JP6926765B2 - 基板加熱装置及び基板加熱方法 - Google Patents
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Description
載置台に載置された基板を、基板の下面側から加熱して加熱処理する基板加熱装置において、
基板を載置台の載置面と当該載置面よりも上方位置との間で昇降させる昇降部と、
前記載置台の載置面と対向するように設けられた天板部と、
前記天板部に設けられた冷却部と、
前記天板部の下面に各々開口し、基板の周縁部よりも中央寄りの位置に対向する部位に形成された第1のガス吐出口及び当該第1のガス吐出口よりも天板部の周縁側に形成された第2のガス吐出口を含むガス供給部と、
前記第1のガス吐出口から吐出されるガスの流量を調整するための第1の流量調整部及び、前記第2のガス吐出口から吐出されるガスの流量を調整するための第2の流量調整部と、
前記天板部における前記第2のガス吐出口の外側に設けられ、前記上方位置に位置する基板の周縁部側から排気するための上側排気口と、
前記載置台の周囲に設けられた下側排気口と、
前記上側排気口の排気量を調整するための上側排気口用の排気量調整部及び前記下側排気口の排気量を調整するための下側排気口用の排気量調整部と、
前記加熱処理時に前記第1のガス吐出口及び第2のガス吐出口からパージガスを吐出させ、前記下側排気口から排気するステップと、加熱処理が終了した後の基板を、前記冷却部により基板を冷却するために前記昇降部により前記載置台の載置面から前記天板部の近傍位置まで上昇させるステップと、前記天板部の近傍位置まで上昇した基板に対して、前記ガス供給部からの冷却ガスの吐出と前記上側排気口の排気とにより、前記基板の中央部から当該基板の周縁部に向かうガス流によるベルヌーイ効果により基板の中央部に負圧を発生させるステップと、を実行するように制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする。
基板の載置台の載置面と対向するように設けられた天板部の下面に各々開口し、基板の周縁部よりも中央寄りの位置に対向する部位に形成された第1のガス吐出口及び当該第1のガス吐出口よりも天板部の周縁側に形成された第2のガス吐出口を含むガス供給部と、前記第1のガス吐出口から吐出されるガスの流量を調整するための第1の流量調整部及び、前記第2のガス吐出口から吐出されるガスの流量を調整するための第2の流量調整部と、前記天板部における前記第2のガス吐出口の外側に設けられ、載置台から上昇した基板の周縁部側から排気するための上側排気口と、前記載置台の周囲に設けられた下側排気口と、前記上側排気口の排気量を調整するための上側排気口用の排気量調整部及び前記下側排気口の排気量を調整するための下側排気口用の排気量調整部と、を備えた基板加熱装置を用い、
基板を載置台に載置する工程と、
次いで前記第1のガス吐出口及び第2のガス吐出口からパージガスを吐出させ、前記下側排気口から排気しながら、前記基板を当該基板の下面側から加熱して加熱処理する工程と、
加熱処理後の基板を昇降部により前記載置台の載置面から上昇させて、前記天板部の近傍に位置させ、前記天板部に設けられた冷却部により基板を冷却する工程と、
前記天板部の近傍位置まで上昇した基板に対して、前記ガス供給部からの冷却ガスの吐出と前記上側排気口の排気とにより、前記基板の中央部から当該基板の周縁部に向かうガス流によるベルヌーイ効果により基板の中央部に負圧を発生させる工程と、を含むことを特徴とする。
2 熱板
23 昇降ピン
24 昇降機構
3、8 天板部
310 通流路
4、83 ガス供給部
45、831 ガス吐出口
5 ペルチェ素子
7 冷却板
86 冷却機構
61、87 排気口
100 制御部
W 半導体ウエハ
Claims (10)
- 載置台に載置された基板を、基板の下面側から加熱して加熱処理する基板加熱装置において、
基板を載置台の載置面と当該載置面よりも上方位置との間で昇降させる昇降部と、
前記載置台の載置面と対向するように設けられた天板部と、
前記天板部に設けられた冷却部と、
前記天板部の下面に各々開口し、基板の周縁部よりも中央寄りの位置に対向する部位に形成された第1のガス吐出口及び当該第1のガス吐出口よりも天板部の周縁側に形成された第2のガス吐出口を含むガス供給部と、
前記第1のガス吐出口から吐出されるガスの流量を調整するための第1の流量調整部及び、前記第2のガス吐出口から吐出されるガスの流量を調整するための第2の流量調整部と、
前記天板部における前記第2のガス吐出口の外側に設けられ、前記上方位置に位置する基板の周縁部側から排気するための上側排気口と、
前記載置台の周囲に設けられた下側排気口と、
前記上側排気口の排気量を調整するための上側排気口用の排気量調整部及び前記下側排気口の排気量を調整するための下側排気口用の排気量調整部と、
前記加熱処理時に前記第1のガス吐出口及び第2のガス吐出口からパージガスを吐出させ、前記下側排気口から排気するステップと、加熱処理が終了した後の基板を、前記冷却部により基板を冷却するために前記昇降部により前記載置台の載置面から前記天板部の近傍位置まで上昇させるステップと、前記天板部の近傍位置まで上昇した基板に対して、前記ガス供給部からの冷却ガスの吐出と前記上側排気口の排気とにより、前記基板の中央部から当該基板の周縁部に向かうガス流によるベルヌーイ効果により基板の中央部に負圧を発生させるステップと、を実行するように制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする基板加熱装置。 - 前記基板の中央部に負圧を発生させるステップにおいては、第2のガス吐出口からのガスの吐出を停止し、第1のガス吐出口から冷却ガスを吐出させることを特徴とする請求項1記載の基板加熱装置。
- 前記基板の中央部に負圧を発生させるステップにおいては、前記下側排気口からの排気を停止するかあるいは前記下側排気口の排気量を加熱処理時よりも小さくすることを特徴とする請求項1または2記載の基板加熱装置。
- 前記冷却部はペルチェ素子であり、前記天板部は当該ペルチェ素子により冷却されることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一項に記載の基板加熱装置。
- 前記冷却部は冷却媒体の通流路であり、前記天板部は当該冷却媒体により冷却されることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一項に記載の基板加熱装置。
- 前記上側排気口は、天板部の近傍位置にある基板よりも高い位置に設けられていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一項に記載の基板加熱装置。
- 前記載置台の側方には、基板を補助的に冷却するための冷却体が設けられ、
前記制御部は、前記天板部に設けられた冷却部により基板を冷却した後の基板を前記冷却体により冷却するように制御信号を出力することを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一項に記載の基板加熱装置。 - 基板の載置台の載置面と対向するように設けられた天板部の下面に各々開口し、基板の周縁部よりも中央寄りの位置に対向する部位に形成された第1のガス吐出口及び当該第1のガス吐出口よりも天板部の周縁側に形成された第2のガス吐出口を含むガス供給部と、前記第1のガス吐出口から吐出されるガスの流量を調整するための第1の流量調整部及び、前記第2のガス吐出口から吐出されるガスの流量を調整するための第2の流量調整部と、前記天板部における前記第2のガス吐出口の外側に設けられ、載置台から上昇した基板の周縁部側から排気するための上側排気口と、前記載置台の周囲に設けられた下側排気口と、前記上側排気口の排気量を調整するための上側排気口用の排気量調整部及び前記下側排気口の排気量を調整するための下側排気口用の排気量調整部と、を備えた基板加熱装置を用い、
基板を載置台に載置する工程と、
次いで前記第1のガス吐出口及び第2のガス吐出口からパージガスを吐出させ、前記下側排気口から排気しながら、前記基板を当該基板の下面側から加熱して加熱処理する工程と、
加熱処理後の基板を昇降部により前記載置台の載置面から上昇させて、前記天板部の近傍に位置させ、前記天板部に設けられた冷却部により基板を冷却する工程と、
前記天板部の近傍位置まで上昇した基板に対して、前記ガス供給部からの冷却ガスの吐出と前記上側排気口の排気とにより、前記基板の中央部から当該基板の周縁部に向かうガス流によるベルヌーイ効果により基板の中央部に負圧を発生させる工程と、を含むことを特徴とする基板加熱方法。 - 前記基板の中央部に負圧を発生させる工程においては、第2のガス吐出口からのガスの吐出を停止し、第1のガス吐出口から冷却ガスを吐出させることを特徴とする請求項8記載の基板加熱方法。
- 前記基板の中央部に負圧を発生させる工程においては、前記下側排気口からの排気を停止するかあるいは前記下側排気口の排気量を加熱処理時よりも小さくすることを特徴とする請求項8または9記載の基板加熱方法。
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