JP6923909B2 - 偏光特性測定方法および偏光特性測定装置 - Google Patents
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Description
また、被測定対象の光学特性を伝達関数として測定する方法ならびに装置がある(例えば、特許文献2参照)。この測定方法等では、ジョーンズ行列を使用して周波数変調による偏光状態を測定している。
また、偏光素子の回転角を変数として光強度を求め、この光強度に対して位相差や方位角の誤差を補正する技術がある(例えば、非特許文献1参照)。
また、従来の複屈折測定等ではミュラー行列を用いて解析を行う際に、特定の偏光特性に限定して処理を行っており、例えばミュラー行列等を用いて光学素子の偏光特性を全体的に測定することは行われておらず、このような処理の手法は確立されていなかった。
また、偏光特性の解析にミュラー行列を用いる場合には、一般的にはDFTを使用し、光強度について最低でも32点のサンプリングを行う必要がある。そのため、画像撮影の露光時間を長くしなければならないときには、特性の測定時間が相当に長くなる。また、サンプリング数が多くなることから、処理するデータ量も多大になり演算処理に関する負荷が重くなって解析に要する時間が長くなるという問題点があった。
なお、本明細書においては、図面ならびに数式において太字表記したベクトルを、『[]』を用いて表記する。
(実施例)
図1は、本発明の実施例による偏光特性測定装置の概略構成を示す説明図である。図示した測定装置1は、所定波長の光を試料13へ向けて出射する光源11、試料13へ入射させる光を変調する偏光変調部12を備えている。
また、測定装置1は、試料13から出射された光に所定の偏光等を施し、後述する演算に対応させる偏光解析部14、偏光解析部14から出射された光を入射し、所定の電気信号へ変換出力する検出器15、検出器15の出力信号を用いて所定演算を行う演算手段16を備えている。
偏光変調部12は、偏光子P1と位相板R1を有し、偏光子P1は、例えば直線偏光素子であり、透過軸方位を所望の角度へ回転させて設定調整することを可能に構成された例えばホルダ等によって支持されている。位相板R1は、例えば波長633nmの入射光に対して位相を1/4波長分遅延させるλ/4波長板であり、主軸方位を所望の角度へ回転させて設定調整することを可能に構成された例えばホルダ等によって支持されている。
偏光変調部12と偏光解析部14の間には、前述の図示を省略した試料ステージが設置されており、この試料ステージ等を用いて試料13が測定装置1の所定位置に固定されている。
検出器15は、例えば、画像等を撮影可能な撮像素子や分光機構などを備えたCCDカメラ等であり、撮影したカラー画像を表す信号を出力するように構成されている。
なお、測定装置1は、例えば、前述の光導波路等によって接続された、光源11、偏光変調部12、偏光解析部14、検出器15などにより測定光学系を構成している。特に、検出器15に偏光解析部14から出射された光以外が入射しないように、測定装置1内部、もしくは当該測定装置1を設置する場所は、暗室環境とする必要がある。
なお、測定装置1の測定精度を高めるため、単色性の良好な光源11、ならびに波長分解能の良好な検出器15を使用することが好ましい。
また、演算手段16は、偏光子P1、位相板R1、位相板R2、偏光子P2等の光学素子の方位角度等を示す値を取得するように構成されており、例えば、上記の各光学素子を支持するホルダ等にセンサを備え、このセンサの出力信号から方位角度等の値を表すデータを取得するように構成されている。
ここでは、
i)偏光変調部12について、
偏光子P1の透過軸方位をθP1、
位相板R1の主軸方位をθR1,位相差(任意)をδ1(δ1≠180×n度)
ii)偏光解析部14について、
位相板R2の主軸方位をθR2,位相差(任意)をδ2(δ2≠180×n度)、
偏光子P2の透過軸方位をθP2、
と定義して説明する。
初めに、偏光解析部14の位相板R2の位相差δ2を、測定光学系を稼働させて測定する(Step1)。
次に、Step1において測定した位相差δ2を示すデータを用いて、偏光解析部14の伝達行列(4×4)を求め、この伝達行列の逆行列と検出器15が検出した光強度とを用いて、偏光解析部14の光入射側における偏光特性(ストークスベクトル・4×1)を求める(Step2)。
また、試料13の偏光特性を測定する動作では、試料13がない状態で得られるストークスベクトル[Sin]と、試料13を透過したときのストークスベクトル[Sout]とをStep2の処理動作によって求める。これらから試料13の偏光特性を示すミュラー行列を求め、当該ミュラー行列の要素を用いて試料13の偏光特性を定量化する(Step3)。
なお、下記のStep1およびStep2で説明する動作処理は、後述するStep3において行われる動作処理の一部分である。
<Step1>
1−1.例えば、偏光変調部12の偏光子P1の透過軸方位θP1に対して、位相板R1の主軸方位θR1および位相板R2の主軸方位θR2を、平行となる、または直交する方位に設定する。このとき、各位相板の主軸方位を進相軸あるいは遅相軸のどちらに設定してもよい。
1−2.偏光解析部14の位相板R2の主軸方位θR2を、例えば、上記の項目1−1で設定した状態から45×(2n+1)度回転させる。
1−3.偏光解析部14の主軸方位θR2を、上記の項目1−2で設定した状態としておき、当該偏光解析部14の偏光子P2の透過軸方位θP2を、偏光変調部12の偏光子P1の透過軸方位θP1に対して平行状態に設定したときの光強度と、直交状態に設定したときの光強度を、順次、演算手段16のメモリ等に記憶させる。
例えば、偏光子P1の透過軸方位θP1=0度、位相板R1の主軸方位θR1=0度、位相板R2の主軸方位θR2=45度と設定し、偏光子P2の透過軸方位θP2=0度(θP1と平行状態)において検出器15が検出した光強度をI0、透過軸方位θP2=90度(θP1と直交状態)において検出器15が検出した光強度をI90としたとき、位相板R2の位相差δ2は、次の式(1)によって求められる。
演算手段16は、前述の記憶した2枚の(2つの状態で撮影された)画像ファイルについて、これら画像の各ピクセルに存在する光強度を抽出し、項目1−4で説明した式(1)の演算をピクセル毎に行って、位相板R2が有する位相差δ2の二次元分布を表す画像データを生成する。
2−1.偏光解析部14の直前(光入射側)の偏光状態をストークスベクトル[S]=(S0,S1,S2,S3)と表し、前述の各光学素子に対応するミュラー行列から、検出器5を用いた場合の光強度Iiを算出する式を生成する。ここで例示する測定装置1では、次の式(2)のように定められる。
2−3.偏光解析部14の各光学素子の方位θR2及び方位θP2の各角度を任意に設定し、ある射偏光状態の光が偏光解析部14を透過した後の光強度Iiを測定し、この測定値を例えば前述のメモリ等に記憶させる。
2−4.偏光解析部14の各光学素子の方位θR2及び方位θP2の角度設定を4回変更して、項目2−3で説明した動作処理を繰り返す(i=1〜4)。
ここで、光学素子の方位角度を変更して光強度Iiを繰り返し測定するとき、方位θR2,θP2の各角度は、順次、任意に設定するが、上記のθaが同一とならないように設定する。
また、演算手段16は、項目2−3で説明したように、偏光解析部14の各光学素子について、例えば、前述の機構部等を制御して当該光学素子を支持するホルダ等を回転させ、図10の表2に示すように方位角度を設定する。また、検出器15を用いて各方位角度における撮影を行い、撮影した各画像ファイルの光強度Iiを前述のメモリ等に記憶させ、これらの動作処理を項目2−4で説明したように繰り返して、伝達行列A、さらに逆行列A−1を求め、偏光解析部14直前の偏光状態を示すストークスベクトル[S]を求める。
測定装置1は、次に説明するStep3の動作処理によって試料13の偏光特性を測定する。Step3は、後述する各光学素子に設定された様々な方位角度等についてStep1ならびにStep2で説明した動作処理(演算処理)等を行うものである。
3−1.測定装置1に試料13を設置しない状態、例えば、前述の試料ステージを空の状態として光源11を発光させ、偏光変調部12の位相板R1の方位θR1を任意の角度に設定し、前述Step1ならびにStep2で説明した演算処理を行って入射ストークスベクトル[Sinj]を算出する。
3−2.上記の項目3−1で説明した動作ならびに演算処理は、偏光状態が重複しないように偏光変調部12の条件(方位θR1の設定角度)を変更して、入射ストークスベクトル[Sinj]の算出を4回繰り返し(j=1〜4)、入射ストークスベクトル[Sin1],[Sin2],[Sin3],[Sin4]を求める。
3−4.ここで、試料13の偏光特性をミュラー行列Mとして表す場合、入射ストークスルベクトル[Sinj]と透過後ストークスルベクトル[Soutj]との関係は、次の式(5)のように表記することができる。
演算手段16は、入射ストークススベクトル[Sinj]を求めるとき、前述の各光学素子を、例えば、図10の表2に示した、いずれかの方位角度(θP1,θR1,θR2,θP2)に設定し、設定した方位角度について、項目3−1で説明したようにStep1ならびにStep2の処理動作を行って、測定装置1に試料13を設置していないときの伝達行列Aならびに逆行列A−1を求め、これを用いて入射ストークスベクトル[Sin1],[Sin2],[Sin3],[Sin4]を求める。なお、これらの入射ストークスベクトルは、図2に示したように各々4つの要素からなるものである。
次に、当該入射パターン1で取得した各光強度と逆行列A−1とを用いて、前述の式(4)から入射ストークスベクトル[Sin1]の要素(S0in1,S1in1,S2in1,S3in1)を算出する。
この後、項目3−2で説明したように偏光状態が重複しないように、各光学素子の方位角度等を設定し、例えば図10の表2に示した入射パターン2〜4に示した各設定値についても、入射パターン1と同様な演算処理を行い、図2に示した4つのパターンの偏光状態を示す4つの入射ストークスベクトル[Sin1],[Sin2],[Sin3],[Sin4]、もしくは、これらのベクトル要素を求める。
演算手段16は、透過後ストークススペクトル[Soutj]を求めるとき、前述の各光学素子を、例えば、図10の表2に示したいずれかの方位角度(θP1,θR1,θR2,θP2)に設定し、設定した方位角度について、項目3−3で説明したようにStep1ならびにStep2の動作処理を行って、測定装置1に試料13を設置して光入射させたときの伝達行列Aならびに逆行列A−1を求め、これを用いて透過後ストークスベクトル[Sout1],[Sout2],[Sout3],[Sout4]を求める。なお、これらの透過後ストークスベクトルは、図3に示したように各々4つの要素からなる。
具体的に透過後ストークスベクトル[Soutj]を求めるとき、測定装置1の試料ステージに、例えば、図4に示した試料13を設置固定し、光源11から光照射を行って、偏光変調部12を介して試料13へ入射させ、試料13の出射光を偏光解析部14を介して検出器15へ入射させる。このとき、偏光変調部12の偏光子P1と位相板R1、および偏光解析部14の位相板R2と偏光子P2の各方位角度等は、入射ストークスベクトル[Sin1]を求めたときと同様に、例えば図10の表2に示した値に設定され、演算手段16は、例えば入射パターン1の各値に設定されたときの各光強度を測定してメモリ等に記憶させる。
次に、前述の入射ストークスベクトル[Sin1]を求めたときと同様に、偏光状態が重複しないように各光学素子の方位角度等を設定し、例えば表2に示した入射パターン2〜4に示した各設定値についても、入射パターン1と同様な演算処理を行い、図3に示した4つのパターンの偏光状態を示す4つの透過後ストークスベクトル[Sout1],[Sout2],[Sout3],[Sout4]、もしくは、これらのベクトル要素を求める。
図5は、演算手段16が算出した試料13のミュラー行列Mを示す説明図である。この図は、図4に示した試料13について、測定装置1を用いて求めたミュラー行列Mを示したものである。図5(a)は、ミュラー行列Mを構成する各要素の偏光状態をグラフィカルに示し、図5(b)は、当該ミュラー行列Mの各要素の大きさ、もしくは数値を示している。
図8は、本発明を用いた測定結果と一般的な測定(解析)方法を用いた測定結果を示す説明図である。この図は、試料13(図中サンプルと表記)の複屈折位相差を測定したときの測定(解析)結果を示したもので、縦軸に解析結果(位相差の角度)を示し、横軸に試料13(サンプル)の位相差(角度)を示している。なお、この図に示した、一般的な解析方法を用いた測定装置の測定(解析)結果については、当該装置に備えられた、試料からの出射光を入射する位相板R2(本発明の測定装置1においては偏光解析部14の位相板R2に相当するもの)として、位相差60度〜120度の範囲内において、いずれかの角度に固定されたものを用いて測定している。
このことから、本発明の測定装置1は、演算手段16がミュラー行列Mを用いた演算処理を行うことにより、当該測定装置1に備えられた光学素子等に存在する偏光を解消して試料13が有する本来の偏光特性に、より近い結果を得ることができる。換言すると、各光学素子等によって生じる偏光を補正して、当該光学素子等による偏光の影響を解消することができるという効果が得られる。
また、偏光特性を測定するときのサンプリング数を16に抑制することができ、測定結果を算出するまでの時間を短時間に抑えることが可能になる。
11光源
12偏光変調部
13試料
14偏光解析部
15検出器
16演算手段
Claims (5)
- 光源が発光する光波長と異なる設計光波長の位相板を用いた偏光特性測定方法であって、
前記位相板を備えた偏光解析部を介して検出器が検出した光強度を用いて前記位相板の位相差を演算手段が算出する第1過程と、
前記第1過程で算出した位相差を用いて前記位相板を備えた偏光解析部のストークスベクトルを前記演算手段が算出する第2過程と、
を有し、
前記第1過程は、
前記光源と前記偏光解析部との間に設置される偏光変調部の位相方位角度ならびに透過方位角度を任意の角度に設定する第3過程と、
前記偏光解析部の位相方位角度ならびに透過方位角度を任意の角度に設定する第4過程と、
前記第3過程および前記第4過程で設定された状態において前記検出器が撮影した画像ファイルを記憶手段へ記憶させる第5過程と、
を有し、前記第4過程と前記第5過程とを所定回数繰り返すことにより、前記偏光解析部の位相方位角度ならびに透過方位角度の設定角度を変更して撮影させた画像ファイルを順次記憶させ、該記憶させた各画像ファイルの光強度を用いて前記位相板の位相差を算出し、
前記第2過程は、
前記第1過程で算出した位相差および前記位相方位角度ならびに透過方位角度の各設定角度を用いて、所定の演算により前記位相板のストークスベクトルの各係数を求める第6過程と、
前記各係数を要素とする伝達行列およびその逆行列を求め、前記各画像ファイルの光強度を要素とする光強度行列と前記逆行列とを用いた演算により、前記ストークスベクトルを求める第7過程と、
を有することを特徴とする偏光特性測定方法。 - 光源が発光する光波長と異なる設計光波長の位相板を用いた偏光特性測定方法であって、
前記光源から光入射して試料へ光出射する偏光変調部と、前記試料から光入射して検出器へ光出射する偏光解析部と、の間に前記試料を設置していない第1の状態で前記検出器へ光入射を行い、このときの前記検出器の出力信号を用いて演算手段が前記第1の状態を示す第1ストークスベクトルを求める第1過程と、
前記偏光変調部と前記偏光解析部との間に前記試料を設置した第2の状態で前記検出器へ光入射を行い、このときの前記検出器の出力信号を用いて前記演算手段が前記第2の状態を示す第2ストークスベクトルを求める第2過程と、
前記第1ストークスベクトルを示す行列と前記第2ストークスベクトルを示す行列とを用いて前記試料の偏光特性を示すミュラー行列を求める第3過程と、
を有することを特徴とする偏光特性測定方法。 - 前記第1過程は、
前記偏光変調部および前記偏光解析部の位相方位角度ならびに透過方位角度を任意の角度に設定する第4過程と、
前記第4過程で任意の角度に設定した状態において前記検出器が撮影した画像ファイルを記憶手段へ記憶させる第5過程と、
前記第4過程および第5過程を所定回数繰り返すことにより、前記位相方位角度ならびに透過方位角度意の設定角度を変更して撮影させた画像ファイルを順次記憶させ、該記憶させた各画像ファイルの光強度を用いて、前記第1の状態における前記偏光解析部に備えた位相板の位相差を算出し、前記算出した位相差および前記位相方位角度ならびに透過方位角度の各設定角度を用いて、所定の演算により前記第1ストークスベクトルの各係数を求める第6過程と、
前記第6過程で求めた各係数を要素とする伝達行列およびその逆行列を求め、前記第1の状態における各画像ファイルの光強度を要素とする光強度行列と前記逆行列とを用いた演算により、前記第1ストークスベクトルを求める第7過程と、
を有し、
前記第2過程は、
前記偏光変調部および前記偏光解析部の位相方位角度ならびに透過方位角度を任意の角度に設定する第8過程と、
前記第8過程で任意の角度に設定した状態において前記検出器が撮影した画像ファイルを記憶手段へ記憶させる第9過程と、
前記第8過程および第9過程を所定回数繰り返すことにより、前記位相方位角度ならびに透過方位角度の設定角度を変更して撮影させた画像ファイルを順次記憶させ、該記憶させた各画像ファイルの光強度を用いて、前記第2の状態における前記偏光解析部に備えた位相板の位相差を算出し、前記算出した位相差および前記位相方位角度ならびに透過方位角度の各設定角度を用いて、所定の演算により前記第2ストークスベクトルの各係数を求める第10過程と、
前記第10過程で求めた各係数を要素とする伝達行列およびその逆行列を求め、前記第2の状態における各画像ファイルの光強度を要素とする光強度行列と前記逆行列とを用いた演算により、前記第2ストークスベクトルを求める第11過程と、
を有することを特徴とする請求項2に記載の偏光特性測定方法。 - 前記第3過程は、
前記試料の偏光特性を示すミュラー行列の所定の要素を用いて所定の演算を行い、前記試料の偏光特性を定量化する過程を含む、
ことを特徴とする請求項2または3に記載の偏光特性測定方法。 - 光源と、
前記光源からの光を入射して試料へ出射する偏光変調部と、
前記試料からの光を入射して画像を撮影する検出器へ出射する偏光解析部と、
前記偏光解析部から出力された信号を用いて所定の演算処理を行う演算手段と、
を備え、
前記偏光変調部および前記偏光解析部は、前記光源の発光波長と異なる設計光波長の位相板を有し、位相方位角度ならびに透過方位角度を所定の角度へ設定可能に構成されており、
前記演算手段は、
前記試料を前記偏光変調部と前記偏光解析部の間に設置していない第1の状態で前記検出器へ光入射を行い、このときの前記検出器の出力信号を用いて前記位相板の位相差を求め、該位相差および前記偏光変調部および前記偏光解析部に設定された位相方位角度ならびに透過方位角度を用いて前記第1の状態における第1ストークスベクトルを求め、
前記試料を前記偏光変調部と前記偏光解析部の間に設置した第2の状態で前記検出器へ光入射を行い、このときの前記検出器の出力信号を用いて前記位相板の位相差を求め、該位相差および前記偏光変調部および前記偏光解析部に設定された位相方位角度ならびに透過方位角度を用いて前記第2の状態における第2ストークスベクトルを求め、
前記第1ストークスベクトルを示す行列と前記第2ストークスベクトルを示す行列とを用いて前記試料の偏光特性を示すミュラー行列を求める、
ことを特徴とする偏光特性測定装置。
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