JP2017098831A - 画像処理装置、画像処理方法、撮像装置、偏光制御ユニット、撮像システムおよびプログラム - Google Patents
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Abstract
【課題】画像処理の負担を低減しつつ高精度に高解像度画像を生成すること【解決手段】撮像装置に使用される偏光制御ユニットは、第1の偏光子102と、第1の偏光子を通過した光の偏光方向を調節する偏光制御素子103と、偏光制御素子を介した光を通過させる第2の偏光子104と、を有する。第1および第2の偏光子の少なくとも一方は複数の領域を含み、該複数の領域の少なくとも2つは、通過させる光の偏光方向が互いに異なり、前記通過させる光は、前記撮像装置の撮像素子における同一の画素に入射する。【選択図】図1
Description
本発明は、画像処理装置、画像処理方法、撮像装置、偏光制御ユニット、撮像システムおよびプログラムに関する。
1枚以上の低解像度画像から1枚の高解像度画像を生成する画像処理技術は、超解像(Super Resolution)技術と呼ばれている。超解像技術の一種である画素ずらし超解像(Pixel Shift Super Resolution)では、低解像度のイメージセンサを微小駆動させ、互いに異なる場所で取得した複数枚の低解像度画像から、補間処理をすることで高解像度画像を生成する。なお、補間処理とは粗いサンプリング点を滑らかにつなぎ、サンプリング点の間の点における値を推定する処理である。
特許文献1では、入射光を常光と異常光に分離する平行水晶板と、常光と異常光を交互に透過するように制御可能な液晶偏光フィルタとを用いて、時分割で取得した常光像と異常光像とから、画素ずらし超解像を行うことで高解像度画像を生成する。特許文献1は、水晶の複屈折を利用して、互いにシフトした複数枚の低解像度画像(常光像と異常光像)を、メカニカルな駆動を必要とせずに取得できる。
超解像技術の別の種類は、MAP(Maximam a Posteriori)推定に代表される反復計算を用いた手法である。MAP推定では、1枚または複数枚の低解像度画像から反復計算を行うことで、高解像度画像を生成する。具体的には、まず推定の尤もらしさを表す尤度項(Likelihood Term)と、推定に関する事前知識(平滑さ等)を表す事前確率項(Prior Term)の和からなる目的関数(Objective Function)を定義する。次に、この目的関数値を反復計算により最大化(若しくは最小化)することで、事後確率が最大の(与えられた条件下で最も確率が高い)高解像度画像が生成する。
画素ずらし超解像は、低解像度のイメージセンサを微小に駆動する必要があり、単純な補間処理のために超解像精度は低い。特許文献1も、画像処理が単純な補間処理であるため、超解像精度が低い。MAP推定に代表される反復計算は、画像処理に計算負荷が大きい複雑な計算を必要とする。
本発明は、画像処理の負担を低減しつつ高精度に高解像度画像を生成することが可能な画像処理装置、画像処理方法、撮像装置、偏光制御ユニット、撮像システムおよびプログラムを提供することを例示的な目的とする。
本発明の偏光制御ユニットは、撮像装置に使用される偏光制御ユニットであって、第1の偏光子と、該第1の偏光子を通過した光の偏光方向を調節する調節手段と、該調節手段を介した光を通過させる第2の偏光子と、を有し、前記第1及び第2の偏光子の少なくとも一方は複数の領域を含み、該複数の領域の少なくとも2つは、通過させる光の偏光方向が互いに異なり、前記通過させる光は、前記撮像装置の撮像素子における同一の画素に入射することを特徴とする。
本発明によれば、画像処理の負担を低減しつつ高精度に高解像度画像を生成することが可能な画像処理装置、画像処理方法、撮像装置、偏光制御ユニット、撮像システムおよびプログラムを提供することができる。
図1は、本実施形態による撮像装置100の構成例を示すブロック図である。撮像装置100は、結像光学系101と、第1の偏光板102と、偏光制御素子103と、第2の偏光板104と、撮像素子105、画像処理手段150、駆動手段155、制御手段160、記憶手段162、表示手段164を有する。
撮像装置は、レンズ一体型でもよいし、レンズ装置が着脱可能に構成される撮像装置本体であってもよい。後者の場合、レンズ装置と撮像装置本体から構成される撮像システムは本発明を構成する。この場合、レンズ装置に結像光学系101、第1の偏光板102、偏光制御素子103、第2の偏光板104、駆動手段155が設けられ、撮像装置本体に撮像素子105、画像処理手段150、制御手段160、記憶手段162、表示手段164が設けられてもよい。レンズ装置には、レンズ装置の各部を制御すると共にカメラ制御手段として機能する制御手段160と通信するレンズ制御手段が設けられ、カメラ制御手段は、レンズ制御手段を介して、駆動手段155を制御する。あるいは、レンズ装置に結像光学系101が設けられ、結像光学系101以外の構成要素が撮像装置本体に設けられてもよい。
第1の偏光板102、偏光制御素子103、第2の偏光板104は、偏光制御ユニットとして一体的に結像光学系101の光軸に着脱可能に撮像装置100に設けられていてもよい。この結果、これらのユニットが結像光学系101の光軸から退避されると、撮像装置は通常の低解像度画像を生成し、これらのユニットが結像光学系101の光軸に挿入されると、撮像装置は通常の高解像度画像を生成するようになる。撮像装置100に使用される偏光制御ユニットは、撮像装置またはレンズ装置に内蔵型であってもよいが、外付型として撮像装置100に装着可能に構成されてもよい。
結像光学系101は、例えば、レンズ群で構成され、偏光制御ユニットを介して物体(被写体)の光学像を撮像素子105の撮像面(画素上)に形成する。結像光学系101は、焦点調節用のフォーカスレンズ、焦点距離を変更するズームレンズ(変倍レンズ)、光軸を偏心させる像振れ補正レンズ、光量を調整する絞りなどを含んでもよい。
第1の偏光板(第1の偏光子)102は、結像光学系101の像面に設置されている。但し、第1の偏光板102、偏光制御素子103、第2の偏光板104は、結像光学系101の中に設けられていてもよい。偏光板は、入射光のうち特定の偏光(特定方向に偏光した直線偏光)だけを通過させる光学素子であり、本実施形態では、偏光子と同義で使用されている。偏光子の透過軸(または反射軸)に平行な向きを持つ偏光だけが透過する。偏光子は、透過型でも反射型でもよい。
第1の偏光板102は、ワイヤーグリッド、回折格子(グレーティング)、プリズムなどにより構成可能である。ワイヤーグリッドとは、金属細線を一定の方位で整列させたものであり、その方位に応じた偏光透過特性(または偏光反射特性)を発揮する。回折格子は領域毎に異なる偏光の方位を有する。なお、リソグラフィ技術を応用して金属細線を作製することで、少なくとも2つの領域の偏光透過特性が互いに異なる微細な偏光板を、集積化することができる。
第1及び第2の偏光板102、104の少なくとも一方は、撮像装置100の撮像素子105の1画素に対応する領域が複数の領域に分割され、複数の領域は、通過させる偏光の偏光方向が異なる部分を有する。図1では、第1の偏光板102がこの機能を有する。即ち、第1の偏光板102は、複数の領域を含む。複数の領域の少なくとも2つは、偏光特性が互いに異なるが、好ましくは全ての領域の偏光特性が互いに異なる。偏光特性とは、通過させる光の偏光方向、つまり、偏光を通過(透過または反射)させる透過軸または反射軸の方向を意味する。また、通過させる光は、撮像素子105における同一の画素に入射する。
偏光制御素子(調整手段)103は、例えば、液晶素子で構成され、第1の偏光板102の後方に設置される。偏光制御素子103は、第1の偏光板102を通過した光の偏光方向を、駆動手段(電力印加手段、調整手段)155により、外部から電力(電圧または電流)を印加して発生させた電界により、液晶分子の配向を調節する調節手段として機能する。図1は、透過型の偏光制御素子103を示しているが、反射型の偏光制御素子でもよい。また、調節手段は、偏向方向を調整できる限り、液晶素子に限らない。また、偏光制御素子103に電圧を印加するためのITO(Indium−Tin Oxide)電極や、液晶分子の配向層等は図示が省略されている。
第2の偏光板(第2の偏光子)104は、例えば、PVA(Polyvinyl Alcohol)フィルムにヨウ素化合物分子を配向吸着させたもので構成され、偏光制御素子103の後方に設置されている。第2の偏光板104は、調節手段を介した光を通過させる。より詳細には、第2の偏光板104は、調節手段によって偏光方向が調節された光のうち所定の光を通過させる。第2の偏光板104は、一様な偏光特性を有し、全面において一方向に偏光方向を有する偏光を通過させる偏光子(または検光子)である。偏光子と検光子を組み合わせた装置は、一般に、偏光器と呼ばれている。一様であれば数値計算により、実現される透過率分布を容易に予想できるが、一様でなくとも、例えば、装置使用前に制御電圧と透過率分布との関係をキャリブレーション、もしくは数値計算により制御電圧と透過率分布との関係を推定していれば足りる。以下、説明の簡単のため、第2の偏光板104の偏光透過特性は、全領域において完全に一様であるものとする。ヨウ素化合物分子は細長い形状をしており、その分子配向に応じた偏光透過特性を示す。第2の偏光板104は、ヨウ素化合物分子を用いたものに限定されない。
撮像素子105は、例えば、CMOSイメージセンサやCCDイメージセンサなどの光電変換素子で構成され、第2の偏光板104からの光(結像光学系101が形成した被写体の光学像)を受光してこれを光電変換し、光強度に応じた電気信号を出力する。また、撮像素子105から出力されるアナログ電気信号を、デジタル電気信号に変換するA/D変換器や、電気配線等の図示は省略されている。撮像素子105は、複数の画素を有する。
第1の偏光板102と第2の偏光板104の、偏光制御素子103に関する順序は、逆でもよい。この場合、結像光学系101、第2の偏光板104、偏光制御素子103、第1の偏光板102、撮像素子105の順番となる。
第1の偏光板102の縦横の分割数は同じでなくてもよく、例えば、第1の偏光板102が縦m×横n(m≠n)の領域に分割されてもよい。また、第1の偏光板102と第2の偏光板104の夫々が、複数の領域に分割され、互いに異なる偏光分布を持っていてもよい。
また、第1の偏光板102が複数の領域を有する代わりに偏光制御素子103の、撮像素子105の1画素に対応する領域が、複数の領域に分割されてもよい。この場合、複数の領域は、通過させる偏光の偏光方向が異なる部分を有し(好ましくはすべて異なり)、偏光方向は独立して調節可能に構成されてもよい。第1の偏光板102と調節手段は一体に構成され、液晶素子が第1の偏光板102の機能を更に有してもよい。この機能は、第2の偏光板104に設けられていてもよいから、撮像装置に使用される偏光制御ユニットは、以下のようになる。即ち、偏光制御ユニットは、入射光のうち特定の偏光を通過させる第1の偏光子と、特定の偏光の偏光方向を調節する調節手段と、調節手段によって偏光方向が調節された特定の偏光のうち所定の偏光を通過させる第2の偏光子と、を有する。調節手段は、撮像素子の1画素に対応する領域が複数の領域に分割され、複数の領域は、通過させる偏光の偏光方向が異なる部分を有する偏光制御素子を有する。また、調節手段は、複数の領域の偏光方向を独立して調節する方向調節手段を更に有する。
本発明は、光は単色であることを前提としているため、本実施形態では含めていないが、カラーフィルタを構成要素に含めてもよい。また、本発明は、無偏光を前提としている。
画像処理手段150は、撮像素子105から得られる信号に対してγ処理、ホワイトバランスなどの信号処理を施すと共に、後述する超解像処理を実行することができる。制御手段160は、撮像装置100の各部を制御し、後述する制御方法を実行し、マイクロコンピュータから構成されている。記憶手段162は、後述する制御方法のプログラム、それに使用されるデータ、画像処理手段150によって処理された画像(超解像処理結果を含む)を記憶し、各種のメモリ、着脱可能な媒体を含む。また、記憶手段は、ネットワーク(インターネット)上のコンピュータであってもよい。表示手段164は、記憶手段162に記憶された情報、各種の制御情報などを表示する液晶ディスプレイなどであり、高解像度画像に対応した解像度を有している。
図2は、撮像装置100が撮像素子の1画素の複数の領域に形成される任意の透過率分布を実現することを示す概略斜視図である。
第1の偏光板202は、2×2の領域202a〜dを含み、被写体側から見て左上部は135度、右上部は45度、左下部は90度、右下部は0度方向に夫々偏光方向を有する偏光を透過させる、領域毎に異なる偏光透過特性を有する。第2の偏光板204は、90度方向の偏光方向を有する偏光を透過させる、一様な偏光透過特性を有する。偏光制御素子203は、透過型であり、第1の偏光板202を透過した偏光の偏光方向を、図2(a)では変えず、図2(b)では矢印方向に少し変える。205は撮像素子(の1画素)、205a〜dは一画素における領域を示している。
ここで、「透過率分布」とは、第1の偏光板202への入射光に対する、撮像素子の各画素の複数の領域205a〜dへの入射光の減衰率分布である。また、撮像素子の1画素のサイズは、例えば、10μmなので、結像光学系201は便宜上かなり小さく描かれているが、実際の結像光学系201は、その他の構成要素に比べ、かなり大きい(mm〜cmオーダー)。また、図2の構成は一例であり、本発明はこれに限定されない。例えば、第1の偏光板202は、2×2分割に限らず、3×3分割でも4×4分割でもよい。
図2(a)では、第1の偏光板202の左上部を透過した135度方向の偏光は、偏光方向をそのままに偏光制御素子203を透過し、第2の偏光板204に至る。ここで、第2の偏光板204は90度方向の偏光を透過する特性を有しているため、第1の偏光板202の左上部を透過した135度方向の偏光は、強度が50%減衰し撮像素子205に到達する。同様のことが、第1の偏光板202の領域毎で起こり、結果として図2(a)の右表に示す透過率分布が実現する。
図2(b)では、第1の偏光板202の左上部を透過した135度方向の偏光は、偏光制御素子203により、その偏光方向が少し変えられ、第2の偏光板204に至る。ここで、偏光制御素子203を透過した後の偏光方向を150度であるとすると、第1の偏光板202の左上部を透過した偏光は、強度が約75%だけ減衰し、撮像素子205に到達する。同様のことが、第1の偏光板202の領域毎で起こり、結果として図2(b)の右表に示す透過率分布が実現する。
以上、撮像装置100によれば、偏光制御素子203に印可される電力(電流または電圧)を外部から制御することによって、任意の透過率分布が実現できることが分かる。
図3は、撮像装置100の制御手段160が実行する超解像方法(画像処理方法)を示すフローチャートであり、「S」はステップ(工程)を表している。図3に示すフローチャートは、コンピュータに各ステップを実行させるためのプログラムとして具現化が可能である。かかるプログラムは、撮像装置100の記憶手段(例えば、非一時的なコンピュータ可読記憶媒体)に記憶可能である。
S301では、制御手段160は、偏光制御素子103を駆動制御することで実現する、透過率分布Pi(i=1〜N)の情報を記憶手段162に記憶させる。なお、偏光制御素子103に印可される電圧と、その際の透過率分布との関係は、予め測定しておくか、予めシミュレーションにより求めておき、工場出荷時などに記憶手段162に記憶される。
S302では、制御手段160は、透過率分布Piの情報と、撮像素子105の全画素の各々で観測される光強度分布Iiの情報と、を対応づけて記憶手段162に記憶させる。
S303では、制御手段160は、S301からS302を複数回(N回)繰り返し、互いに異なる複数の透過率分布P1〜PNと、対応する複数の光強度分布I1〜INを記憶手段162に記憶する。本実施形態では、繰り返し回数を、第1の偏光板202の分割数に設定している。これは、第1の偏光板202の分割数倍の解像度を得るためであるが、繰り返し回数は最低2回あればよい。
本実施形態では、図2に示すように、第1の偏光板202が、2×2分割されていた場合、繰り返し回数N=2×2=4回となる。同様の考えで、3×3分割、4×4分割されていた場合、繰り返し回数は各々N=9回、16回である。繰り返し回数Nは正確には、2×2分割されていた場合、N=4回以上であればよい。しかし、説明の簡単のため、以降では繰り返し回数Nは、2×2分割されていた場合、N=4回であるとする。3×3分割、4×4分割されていた場合も同様である。
透過率分布P1を図2(a)に示すもの、透過率分布P2を図2(b)に示すもの、などのように、透過率分布P1〜PNを互いに異なる分布から形成してもよいが、互いに直交している必要がある。すなわち、透過率分布P1〜PNをベクトルで表現した際、P1と、P2〜P4の夫々が直交(内積をとったときに0となる)するようにし、同様にP2とP3、P4の夫々が直交、P3とP4が直交するようにする。
S303では、制御手段160は、繰り返し回数Nだけ連写し、各撮像において駆動手段155によって印可される電圧を変化させる。このように、撮像装置100は、連写機能を有し、制御手段160は撮像素子105の露光を制御する。また、撮像装置100は、静止画撮影モードと動画撮影モードで動作することができる。
S304では、制御手段160は、画像処理手段150を介して、記憶手段162に記憶された透過率分布と光強度分布の情報に基づく逆問題を、撮像素子105の画素毎に解くことで、超解像を行う。この解法を次式に示す。
ここで、Piは撮像素子105のi番目の画素における複数の透過率分布P1i〜PNiを各行に記述した行列である。Iiは撮像素子105のi番目の画素において観測される光強度I1i〜INiを各行に持つ列ベクトルである。invは逆行列(疑似逆行列)を求める演算子である。なお、本実施形態では、行列、ベクトルは太字、スカラーは細字で示している。また、行列PiのサイズはN行N列、列ベクトルIiのサイズはN行1列である。また、この逆問題を解いて得られるN行1列の列ベクトルyiは、撮像素子105のi番目の画素における超解像画素値である。すなわち、撮像素子105のi番目の画素を√N×√N分割した際に、観測される光強度分布を表したベクトルである。
撮像素子105の1画素において、透過率分布を変えて複数回撮像することで、超解像画素値が得られる理由を説明する。撮像素子105のある1画素において観測される光強度I、その時の透過率分布P、対応する超解像画素値yの関係は、次式で与えられる。
透過率分布Pは行ベクトルであり、透過率分布Pで決まる線形結合係数で、超解像画素値yに重み付けをし、得られる線形和が光強度Iである。ただし、この方程式1つだけでは、スカラーである光強度Iから、N行1列の列ベクトルである超解像画素値yは、求めることができない。そこで、条件(透過率分布)を変えて複数回観測し、連立方程式を立てることで、超解像画素値が求められる。
S305では、制御手段160は、画像処理手段150を介して、逆問題を解いた結果を統合して高解像度画像を生成する。統合に必要な情報は、予め記憶手段162に記憶されている。S306では、制御手段160は、高解像度画像を記憶手段162に記憶したり、表示手段164に表示したりする。なお、制御手段160は、S305で、画像処理手段150にS304で取得した画素毎の情報を統合させずに、その情報を記憶手段162に記憶して処理を終了してもよい。そして、高解像度画像を表示する際に、制御手段160は画像処理手段150にそれを生成させるようにすれば、記憶手段162の記憶容量を抑えることができる。同様に、制御手段160は、S303でYesとなった時点で処理を終了してもよい。そして、高解像度画像を表示する際に、S304〜S306を実行してもよい。
以上、本発明の装置構成により、超解像ができることが分かる。なお、偏光制御素子103を制御するだけで良く、画素ずらし法のようなメカニカルな駆動を必要としない。加えて、S304において逆問題を解く計算負荷は、MAP推定と比べてとても小さく、画像処理に複雑な計算を必要としない。
特許文献1ではメカニカルな駆動を必要としない、画素ずらし超解像のための撮像装置が開示されている。以下、本発明の撮像装置と画素ずらし超解像と、によりそれぞれ得られる超解像画像の画質を、数値計算により比較する。なお、低解像度画像のサイズは、64×64画素、低解像度画像の1画素のサイズは10μm、超解像画像のサイズは128×128画素とする。低解像度画像の1画素を2×2分割したため、超解像画像は低解像度画像と比べ全画素数が4倍となっているが、1画素のサイズが半分(5μm)となっているため、画像の縦横の長さは変わっていない。また、画素ずらし超解像では、ランダムにシフトして取得した4枚の低解像度画像から、スプライン(Spline)補間により、超解像画像を生成した。
図7は、本発明で使用する、偏光制御素子の数値計算モデルにより生成した4つの透過率分布P1〜P4を示す図である。4つの透過率分布P1〜P4は、撮像素子のある1画素におけるものである。即ち、今回は1画素を2×2分割したので、透過率分布P1〜P4は各々2行2列の行列となる。黒ければ透過率が低く、白ければ透過率が高いことを意味する。本発明では、図7に示す4つの透過率分布P1〜P4を用いて、図3に示すフローチャートで示した超解像方法に従い、超解像画像を生成し、S304における逆問題の解法として、Moore−Penroseの擬似逆行列を用いた。
超解像画像の画質を、正解画像との2乗平均平方根誤差(Root Mean Square Error;RMSE)で評価した。RMSEは次式で与えられる。
ここで、P、Qは任意のM行1列の列ベクトル、pi、qiは各々P、Qのi番目の要素である。RMSEがゼロに近いほど、P、Qが類似していることを意味し、超解像画像と正解画像とのRMSEがゼロに近いほど、超解像画像が正解画像と類似し、高精度に超解像ができていると言える。
図8に数値計算による超解像処理結果を示す。図8(a)が画素ずらし超解像による超解像画像、図8(b)が本発明の撮像装置による超解像画像、図8(c)が正解画像である。画素ずらし超解像による超解像画像と正解画像とのRMSEは0.0145、本発明の撮像装置による超解像画像と正解画像とのRMSEは0.000であった。これより、画素ずらし超解像による超解像画像と正解画像とのRMSEより、本発明の撮像装置による超解像画像と正解画像とのRMSEの方がゼロに近く、従来技術より高精度に超解像ができることが分かる。
本実施形態では、偏光制御素子103を駆動しているが、偏光制御素子103を設ける代わりに、第1の偏光板102を回転する機構を設けてもよい。この場合、メカニカルな駆動が発生するが、上述したように、本実施形態の超解像方法は、画素ずらし法よりも高精度であるという効果を有する。
また、本実施形態では、画像処理手段150が超解像処理を行っているが、超解像処理プログラム(画像処理方法)がインストールされたパーソナルコンピュータ(PC)や専用の画像処理装置が超解像処理を行ってもよい。この場合、撮像装置100から記憶手段162が着脱可能に構成されるか、USBなどのケーブル(有線)、無線通信などにより、PCや専用画像処理装置にデータが移行される。その場合、インターネットやLANなどのネットワークを介して通信が行われてもよい。このため、撮像装置100は、有線または無線の通信手段を有してもよい。
このときの画像処理装置は、互いに異なる複数の一様でない透過率分布と、各透過率分布に対応づけられた撮像素子105の各画素の光強度分布の逆問題を解くことによって、撮像素子105の各画素の領域の画素値を取得する取得手段を有する。また、画像処理装置は、画素値を統合することによって高解像度画像を生成する生成手段を有する。複数の透過率分布は、光学素子(構成要素102〜104)を介して撮像素子105に光を導くことによって撮像素子105の各画素の複数の領域に対して形成される。また、各透過率分布は、前記光学素子への入射光に対する撮像素子の各画素への入射光の減衰率分布である。
同様に、画像処理方法は、上述の複数の透過率分布と光強度分布の逆問題を解くことによって、撮像素子105の各画素の領域の画素値を取得するステップと、画素値を統合することによって高解像度画像を生成するステップと、を有する。
図4は、実施例1の撮像装置としての赤外カメラ400の構成例を示すブロック図である。赤外カメラ400は、赤外結像光学系401と、第1の偏光板402と、偏光制御部である液晶素子403と、第2の偏光板404と、撮像素子である赤外イメージセンサ405と、により構成される。これらの構成要素は、それぞれ、結像光学系101、第1の偏光板102、偏光制御素子103、第2の偏光板104、撮像素子105に対応する。
赤外カメラ400の構成要素は、全て赤外波長領域において機能する。赤外結像光学系401は、例えば、サファイアガラス、第1の偏光板402は、例えば、アルミニウムのワイヤーグリッドや回折格子、赤外イメージセンサ405は、例えば、ヒ化ガリウムで作製される。また、赤外イメージセンサ405前面に、必要に応じて波長フィルタを設置してもよい。第1の偏光板402をワイヤーグリッドや回折格子で構成することは、本発明が赤外カメラに適用される場合に特に有効である。
以上の構成と図3のフローチャートで示した超解像方法により、低解像度な赤外イメージセンサでも、高解像度な赤外画像が取得できる。なお、図4に示す構成例は、一例に過ぎず、例えば、構成要素が可視光領域において機能する、通常のカメラ等にも適用が可能である。
図5は、実施例2の撮像装置としての内視鏡500の構成例を示すブロック図である。内視鏡500は、対象物を照明する照明ユニットと、照明ユニットによって照明された対象物からの反射光を集めて結像する撮像ユニットと、を有する。
照明ユニットは、平行な照明光を発する光源510、光源510からの光を伝達し、均一にする光ファイバ512、光ファイバ512からの平行光により対象物を照明する照明光学系514からなる。光源510が別途必要な理由は、多くの場合、内視鏡500は暗い場所(例えば、腹腔内)で用いられるからである。光源510は、単波長でもよいし、多波長を時分割で発してもよい。多波長の場合は、時間毎に異なる波長の低解像度画像の取得、および超解像処理を行うこととなる。また、光源510は、無偏光を発してもよいが、偏光方向が異なる光を時分割で発してもよい。光ファイバ512や照明光学系514を用いずに、光源510で対象物を直接照明してもよい。
撮像ユニットは、対物・結像光学系501と、光ファイババンドル506と、第1の偏光板502と、偏光制御部である液晶素子503と、第2の偏光板504と、撮像素子であるイメージセンサ505と、を有する。構成要素501〜505は、それぞれ、結像光学系101、第1の偏光板102、偏光制御素子103、第2の偏光板104、撮像素子105に対応する。光ファイババンドル506は、対物・結像光学系501によって結像された光学像を伝送するが、ロッドレンズなど他の手段を用いて伝送してもよい。
図3に示すS301〜S304を、波長毎に行い波長毎の超解像結果を統合し、S305で示す。
なお、光源510から対象物までの照明光の偏光状態や、対象物からイメージセンサ505までの光の偏光状態を保存する必要がある場合は、光ファイバ512、光ファイババンドル506として偏光保持が可能なものを用いる必要がある。また、光源510として蛍光の励起光を用いて、対象内の蛍光物質を励起した際に発せられる蛍光を観察してもよい。その場合、励起光と蛍光を分離するためのフィルタを、イメージセンサ505の前面等に別途設ける必要がある。
以上の構成と図3のフローチャートで示した超解像方法により、低解像度なイメージセンサでも、高解像度な内視鏡画像が取得できる。
図6は、実施例3の撮像装置としての顕微鏡600の構成例を示すブロック図である。顕微鏡600は、ステージ620と、ステージ上の標本Sを照明する照明ユニットと、照明ユニットによって照明された標本Sからの反射光を集めて結像する撮像ユニットと、を有する。
照明ユニットは、平行な照明光を発する光源610、光源610からの平行光により標本Sを照明する照明光学系614からなる。光源610が別途必要な理由は、顕微鏡では細かい部分を観察する目的上、光量が必要だからである。光源610は、単波長でもよいが、多波長を時分割で発してもよい。多波長の場合は、実施例2と同様に、時間毎に異なる波長の低解像度画像の取得、および超解像処理を行うこととなる。また、光源610は無偏光を発してもよいが、偏光方向が異なる光を時分割で発してもよい。
撮像ユニットは、標本からの透過または反射光を集めて結像する対物・結像光学系601と、第1の偏光板602と、偏光制御部である液晶素子603と、第2の偏光板604と、撮像素子であるイメージセンサ605と、により構成されている。構成要素601〜605は、それぞれ、結像光学系101、第1の偏光板102、偏光制御素子103、第2の偏光板104、撮像素子105に対応する。
また、光源として蛍光の励起光を用いて、標本中の蛍光物質を励起した際に発せられる蛍光を観察しても良い。その場合、実施例2と同様に、励起光と蛍光を分離するためのフィルタを、イメージセンサ605の前面等に別途設ける必要がある。
以上の構成と図3のフローチャートで示した超解像方法により、低解像度なイメージセンサでも、高解像度な顕微鏡画像が取得できる。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はその要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。例えば、本発明は偏光制御を使用して透過率分布を形成するものに限定されない。この場合、撮像装置は、被写体を撮像する撮像素子と、撮像素子の同一の画素内の複数の領域に対し、互いに異なる複数の透過率分布を形成する形成手段と、記憶手段と、制御手段と、を有する。そして、制御手段は、複数の透過率分布の夫々に対応づけて撮像素子の各画素の光強度分布の情報を記憶手段に記憶させる。また、各透過率分布は、形成手段への入射光に対する複数の領域への入射光の減衰率分布となる。形成手段は、例えば、領域が異なる減光率を有する減光フィルタを複数種類設けて着脱可能にしたり、回転したりするなどによって構成することができる。
本発明は、上述の実施形態の1以上の機能を実現するプログラムを、ネットワーク又は記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、そのシステム又は装置のコンピュータにおける1つ以上のプロセッサーがプログラムを読出し実行する処理でも実現可能である。また、1以上の機能を実現する回路(例えば、ASIC)によっても実現可能である。
本発明は、赤外カメラ、内視鏡、顕微鏡、可視光のカメラなどの撮影装置に適用可能である。
100…撮像装置、102…第1の偏光板(第1の偏光子)、103…偏光制御素子(調節手段)、155…駆動手段(調整手段)、104…第2の偏光板(第2の偏光子)、105…撮像素子、202a〜d…領域、205…撮像素子の1画素
Claims (18)
- 撮像装置に使用される偏光制御ユニットであって、
第1の偏光子と、
該第1の偏光子を通過した光の偏光方向を調節する調節手段と、
該調節手段を介した光を通過させる第2の偏光子と、を有し、
前記第1および第2の偏光子の少なくとも一方は、通過させる光の偏光方向が互いに異なる複数の領域を含み、
該複数の領域を通過した光は、前記撮像装置の撮像素子における同一の画素に入射することを特徴とする偏光制御ユニット。 - 前記調節手段は、
液晶素子と、
該液晶素子の液晶分子の配向を調節するための電力を印加する電力印加手段と、
を有することを特徴とする請求項1に記載の偏光制御ユニット。 - 前記調節手段は、前記第1の偏光子を回転させることを特徴とする請求項1に記載の偏光制御ユニット。
- 前記第1および第2の偏光子の少なくとも一方は、ワイヤーグリッドから構成されていることを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載の偏光制御ユニット。
- 前記第1および第2の偏光子の少なくとも一方は、回折格子から構成されていることを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載の偏光制御ユニット。
- 撮像装置に使用される偏光制御ユニットであって、
第1の偏光子と、
該第1の偏光子を通過した光の偏光方向を調節する調節手段と、
該調節手段を介した光を通過させる第2の偏光子と、を有し、
前記調節手段は、通過させる光の偏光方向が互いに異なる複数の領域を含む偏光制御素子と、前記複数の領域に係る前記偏光方向を調節する方向調節手段と、を備え、
前記複数の領域を通過した光は、前記撮像装置の撮像素子における同一の画素に入射することを特徴とする偏光制御ユニット。 - 請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載の偏光制御ユニットと、該偏光制御ユニットからの光を受光する撮像素子と、を備えることを特徴とする撮像装置。
- 前記偏光制御ユニットを介して物体の像を前記撮像素子の画素上に形成する結像光学系を備えることを特徴とする請求項7に記載の撮像装置。
- 前記撮像素子の各画素の複数の領域に対し、互いに異なる複数の透過率分布の夫々に対応づけて前記撮像素子の各画素の光強度分布の情報を記憶させる制御手段を有し、
各透過率分布は、前記偏光制御ユニットへの入射光に対する前記複数の領域に対する前記入射光の減衰率分布であることを特徴とする請求項7に記載の撮像装置。 - 被写体を撮像する撮像素子と、
該撮像素子の同一の画素内の複数の領域に対し、互いに異なる複数の透過率分布を形成する形成手段と、
前記複数の透過率分布の夫々に対応づけて前記撮像素子の各画素の光強度分布の情報を記憶させる制御手段と、
を有し、
各透過率分布は、前記形成手段への入射光に対する前記複数の領域への入射光の減衰率分布であることを特徴とする撮像装置。 - 前記透過率分布と前記光強度分布の情報に基づく逆問題を解くことによって、各画素の領域の画素値を取得し、該画素値を統合することによって高解像度画像を生成する画像処理手段を有することを特徴とする請求項9又は10に記載の撮像装置。
- 前記複数の透過率分布の夫々を表すベクトルは互いに直交することを特徴とする請求項11に記載の撮像装置。
- 前記画像処理手段は、前記複数の透過率分布を表す行列の擬似逆行列を用いて、前記逆問題を解くことを特徴とする請求項11又は12に記載の撮像装置。
- 前記高解像度画像を表示する表示手段を有することを特徴とする請求項11又は12に記載の撮像装置。
- 被写体の光学像を形成する結像光学系と、請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載の偏光制御ユニットを備えたレンズ装置と、
該レンズ装置が着脱可能な撮像装置と、
を有することを特徴とする撮像システム。 - 光学素子を介して撮像素子に光を導くことによって前記撮像素子の同一の画素内の複数の領域に対する、互いに異なる複数の透過率分布と、各透過率分布に対応づけられた前記撮像素子の各画素の光強度分布と、の情報に基づく逆問題を解くことによって、前記撮像素子の各画素の領域の画素値を取得する取得手段と、
前記画素値を統合することによって高解像度画像を生成する生成手段と、
を有し、
各透過率分布は、前記光学素子への入射光に対する前記複数の領域への入射光の減衰率分布であることを特徴とする画像処理装置。 - 光学素子を介して撮像素子に光を導くことによって前記撮像素子の同一の画素内の複数の領域に対する、互いに異なる複数の透過率分布と、各透過率分布に対応づけられた前記撮像素子の各画素の光強度分布と、の情報に基づく逆問題を解くことによって、前記撮像素子の各画素の領域の画素値を取得するステップと、
前記画素値を統合することによって高解像度画像を生成するステップと、
を有し、
各透過率分布は、前記光学素子への入射光に対する前記複数の領域への入射光の減衰率分布であることを特徴とする画像処理方法。 - コンピュータに請求項17に記載の画像処理方法を実行させるためのプログラム。
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