明者らは、チオ(ジ)シラン化合物、それを含む組成物、その製造方法及び使用方法、その合成に有用な中間体、それから調製された膜及び材料、並びにその膜及び材料の製造方法を発見し、合成した。本発明のチオ(ジ)シラン化合物としては、1分子当たり1個のケイ素原子及び2個以上のイオウ原子を有するチオシラン化合物、並びに1分子当たり2個のケイ素原子及び1個以上のイオウ原子を有するチオジシラン化合物が挙げられる。従来のイオウ含有シラン化合物とは異なり、本発明のチオ(ジ)シラン化合物は、周囲温度で分子として安定であり、その分解が阻害又は防止される。これにより、純粋な形態(純度≧95%〜100%)のチオ(ジ)シランを、貯蔵及び輸送することができる。チオ(ジ)シラン化合物の分子の安定性は、それらの改良された構造によるものである。本発明のチオシラン化合物の構造を構成するために使用される設計原理は、本発明のチオジシラン化合物の構造を構成するために使用される設計原理と同じであるが、シラン(1個のSi、モノシランとも呼ばれる)とジシラン(Si−Si)との構造的差異により、結果は幾分異なる。本発明のチオ(ジ)シラン化合物は、ケイ素生成前駆体として有用であり、化学蒸着及び原子層堆積プロセスにおいて使用することができる。
本発明のチオ(ジ)シランは、ケイ素含有膜及びバルクの二硫化ケイ素などの材料を製造するのに有用である。ケイ素含有膜は、(オプト)エレクトロニクスデバイス及び光起電デバイスに有用である。本発明の方法には、これらの用途と無関係の更なる用途があり得る。
「発明の概要」及び「要約書」は、参照により本明細書に組み込まれる。本発明のいくつか実施形態は以下に番号付けされた態様を含む。
態様1.式(I):(R1a1b1cCS)(R N)(Si−Si)X(I)[式中、添字sは1〜6の整数であり、添字nは、0〜5の整数であり、添字xは、0〜5の整数であり、添字hは、0〜5の整数であり、ただし、s+n+x+hの合計=6であり、Hは、各々独立して、式(I)中に存在する場合(すなわち、添字hが1〜5である場合)、式(I)中のケイ素原子のうちの同じもの又は異なるものに結合し、Xは、各々独立して、一価のハロゲン原子F、Cl、又はBrであり、式(I)中に存在する場合(すなわち、添字xが1〜5である場合)、式(I)中のケイ素原子のうちの同じもの又は異なるものに結合し、R1a、R1b、及びR1cは、限定(a)、(b)、又は(c)によって特定され、(a)は、少なくとも1つのR1aが、独立して、(C−C20)アルキル又はフェニルであり、任意の残りのR1a、R1b、及びR1cは、各々独立して、H又は(C−C20)ヒドロカルビルであるというものであり、又は、(b)は、独立して置換(C−C20)アリールである少なくとも1つの基R1a1b1cCが存在し、任意の残りのR1a、R1b、及びR1cは、各々独立して、H又は(C−C20)ヒドロカルビルであるというものであり、又は、(c)は、同じ又は異なるR1a1b1cC基におけるR1a、R1b、及びR1c(総称するとR基)のうちの任意の2つが一緒に結合し、二価の基、−R11−(式中、−R11−は、CH又は(C−C20)ヒドロカルビレンである。)を形成し、任意の残りのR1a、R1b、及びR1cは、各々独立して、H又は(C−C20)ヒドロカルビルであるというものであり、Rは、各々独立して、H又は(C−C20)ヒドロカルビルであり、又は任意の2つのR基が一緒に結合し、二価の基、−R22−(式中、−R22−は、(C−C20)ヒドロカルビレンである。)を形成してもよく、任意の残りのR基は、各々独立して、H又は(C−C20)ヒドロカルビルであり、ヒドロカルビル及びヒドロカルビレンは、各々独立して、非置換であるか又は1つ〜5つの置換基SUBで置換されており、SUBは、各々独立して、非置換(C−C)アルキル、非置換(C−C)シクロアルキル、非置換(C−C)アルケニル、非置換(C−C)アルキニル、非置換(C−C)アリール、フルオロ、クロロ、ヨード、又はブロモである。]の、チオジシラン。あるいは、sは1〜5であり、あるいは、sは1〜4であり、あるいは、sは1〜3であり、あるいは、sは1又は2であり、あるいは、sは2〜6であり、あるいは、sは2〜5であり、あるいは、sは2〜4であり、あるいは、sは2又は3であり、あるいは、sは1であり、あるいは、sは2であり、あるいは、sは3であり、あるいは、sは4であり、あるいは、sは5であり、あるいは、sは6である。R1a1b1cCS基は、各々独立して、そのイオウ原子で、式(I)中のケイ素原子のうちの同じもの又は異なるものに結合する。いくつかの実施形態では、少なくとも1つの、あるいは各々のR1a1b1cCS基は、一価の基(Sに基があるもの)である。あるいは、少なくとも1つの、あるいは各々のR1a1b1cCS基は、二価の基(Sに第1の基があり、及びC又はR1aのいずれかに第2の基があるもの)である。基R1a1b1cCが独立して置換(C−C20)アリールであることは、R1a、R1b、及びR1cが炭素原子Cを共有し、置換(C−C20)アリールを形成するという意味である。R N基は、式(I)中に存在する場合(すなわち、添字nが1〜5である場合)、各々独立して、式(I)中のケイ素原子のうちの同じもの又は異なるものに、その窒素原子で結合する。いくつかの実施形態では、少なくとも1つの、あるいは各々のR N基は、一価の基(Nに基があるもの)である。あるいは、少なくとも1つの、あるいは各々のR N基は、二価の基(Nに第1の基があり、及びN又はRのいずれかに第2の基があるもの)である。いくつかの実施形態では、式(I)のチオジシランの任意の態様は、純度が≧95%〜100%の純粋な形態であるものとして特徴付けることができる。式(I)のチオジシランの任意のこのような態様における純粋な形態は、周囲貯蔵温度及び輸送温度(例えば、20℃〜30℃)で分子として安定であり得る。
態様2.添字sは、1〜4の整数であり、添字nは、0〜2の整数であり、添字xは、0〜2の整数であり、添字hは、0〜2の整数であり、ただし、s+n+x+hの合計=6であり、X、R1a、R1b、R1c、及びRは、式(I)について上記定義したとおりである。]の、態様1に記載のチオジシラン。あるいは、sは1〜3であり、あるいは、sは1又は2であり、あるいは、sは1であり、あるいは、sは2であり、あるいは、sは3であり、あるいは、sは4である。
態様3.添字sは、1〜4の整数であり、添字n及びxは、各々、0であり、添字hは、2〜5であり、ただし、s+hの合計=6であり、R1a、R1b、及びR1cは、式(I)について上記定義したとおりである。]の、態様1に記載のチオジシラン。あるいは、sは1〜3であり、あるいは、sは1又は2であり、あるいは、sは1であり、あるいは、sは2であり、あるいは、sは3であり、あるいは、sは4である。
態様4.添字sは、1〜4の整数であり、添字n及びhは、各々独立して、1〜5であり、添字xは、0であり、ただし、s+n+hの合計=6であり、R1a、R1b、R1c、及びRは、式(I)について上記定義したとおりである。]の、態様1に記載のチオジシラン。あるいは、sは1〜3であり、あるいは、sは1又は2であり、あるいは、sは1であり、あるいは、sは2であり、あるいは、sは3であり、あるいは、sは4である。
態様5.添字sは、1〜4の整数であり、添字n及びhは、各々、0であり、添字xは、2〜5であり、ただし、s+xの合計=6であり、X、R1a、R1b、及びR1cは、式(I)について上記定義したとおりである。]の、態様1に記載のチオジシラン。あるいは、sは1〜3であり、あるいは、sは1又は2であり、あるいは、sは1であり、あるいは、sは2であり、あるいは、sは3であり、あるいは、sは4である。
態様6.添字sは、1〜4の整数であり、添字x及びhは、各々独立して、1〜5であり、添字nは0であり、ただし、s+x+hの合計=6であり、X、R1a、R1b、及びR1cは、式(I)について上記定義したとおりである。]の、態様1に記載のチオジシラン。あるいは、sは1〜3であり、あるいは、sは1又は2であり、あるいは、sは1であり、あるいは、sは2であり、あるいは、sは3であり、あるいは、sは4である。
態様7.添字sは、1又は2である、態様1〜6のいずれか1つに記載のチオジシラン。
態様8.Xは、各々、F、Cl、I、又はBrであり、(C−C20)ヒドロカルビルは、各々独立して、(C−C20)アルキル、(C−C20)アルケニル、(C−C20)アルキニル、(C−C20)シクロアルキル、又は(C−C20)アリールであり、又は任意の2つの(C−C20)ヒドロカルビル基が一緒に結合して、(C−C20)アルキレン、(C−C20)アルケニレン、(C−C20)アルキニレン、若しくは(C−C20)アリーレンである二価の基を形成してもよい、態様1〜7のいずれか1つに記載のチオジシラン。
態様9.Xは、各々、Clであり、(C−C20)ヒドロカルビルは、各々、(C−C12)ヒドロカルビル、(C−C)ヒドロカルビル、又は(C−C)ヒドロカルビルである、態様1〜8のいずれか1つに記載のチオジシラン。あるいは、Xは、各々、Clである。あるいは、ヒドロカルビルは、各々、非置換アルキル、置換アルキル、非置換アリール、又はアルキル置換アリールである。あるいは、又は更に、少なくとも1つの(C−C20)ヒドロカルビルは、独立して、非置換若しくは置換(C−C)アルキル、又は非置換若しくは置換フェニルである。あるいは、又は更に、少なくとも1つの(C−C20)ヒドロカルビルは、独立して、非置換(C−C)アルキル、フェニル、又は置換フェニルである。
態様10.ヒドロカルビルは、各々、非置換アルキル、置換アルキル、非置換アリール、又はアルキル置換アリールである、態様9に記載のチオジシラン。
態様11.式(I−a):(R1a1b1cCS)(Si−Si)H(I−a)[式中、添字sは1〜6の整数であり、添字hは、0〜5の整数であり、ただし、s+hの合計=6であり、R1a、R1b、及びR1cは、式(I)について上記定義したとおりである。]の、態様1に記載のチオジシラン。あるいは、sは1〜5であり、あるいは、sは1〜4であり、あるいは、sは1〜3であり、あるいは、sは1又は2であり、あるいは、sは2〜6であり、あるいは、sは2〜5であり、あるいは、sは2〜4であり、あるいは、sは2又は3であり、あるいは、sは1であり、あるいは、sは2であり、あるいは、sは3であり、あるいは、sは4であり、あるいは、sは5であり、あるいは、sは6である。
態様12.添字sは、1〜3の整数であり、添字hは、3〜5の整数であり、(C−C20)ヒドロカルビルは、各々独立して、非置換(C−C)アルキル、置換(C−C)アルキル、非置換アリール、又は(C−C)アルキル置換(C)アリールである、態様11に記載のチオジシラン。
態様13.(1,1−ジメチルエチルチオ)ジシラン、1,2−ビス(1,1−ジメチルエチルチオ)ジシラン、1,1−ビス(フェニルチオ)ジシラン、1,2−ビス(フェニルチオ)ジシラン、(フェニルチオ)ジシラン、ビス(フェニルチオ)ジシラン、(2−メチルフェニルチオ)ジシラン、ビス(2−メチルフェニルチオ)ジシラン、(2,6−ジメチル−フェニルチオ)ジシラン、(t−ペンチルチオ)ジシラン、ビス(t−ペンチルチオ)ジシラン、(ベンジルチオ)ジシラン、ビス(ベンジルチオ)ジシラン、(2,6−ジメチルフェニルチオ)ジシラン、ビス(2,6−ジメチルフェニルチオ)ジシラン、ビス(1,2−ジメチルプロピルチオ)ジシラン、及び(1,2−ジメチルプロピルチオ)ジシランから選択される、態様12に記載のチオジシラン。
態様14.1,2−ビス(1,1−ジメチルエチルチオ)ジシラン、1,1−ビス(フェニルチオ)ジシラン、1,2−ビス(2−メチル−フェニルチオ)ジシラン、1,2−ビス(2,6−ジメチル−フェニルチオ)ジシラン、1,2−ビス(ベンジルチオール)ジシラン、及び1,2−ビス(1,2−ジメチルプロピルチオ)ジシランから選択される、態様12に記載のチオジシラン。
態様15.更に、液体である、及び/又は、沸点試験法1によって求めた予測沸点が摂氏100度(100℃)〜400℃未満である、態様1〜14のいずれか1つに記載のチオジシラン。
態様16.式(II):(R N)(n+s)(Si−Si)H(II)のアミノジシランを、式(III):R1a1b1cCSH(III)のオルガノチオールと接触させ、式(IV):(R1a1b1cCS)(R N)(Si−Si)H(IV)[式中、添字sは、1〜6の整数であり、添字nは、0〜5の整数であり、添字hは、0〜5の整数であり、ただし、s+n+hの合計=6であり、Hは、各々独立して、式(IV)中に存在する場合(すなわち、添字hが1〜5である場合)、式(IV)中のケイ素原子のうちの同じもの又は異なるものに結合し、R1a、R1b、及びR1cは、限定(a)、(b)、又は(c)によって特定され、(a)は、少なくとも1つのR1aが、独立して、(C−C20)アルキルであり、任意の残りのR1a、R1b、及びR1cは、各々独立して、H又は(C−C20)ヒドロカルビルであるというものであり、又は、(b)は、独立して置換(C−C20)アリールである少なくとも1つの基R1a1b1cCが存在し、任意の残りのR1a、R1b、及びR1cは、各々独立して、H又は(C−C20)ヒドロカルビルであるというものであり、又は、(c)は、同じ又は異なるR1a1b1cC基におけるR1a、R1b、及びR1c(総称するとR基)のうちの任意の2つが一緒に結合し、二価の基、−R11−(式中、−R11−は、CH又は(C−C20)ヒドロカルビレンである。)を形成し、任意の残りのR1a、R1b、及びR1cは、各々独立して、H又は(C−C20)ヒドロカルビルであるというものであり、Rは、各々独立して、H又は(C−C20)ヒドロカルビルであり、又は任意の2つのR基が一緒に結合し、二価の基、−R22−(式中、−R22−は、(C−C20)ヒドロカルビレンである。)を形成してもよく、任意の残りのR基は、各々独立して、H又は(C−C20)ヒドロカルビルであり、ヒドロカルビル及びヒドロカルビレンは、各々独立して、非置換であるか又は1つ〜5つの置換基SUBで置換されており、SUBは、各々独立して、非置換(C−C)アルキル、非置換(C−C)シクロアルキル、非置換(C−C)アルケニル、非置換(C−C)アルキニル、非置換(C−C)アリール、フルオロ、クロロ、又はブロモである。]のチオジシランを得ることを含む、チオジシランの合成方法。あるいは、チオジシランは、態様1〜15のいずれか1つに記載のものである。R1a1b1cCS基は、各々独立して、そのイオウ原子で、式(IV)中のケイ素原子のうちの同じもの又は異なるものに結合する。いくつかの実施形態では、少なくとも1つの、あるいは各々のR1a1b1cCS基は、一価の基(Sに基があるもの)である。あるいは、少なくとも1つの、あるいは各々のR1a1b1cCS基は、二価の基(Sに第1の基があり、及びC又はR1aのいずれかに第2の基があるもの)である。基R1a1b1cCが独立して置換(C−C20)アリールであることは、R1a、R1b、及びR1cが炭素原子Cを共有し、置換(C−C20)アリールを形成するという意味である。R N基は、式(II)中、及び式(IV)中に存在する場合(すなわち、添字nが1〜5である場合)、各々独立して、式(II)又は式(IV)中のケイ素原子のうちの同じもの又は異なるものに、その窒素原子でそれぞれ結合する。いくつかの実施形態では、少なくとも1つの、あるいは各々のR N基は、一価の基(Nに基があるもの)である。あるいは、少なくとも1つの、あるいは各々のR N基は、二価の基(Nに第1の基があり、及びN又はRのいずれかに第2の基があるもの)である。いくつかの実施形態では、式(I)のチオジシランの合成方法は、純度が≧95%〜100%の純粋な形態である式(I)のチオジシランを得るために、それを精製する工程、を更に含む。精製する工程は、後述する方法などの任意の好適な分離方法又は精製方法を含んでもよい。例えば、クロマトグラフィ、抽出、ストリッピング、蒸発、蒸留、分留、結晶化、及びデカントのうちの任意の1つ以上である。いくつかの実施形態では、精製する工程は、式(I)のチオジシランを分留すること、を含む。
態様17.式(IV)中の添字nは0整数であり、その方法が、式(II−a):(R N)(Si−Si)H(II−a)のアミノジシランを、アミノジシランのモル数に対しsモル当量の式(III):R1a1b1cCSH(III)のオルガノチオールと接触させ、式(IV−a):(R1a1b1cCS)(Si−Si)H(IV−a)[式中、添字sは、1〜6の整数であり、添字hは、0〜5の整数であり、ただし、s+hの合計=6であり、R1a、R1b、R1c、及びRは、式(IV)について上記定義したとおりである。]のチオジシランを得ることを含む、態様16に記載の合成方法。
態様18.sは1であり、hは5である、態様16又は17に記載の合成方法。
態様19.R1a、R1b、及びR1cは、各々独立して、非置換(C−C)アルキル、置換(C−C)アルキル、非置換アリール、又は(C−C)アルキル置換(C)アリールであり、Rは、各々独立して、非置換(C−C)アルキル又は非置換(C−C)シクロアルキルであり、又は2つのRが一緒に結合し、−R22−[式中、−R22−は、非置換(C−C)アルキレンである。]を形成する、態様16〜18のいずれか1つに記載の合成方法。
態様20.式(IV)のチオジシランは液体である、及び/又は、沸点試験法1によって求めた予測沸点が摂氏100度(100℃)〜400℃未満である、態様16〜19のいずれか1つに記載の合成方法。
態様21.式(A):(R1a1b1cCS)(Si)X(A)[式中、添字sは2〜4の整数であり、添字xは、0〜2の整数であり、添字hは、0〜2の整数であり、ただし、s+x+hの合計=4であり、Xは、各々、一価のハロゲン原子、F、Cl、又はBrであり、R1a、R1b、及びR1cは、限定(a)、(b)、又は(c)によって特定され、(a)は、R1aが、(C−C)アルキルであり、R1bが、(C−C)アルキル又はH、あるいは(C−C)アルキル、あるいはHであり、R1cが、Hであるというものであり、又は、(b)は、R1a、R1b、及びR1cが、各々独立して、(C−C)アルキルであるというものであり、(c)は、R1a1b1cCが、ともに、置換フェニル基、又は非置換フェニル基(フェニル基上の置換基は1つ以上のメチル基である。)を表すというものであり、アルキルは、各々独立して、非置換であるか又は1つ〜5つの置換基SUBで置換されており、SUBは、各々独立して、非置換(C−C)アルキル、非置換(C−C)シクロアルキル、非置換(C−C)アルケニル、非置換(C−C)アルキニル、非置換(C−C)アリール、フルオロ、クロロ、又はブロモである。]の、チオシラン。あるいは、sは2又は3であり、あるいは、sは2又は4であり、あるいは、sは3又は4であり、あるいは、sは1又は2であり、あるいは、sは2であり、あるいは、sは3であり、あるいは、sは4である。R1a1b1cCS基は、各々、そのイオウ原子で、式(A)中のケイ素原子に結合する。いくつかの実施形態では、少なくとも1つの、あるいは各々のR1a1b1cCS基は、一価の基(Sに基があるもの)である。あるいは、少なくとも1つの、あるいは各々のR1a1b1cCS基は、二価の基(Sに基があり、及びC又はR1aのいずれかに基があるもの)である。いくつかの実施形態では、式(A)のチオシランの任意の態様は、純度が≧95%〜100%の純粋な形態であるものとして特徴付けることができる。式(A)のチオシランの任意のこのような態様における純粋な形態は、周囲貯蔵温度及び輸送温度(例えば、20℃〜30℃)で分子として安定であり得る。
態様22.sは、2であり、xは、2であり、hは、0である、態様21に記載のチオシラン。
態様23.R1aは、(C−C)アルキルであり、R1bは、(C−C)アルキルであり、R1cは、Hである、態様21又は22に記載のチオシラン。あるいは、アルキルは、各々、非置換である。
態様24.R1aは、(C−C)アルキルであり、R1bは、(C−C)アルキルであり、R1cは、Hである、態様23に記載のチオシラン。あるいは、アルキルは、各々、非置換である。
態様25.R1a、R1b、及びR1cは、各々独立して、(C−C)アルキルである、態様21又は22に記載のチオシラン。あるいは、アルキルは、各々、非置換である。
態様26.R1a、R1b、及びR1cは、各々独立して、(C−C)アルキルである、態様25に記載のチオシラン。あるいは、アルキルは、各々、非置換である。
態様27.ビス(1,1−ジメチルエチルチオ)シラン、ビス(1,2−ジメチルプロピルチオ)シラン、ジクロロ−ビス(1,2−ジメチルプロピルチオ)シラン、t−ペンチルチオシラン、ビス(フェニルチオ)シラン、フェニルチオシラン、(ベンジルチオ)シラン、(2−メチルフェニルチオ)シラン、ビス(2−メチルフェニルチオ)シラン、(2,6−ジメチルフェニルチオ)シラン、ビス(2,6−ジメチルフェニルチオ)シラン、又はビス(2−メチル−フェニルチオ)シラン。
態様28.更に、液体である、及び/又は、沸点試験法1によって求めた予測沸点が摂氏100度(100℃)〜400℃未満である、態様21〜27のいずれか1つに記載のチオシラン。
態様29.式(B):(R N)(Si)H(B)のアミノシランを、式(C):R1a1b1cCSH(C)のオルガノチオールと接触させ、式(D):(R1a1b1cCS)(Si)H(D)[式中、添字sは、1〜4の整数であり、添字hは、0〜3の整数であり、ただし、s+hの合計=4であり、Rは、各々独立して、H又は(C−C20)ヒドロカルビルであり、又は任意の2つのR基が一緒に結合し、二価の基、−R22−(式中、−R22−は、(C−C20)ヒドロカルビレンである。)を形成してもよく、任意の残りのR基は、各々独立して、H又は(C−C20)ヒドロカルビルであり、R1a、R1b、及びR1cは、限定(a)、(b)、又は(c)によって特定され、(a)は、R1aが、(C−C)アルキルであり、R1bが、(C−C)アルキル又はHであり、R1cが、Hであるというものであり、又は、(b)は、R1a、R1b、及びR1cが、各々独立して、(C−C)アルキルであるというものであり、(c)は、R1a1b1cCが、ともに、置換フェニル基、又は非置換フェニル基(フェニル基上の置換基は1つ以上のメチル基である。)を表すというものであり、アルキルは、各々独立して、非置換であるか又は1つ〜5つの置換基SUBで置換されており、SUBは、各々独立して、非置換(C−C)アルキル、非置換(C−C)シクロアルキル、非置換(C−C)アルケニル、非置換(C−C)アルキニル、非置換(C−C)アリール、フルオロ、クロロ、又はブロモである。]のチオシランを得ることを含む、チオシランの合成方法。あるいは、チオシランは、態様21〜28のいずれか1つに記載のものである。R N基は、各々、その窒素原子で、式(B)中のケイ素原子に結合する。いくつかの実施形態では、少なくとも1つの、あるいは各々のR N基は、一価の基(Nに基があるもの)である。あるいは、少なくとも1つの、あるいは各々のR N基は、二価の基(Nに第1の基があり、及びN又はRのいずれかに第2の基があるもの)である。R1a1b1cCS基は、各々、そのイオウ原子で、式(D)中のケイ素原子に結合する。いくつかの実施形態では、少なくとも1つの、あるいは各々のR1a1b1cCS基は、一価の基(Sに基があるもの)である。あるいは、少なくとも1つの、あるいは各々のR1a1b1cCS基は、二価の基(Sに第1の基があり、及びC又はR1aのいずれかに第2の基があるもの)である。いくつかの実施形態では、式(D)のチオシランの合成方法は、純度が≧95%〜100%である純粋な形態に式(D)のチオシランを得るために、それを精製する工程、を更に含む。精製する工程は、後述する方法などの任意の好適な分離方法又は精製方法を含んでもよい。例えば、クロマトグラフィ、抽出、ストリッピング、蒸発、蒸留、分留、結晶化、及びデカントのうちの任意の1つ以上である。いくつかの実施形態では、精製する工程は、式(D)のチオシランを分留すること、を含む。
態様30.sは2であり、hは2である、態様29に記載の合成方法。
態様31.R1aは(C−C)アルキル、R1bは(C−C)アルキル、R1cはHであり、又は、R1aは(C−C)アルキル、R1bは(C−C)アルキル、R1cはHであり、又は、R1a、R1b、及びR1cは、各々独立して、(C−C)アルキルであり、又は、R1a、R1b、及びR1cは、各々独立して、(C−C)アルキルである、態様29又は30に記載の合成方法。
態様32.式(B)のアミノシランは、ビス(ジ(C−C)アルキルアミノ)シランであり、式(C)のオルガノチオールは、1,1−ジメチルエチルチオールであり又は1,2−ジメチルプロピルチオールであり、式(D)のチオシランは、ビス(1,1−ジメチルエチルチオ)シラン又はビス(1,2−ジメチルプロピルチオ)シランである、態様29に記載の方法。
態様33.ビス(1,1−ジメチルエチルチオ)シランと1,1−ジメチルエチルチオシランとの混合物、又は、ビス(1,2−ジメチルプロピルチオ)シランと1,2−ジメチルプロピルチオシランとの混合物を含む、組成物。
態様34.態様1〜15のいずれか1つに記載のチオジシランの混合物を含む、組成物。組成物は、態様1〜15のいずれか1つに記載のチオジシランの混合物を含んでもよい。
態様35.態様21〜28のいずれか1つに記載のチオシランと態様13で指定されたチオジシランのうちのいずれか1つとの混合物を含む、組成物。組成物は、態様21〜28のいずれか1つに記載のチオシランと態様13で指定されたチオジシランのいずれか1つとの混合物、あるいは態様21〜28のいずれか1つに記載のチオシランと態様14で指定されたチオシランのいずれか1つとの混合物を含んでもよい。
態様36.リチウム(1,2−ジメチルプロピル)チオレート又はリチウム1,1−ジメチルエチルチオレート。
態様37.いくつかの実施形態では、式(II):(R N)(n+s)(Si−Si)H(II)のアミノジシラン[式中、R、並びに添字n、s、及びhは、それらについて上記定義のとおりである。]である。他の実施形態では、式(III):R1a1b1cCSH(III)のオルガノチオール[式中、R1a、R1b、及びR1cは、それらについて上記定義のとおりである。]である。更に他の実施形態では、式(IV):(R1a1b1cCS)(R N)(Si−Si)H(IV)のチオジシラン[式中、R1a、R1b、R1c、R、並びに添字n、s、及びhは、それらについて上記定義のとおりである。]である。いくつかの実施形態では、式(IV−a):(R1a1b1cCS)(Si−Si)H(IV−a)のチオジシラン[式中、R1a、R1b、R1c、R、並びに添字s及びhは、それらについて上記定義のとおりである。]である。
態様38.いくつかの実施形態では、式(B):(R N)(Si)H(B)のアミノシラン[式中、R、並びに添字s及びhは、それらについて上記定義のとおりである。]である。他の実施形態では、式(C):R1a1b1cCSH(C)のオルガノチオール[式中、R1a、R1b、及びR1cは、それらについて上記定義のとおりである。]である。更に他の実施形態では、式(D):(R1a1b1cCS)(Si)H(D)のチオシラン[式中、R1a、R1b、R1c、及びR、並びに添字s及びhは、それらについて上記定義のとおりである。]である。
更なる発明の実施形態、使用、及び利点を、以下に記載する。
本発明は、技術的及び非技術的な利点を有する。ビス(1,1−ジメチルエチルチオ)シラン及びビス(1,2−ジメチルプロピルチオ)シランなどの式(A)の本発明のチオシランは、純粋な形態(純度≧95%〜100%)にて室温で分子として安定である。しかし、ビス(アルキルチオ)シランは、イソプロピル又はイソブチルなどの嵩がより小さいアルキル基を有し、純粋な形態では室温で分子として不安定となり、代わりに自然に再分布する(すなわち、ビス(アルキルチオ)シランにより、モノ(アルキルチオ)シラン及びトリス(アルキルチオ)シランが生成する)。1,1−ジメチルエチルチオシラン及び1,2−ジメチルプロピルチオシランもまた、純粋な形態では室温で分子として不安定であり、代わりに自然に再分布して劣化混合物を生成する。劣化混合物は、未知の組成物であり、エレクトロニクスデバイス用のSi含有膜の作製などの(純度又は組成的に)影響されやすい用途においてケイ素生成前駆体として使用することはできないが、他の用途があり得る。1,1−ジメチルエチルチオシラン及び1,2−ジメチルプロピルチオシランは、本発明のビス(1,2−ジメチルプロピルチオ)シラン又はビス(1,2−ジメチルプロピルチオ)シランのそれぞれの劣化から生成する劣化中間体として生成される。形式上、ビス(1,1−ジメチルエチルチオ)シランの2分子又はビス(1,2−ジメチルプロピルチオ)シランの2分子は、2分子反応(再分布反応)を経る。再分布反応により、1,1−ジメチルエチルチオシラン及びトリス(1,1−ジメチルエチルチオ)シランの劣化混合物、又は1,2−ジメチルプロピルチオシラン及びトリス(1,2−ジメチルプロピルチオ)シランの劣化混合物がそれぞれ得られる。次に、1,1−ジメチルエチルチオシランにより、ビス(1,1−ジメチルエチルチオ)シランの別の分子との別の2分子劣化反応(再分布反応)を経て、SiH及びより多くの対応するトリス(1,1−ジメチルエチルチオ)シランが得られる。同様に、1,2−ジメチルプロピルチオシランは、ビス(1,2−ジメチルプロピルチオ)シランの別の分子との別の2分子劣化反応(再分布反応)を経て、SiH及びより多くの対応するトリス(1,2−ジメチルプロピルチオ)シランが得られる。本発明の一実施形態には、シランが、イソプロピル又はイソブチルなどの嵩がより小さいアルキル基を有するビス(アルキルチオ)シランではないこと、あるいはビス(アルキルチオ)シランが、1,1−ジメチルエチルチオシラン及び1,2−ジメチルプロピルチオシラン、あるいは1,1−ジメチルエチルチオシラン及び1,2−ジメチルプロピルチオシランといった、イソプロピル又はイソブチルなどの嵩がより小さいアルキル基を有するという、条件がある。
(1,2−ジメチルプロピルチオ)ジシラン、(フェニルチオ)ジシラン、及び(2−メチルフェニルチオ)ジシランなどの式(I)の本発明のチオジシランは、同様の理由で純粋な形態(純度≧95%〜100%)にて室温で分子として安定である。チオ(ジ)シランのいずれか1つの純度を、後述する方法によって求めることができる。
本発明は、更なる利点を有しても用いてもよく、そのうちのいくつかは以下に記載されるものであり得る。
本発明は、本発明の複数の代表的な非限定の発明の実施形態、態様、及び実施例を開示することにより、例示的に本明細書で記載されている。本明細書は、明示的な記述、一義的な文脈上の指示、又は組み込まれた課題が本明細書と矛盾しない範囲での、米国特許、米国特許出願、又は米国特許公開の参照によっての組み込みによることができ、いかなるそのような矛盾にも本明細書が優先する。総合すれば、それらにより、当業者が過度の実験なしに本発明を実施し使用する方法を理解することが可能になる。本明細書では、当業者によって容易に理解され得る特定の用語、語句、及び表現を使用し、便宜上、下記の直後の5段落において定義する。用語、語句、又は表現の異なる意味が本明細書に記述されているか又は他の箇所の記載の文脈から明確に指示されていない限り、これらの定義が優先する。
用語「態様」及び「実施形態」は、区別なく使用される。本明細書で参照される任意の発明の実施例は、特定の発明の実施形態に依拠し、特定の発明の実施形態に対する適切な支持を提供することができる。「発明(invention)」又は同等の表現(例えば、本発明(the present invention)、この発明(this invention)、又は本発明(the invention))への言及はいずれも、それらの代表的な発明の実施形態又は態様を意味するものであり、発明の範囲を過度に限定するために使用するものではない。マーカッシュ形式の群への言及はいずれも、異なる方法で同等に表現することができる。例えば、要素A、B、及びCのマーカッシュ形式の群は、「A、B、及びCから選択される要素」、「A、B、及びCからなる群から選択される要素」、又は「要素A、B、又はC」として同等に表現することができる。マーカッシュ形式の群は、分類群、その下位分類群、及びその1つ以上の特定の要素のうちの2つ以上を含むことができ、マーカッシュ形式の群のそれぞれは、特定の発明の実施形態が個々に又は集合的に依拠し、特定の発明の実施形態に対する適切な根拠を提供することができる。
「代わりに/あるいは(alternatively)」の任意の使用は、独立した実施形態を示すものとする。冠詞「a」、「an」、及び「the」はそれぞれ、1つ又はそれ以上を指す。比較例におけるような「比較」への言及はいずれも、例示を目的とするのみであり、従来技術からの何かを意味しないものとする。「接触する」への言及はいずれも、物理的接触状態にすることを意味する。指定された個別の数より大きい(例えば、>50、又は≧50)におけるような「より大きい」への言及はいずれも、その上側端点として絶対最大値(例えば、100%)、又は場合によって絶対最大値がない場合は実際的最大値(例えば、10,000繰り返し単位、又は10,000,000g/mol)を含む、範囲又は部分的範囲を包含する。あるいは、上側端点は、絶対最大値より小さい(例えば、100%未満)、又は実際的最大値より小さい(例えば、<10,000繰り返し単位、又は<10,000,000g/mol)場合がある。用語「がない」への言及はいずれも、含まないこと又は全く存在しないことを意味する。指定された個別の数より小さい(例えば、<10、又は≦10)におけるような「より小さい/未満」への言及はいずれも、その下側端点として絶対最小値(例えば、ゼロ(0))、又は場合によって絶対最小値がない場合は実際的最小値(例えば、ゼロより大きい(>0))を含む、範囲又は部分的範囲を包含する。例えば、実際的最小値>0は、表現「10重量%より低い濃度で存在する」の文脈から明白である。あるいは、下側端点は、絶対最小値より大きい(例えば、>0%)場合がある。「であってもよい、し得る、ことができる(may)」の任意の使用は、選択肢を与えるものであり、必須とするものではない。「効果的」の任意の使用は、機能的に有効であることを意味する。例えば、「効果的な接触」は、機能的に有効に接触することを含み、例えば、変性、コーティング、接着、封止、又は充填に関するものである。効果的な接触は、その意図した目的に対して有効であるものとして、直接物理的に接触すること、あるいは間接的に接触することであってもよい。「任意選択的に」とは、存在しない(又は除外される)か、あるいは存在する(又は含まれる)ことを意味する。本明細書が依拠する任意の範囲は、範囲内の端点並びに整数及び/又は小数値を含む、全ての範囲及び部分的範囲を記載し考慮している。開示された範囲若しくは部分的範囲の端点の間の開示された端点又は個々の数値は、特定の発明の実施形態に依拠し、特定の発明の実施形態に対して適切な支持を提供し得る。「それの(thereof)」への言及はいずれも、言及している直前の要素、部材、特徴、限定、リスト、又は群を指すものとし、かつそれらにより置き換えて変更することができる。
量、濃度、又は量の比への言及はいずれも、重量に基づく。「副生成物」への言及はいずれも、1種以上の反応物の化学変換の副次的な生成物を意味する。「百分率/パーセント」又は「%」としての「濃度」への言及はいずれも、重量パーセント(重量%(wt%))を意味するものであり、記載されている材料を製造するために使用する全ての含有成分の総重量に基づいており、総重量を100重量%とする。「分解」への言及はいずれも、単一分子実体(同じ構造を有する分子の集合)の2つ以上の断片への崩壊である、化学的分解を意味する。断片は結合して、単一分子実体の構造とは構造が異なる、1つ以上の崩壊生成物分子が生成する場合がある。崩壊生成物分子が用途に好適である、化学的分解のタイプでは、単一分子実体による使用又は目的が意図され、分解は、非劣化性分解(non−degradative decomposition)と呼ばれる場合がある。「劣化」への言及はいずれも、1つ以上の崩壊生成物分子が、単一分子実体が意図される用途、使用、又は目的に適していない、化学的分解のタイプを意味する。「不均化」への言及はいずれも、単一分子実体により、これら単一分子実体のものと比較して、異なる構造及び形式上の酸化状態を有する2つ以上の異なる分子実体が生成される、反応を意味する。「膜」又は「コーティング」への言及はいずれも、1つの次元にて制限のある材料を意味する。制限された次元は「厚さ」を特徴とし得る。材料特性(例えば、粘度)又は材料特性を測定するための試験方法への言及はいずれも、摂氏23度(℃)かつ101.3キロパスカル(kPa)で測定されたその特性であってよく、又は実施される方法であるものとする。「分子の不安定性」への言及はいずれも、周囲温度(例えば、20℃〜30℃)での(純粋な形態における)化学的不安定性又は熱力学的に不安定な状態を意味する。例えば、自然に再分布又は不均化する化学構造である。対照的に、分子の安定性は、例えば、H−NMR若しくは29Si−NMR又はGCにおける確認可能な変化がないことによって証明されるものなどの、周囲温度での、例えば、1日後、1週間後、1ケ月後、又はそれ以上後での、(純粋な形態における)化学的安定性又は熱力学的に安定である状態を意味する。分子の「分子質量」への言及はいずれも、1モル当たりのグラムで表される分子量(MW)を意味するものであり、ポリマーの平均分子質量への言及はいずれも、グラムで表される重量平均分子量(M)を意味する。Mは、ポリスチレン基準によるゲル浸透クロマトグラフィ(GPC)を用いて測定される。「精製する(purify)」ことについての言及はいずれも、所望の含有成分の濃度を(≦100%に至るまで)増加させること、あるいは所望の含有成分の濃度が増加したかどうかに関わらず、1種又は2種以上の望まない含有成分の濃度を(≧0%に至るまで)低下させること、あるいはその両方、を意味する。「再分布」への言及はいずれも、単一分子実体により、これら単一分子実体のものと比較して、異なる構造を有するが、同じ形式上の酸化状態を有する2つ以上の異なる分子実体が生成される、反応を意味する。「残留物」への言及はいずれも、残された部分、例えば、蒸留後の釜残渣を意味する。「分離」への言及はいずれも、物理的に離すこと、ひいてはその結果として、もはや直接接触しないようにすることを意味する。「基材」についての言及は、その上に他の材料を受け入れることができる、少なくとも1つの表面を有する物理的支持体を意味する。「媒質(vehicle)」への言及はいずれも、溶解し得るかどうかに関わらず、別の材料の担体、受容媒体、分散媒体、上澄み、又は溶媒とし機能する材料を意味する。媒質は、液体であってもよい。
化学元素、化学元素の族(単数又は複数)、又は元素周期表への言及はいずれも、2013年5月1日付けのIUPAC版により発行された化学元素、族(単数又は複数)、及び元素周期表を意味する。(iupac.org/reports/periodic_table/を参照のこと)。IUPACは、国際純正応用化学連合(International Union of Pure and Applied Chemistry)(IUPAC Secretariat,Research Triangle Park,North Carolina,USA)である。任意の化学用語の意図する意味は、IUPACが公表した定義である。「組成物」への言及はいずれも、その構成要素の実験式によって定義することができる化学物質を意味する。ヒドロカルビレン、アルキレン、アルケニレン、アルキニレン、アリーレン、フェニレンなどの、接尾辞「エン(ene)」で終了する有機基名は、直鎖、分枝鎖、又は環状であってもよい二価の基を意味する。例えば、非置換の(C)ヒドロカルビレンとしては、シクロプロピレン、メチルエチレン、及びプロピレンが挙げられ、ここでシクロプロピレンは、シクロプロパン−1,2−ジイルを意味し;メチルエチレンは、1−メチル−エタン−1,2−ジイル(すなわち、プロパン−2,3−ジイル)又は2−メチル−エタン−1,2−ジイル(すなわち、プロパン−1,2−ジイル)を意味し;及びプロピレンは、プロパン−1,3−ジイルを意味する。C−H官能性を含む任意の有機基は、独立して、非置換であっても、1つ以上の置換基により置換されていてもよい。置換基は、各々独立して、SUBとしてもよく、SUBは、各々独立して、ハロゲン原子、−NH、−NHR、−NR、−NO、−OH、−OR、オキソ(=O)、−C≡N、−C(=O)−R、−OC(=O)R、−C(=O)OH、−C(=O)OR、−SH、−SR、−SSH、−SSR、−SC(=O)R、−SOR、−OSOR、−SiR、及び−Si(OR)[式中、Rは、各々独立して、非置換(C−C30)ヒドロカルビルである。]である。ハロゲン原子は、F、Cl、Br、又はIであり、あるいは、F、Cl、又はBrであり、あるいは、F又はClであり、あるいは、Fであり、あるいは、Clである。「チオール」はC−SH基を有する化合物である。有機基は、一価(monovalent)(自由原子価が1)、二価(divalent)(自由原子価が2)、三価(trivalent)(自由原子価が3)、又は四価(tetravalent)(自由原子価が4)であってもよく、一価(univalent)、二価(bivalent)、三価(trivalent)、及び四価(quadravalent)としても知られる。一価の有機基の例は、オルガニル基又はオルガノヘテリル基である。オルガニル基の例は、ヒドロカルビル基及びヘテロヒドロカルビル基である。オルガノヘキシル基の例は、ヒドロカルビルアミノ基及びヒドロカルビルオキシ基である。二価の有機機の例は、オルガニレン基及びオルガノへテリレン基である。オルガニレン基の例は、ヒドロカルビレン基及びヘテロヒドロカルビレン基である。オルガノへテリレン基の例は、ヒドロカルビレンアミノ基及びヒドロカルビレンオキシ基である。ヘテロヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビレン、オルガノヘテリル及びオルガノヘテロレン基は、O、N、S、及びPから選択される1種以上のヘテロ原子を含み;あるいは、O、N、又はSを含み;あるいは、O又はN、あるいはN;あるいはOを含む。
蒸気又は原子層法における「蒸着/堆積(deposition)」への言及はいずれも、特定の場所の上に凝縮物を生成することを意味する。凝縮物は、寸法に制限があってもなくてもよい。堆積の例は、膜形成堆積、ロッド形成堆積、及び粒子形成堆積である。「ロッド」への言及はいずれも、例えば、2つの次元に制限がある、アスペクト比が>2の材料を意味する。「ケイ素生成前駆体(silicon−yielding precursor)」への言及はいずれも、14番元素の原子を含み、蒸着法においてケイ素の供給源として有用である物質又は分子を意味する。このような蒸着法の例については、後述する。「チオ(ジ)シラン」への言及はいずれも、式(A)のチオシラン、式(I)のチオジシラン、及びそれらの任意の下位分類群(例えば、式(I−a)、式(IV)、式(IV−a)、及び式(D)を意味する。「チオ(ジ)シラン」は、「チオシラン又はチオジシラン」の総称である。用語「チオシラン」及び「チオモノシラン」は、本明細書において互換的に使用され、とりわけ、2〜4個のイオウ原子及び1個のみのケイ素原子を含む原子を含有する分子又は分子の集合を意味し、イオウ原子は、各々、ケイ素原子に直接共有結合している。用語「チオジシラン」は、とりわけ、1〜6個のイオウ原子及び2個のみのケイ素原子を含む原子を含有する分子又は分子の集合を意味し、イオウ原子は、各々独立して、ケイ素原子のうちの同じもの又は異なるものに直接共有結合しており、ただし、ケイ素原子のいずれか1つには、4個以下のイオウ原子が結合している。
本発明のチオ(ジ)シランは、少なくとも1つの特性、機能、及び/又は用途が互いに異なっていてもよい。異なるチオ(ジ)シランは、各々、特有の蒸気圧、特有の化学的反応性、特有の堆積速度、特有の分子対称性、分子双極子モーメント、及び化学結合特性、又はこれらの任意の2つ以上の組み合わせなどの特有の特性を有する。これらの特有の特性は、CVDプロセス又はALDプロセスなどの蒸着プロセス/堆積プロセスにおいて基材表面上の部分構造の物理吸着及び化学吸着に影響を与える。本発明のチオ(ジ)シランは、実施例で後述されるそれらのいずれか1つの種であるとして更に特定することができる。
本発明のチオ(ジ)シランは、それらの同位体組成によって更に特定することができる。チオ(ジ)シランは、天然存在比の同位体による形態、あるいは同位体富化形態、あるいはそれらの形態の混合物であってもよい。チオ(ジ)シランの化合物の同位体富化形態としては、天然存在比より多い量の重水素、三重水素、29Si、30Si、32Si、又はこれらの任意の2つ以上の組み合わせを含む形態が挙げられる。本明細書で記載されたチオ(ジ)シランの使用に加えて、チオ(ジ)シランの同位体富化形態は、それらから作製した同位体富化チオ(ジ)シラン又は同位体富化ケイ素材料(例えば、膜)の検出が有益である用途において、有用な場合がある。このような用途の例は、医学研究用途及び偽造防止用途である。異なる同位体組成を有するチオ(ジ)シランは、少なくとも1つの特性、機能、及び/又は用途が互いに異なっていてもよい。
本発明のチオ(ジ)シランは、無水条件下(すなわち、水を含まない条件)下、不活性雰囲気下、又は典型的には両方、すなわち無水不活性雰囲気下で、純粋な形態(純度≧95%〜100%)にて貯蔵及び輸送することができる。不活性雰囲気は、窒素分子、ヘリウム、アルゴン、又はこれらの任意の2つ以上の混合物の気体であってもよい。チオ(ジ)シランを合成する第1の反応器から、チオ(ジ)シランをイオウ含有ケイ素生成前駆体として使用する第2の反応器まで、チオ(ジ)シランの輸送ができる。第1の反応器は、連続撹拌タンク反応器、プラグ流反応器、セミバッチ式反応器、又は触媒反応器であってもよい。第2の反応器は、CVD反応器であってもALD反応器であってもよい。
本発明の別の態様は、チオ(ジ)シラン及びチオ(ジ)シランとは異なる少なくとも1つの更なる含有成分を含む、組成物である。更なる成分は、各々独立して、機能、組成、又は構造がチオ(ジ)シランと異なっていてもよい。いくつかの態様では、組成物は、式(A)のチオシラン及び式(I)のチオジシランを含む。いくつかの態様では、少なくとも1つの更なる含有成分は、チオ(ジ)シランと異なるシランであってもよい。
少なくとも1つの含有成分は、あるいは各々の更なる各含有成分は、独立して、チオ(ジ)シラン以外のケイ素生成前駆体を含んでもよい。例は、ヒドリドシラン(モノシラン、ジシラン、トリシラン、テトラシラン、ペンタシラン、ヘキサシラン、ヘプタシラン、オクタシラン、又はノナシランなど)、又は、有機ケイ素(オリガノシラン、例えばトリメチル若しくはテトラメチルモノシラン、ジクロロジメチルモノシラン若しくはクロロトリメチルモノシラン、又は、シラアルカン、例えば1,3−ジシラブタンなど)、あるいはアミノシラン若しくはアミノジシラン(それぞれジイソプロピルアミノシランなど若しくはジイソプロピルアミノジシランなど)、あるいはケイ素がない有機前駆体(例えば、天然ガスをはじめとするメタンなどのアルカン、四塩化炭素、プロパン、ヘキサン、又はこれらの任意の2つ以上の混合物)、あるいはケイ素がない無機前駆体(例えば、無水アンモニア、窒素分子、ヒドラジン、酸素分子、オゾン、亜酸化窒素、水、又は過酸化水素)、あるいはこれらの混合物である。更に、又はあるいは、更なる前駆体は、炭素含有前駆体を含む炭素源(例えば、有機ケイ素)、酸素含有前駆体を含む酸素源(例えば、酸素分子、オゾン、亜酸化窒素、水、又は過酸化水素)、若しくは窒素含有前駆体を含む窒素源(例えば、無水アンモニア、窒素分子、又はヒドラジン)、又は炭素含有前駆体を含む炭素源、酸素含有前駆体を含む酸素源、窒素含有前駆体を含む窒素源の任意の2つ以上の組み合わせであってもよい。更なる前駆体は、組成物において、式(I)の化合物の溶媒として機能することができ、又はその逆にすることもできる。チオ(ジ)シラン、及びC又はN又はO又はSを含有する更なる含有成分を含む、組成物は、チオ(ジ)シランを膜形成反応器に送給するのに役立てることができ、又はチオ(ジ)シランを望ましいケイ素膜に変換するために役立てることができる。
あるいは、又は更に、組成物において、少なくとも1つの更なる含有成分は、前駆体のための媒質又はキャリアガス、例えば、チオ(ジ)シランのための溶媒又はキャリアガスであってもよい。キャリアガスは、He又はArのガスなどの希ガスであってもよい。媒質は、Siがない有機溶媒であってもよい。有機溶媒はまた、炭素含有前駆体の供給源として機能することもでき、あるいは炭素含有前駆体の供給源はまた、組成物における有機溶媒として機能することもできる。
チオ(ジ)シランを炭化水素媒質で合成することができ、得られる反応混合物は、炭化水素媒質を含んでもよい。炭化水素媒質は、炭素原子及び水素原子からなっていてもよく、又は炭素原子、水素原子、及びハロゲン原子からなるハロゲン化炭化水素媒質であってもよい。C原子及びH原子からなる炭化水素媒質は、アルカン、芳香族炭化水素、及びこれらの任意の2つ以上の混合物であってもよい。アルカンは、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソパラフィン、又はこれらの任意の2つ以上の混合物であってもよい。芳香族炭化水素は、トルエン、キシレン、又はこれらの任意の2つ以上の混合物であってもよい。ハロゲン化炭化水素媒質は、ジクロロメタンであってもよい。炭化水素媒質は、合成を行った後に、反応混合物中に残留していてもよく、あるいは炭化水素媒質は、合成を行った後に、反応混合物から除去してもよい。
チオ(ジ)シランの合成は、1つ以上の接触させる工程を含んでもよい。接触させる工程は、独立して、反応物を撹拌すること、を更に含んでもよい。撹拌により、反応混合物中の反応物と更なる含有成分とを、一緒に混合すること及び接触させること、を増進することができる。接触させる工程は、独立して、撹拌を用いるか又は用いない、他の条件を使用してもよい。他の条件を調整し、特定の接触させる工程において目的とする反応生成物が生成するように、反応物の接触(ひいては反応)を増進することができる。他の条件が、反応収率の増大又は特定の反応副生成物の量の最小化のための効果的な条件となってもよい。他の条件の例としては、反応雰囲気(反応が行われる気体環境)、反応温度、及び反応圧力などが挙げられる。例えば、接触させる工程を、独立して、無水アルゴン又はヘリウムガスの抽気などの不活性ガス雰囲気下で行ってもよい。あるいは、又は更に、接触させる工程は、独立して、上記の反応を確認することができる最低温度から、使用された圧力で沸点が最低の含有成分のより低い沸点までの、反応物の温度を含んでもよい。反応は、反応物の消失又は生成物の発生を検出することによって、例えば、29Si及び/又はH核磁気共鳴(NMR)スペクトルによって、確認することができる。例えば、接触させる工程は、独立して、−80℃〜200℃、あるいは−20℃〜150℃、あるいは20℃〜120℃、あるいは30℃〜100℃の反応物の温度を含んでもよい。接触させる工程を、独立して、常圧未満、例えば、101.3キロパスカル未満で行うことができ、これにより、前述の指定温度を、圧力の低下と関連して低くすることができる。接触させる工程のうちの異なるものにおいて使用する条件は、本明細書で記載される任意の他の接触させる工程及び/又は分離する工程で使用する条件と同一であっても異なっていてもよい。
いくつかの態様では、合成したチオ(ジ)シランを含有する反応混合物を、接触させる工程から得たままで精製せずに直接使用する。例えば、反応混合物を、将来の使用まで貯蔵(例えば、≦−50℃の温度で冷蔵)してもよく、又は反応混合物中のチオ(ジ)シランの存在及び量に関して直接評価してもよい。他の態様では、チオ(ジ)シランの合成方法を、接触させる工程の後にある、1つ以上の任意選択的な後工程によって更に特定してもよい。この方法は、精製したチオ(ジ)シランを得るために、他のチオ(ジ)シラン異性体から、反応副生成物から、任意の未反応反応物から、任意の更なる反応含有成分(例えば、媒質)から、又はこれらの2つ以上の組み合わせから、後でチオ(ジ)シランを分離する工程、を更に含んでもよい。
分離する工程は、実行するとき、反応副生成物及び任意の未反応反応物又は任意の更なる反応含有成分(例えば、媒質)からチオ(ジ)シランを分離するのに好適な、任意の手法を含んでもよい。異なる手法は、異なるチオ(ジ)シランに対して好ましい場合がある。1つの手法を実行してもよく、又は一連の2つ以上の手法を実行してもよい。所与の手法を一回で行ってもよく、又は2回以上繰り返してもよく、各々の回が、不純物含有量を反復減少させて反復精製したチオ(ジ)シラン、例えば、窒素の原子濃度が反復してより低下した、精製したチオ(ジ)シラン化合物を得るための、先行する手法の生成物による。好適な手法の例は、デカンテーション、蒸留、蒸発、抽出、濾過、凍結乾燥、ガスクロマトグラフィ、イオン交換クロマトグラフィ、群分離、相分離、逆相液体クロマトグラフィ、ストリッピング、揮発、及び洗浄である。いくつかの態様では、この手法は、分留、又は濾過後の分留を含む。あるいは、又は更に、チオ(ジ)シランに、逆相液体クロマトグラフィを行ってもよい。好適な逆相液体クロマトグラフィ法の例は、逆相中圧カラムクロマトグラフィ(RP−MPLC)及び逆相高圧カラムクロマトグラフィ(RP−HPLC)であり、固定相は、シリカゲルなどの固体であり、移動相は、無水ヘキサン、無水アセトニトリル、無水エチルアセテート、又はこれらの任意の2つ以上の混合物などの無水の非プロトン性有機溶媒である。
例えば、いくつかの態様では、接触させる工程により、反応混合物を生成させることができ、その中に(任意選択的な前工程から)接触させる工程に持ち込まれた固体を有していてもよく、及び/又はその中に接触させる工程中に反応副生成物としてin situで生成した固体沈殿を有していてもよい。これらの態様では、分離する工程は、このような反応混合物を濾過し、固体を除去し、チオ(ジ)シランを含有し固体反応副生成物がない濾液を得る工程、を含んでもよい。濾液を蒸留又はストリッピングし、揮発性成分を濾液から除去し、濃縮した形態のチオ(ジ)シランを含有する残留物を得てもよい。このようにして除去した揮発性成分は、チオ(ジ)シランの沸点よりも低沸点の成分であり、それには例えば、未反応出発材料及び/又は任意の反応副生成物を挙げることができる。
チオ(ジ)シランの沸点よりも低沸点の反応混合物の任意の反応副生成物及び他の含有成分を除去した後、蒸発による方法によってチオ(ジ)シランを除去し、濃縮した形態のチオ(ジ)シランを含む残留物を得てもよい。チオ(ジ)シランを、残留物から蒸留又はストリッピングし、精製したチオ(ジ)シランを得て、任意の不揮発性反応副生成物及び/又は任意の不揮発性の更なる含有成分を含有する残留物を含む、釜残渣を残してもよい。このようにして残した不揮発性成分は、チオ(ジ)シランの沸点よりも高沸点の成分であり、それには例えば、媒質及び/又は接触させる工程中に2個以上のシラン分子の縮合によって生成したオリゴマー若しくはポリマー副生成物などの、不揮発性媒質を挙げることができる。
次いで、濃縮した形態のチオ(ジ)シランを分留により精製し、精製した形態のチオ(ジ)シランを得ることができる。チオ(ジ)シランの純度を、逆相液体クロマトグラフィによって、又はより多くの場合、後述のとおりガスクロマトグラフィ(GC)によって求めることができる。例えば、GCによって求めた純度は、60面積%〜≦100面積%(GC)、あるいは70面積%〜≦100面積%(GC)、あるいは80面積%〜≦100面積%(GC)、あるいは90面積%〜≦100面積%(GC)、あるいは93面積%〜≦100面積%(GC)、あるいは95面積%〜≦100面積%(GC)、あるいは97面積%〜≦100面積%(GC)、あるいは99.0面積%〜≦100面積%(GC)であり得る。≦100面積%の面積%(GC)は、各々独立して、100面積%(GC)に等しくてもよく、この態様では、精製したチオ(ジ)シランは、チオ(ジ)シランそのものである。あるいは≦100面積%の面積%(GC)は、各々独立して、<100面積%(GC)であってもよく、この態様では、精製したチオ(ジ)シランは、組成物である。組成物の<100面積%(GC)の最高純度は、全てチオ(ジ)シランの99.9999999面積%(GC)(「ナインナイン」の純度)、あるいは99.999999面積%(GC)(「エイトナイン」の純度)、あるいは99.99999面積%(GC)(「セブンナイン」の純度)、あるいは99.9999面積%(GC)(「シックスナイン」の純度)、あるいは99.999面積%(GC)(「ファイブナイン」の純度)、あるいは99.99面積%(GC)(「フォーナイン」の純度)、あるいは99.9面積%(GC)であってもよい。チオ(ジ)シラン、又は上記のシックスナインからナインナインの純度のチオ(ジ)シランから本質的になる組成物は、エレクトロニクス用途及び光起電用途用ケイ素材料の製造に特に有用であり得、概ね9の数がより多い純度になるほど、前述の用途におけるこれらの有用性がより向上すると考えられる。
本発明は、以下の非限定的な実施例によって更に説明され、本発明の実施形態は、この非限定的な実施例の特徴及び限定の任意の組み合わせを含んでもよい。周囲温度は別段の表示がない限り、約23℃である。
示差走査熱量測定(DSC)法1:装置及び標準条件:重量が既知の試料材料を20マイクロリットル(μL)の高圧DSCるつぼ内に装填し、るつぼを、プレス機を用いて封止し、Mettler Toledo、TGA/DSC1装置の炉内に置いた。炉を35℃で20分間熱平衡化した後、10℃/分の加熱速度で35℃から400℃まで昇温し、400℃で20分間保持し、10℃/分の冷却速度で周囲温度(23℃±1℃)まで冷却し、次いで10℃/分の加熱速度で400℃まで再加熱した。るつぼを炉から取り出し、放冷し、試料材料の重量を再測定し、試験方法中に試料の質量が減少したかどうかを判断した。
示差走査熱量測定(DSC)法2:装置及び等温条件:重量が既知の試料材料を、金封止したNetzchクロムニッケル鋼の100μLのディスク高圧るつぼに装填した。装填したるつぼをトルクレンチで封止し、Mettler Toledo、TGA/DSC1装置の炉内に置いた。炉を、10℃/分の加熱速度で35℃から指定温度(例えば、350℃)まで昇温し、指定温度で60分間保持し、10℃/分の冷却速度で35℃まで冷却し、次いで10℃/分で指定温度まで再加熱した。指定温度を、DSC法1によって示される温度として特定し、その熱プロファイルに関係する材料の信号を得ることができ、その信号の調査を、DSC法2を使用して行い、その信号の温度で化学的に起こることを理解することができる。(例えば、材料がDSC法1において250℃及び350℃で転移を示す場合、同じ材料の2つの等温試料を準備し、DSC法2においてそれぞれ250℃まで及び350℃まで実行することができる)。次に、るつぼを炉から取り出し、残留物の重量減少について測定した。DSC法2の特徴として、るつぼを開け、残留物を分析することができる。残留物は、固体及び液体を含む。るつぼの液体内容物をペンタンで抽出し、GC−FID及びGC−MSにより化学的に特定した。抽出後に残った固体を真空下で乾燥させ、ラマン分光法を使用して特定した。
ラマン分光法1:装置及び条件。装置:785nmのダイオードレーザーを備えた、対物レンズなしの顕微ラマン分光計(Kaiser Optical Systems Inc.)。DSC法2(等温)から残った固体残留物を含有する、開けたるつぼを、アルゴン充填気密ガラスバイアル内で封止し、顕微ラマン分光計を使用して50ミリワット(mW)のレーザー出力及び5cm−1の分解能での合計300秒の走査により、ラマンスペクトルを収集した。
ガスクロマトグラフィ−水素炎イオン化検出器(GC−FID)装置及び条件:キャピラリーカラムは、長さ30m、内径0.32mmで、厚さ0.25μmの固定相がキャピラリーカラムの内面上のコーティングの形態で入っており、固定相は、フェニルメチルシロキサンで構成した。キャリアガスには、流速105mm/分でヘリウムガスを使用した。GC装置はAgilentのモデル7890Aのガスクロマトグラフとした。インレット温度は200℃とした。GC実験温度プロファイルは、50℃で2分間の灼熱処理(保持)、15℃/分の速度で250℃までの昇温、及びその後の250℃で10分間の灼熱処理(保持)からなるものとした。
ガスクロマトグラフィ−熱伝導率検出器(GC−TCD)装置及び条件:キャピラリーカラムは、長さ30m、内径0.32mmで、厚さ0.25μmの固定相がキャピラリーカラムの内面上のコーティングの形態で入っており、固定相は、フェニルメチルシロキサンで構成した。キャリアガスには、流速105mm/分でヘリウムガスを使用した。GC装置はAgilentのモデル7890Aのガスクロマトグラフとした。入口温度は200℃とした。GC実験温度プロファイルは、50℃で2分間の灼熱処理(保持)、15℃/分の速度で250℃までの昇温、及びその後の250℃で10分間の灼熱処理(保持)からなるものとした。
GC−MS装置及び条件:試料を、電子衝撃イオン化及び化学イオン化ガスクロマトグラフィ−マススペクトル法(EI GC−MS及びCI GC−MS)によって分析した。Agilent6890GCの条件には、30メートル(m)×0.25ミリメートル(mm)×0.50マイクロメートル(μm)の膜構成によるDB−1カラムを含めた。50℃で2分間の均熱処理、250℃まで15℃/分で昇温、及び250℃で10分間の均熱処理のオーブンプログラム。ヘリウムキャリアガスは、1mL/分の定流量、及び50:1のスプリット注入にて流れる。Agilent5973MSDの条件には、MS走査範囲として15〜800ダルトンを含め、EIイオン化及びCIイオン化には5%のNH及び95%のCHの特注CIガス混合物を使用した。
29Si−NMR装置及び溶媒:Varian400MHz Mercuryスペクトロメータを使用した。Cを溶媒として使用した。
13C−NMR装置及び溶媒:Varian400MHz Mercuryスペクトロメータを使用した。Cを溶媒として使用した。
H−NMR装置及び溶媒:Varian400MHz Mercuryスペクトロメータを使用した。Cを溶媒として使用した。
沸点試験法1:ACD/Labs Percepta Boiling Point Module、2012年発売、Advanced Chemistry Development,INC.(Toronto,Ontario,Canada)を使用する。
実験手法:全ての化学的操作は、不活性雰囲気、並びにシュレンク装置及びグローブボックスを使用して行った。リチウムアルキルチオレートなどのリチウムヒドロカルビルチオレートを生成させるのに好適な溶媒は、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、又はこれらの任意の2つ若しくは3つの混合物の無水形態である。
本発明の実施例(IEx.)(a):リチウム1,1−ジメチルエチルチオレートの合成。1,1−ジメチルエチルチオール(280g、3.1mol)の、−40℃の無水ジエチルエーテル撹拌溶液に、n−ブチルリチウムの6.3モル濃度のヘキサン溶液を滴下し、添加が完了した後、得られた混合物を室温まで加温し、リチウム1,1−ジメチルエチルチオレートの溶液を得た。
IEx.1:式
Figure 0006949947
のビス(1,1−ジメチルエチルチオ)シランの合成。ジクロロシラン(SiCl、156.8g、1.55mol)の、40℃のヘプタン撹拌溶液に、IEx.(a)のリチウム1,1−ジメチルエチルチオレート(3.1mol)の溶液を添加し、反応混合物を得た。リチウム1,1−ジメチルエチルチオレートの溶液の添加速度を制御して、反応混合物の温度を−40℃に維持した。添加が完了した後、反応混合物を−40℃で2時間撹拌し、次いで室温まで加温した。得られた混合物をガラスフリットで濾過し、固体(例えば、LiCl)を除去し、濾液を分留し、ビス(1,1−ジメチルエチルチオ)シラン(収率70%)を無色透明の液体として得た。H−NMR:1.39ppm(シングレット、2H)、5.39ppm(シングレット、2H)。13C−NMR:33.92ppm(シングレット)、45.42ppm(シングレット)。29Si−NMR:−30.99ppm(トリプレット)。GC/MS:分子イオン(m/z=208.2)は、ビス(1,1−ジメチルエチルチオ)シランと一致した。
IEx.(b):リチウム1,2−ジメチルプロピルチオレートの合成。50gのヘキサンに溶解した1,2−ジメチルプロピルチオール(10.0g、0.096mol)の、−5℃の撹拌溶液に、38.4mLの、n−ブチルリチウムの2.5Mヘキサン溶液を滴下し、添加が完了した後には多量の白色沈殿物が生成しており、これがリチウム1,2−ジメチルプロピルチオレートであった。得られた混合物を室温まで加温し、1時間撹拌した。次いで、上澄み溶液をデカントし、残った固体を10mLのペンタンで洗浄し、減圧下で乾燥させ、10.08g(0.092mol、95.4%)のリチウム1,2−ジメチルプロピルチオレートを得た。
IEx.2:式
Figure 0006949947
のビス(1,2−ジメチルプロピルチオ)シランの合成。ジクロロシラン(SiCl、3.21g、0.032mol)の、−20℃のヘプタン撹拌溶液に、7.00g(0.064mol)の、IEx.(b)の固体リチウム1,2−ジメチルプロピルチオレートを、1gの分量ずつ25分かけて添加し、反応混合物を得た。添加が完了した後、反応混合物を−20℃で10分間撹拌し、次いで室温までゆっくり加温した。得られた混合物をガラスフリットで濾過し、固体(LiCl)を除去し、低沸点成分を減圧下で濾液から除去し、4.44g(0.019mol、収率59.0%)のビス(1,2−ジメチルプロピルチオ)シランを無色透明の液体として得た。ビス(1,2−ジメチルプロピルチオ)シランは、所望の場合、蒸留により更に精製することができる。H−NMR:0.88ppm(ダブレット、6H)、0.93ppm(ダブレット、6H)、1.25ppm(ダブレット、6H)、1.73ppm(マルチプレット、2H)、3.00ppm(マルチプレット、2H)、5.31ppm(シングレット、2H)。13C−NMR:19.07ppm、19.51ppm、21.44ppm、21.48ppm、35.55ppm、47.03ppm、47.10ppm。29Si−NMR:−15.93ppm(トリプレット)。GC/MS分子イオン(m/z=236.2)は、ビス(1,2−ジメチルプロピルチオ)シランと一致した。
IEx.3:式
Figure 0006949947
のジクロロ−ビス(1,2−ジメチルプロピルチオ)−シランの合成。ペンタン10mL中の四塩化ケイ素(1.54g、0.009mol)の、0℃の撹拌溶液に、2.00g(0.018mol)の、IEx.(b)の固体リチウム1,2−ジメチルプロピルチオレートを、40分かけてゆっくり添加し、反応混合物を得た。添加が完了した後、反応混合物を1hにわたって撹拌した。得られた混合物をガラスフリットで濾過し、固体(LiCl)を除去し、低沸点成分を減圧下で濾液から除去し、2.23gの粗ビス(1,2−ジメチルプロピルチオ)−ジクロロシラン(純度58.4%、0.04mol、収率47.0%)を無色透明の液体として得た。ビス(1,2−ジメチルプロピルチオ)シランは、所望の場合、蒸留により更に精製することができる。GC/MS分子イオン(m/z=304.1)は、ジクロロ−ビス(1,2−ジメチルプロピルチオ)−シランと一致した。
IEx.4:ビス(1,1−ジメチルエチルチオ)シランと、式
Figure 0006949947
の1,1−ジメチルエチルチオシランとの混合物を含む組成物の合成試行。未希釈のビス(1,1−ジメチルエチルチオ)シランを、15mLシンチレーションバイアル中、隔壁を針で通気しつつ157℃まで10分かけて加熱することにより、熱的に再分布させ、室温まで冷却し、ビス(1,1−ジメチルエチル)ジスルフィド((CHCSSC(CH)を含む組成物を無色透明の液体として得た。GC/MS分子イオン(m/z=178.1)は、ビス(1,1−ジメチルエチル)ジスルフィド((CHCSSC(CH)と一致した。
IEx.5:(1,1−ジメチルエチルチオ)ジシランの合成。1,1−ジメチルエチルチオール(6.74g、74.7mmol)を、ジイソプロピルアミノジシラン(10.05g、62.3mmol)に室温で添加した。得られた反応混合物を60℃で2時間加熱し、室温まで冷却した。GC分析により、(1,1−ジメチルエチルチオ)ジシランへの変換率は99%であることが示された。反応混合物を、6インチ(15センチメートル(cm))のビグリューカラムを通して分留し、GC−FIDによる純度が98.1%の(1,1−ジメチルエチルチオ)ジシランを得た。H NMR、GC−FID、GC−MS及びDSC法1(標準条件)は、(1,1−ジメチルエチルチオ)ジシランと一致した。
IEx.6:(フェニルチオ)ジシランの合成。チオフェノール(5.34g、48.5mmol、CSH)を、ジイソプロピルアミノジシラン(8.60g、53.3mmol)に、40℃以下で添加した。得られた混合物を70℃で0.5時間加熱し、(フェニルチオ)ジシランを得た。GC−FID分析により、(フェニルチオ)ジシランへの変換率は95%であることが示された。反応混合物を、6インチ(15cm)のビグリューカラムを通して分留し、GC−FIDによる純度が99.2%の(フェニルチオ)ジシランを得た。H NMR、GC−FID、GC−MS及びDSC法1(標準条件)は、(フェニルチオ)ジシランと一致した。
IEx.7:(2−メチルフェニルチオ)ジシランの合成。トルエンチオール(4.27g、34.4mmol)を、ジイソプロピルアミノジシラン(6.10g、37.8mmol)に、35℃以下で添加した。反応混合物を70℃で0.5時間加熱した。GC−FID分析により、(2−メチルフェニルチオ)ジシランへの変換率は96%であることが示された。反応混合物を、6インチ(15cm)のビグリューカラムを通して分留し、GC−FIDによる純度が99.5%の(2−メチルフェニルチオ)ジシランを得た。H NMR、GC−FID、GC−MS及びDSC法1(標準条件)は、(2−メチルフェニルチオ)ジシランと一致した。
IEx.8:(t−ペンチルチオ)シランの合成。7.7%(重量/重量)のジイソプロピルアミノシラン(DiPAS)又は1.00g(7.65mmol)のDiPASを含有する、DiPASのトルエン溶液をシュレンク管に入れた。次に、2.15g(20.6mmol)のt−ペンチルチオールを、室温で滴下した。この反応混合物を62℃で60分間加熱し、真空下で12インチのビグリューカラムを通して分留し、透明な液体生成物(0.90g)を回収した。液体生成物をGC−FID及びGC−MSにより分析すると、41%(重量/重量)の(t−ペンチルチオ)シランを含有していた。
IEx.9:(フェニルチオ)シラン(PhSSiH)及びビス(フェニルチオ)シラン((PhS)SiH)の合成。7.7%(重量/重量)のジイソプロピルアミノシラン(DiPAS)又は1.03g(7.84mmol)のDiPASを含有する、DiPASのトルエン溶液をシュレンク管に入れた。次に、0.786g(7.13mmol)のチオフェノールを、室温で滴下した。この反応混合物を67℃で30分間加熱し、室温で真空引きし、低沸点物質を除去した。透明な液体残留物(0.50g)を生成物として回収した。液体生成物をGC−FID及びGC−MSにより分析すると、95%(重量/重量)のフェニルチオシランを含有していた。(ビスフェニルチオ)シランが、(フェニルチオ)シランから32%の変換率で、室温で3日間のうちに生成した。
IEx.10:(2−メチルフェニルチオ)シラン(2−MePhSSiH)及びビス(2−メチルフェニルチオ)シラン((2−MePhS)SiH)の合成。7.7%(重量/重量)のジイソプロピルアミノシラン(DiPAS)又は1.00g(7.61mmol)のDiPASを含有する、DiPASのトルエン溶液をシュレンク管に入れた。次に、1.12g(9.02mmol)の2−メチルチオフェノールを、室温で滴下した。この反応混合物を65℃で30分間加熱し、室温で真空引きし、低沸点物質を除去した。透明な液体残留物(1.10g)を生成物として回収した。液体生成物をGC−FID及びGC−MSにより分析すると、95%(重量/重量)の(2−メチルフェニルチオ)シランを含有していた。ビス(2−メチルフェニルチオ)シランが、(2−メチルフェニルチオ)シランから15%の変換率で、室温で3日間のうちに生成した。
IEx.11:(2,6−ジメチルフェニルチオ)シラン(2,6−MePhSSiH)及びビス(2,6−ジメチルフェニルチオ)シラン((2,6−MePhS)SiH)の合成。7.7%(重量/重量)のジイソプロピルアミノシラン(DiPAS)又は1.06g(8.07mmol)のDiPASを含有する、DiPASのトルエン溶液をシュレンク管に入れた。次に、1.27g(9.19mmol)の2,6−ジメチルフェニルチオフェノールを、室温で滴下した。この反応混合物を67℃で30分間加熱し、室温で真空引きし、低沸点物質を除去した。透明な液体残留物(1.37g)を生成物として回収した。液体生成物をGC−FID及びGC−MSにより分析すると、95%(重量/重量)の(2,6−ジメチルフェニルチオ)シランを含有していた。ビス(2,6−ジメチルフェニルチオ)シランが、(2,6−ジメチルフェニルチオ)シランから5%の変換率で、室温で31日間のうちに生成した。
IEx.12:(ベンジルチオ)ジシラン(PhCHSSiHSiH)の合成。ベンジルチオール(0.651g、5.24mmol)をジイソプロピルアミノジシラン(0.930g、5.76mmol)に室温で添加した。反応混合物を66℃で0.5時間加熱した。GC−FID分析により、(ベンジルチオ)ジシランへの変換率は99%であることが示された。反応混合物を室温で真空引きし、低沸点物質を除去した。透明な液体残留物(0.50g)を生成物として回収した。生成物は、GC−FIDによると97%の(ベンジルチオ)ジシランを含有していた。H NMR、GC−FID及びGC−MSは、(ベンジルチオ)ジシランと一致した。
IEx.A:ビス(1,1−ジメチルエチルチオ)シラン及びアンモニア(NH)を使用する、LPCVDによる窒化ケイ素膜の調製(理論実施例)。LPCVD反応器、及びIEx.1のビス(1,1−ジメチルエチルチオ)シランが入っておりLPCVD反応器と流体連通しているバブラー使用。ヘリウム中で希釈したアンモニアをLPCVD反応器に供給する。ビス(1,1−ジメチルエチルチオ)シランが入っているバブラーを70℃まで加熱し、その蒸気圧を高める。次いで、Heキャリアガスをバブラーに通し、ビス(1,1−ジメチルエチルチオ)シランの蒸気をLPCVD反応器に送る。その際、LPCVD反応器には、アンモニア蒸気及び60℃から800℃まで加熱した、垂直に向き間隔を空けた複数のシリコンウエハが収容されており、その結果ウエハ上にコンフォーマルな窒化ケイ素膜が形成される。
IEx.B:ビス(1,1−ジメチルエチルチオ)シラン及びアンモニア(NH)を使用する、ALDによる窒化ケイ素膜の調製(理論実施例)。ALD反応器、及びIEx.2のビス(1,2−ジメチルプロピルチオ)シランが入っておりALD反応器と流体連通しているバブラー使用。ヘリウム中のビス(1,1−ジメチルエチルチオ)シランの、ALD反応器への第1の供給を行い、次に第1の供給を停止し、ヘリウム中で希釈したアンモニアの、ALD反応器への第2の供給を開始する。ビス(1,1−ジメチルエチルチオ)シランが入っているバブラーを70℃まで加熱し、その蒸気圧を高める。ALD反応器には、60℃から600℃まで加熱した、垂直に向き間隔を空けた複数のシリコンウエハが収容されている。第1の供給及び第2の供給を交互に行うことにより、窒化ケイ素を含有するコンフォーマルな膜がウエハ上に形成される。
以下の特許請求の範囲は、参照により本明細書に組み込まれ、用語「請求項」(単数及び複数)はそれぞれ用語「態様」(単数及び複数)に置き換えられる。本発明の実施形態は、これらの得られた番号付けされた態様も包含する。

Claims (6)

  1. 式(I−a):
    (R1a1b1cCS)(Si−Si)H (I−a)
    [式中、添字sは、1〜2の整数であり、添字hは、4〜5の整数であり、ただし、s+hの合計=6であり、
    Hは、各々独立して、式(I−a)中のケイ素原子のうちの同じもの又は異なるものに結合し、
    1a、R1b、及びR1cは、限定(a)、(b)、又は(c)によって特定され、
    (a)は、少なくとも1つのR1aが、独立して、(C〜C20)アルキル又はフェニルであり、任意の残りのR1a、R1b、及びR1cは、各々独立して、H又は(C〜C20)アルキルであるというものであり、又は、
    (b)は、少なくとも1つの基R1a1b1cCは、置換基SUBで置換されたか又は非置換の(C〜C20)アリールであり、添字sが2である場合には、残りの基R1a1b1cCは、置換基SUBで置換された(C〜C20)アリールであるか、あるいは残りの基R1a1b1cCのR1a、R1b、及びR1cは、各々独立して、H又は(C〜C20)アルキルであるというものであり、又は、
    (c)は、同じ又は異なるR1a1b1cC基におけるR1a、R1b、及びR1c(総称するとR基)のうちの任意の2つが一緒に結合し、二価の基、−R11−(式中、−R11−は、CH又は(C〜C20)アルキレンである。)を形成し、任意の残りのR1a、R1b、及びR1cは、各々独立して、H又は(C〜C20)アルキルであるというものであり、
    SUBは、各々独立して、非置換(C〜C)アルキル、非置換(C〜C)シクロアルキル、非置換(C〜C)アルケニル、非置換(C〜C)アルキニル、非置換(C〜C)アリール、フルオロ、クロロ、又はブロモである。]
    の、チオジシラン。
  2. 添字sは、1であり、添字hは5であり、(C〜C20)アルキルは、各々独立して、非置換(C〜C)アルキルである、請求項1に記載のチオジシラン。
  3. (1,1−ジメチルエチルチオ)ジシラン、ビス(1,1−ジメチルエチルチオ)ジシラン、(フェニルチオ)ジシラン、(t−ペンチルチオ)ジシラン、ビス(t−ペンチルチオ)ジシラン、(ベンジルチオ)ジシラン、ビス(ベンジルチオ)ジシラン、(2−メチルフェニルチオ)ジシラン、ビス(2−メチルフェニルチオ)ジシラン、(2,6−ジメチルフェニルチオ)ジシラン、ビス(2,6−ジメチルフェニルチオ)ジシラン、ビス(1,2−ジメチルプロピルチオ)ジシラン、及び(1,2−ジメチルプロピルチオ)ジシランから選択される、請求項1に記載のチオジシラン。
  4. 式(II):(R N)(n+s)(Si−Si)H(II)のアミノジシランを、式(III):R1a1b1cCSH(III)のオルガノチオールと20℃〜120℃の温度で接触させ、式(IV):(R1a1b1cCS)(R N)(Si−Si)H(IV)
    [式中、
    添字sは、1〜2の整数であり、
    添字nは、0であり、
    添字hは、4〜5の整数であり、
    ただし、s+n+hの合計=6であり、
    Hは、各々独立して、式(IV)中のケイ素原子のうちの同じもの又は異なるものに結合し、
    1a、R1b、及びR1cは、限定(a)、(b)、又は(c)によって特定され、
    (a)は、少なくとも1つのR1aが、独立して、(C〜C20)アルキル又はフェニルであり、任意の残りのR1a、R1b、及びR1cは、各々独立して、H又は(C〜C20)アルキルであるというものであり、又は、
    (b)は、少なくとも1つの基R1a1b1cCは、置換基SUBで置換されたか又は非置換の(C〜C20)アリールであり、添字sが2である場合には、残りの基R1a1b1cは、置換基SUBで置換されたか又は非置換の(C〜C20)アリールであるか、あるいは残りの基R1a1b1cCのR1a、R1b、及びR1cは、各々独立して、H又は(C〜C20)アルキルであるというものであり、又は、
    (c)は、同じ又は異なるR1a1b1cC基におけるR1a、R1b、及びR1c(総称するとR基)のうちの任意の2つが一緒に結合し、二価の基、−R11−(式中、−R11−は、CH又は(C〜C20)アルキレンである。)を形成し、任意の残りのR1a、R1b、及びR1cは、各々独立して、H又は(C〜C20)アルキルであるというものであり、
    は、各々独立して、H又は(C〜C20)ヒドロカルビルであり、又は任意の2つのR基が一緒に結合し、二価の基、−R22−(式中、−R22−は、(C〜C20)ヒドロカルビレンである。)を形成してもよく、任意の残りのR基は、各々独立して、H又は(C〜C20)ヒドロカルビルであり、
    ヒドロカルビル及びヒドロカルビレンは、各々独立して、非置換であるか又は1つ〜5つの置換基SUBで置換されており、
    SUBは、各々独立して、非置換(C〜C)アルキル、非置換(C〜C)シクロアルキル、非置換(C〜C)アルケニル、非置換(C〜C)アルキニル、非置換(C〜C)アリール、フルオロ、クロロ、又はブロモである。]
    のチオジシランを得ることを含む、チオジシランの合成方法。
  5. ビス(1,1−ジメチルエチルチオ)シラン、ビス(1,2−ジメチルプロピルチオ)シラン、ビス(t−ペンチルチオ)シラン、ジクロロ−ビス(1,2−ジメチルプロピルチオ)シラン、t−ペンチルチオシラン、(2−メチルフェニルチオ)シラン、ビス(2−メチルフェニルチオ)シラン、(2,6−ジメチルフェニルチオ)シラン、又はビス(2,6−ジメチルフェニルチオ)シランからなる群から選択されるチオシランであるケイ素生成前駆体
  6. ビス(1,1−ジメチルエチルチオ)シラン、ビス(1,2−ジメチルプロピルチオ)シラン、ビス(t−ペンチルチオ)シラン、t−ペンチルチオシラン、(2−メチルフェニルチオ)シラン、ビス(2−メチルフェニルチオ)シラン、(2,6−ジメチルフェニルチオ)シラン、又はビス(2,6−ジメチルフェニルチオ)シランからなる群から選択されるチオシランであるケイ素生成前駆体を合成する方法であって、
    式(B):(R N)(Si)H(B)のアミノシランを、式(C):R1a1b1cCSH(C)のオルガノチオールと20℃〜120℃の温度で接触させ、式(D):(R1a1b1cCS)(Si)H(D)
    [式中、
    添字sは、1〜4の整数であり、
    添字hは、0〜3の整数であり、
    ただし、s+hの合計=4であり、
    は、各々独立して、H又は(C〜C20)ヒドロカルビルであり、又は任意の2つのR基が一緒に結合し、二価の基、−R22−(式中、−R22−は、(C〜C20)ヒドロカルビレンである。)を形成してもよく、任意の残りのR基は、各々独立して、H又は(C〜C20)ヒドロカルビルであり、
    1a、R1b、及びR1cは、限定(a)、(b)、又は(c)によって特定され、(a)は、R1aが、(C〜C)アルキルであり、R1bが、(C〜C)アルキル又はHであり、R1cが、Hであるというものであり、又は、(b)は、R1a、R1b、及びR1cが、各々独立して、(C〜C)アルキルであるというものであり、(c)は、R1a1b1cCが、非置換フェニル基又は1つ以上のメチル基で置換されたフェニル基を表すというものであり、
    アルキルは、各々、非置換である。]
    のチオシランを得る、ケイ素生成前駆体の合成方法。
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