JP5254323B2 - 光学歪み計測装置 - Google Patents
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Description
102 受光素子アレイ
103 カメラモジュール
104 光源
105 円偏光フィルム
106 結像レンズ
107 測定試料
201 溝列を形成した基板
202 高屈折率材料
203 低屈折率材料
301 偏光子アレイ
302 エリアセンサ
401 波長板アレイ
402 均一な透過偏光軸を有する偏光子
501 フレーム
Claims (10)
- 光学系と、偏光測定モジュールと、解析装置とを具備した光学歪み測定装置であって、
前記光学系は、円偏光、楕円偏光、又は直線偏光の光を放射でき、
前記偏光測定モジュールは、偏光子アレイと、エリアセンサとを含み、
前記偏光子アレイは、1次元的又は2次元的に繰り返し配置された複数の単位ユニットを含み、前記光学系から放射された光を透過するか、又は前記光学系から放射され、測定試料を透過した光を透過し、
前記単位ユニットは透過偏光軸の方向が異なる少なくとも3種類の偏光子を含み、
前記エリアセンサは、前記偏光子アレイの各偏光子を通過した光を独立に受光し、受光した光の強度を測定でき、
前記解析装置は、前記偏光測定モジュールから送信される測定情報を受信でき、
前記解析装置は、
第1の偏光情報算出手段と、第2の偏光情報算出手段と、偏光の変化量算出手段と、光学歪み演算手段とを有し、
前記第1の偏光情報算出手段は、前記偏光測定モジュールから受信した光学系の光の情報から前記光学系の光の偏光状態に関する情報を求める手段であり、
前記光学系の光の情報は、前記光学系から放射された光であって前記測定対象を透過しないものに関する情報であり、前記第2の偏光情報算出手段は、前記偏光測定モジュールから受信した測定試料を透過した光の情報から、前記測定試料を透過した光の偏光状態に関する情報を求める手段であり、
前記測定試料の光の情報は、前記光学系から放射された光であって前記測定対象を透過したものに関する情報であり、
前記偏光の変化量算出手段は、前記光学系の光の偏光状態に関する情報と、前記測定試料を透過した光の偏光状態に関する情報とから、前記偏光測定モジュールの単位ユニット毎に偏光の変化量を求める手段であり、
前記光学歪み演算手段は、前記偏光の変化量算出手段が求めた単位ユニット毎の偏光の変化量を用いて単位ユニット毎に測定試料のリタデーションと光軸方向に関する情報を求める手段であり、
さらに、振幅比変化を記憶する振幅比変化記憶手段と、光の偏光状態に関する情報を補正する光の偏光状態補正手段と、を有し、
ここで、振幅比変化は、前記光学系からの光による電界のx成分とy成分の比が前記測定対象を介することで変化した割合を意味し、
前記光の偏光状態補正手段は、
前記振幅比変化を用いて、測定試料を透過した光の偏光状態に関する情報を補正する
光学歪み測定装置。 - 前記偏光子アレイは、フォトニック結晶からなる偏光子を含む、
請求項1に記載の光学歪み計測装置。 - 前記解析装置は、
さらに、前記エリアセンサが連続して撮影したある偏光子を経由した光の強度に関する信号を平均化する偏光強度平均化手段を有し、
前記偏光強度平均化手段により平均化された強度を用いて、前記ユニットごとの偏光状態に関する情報を求める、
請求項2に記載の光学歪み測定装置。 - 前記解析装置は、
さらに、隣接するユニットにおける偏光状態に関する信号を平均化する偏光状態平均化手段を有し、
前記偏光状態平均化手段により平均化された偏光状態に関する情報を用いて、リタデーションと光軸方向に関する情報を求める、
請求項2又は請求項3に記載の光学歪み測定装置。 - さらに、入射角補正手段を有し、
前記振幅比変化は、入射角及び屈折角の関数で表され、
前記あるユニットの視野中心からの距離、全視野の画素数、及び画角に関する情報を用いて、前記入射角を補正し、前記補正した入射角に関する情報を用いて前記振幅比変化を補正し、前記補正した振幅比変化を用いて、測定試料を透過した光の偏光状態に関する情報を補正する
請求項1に記載の光学歪み測定装置。 - 光学系と、偏光測定モジュールと、解析装置を具備した光学歪み測定装置であって、
前記光学系は、円偏光、楕円偏光、又は直線偏光の光を放射でき、
前記偏光測定モジュールは、波長板アレイと、偏光子と、エリアセンサとをこの順で有し、
前記波長板アレイは、1次元又は2次元的に繰り返し配置された単位ユニットを有し、
前記光学系から放射された光を透過するか、又は前記光学系から放射され、前記測定試料を透過した光を透過し、
前記単位ユニットは、進相軸の方向が異なる少なくとも4種類の波長板を含み、
前記偏光子は、一方向の透過偏光軸を有し、前記波長板アレイを透過した光を透過させ、
前記エリアセンサは、前記波長板アレイに含まれる各波長板を通過した光であって、前記偏光子を透過したものを独立に受光し、受光した光の強度を測定でき、
前記解析装置は、前記偏光測定モジュールから送信される測定情報を受信でき、
前記解析装置は、
第1の偏光情報算出手段と、第2の偏光情報算出手段と、偏光の変化量算出手段と、光学歪み演算手段とを有し、
前記第1の偏光情報算出手段は、前記偏光測定モジュールから受信した光学系の光の情報から前記光学系の光の偏光状態に関する情報を求める手段であり、
前記光学系の光の情報は、前記光学系から放射された光であって前記測定対象を透過しないものに関する情報であり、
前記第2の偏光情報算出手段は、前記偏光測定モジュールから受信した測定試料を透過した光の情報から、前記測定試料を透過した光の偏光状態に関する情報を求める手段であり、
前記測定試料の光の情報は、前記光学系から放射された光であって前記測定対象を透過したものに関する情報であり、
前記偏光の変化量算出手段は、前記光学系の光の偏光状態に関する情報と、前記測定試料を透過した光の偏光状態に関する情報とから、前記偏光測定モジュールの単位ユニット毎に偏光の変化量を求める手段であり、
前記光学歪み演算手段は、前記偏光の変化量算出手段が求めた単位ユニット毎の偏光の変化量を用いて単位ユニット毎に測定試料のリタデーションと光軸方向に関する情報を求める手段であり、
さらに、振幅比変化を記憶する振幅比変化記憶手段と、光の偏光状態に関する情報を補正する光の偏光状態補正手段とを有し、前記光の偏光状態補正手段は、前記振幅比変化を用いて、測定試料を透過した光の偏光状態に関する情報を補正する
光学歪み測定装置。 - 前記波長板アレイは、フォトニック結晶からなる波長板を含む、
請求項6に記載の光学歪み計測装置。 - 前記解析装置は、
さらに前記エリアセンサが連続して撮影したある波長板を経由した光の強度に関する信号を平均化する偏光強度平均化手段を有し、
前記偏光強度平均化手段により平均化された強度を用いて、前記ユニットごとの偏光状態に関する情報を求める、
請求項7に記載の光学歪み測定装置。 - 前記解析装置は、
さらに、隣接するユニットにおける偏光状態に関する信号を平均化する偏光状態平均化手段を有し、
前記偏光状態平均化手段により平均化された偏光状態に関する情報を用いて、リタデーションと光軸方向に関する情報を求める、
請求項8に記載の光学歪み測定装置。 - 前記解析装置は、
さらに、入射角補正手段を有し、
前記振幅比変化は、入射角及び屈折角の関数で表され、
前記あるユニットの視野中心からの距離、全視野の画素数、及び画角に関する情報を用いて、前記入射角を補正し、前記補正した入射角に関する情報を用いて前記振幅比変化を補正し、前記補正した振幅比変化を用いて、測定試料を透過した光の偏光状態に関する情報を補正する
請求項8に記載の光学歪み測定装置。
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