JP2018044865A - 光学機器のキャリブレーション法 - Google Patents

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大谷 幸利
Yukitoshi Otani
幸利 大谷
秀平 柴田
Shuhei Shibata
秀平 柴田
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Abstract

【課題】複屈折及び偏光特性の計測精度の向上を図るための偏光子アレイのキャリブレーション法を提供する。【解決手段】配向された方位の光を通過させる偏光部分が互いに異なる方位に配向されて複数配列された偏光子4を備えた光学機器28のキャリブレーション法であって、偏光部分がそれぞれ配向された方位にそれぞれ応じた直線偏光を偏光子4に照射し、偏光子4を通過した後の直線偏光の光強度を偏光部分毎に測定する工程と、偏光子4を通過した後の直線偏光の光強度に基づいて、偏光部分毎の直線二色性を算出する工程と、を備える。【選択図】図2

Description

本発明は、光学機器のキャリブレーション法に関する。
近年、光学技術及び微細加工技術等の高度化に伴い、ガラスや透明プラスチック、結晶等を用いた光学部品や薄膜製品が多く利用されている。これらの光学部品や薄膜製品を利用するにあたり、光学部品や薄膜製品の偏光特性、すなわち複屈折を測定し、測定によって得られた該偏光特性をふまえて詳細な設計や使用条件等を検討したいという要望がある。光学部品や薄膜製品における複屈折を計測する方法の一つに、回転検光子法(又は、偏光子回転式とも呼ばれる方法)がある。
回転検光子法は、測定対象物に入射する入射光の偏光を偏光子や波長板等の偏光フィルタを回した際の測定対象物から透過した透過光の光量の変化を計測する方法である。例えば、偏光子と波長板を用いて入射光を円偏光とし、該入射光を測定対象物に入射させ、測定対象物を透過して楕円偏光となった透過光の楕円状態を、さらに波長板の主軸方位を0°と45°に変化させ、方位を変化させた透過光を通す検光子を回転させることによって、2つの位相が求まる。2つの位相に基づいて、測定対象物の複屈折位相差と主軸方位が算出され、測定対象物の複屈折が得られる。
上述した回転検光子法では、偏光フィルタを回転させるための回転モータや回転角の検出センサ、筐体等を用意する必要があるため、測定光学系が複雑になり、計測面の面上のデータにおける位置ずれが生じやすいという問題があった。
そこで、測定対象物から透過した透過光の偏光状態を変える、すなわちCCD(Charge Coupled Device)等の受光器の入射側に配されている検光子を回転させることに替えて、受光器の入射側に受光素子、すなわち画素と略同サイズ・同数の偏光子を配置した偏光イメージセンサや偏光アレイカメラが提案されている。
例えば、特許文献1には、偏光子ユニットを1個又は複数個含む偏光子アレイと、受光素子アレイと、画像処理部と、を有する偏光イメージング装置が開示されている。偏光子ユニットは、それぞれ透過軸が異なる3つ以上の偏光子の領域に分かれており、入射される入力光のうち、各領域において当該入力光の無偏光成分を透過させると共に、各領域によって偏光方向が異なる入力光の偏光成分を透過させるものである。受光素子アレイは、偏光子ユニットの各領域を透過した光を独立に受光するものである。画像処理部は、受光素子アレイからの偏光成分及び無偏光成分を処理するものである。このような構成を有する偏光イメージング装置を用いることで、従来の偏光イメージング装置を用いる場合に比べて、画像処理精度の向上が図られる。
特開2007−86720号公報
しかしながら、従来の偏光イメージング装置や偏光子アレイカメラでは、偏光子の消光比が低いために測定対象物の複屈折及び偏光特性の計測精度の向上を図ることが難しいという問題があった。
以下、本明細書では、偏光イメージング装置や偏光子アレイカメラ等(光学機器)の計測面において、方位が配向されている最小単位を「偏光部分」と称する。複数の「偏光部分」は、個々に分離されているものや、互いに隣接し、外周にフレーム等が設けられているもの、例えば特許文献1に開示されている偏光イメージング装置における偏光子ユニットの「領域」等を全て含んでいる。本発明者は、計測面における偏光子の消光比が低いことの主な要因として、各偏光部分のエッジで測定対象物を透過した透過光が散乱し、クロストークが発生することに着眼した。そして、各偏光部分のエッジでの透過光の散乱が近隣の偏光部分同士の透過光の消光成分の散乱に影響し合うため、偏光部分毎の消光比が不規則に異なることを見出した。また、本発明者は、消光比が低い、すなわち各偏光部分の直線二色性が低いと計測精度も低下すること、及び、従来提案されているように偏光部分の消光比を一括してキャリブレーションすると偏光部分毎の消光比のばらつきとは異なる度合いで計測値が算出される虞があることをを見出した。そこで、本発明者は、偏光部分毎の消光比、すなわち直線二色性を算出し、キャリブレーションを行うことが重要であることをふまえ、本発明を完成させるに至った。
本発明は、上述の問題を解決するためになされたものであって、複屈折及び偏光特性の計測精度の向上を図るための光学機器のキャリブレーション法を提供する。
本発明に係る光学機器のキャリブレーション法は、配光された方位の光を通過させる偏光部分が互いに異なる方位に配向されて複数配列された偏光子を備えた光学機器のキャリブレーション法であって、前記偏光部分がそれぞれ配向された方位にそれぞれ応じた直線偏光を前記偏光子に照射し、前記偏光子を通過した後の前記直線偏光の光強度を前記偏光部分毎に測定する工程と、前記偏光子を通過した後の前記直線偏光の光強度に基づいて、前記偏光部分毎の直線二色性を算出する工程と、を備えることを特徴とする。
本発明に係る光学機器のキャリブレーション法では、前記互いに異なる方位は、0°,45°,90°,135°の4つの方位で構成され、前記偏光子を通過した後の前記直線偏光の光強度と前記直線二色性との間には、次に示す(1)式から(3)式の関係が成り立っていてもよい。
上述の(1)式から(3)式において、I´(ψ)は方位ψの前記直線偏光が前記偏光子を通過した後の前記直線偏光の光強度を示し、pψ,qψは方位ψの前記直線偏光の軸透過率を示し、Dψは前記偏光部分の直線二色性を示し、sはストークス・パラメータを示し、a(ψ),b(ψ)は方位ψの前記直線偏光をフーリエ変換したときのフーリエ振幅の係数を示し、LDOPは前記偏光子を通過した後の前記直線偏光の光強度の振幅を示し、αは前記偏光子を通過した後の前記直線偏光の光強度の位相を示す。
本発明に係る光学機器のキャリブレーション法は、前記偏光子を通過した後の前記直線偏光の光強度を前記直線二色性に基づいて前記偏光部分毎に補正する工程をさらに備えてもよい。
本発明の光学機器のキャリブレーション法では、偏光子を通過した後の直線偏光の光強度に基づいて、偏光部分毎の直線二色性を算出し、偏光子を通過した後の直線偏光の光強度を直線二色性に基づいて偏光部分毎に補正するので、偏光部分毎の直線二色性のばらつきが反映されたキャリブレーションが行われる。したがって、本発明によれば、複屈折及び偏光特性の計測精度の向上を図ることができる。
本発明に係る実施形態の光学機器のキャリブレーション法を適用する偏光カメラの構成を説明するための図であって、(a)は受光部の構成を示す概略図であり、(b)は偏光子の構成を示す概略図である。 本発明に係る実施形態の光学機器のキャリブレーション法に用いられる光学系の構成を示す概略図である。 本発明に係る実施形態の光学機器のキャリブレーション法に用いられる別の光学系の構成を示す概略図である。 実施例に用いられた偏光カメラに複数配列された偏光部分の一部の直線二色性を偏光部分毎に算出した結果を示す分布図である。 実施例において、自動バビネ・ソレイユ補償器における変動量に対する位相遅延量を測定した結果を示すグラフである。 実施例において、自動バビネ・ソレイユ補償器及び波長板の回転量に対する方位角を測定した結果を示すグラフである。 図6に示す方位角の測定値と理論値との差を示すグラフである。
以下、本発明に係る光学機器のキャリブレーション法の実施形態(以下、本実施形態とする)について、図面を参照して説明する。なお、以下の説明で用いる図面は模式的なものであり、長さ、幅、及び厚みの比率等は実際のものと同一とは限らず、適宜変更できる。
本実施形態の光学機器のキャリブレーション法について説明するにあたり、先ず本実施形態の光学機器のキャリブレーション法の対象となる光学機器について説明する。
図1の(a),(b)は、本実施形態の光学機器のキャリブレーション法の適用対象である偏光カメラ(光学機器)の受光部、すなわち偏光特性の計測に用いられる要部の概略図である。偏光カメラは、少なくとも、図1(a)に示すように配向された方位ψの入射光(光)L0を通過させる偏光部分R1,R2,…,Rnが互いに異なる方位φ1,φ2,…,φnに配向されて複数配列された偏光子4と、偏光部分R1,R2,…,Rnのそれぞれに対向配置された画素T1,T2,…,Tnを有する受光素子6と、を備えている。なお、nは整数であり、複数配列された偏光部分の数を示す。
偏光部分R1,R2,…,Rnの構成は、異なる方位φ1,φ2,…,φnに配向可能であれば特に限定されない。偏光部分R1,R2,…,Rnの構成例としては、優れた透過率を有するフォトニック結晶や、アルミワイヤーからなるナノ周期構造等が挙げられる。なお、図1の(a),(b)では、各々の偏光部分R1,R2,…,Rnのフレームを設けずに複数配列可能に集積され、偏光部分R1,R2,…,Rnのエッジeのみが存在する構成例を例示している。
図1の(a),(b)には、隣接する4つの画素、例えば画素T1,T2,T5,T6で受光した光の情報をそれぞれ比較及び演算し、不図示の測定対象物の偏光情報を取得する構成例を示している。そのため、これら4つの画素、例えば画素T1,T2,T5,T6に対向する偏光部分R1,R2,R5,R6のそれぞれの方位φ1,φ2,φ5,φ6は、図1(b)に示すように、180°を4分割した0°,45°,90°,135°に設定されている。すなわち、本実施形態の偏光カメラは、従来の回転検光子法において偏光子又は検光子を回転させることに替えて、偏光子4の受光面を空間分割し、偏光部分R1,R2,…,Rnを多並列化したものである。
上述の構成を備える偏光カメラに対し、任意の偏光状態の入射光L0が入射すると、偏光部分R1,R2,…,Rnのそれぞれを、入射光L0のうち方位φ1,φ2,…,φnに一致する方位ψの成分が通過し、偏光部分R1,R2,…,Rnに入射する。その後、偏光部分R1,R2,…,Rnをそれぞれ通過し、偏光部分R1,R2,…,Rnによってそれぞれ受光された光の情報は、偏光カメラに具備されている演算部(不図示)に送信され、偏光情報に換算される。
ここで、偏光カメラの偏光子4を部分偏光子と考えると、部分ミュラー行列は、次に示す(4)式のように表される。
ここで、pψ,qψはそれぞれ偏光子4の軸透過率を示す。方位ψは、0°,45°,90°,135°の何れか1つの角度を示す。つまり、方位ψが取り得る4つの方位をψ1=0°,ψ2=45°,ψ3=90°,ψ4=135°とすると、偏光部分R1,R2,…,Rnのそれぞれの方位φ1,φ2,…,φnは、それぞれψ1,ψ2,ψ3,ψ4のうちの何れかであるということになる。
任意の偏光状態における入射光L0の未知のストークス・パラメータを[s,s,s,s]とすると、何ら測定対象物等を配置されない場合、入射光L0が照射された偏光カメラが検出する本来の光強度I(ψ)は、次に示す(5)式で表される。
偏光部分R1,R2,…,Rnのそれぞれの直線二色性、直線偏光度をDψ,LDOPとし、入射光L0の任意の偏光状態の方位をαとすると、
(6)式から(8)式を(5)式に代入すると、上述の(1)式が得られる。
偏光カメラの消光比は、pψ,qψに依存するパラメータである。
ここで、入射光L0を直線偏光とすると、直線偏光度LDOPが1となる、すなわち理想値となる場合において、偏光カメラが検出する光強度は、次に示す(9)式で表される。
入射光L0の直線偏光の方位ψが0°から360°まで変化した場合には、透過光をフーリエ変換した際のフーリエ振幅の係数をa,a,bとすると、次に示す(10)式及び(11)式が得られる。
前述のように、本実施形態の偏光カメラでは、偏光子4の偏光部分R1,R2,…,Rnのそれぞれの方位φ1,φ2,…,φnは、4つの方位ψ1=0°,ψ2=45°,ψ3=90°,ψ4=135°の何れか1つの方位に設定されている。そのため、偏光カメラが検出する本来の光強度I(ψ)は、次に示す(12)式から(15)式で表される。
前述の(10)式をふまえて、(12)式から(15)式を変形すると、(16)式から(19)式が得られる。
次いで、本実施形態の光学機器のキャリブレーション法の実施形態について説明する。
本実施形態の光学機器のキャリブレーション法は、上述したように、偏光部分R1,R2,…,Rnが互いに異なる方位φ1,φ2,…,φnに配向されて複数配列された偏光子4を備えた光学機器のキャリブレーション法であって、以下では、偏光子4を備えた偏光カメラに前記キャリブレーション法を適用した場合を想定して説明する。
本実施形態の光学機器のキャリブレーション法は、偏光部分R1,R2,…,Rnがそれぞれ配向された方位φ1,φ2,…,φnにそれぞれ応じた直線偏光PL(ψ)を偏光子4に照射し、偏光子4を通過した後の直線偏光PL(ψ)の光強度I´(ψ)を偏光部分R1,R2,…,Rn毎に測定する工程(以下、「光強度測定工程」とする)と、偏光子4を通過した後の直線偏光PL´(ψ)の光強度I´(ψ)に基づいて、偏光部分R1,R2,…,Rn毎の直線二色性Dψを算出する工程(以下、「直線二色性算出工程」とする)と、を少なくとも備え、偏光子4を通過した後の直線偏光PL(ψ)の光強度I´(ψ)を直線二色性Dψに基づいて偏光部分R1,R2,…,Rn毎に補正する工程(以下、「補正工程」とする)をさらに備えている。
上述の各工程について、図2及び図3を参照し、具体的に説明する。
図2は、光強度測定工程において用いる光学系の一例である。図2に示すように、光源12から発せられた入射光L0をコリメートレンズ20で平行光とする。図2には、光源12として、ハロゲンランプ14から発せられた光がファイバ16内を伝搬し、端子18から拡散される構成を備えたものを例示している。コリメートレンズ20は、光源12の端子18から焦点距離の分だけ離間して配置されている。
コリメートレンズ20に対して入射光L0の進行方向の前方に、偏光板22、波長板24、波長フィルタ25、偏光カメラの偏光子4と受光素子6とを有する受光器28と、が配置されている。偏光板22の方位は可変であり、このような偏光板22としては、入射光L0の光軸を基軸として回転可能な回転式のものや、方位が固定された偏光板22を着脱可能に構成されているものであってもよい。波長板24は、所謂λ/4板である。波長フィルタ25は、白色光源であるハロゲンランプ14から発せられた入射光L0の波長帯域から所望の波長帯域の入射光L0を通過させるものである。
先ず、光強度測定工程では、偏光板22の方位をψ1に設定し、各偏光部分で受光した入射光L0(直線偏光PL(ψ1))の光強度I´(ψ1)を計測する。
続いて、偏光板22の方位をψ2,ψ3,ψ4のそれぞれに設定し、各偏光部分で受光した入射光L0(直線偏光PL(ψ2),PL(ψ3),PL(ψ4))の光強度I´(ψ2)=I´(45),I´(ψ3)=I´(90),I´(ψ4)=I´(135)を計測する。
次に、直線二色性算出工程では、(17)式から(20)式において、本来の光強度I(ψ1)=I(0),I(ψ2)=I(45),I(ψ3)=I(90),I(ψ4)=I(135)のそれぞれに、光強度測定工程で測定した光強度I´(ψ1)=I´(0),I´(ψ2)=I´(45),I´(ψ3)=I´(90),I´(ψ4)=I´(135)のそれぞれを代入する。偏光部分R1,R2,…,Rnのそれぞれについて、代入した前述の(16)式から(19)式に基づいて、偏光部分R1,R2,…,Rn毎の直線二色性Dψを算出する。上述の(16)式から(19)式が連立方程式であること、及び、方位ψについて一般化した(1)式及び、方位ψ1,ψ2,ψ3,ψ4に対応した前述の(2)式、(3)式に基づき、偏光部分R1,R2,…,Rn毎の直線二色性Dψを算出すると同時に、偏光部分R1,R2,…,Rn毎の直線偏光度LDOPと、入射光L0の任意の偏光状態の方位αが算出される。
上述の直線二色性算出工程を経ることによって、偏光部分R1,R2,…,Rn毎の直線二色性Dψを算出し、偏光部分R1,R2,…,Rnにおける消光比のばらつきを計測することができる。そして、得られた偏光部分R1,R2,…,Rnにおける消光比のばらつきを補正することで、偏光カメラのキャリブレーションを行うことができる。
また、算出された偏光部分R1,R2,…,Rn毎の直線二色性Dψに基づいて、任意の直線偏光PL(ψ)を用いた計測を行った際の偏光カメラのキャリブレーションを行うために、補正工程を行うことができる。すなわち、偏光部分R1,R2,…,Rn毎に、各偏光部分に対向配置されている画素T1,T2,…,Tnで受光した情報に基づいて演算部によって算出された光強度を(1/Dψ)倍することで、画素T1,T2,…,Tnで受光した情報から、偏光部分R1,R2,…,Rnのエッジeによる直線偏光PL(ψ)の散乱の影響、及び該散乱の偏光部分R1,R2,…,Rn毎のばらつきの影響を除去した、本来計測されるべき光強度I(ψ)を得ることができる。
さらに、本実施形態の光学機器のキャリブレーション法を用いて測定対象物の複屈折及び偏光特性を測定する工程(以下、「偏光特性測定工程」とする)を行うことができる。図3は、において用いる光学系の一例である。図3に示す光学系において、図2に示す光学系と同一の構成については、同一の符号を付し、その説明を省略する。
図3に示すように、入射光L0の光軸方向に沿って、波長板24と波長フィルタ25との間には、測定対象物Sが配置されている。また、測定対象物Sと、偏光子4の任意の偏光部分に、直線偏光PL(ψ)を集光させ、該偏光部分に対向配置されている画素で光を漏らさず受光するために、入射光L0の光軸方向に沿って、測定対象物Sと波長フィルタ25との間に結像レンズ30を配置してもよい。
図3に示す光学系において、補正工程と同様に、偏光板22の方位をψ1,ψ2,ψ3,ψ4のそれぞれに設定し、各偏光部分で受光した透過光L1(直線偏光PL(ψ1),PL(ψ2),PL(ψ3),PL(ψ4))の光強度を(1/Dψ)倍することで、本来計測されるべき光強度I(ψ)を得ることができる。得られた光強度I(ψ)及び入射光L0の直線偏光PL(ψ)の光強度に基づいて、測定対象物Sにおいて偏光部分R1,R2,…,Rnのそれぞれに対向する位置の複屈折及び偏光特性を算出することができる。
以上説明した本実施形態の光学機器のキャリブレーション法によれば、光強度測定工程
によって偏光部分R1,R2,…,Rnがそれぞれ配向された方位φ1,φ2,…,φnにそれぞれ応じた直線偏光PL(ψ)の光強度I´(ψ)を測定し、測定した光強度I´(ψ)に基づいて、直線二色性算出工程によって直線二色性Dψを偏光部分R1,R2,…,Rn毎に算出することができる。また、算出した直線二色性Dψに基づいて、偏光子4を通過した後の直線偏光PL(ψ)の光強度I´(ψ)を偏光部分R1,R2,…,Rn毎に補正するので、偏光部分R1,R2,…,Rn毎の直線二色性Dψのばらつきを考慮したキャリブレーションが良好に行われる。これにより、従来提案されているように偏光部分の消光比を一括してキャリブレーションする場合のように、偏光部分毎の消光比のばらつきとは異なる度合いで計測値が算出される虞がなく、本来得られるべき光強度I(ψ)やノイズ等が過剰に増幅されることも、減じられることもなく、本来得られるべき光強度I(ψ)を確実に計測することができる。したがって、本実施形態の光学機器のキャリブレーション法によれば、偏光カメラをはじめとする光学機器の正確なキャリブレーションを行い、測定対象物の複屈折及び偏光特性の計測精度の向上を図ることができる。
なお、上述の実施形態では、偏光部分R1,R2,…,Rnのそれぞれの方位φ1,φ2,…,φnは、それぞれ0°,45°,90°,135°の4つの方位の何れかで構成されている場合を想定し、(2)式及び(3)式と、関連する式等を例示したが、偏光部分R1,R2,…,Rnの方位φ1,φ2,…,φnは、それぞれ0°,45°,90°,135°の4つの方位の何れかをとることに限定されない。偏光部分R1,R2,…,Rnの方位φ1,φ2,…,φnは、それぞれ、例えば、45°,90°,135°,180°の4つの方位の何れかでもよく、これら以外の方位であっても構わない。偏光部分R1,R2,…,Rnの方位φ1,φ2,…,φnが、それぞれ、例えば、45°,90°,135°,180°の4つの方位の何れかである場合は、上述の(1)式は変わらず、(2)式、(3)式、(16)式から(19)式は、それぞれ次に示す(20)式、(21)式、上述の(17)式から(19)式、及び次に示す(22)式のようにそれぞれ表される。
また、偏光部分R1,R2,…,Rnの方位φ1,φ2,…,φnのとりうる数、すなわち種類は、4方位に限定されず、少なくとも2方位以上であれば、何種類の方位であっても構わない。
また、上述の実施形態では、本実施形態の光学機器のキャリブレーション法を実施する対象の光学機器として、偏光子4を備えた偏光カメラを例示して説明したが、実施対象の光学機器は上述の偏光カメラに限定されない。すなわち、本実施形態の光学機器のキャリブレーション法は、偏光部分R1,R2,…,Rnが互いに異なる方位φ1,φ2,…,φnに配向されて複数配列された偏光子4を備えた光学機器であれば、適用することができる。このような光学機器には、例えば偏光イメージセンサー、偏光フィルター等が挙げられる。
以上、本発明の好ましい実施形態について詳述したが、本発明は係る特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲内に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
例えば、図2及び図3に示す光学系のそれぞれにおいて、光源12はファイバ16を有さず、端子18から光を発する光源であってもよい。また、光源12から偏光カメラや測定対象物Sの感度を有する波長帯域の光が発せられる場合は、波長フィルタ25を省略してもよい。
次いで、本発明に係る実施形態の光学機器のキャリブレーション法の効果を裏付けるために行った実施例について説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
(実施例1)
図2に示す光学系を用いて、上述の光学機器のキャリブレーション法を実施した。
図4には、光学機器のキャリブレーション法の光強度測定工程で測定した光強度I´(ψ1)=I´(0),I´(ψ2)=I´(45),I´(ψ3)=I´(90),I´(ψ4)=I´(135)のそれぞれに基づき、直線二色性算出工程によって偏光部分R1,R2,…,Rn毎の直線二色性Dψを算出した結果の一部を示す。図2に示すX方向の偏光部分(図4に記載されている「Xピクセル」)及びY方向の偏光部分(図4に記載されている「Yピクセル」)の配列において、図4に示すように、偏光部分R1,R2,…,Rn毎の直線二色性Dψには、ばらつきが生じている。本実施例では、X方向及びY方向の偏光部分の各50個分の配列において、理想的には1.0である直線二色性Dψが0.8から0.9に低下していることがわかる。
次に、前述の光学機器のキャリブレーション法で得られた偏光部分R1,R2,…,Rn毎の直線二色性Dψをキャリブレーションした際の補正工程の効果を検証するために、測定対象物Sとして、自動バビネ・ソレイユ補償器を配置した。この自動バビネ・ソレイユ補償器と波長板24とを自動回転させることで、複屈折位相差、すなわち振幅の情報と、波長板24の方位、すなわち位相の情報を計測した。図5には、自動バビネ・ソレイユ補償器における変動量に対する位相遅延量の測定結果を示す。図6には、自動バビネ・ソレイユ補償器及び波長板24の回転量、すなわち直線偏光PL(ψ)の変動に対する方位角の測定結果を示す。図7には、図6に示す結果をわかりやすく示すために、図6に示す測定値と理論値との差を示す。
図5に示すように、自動バビネ・ソレイユ補償器における変動量に対し、理論的には位相遅延量が0°から90°の間で変化するのに対し、本実施形態の光学機器のキャリブレーションを行わない場合(図5に記載されている「Without Calibration」)は、位相遅延量が0°から最大でも70°付近までの間でしか変化していない。このように、最大位相遅延量が70°付近までに頭打ちされる要因として、前述のように、偏光部分R1,R2,…,Rn毎のエッジeの部分で生じた光の散乱及びこの散乱によって偏光部分R1,R2,…,Rnのそれぞれへの入射時とは異なる偏光状態が検出され、偏光度が低下し、画素T1,T2,…,Tnに露光されたためと考えられる。
上述の本実施形態の光学機器のキャリブレーションを行わない場合に対し、本実施形態の光学機器のキャリブレーションを行った場合(図5に記載されている「With Calibration」)は、位相遅延量が0°から90°の間で変化し、最大位相遅延量が頭打ちされることなく、位相遅延量の測定範囲が本来の位相遅延量の変動範囲と重なり、理論的な計測が行われていることがわかる。
続いて、図6及び図7に示すように、本実施形態の光学機器のキャリブレーションを行わない場合は、方位角が自動バビネ・ソレイユ補償器及び波長板24の回転量に対して周期的に、−2°から3°までの間で理論値より増減し、大きな誤差が生じている。これに対し、本実施形態の光学機器のキャリブレーションを行った場合は、方位角が自動バビネ・ソレイユ補償器及び波長板24の回転量に対して周期的に、0°から1°までの間で理論値より僅かに増減し、誤差が殆ど生じていない。このような結果からも、本実施形態の光学機器のキャリブレーションを行った場合は、理論的な計測が行われていることがわかる。
以上説明した実施例の結果から、本実施形態の光学機器のキャリブレーションによれば、偏光部分R1,R2,…,Rn毎のエッジeの部分で生じた光の散乱及びこの散乱によって偏光部分R1,R2,…,Rnのそれぞれへの入射時とは異なる偏光状態が検出される等の影響をふまえて光学機器がキャリブレーションされ、前述の影響が除去しされ、本来計測されるべき偏光情報を計測することができることを確認した。これにより、本実施形態の光学機器のキャリブレーションによって、複屈折及び偏光特性の計測精度の向上を図ることができることを確認した。
4…偏光子
ψ…直線二色性
R1,R2,…,Rn…偏光部分
PL(ψ)…直線偏光
φ1,φ2,…,φn…方位(互いに異なる方位)
ψ,ψ1,ψ2,ψ3,ψ4…方位(配向された方位にそれぞれ応じた方位)

Claims (3)

  1. 配向された方位の光を通過させる偏光部分が互いに異なる方位に配向されて複数配列された偏光子を備えた光学機器のキャリブレーション法であって、
    前記偏光部分がそれぞれ配向された方位にそれぞれ応じた直線偏光を前記偏光子に照射し、前記偏光子を通過した後の前記直線偏光の光強度を前記偏光部分毎に測定する工程と、
    前記偏光子を通過した後の前記直線偏光の光強度に基づいて、前記偏光部分毎の直線二色性を算出する工程と、
    を備える光学機器のキャリブレーション法。
  2. 前記互いに異なる方位は、0°,45°,90°,135°の4つの方位で構成され、
    前記偏光子を通過した後の前記直線偏光の光強度と前記直線二色性との間には、次に示す(1)式から(3)式の関係が成り立つ
    請求項1に記載の光学機器のキャリブレーション法。
    上述の(1)式から(3)式において、I´(ψ)は方位ψの前記直線偏光が前記偏光子を通過した後の前記直線偏光の光強度を示し、pψ,qψは方位ψの前記直線偏光の軸透過率を示し、Dψは前記偏光部分の直線二色性を示し、sはストークス・パラメータを示し、a(ψ),b(ψ)は方位ψの前記直線偏光をフーリエ変換したときのフーリエ振幅の係数を示し、LDOPは前記偏光子を通過した後の前記直線偏光の光強度の振幅を示し、αは前記偏光子を通過した後の前記直線偏光の光強度の位相を示す。
  3. 前記偏光子を通過した後の前記直線偏光の光強度を前記直線二色性に基づいて前記偏光部分毎に補正する工程をさらに備える請求項1または請求項2に記載の光学機器のキャリブレーション法。
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