JP5978528B2 - 光照射装置 - Google Patents

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Description

本発明は、偏光軸の角度(方向又は向き)を測定する測定器を備えた光照射装置に関する。
配向膜、或いは配向層(以下、これらを「光配向膜」と称する)に偏光光を照射することで膜或いは層を配向する光配向と呼ばれる技術が知られており、この光配向は、液晶表示パネルの液晶表示素子が備える液晶配向膜の配向等に広く応用されている。
光配向に用いる光照射装置は、一般に、光を放射する光源と、入射光を偏光する偏光子とを備え、光源の光を偏光子に通して偏光光を得る(例えば、特許文献1参照)。
光配向の品位に影響を与える偏光光のファクターとしては、消光比と、偏光軸分布のバラツキとの2つが知られており、光配向に使用される光照射装置としては、これらが高い精度で調整されていることが重要である。これら消光比や偏光軸を測定する技術としては、各種の技術が提案されている(例えば、特許文献2〜特許文献4参照)。
特開2004−163881号公報 特開2004−226209号公報 特開2005−227019号公報 特開2007−127567号公報
光配向装置を用いて高品位な液晶配光膜を得るために、消光比が高く、偏光軸が例えば誤差0.1°以内の精度で調整される必要がある。偏光軸を誤差0.1°以内の精度で調整するためには測定精度として誤差0.01°以内を要求されるが、従来の構成では測定器自体に誤差があり(例えば、0.01°程度)、このような要求を満足する精度で偏光軸を測定できないおそれがあった。
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであり、対象物に照射する偏光光の偏光軸角度を精度良く測定可能な光照射装置を提供することを目的とする。
上述した目的を達成するために、本発明の第1態様は、偏光した光を照射する光照射装置において、光源と、この光源の光を偏光し、光の一つ以上の波長において100:1以上10000:1以下の消光比を有する複数の装置側偏光子と、検出側偏光子を有する偏光測定機構とを備え、前記偏光測定機構は、前記装置側偏光子及び前記検出側偏光子を順に透過した光を、前記検出側偏光子の偏光軸角度を変えながら検出し、前記検出側偏光子の前記偏光軸角度を変えながら検出した光の光量の周期的な変化を示す変化曲線を求め、この変化曲線から前記装置側偏光子の偏光軸の方向を求め、この方向を求める手順を繰り返して、複数の装置側偏光子の全ての偏光軸の方向を求め、前記偏光測定機構は、前記光照射装置から移動可能又は前記光照射装置と分離可能であることを特徴とする。
上述の構成において、前記偏光測定機構は、前記検出側偏光子を回動させることで、当該検出側偏光子の前記偏光軸角度を変えてもよい。
また、上述の構成において、前記検出側偏光子を回動して前記検出側偏光子の前記偏光軸角度を変えるためのロータリアクチュエータをさらに備えてもよい。
また、上述の構成において、前記偏光測定機構は、異なる偏光軸角度を有する複数の検出側偏光子を検出側に備え、前記装置側偏光子を透過した光が前記検出側偏光子の各々を順次通過するように前記複数の検出側偏光子を移動させることで、前記検出側の前記偏光軸角度を変えてもよい。
また、本発明の第2態様は、偏光した光を照射する光照射装置において、光源と、この光源の光を偏光し、光の一つ以上の波長において100:1以上10000:1以下の消光比を有する複数の装置側偏光子と、前記装置側偏光子で偏光した光を透過させる検出側偏光子と、前記装置側偏光子及び前記検出側偏光子を順に透過した光を、前記検出側偏光子の偏光軸角度を変えながら検出し、前記検出側偏光子の各偏光軸角度で検出した光の光量の周期的な変化を示す変化曲線を求め、この変化曲線から前記装置側偏光子の偏光軸の方向を求め、この方向を求める手順を繰り返して、複数の装置側偏光子の全ての偏光軸の方向を求める偏光軸検出器と、を有し、前記偏光軸検出器は、前記光照射装置から移動可能又は前記光照射装置と分離可能であることを特徴とする。
また、上述の構成において、前記偏光軸検出器は、異なる偏光軸角度を有する複数の検出側偏光子を検出側に備え、前記装置側偏光子を透過した光が前記検出側偏光子の各々を順次通過するように前記複数の検出側偏光子を移動させることで、前記検出側の前記偏光軸角度を変える駆動機構を備えてもよい。
また、上述の構成において、前記装置側偏光子は、所定の偏光方向に誤差0.1°以内で揃えられていてもよい。
本発明によれば、装置側偏光子の消光比を100:1以上としたため、対象物に照射する偏光光の偏光軸角度を精度良く測定できる。
本発明の実施形態に係る偏光測定機構を有する光配向装置を示す模試図である。 光配向装置及び偏光測定機構の構成を示す図である。 検出部の構成を示す模式図である。 実施形態の1つおける検出光の変化曲線の模式図である。 検出光の変化曲線の模式図であり、(A)は最小光量と最大光量との差が小さい場合、(B)は最小光量と最大光量との差が大きい場合を示す。 装置側ワイヤーグリッド偏光子の消光比と偏光測定装置で測定された対象物へ照射される偏光光の偏光軸の誤差との関係を示すグラフである。 装置側ワイヤーグリッド偏光子の消光比と偏光測定装置で測定された対象物へ照射される偏光光の偏光軸の誤差との関係を示すグラフである。 装置側ワイヤーグリッド偏光子の消光比と偏光測定装置で測定された対象物へ照射される偏光光の偏光軸の誤差との関係を示すグラフである。 本発明の変形例に係る検出部の模式図である。
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
以下の説明において、液晶膜等を光配向する光配向装置が、本発明の光照射装置として説明されている。しかしながら、本発明の光照射装置は、光配向装置に限定されるものではなく、偏光光を放射する装置であればどの装置であってもよい。
図1は、本実施形態に係る偏光測定機構(偏光測定システム)1を有する光配向装置2(光照射装置)を示す模試図である。
同図において、光配向装置(光照射装置)2は、帯状の光配向対象物の光配向膜に偏光光を照射して光配向する装置であり、偏光測定機構1は、光配向装置2の偏光光の偏光特性を測定するものである。偏光特性としては、光配向装置2の偏光光の偏光軸、及び消光比が測定される。
光配向装置2は、防振構造の定盤3と、照射器設置架台4と、光配向対象物が載置されるワークステージ5とを備えている。
照射器設置架台4は、定盤3から所定距離離れた上方位置で定盤3の幅方向(後述する直動機構の直動方向Xに垂直な方向)に横架される箱体であり、その両端が定盤3に固定される。照射器設置架台4は照射器6を内蔵し、照射器6が直下に偏光光を照射する。なお、ワークステージ5の移動に伴う振動と照射器6の冷却に起因する振動とを分離するために、照射器設置架台4を定盤3に固定するのではなく当該定盤3と別置する構成でも良い。
定盤3には、直動方向Xに沿って定盤3の面上を照射器6の直下を通過するようにワークステージ5を移送する直動機構(図示せず)が内設されている。光配向対象物の光配向にあっては、ワークステージ5に載置された光配向対象物が、直動機構によってワークステージ5とともに移送されて照射器6の直下を通過し、この通過の際に偏光光に曝露されて光配向膜が配向される。
照射器6は、光源たるランプ7と、反射鏡8と、偏光子ユニット10とを備え、集光する偏光光を直下に(ワークに対して90度で)、或いは、90度ではなく、ステージ5の移動方向に横断する方向に沿って回転する所定の傾斜、例えば45度を有して照射する。
ランプ7には、放電灯が用いられてもよい。本実施形態では、少なくとも光配向対象物の幅と同等以上に延びる直管型(棒状)の紫外線ランプが用いられている。反射鏡8は、断面楕円形、かつランプ7の長手方向に沿って延びるシリンドリカル凹面反射鏡であり、ランプ7の光を集光して偏光子ユニット10に向けて照射する。
偏光子ユニット10は、反射鏡8と光配向対象物の間に配置され、光配向対象物に照射される光を偏光する。この偏光光が光配向対象物の光配向膜に照射されることで、当該光配向膜が偏光光の偏光軸角度(方向)に応じて配向される。
図2は、偏光測定機構1の構成を光配向装置2の平面視図とともに示す図である。なお、同図では、偏光子ユニット10の構成の理解を容易にするために、照射器設置架台4の中に偏光子ユニット10のみを示している。
同図に示すように、偏光子ユニット10は、複数の単位偏光子ユニット12と、これら単位偏光子ユニット12を横並びに一列に整列するフレーム14とを備えている。フレーム14は、各単位偏光子ユニット12を連接配置する板状の枠体である。単位偏光子ユニット12は、略矩形板状に形成されたワイヤーグリッド偏光子(装置側偏光子)16を備えている。
本実施形態では、各単位偏光子ユニット12は、ワイヤーグリッド偏光子16をワイヤー方向Aが上記ワークステージ5の直動方向Xと平行になるように支持し、このワイヤー方向Aと直交する方向と、ワイヤーグリッド偏光子16の配列方向Bとが一致している。
ワイヤーグリッド偏光子16は、入射光のうちワイヤー方向Aに平行な成分を反射または吸収し、このワイヤー方向Aと直交する成分を透過して直線偏光光を得る直線偏光子の一種である。このワイヤーグリッド偏光子16では、ワイヤー方向Aと直交する方向が直線偏光の偏光軸C1(図3)と定義され、本実施形態では偏光軸C1が配列方向Bに揃えられている。上述の通り、ランプ7が棒状であることから、ワイヤーグリッド偏光子16には、さまざまな方向(角度)の光が入射するが、ワイヤーグリッド偏光子16は、斜めに入射する光であっても偏光軸C1(透過軸)の方向が合っていれば直線偏光化して透過する。
ワイヤーグリッド偏光子16は、その法線方向を回動軸にして面内で回動させて偏光軸C1の方向を微調整できるように単位偏光子ユニット12に支持されている。全ての単位偏光子ユニット12について、ワイヤーグリッド偏光子16の偏光軸C1が配列方向Bに揃うように微調整されることで、偏光子ユニット10の長軸方向の全長に亘り偏光軸C1が高精度に揃えられた偏光光が得られ、高品位な光配向が可能となる。
本実施形態では、偏光測定機構1は、図1に示すように、偏光測定装置(測定器、偏光軸検出器)20と、測定ユニット30とを備えている。測定ユニット30は、偏光光を検出する検出部31を備え、偏光測定装置20は、検出部31による偏光光の検出結果に基づいて、当該偏光光の偏光軸、及び消光比を測定する。
測定ユニット30は、ワイヤーグリッド偏光子16ごとの個々の測定を容易にするために、図2に示すように、案内方向が配列方向Bと平行に設置され、検出部31を線(直線)に沿って案内するリニアガイド32を備えている。偏光光測定時には、リニアガイド32が上記ワークステージ5の進行方向側の側面5Aに連結されて偏光子ユニット10の直下に移送され、或いはリニアガイド32が偏光子ユニット10の直下に位置するように定盤3の面上に設置される。そして、微調整対象のワイヤーグリッド偏光子16の直下に位置するように検出部31をリニアガイド32に沿って移動、或いは自走させ、その位置で当該ワイヤーグリッド偏光子16を透過した偏光光を検出部31で検出し、偏光光を測定する。偏光測定機構1(偏光測定装置20)は、光配向装置2の他の部分から移動可能又は他の部分から分離可能である。
図3は、検出部31の構成を示す模式図である。
検出部31は、検出側偏光子33と、受光センサ34とを備えている。
検出側偏光子33は、偏光軸C2を有する板状(図示例では円盤状)の光検出用の直線偏光子であり検光子とも称される。この検出側偏光子33には、ワイヤーグリッド偏光子16を透過して直線偏光化された偏光光Fが入射され、この偏光光Fを直線偏光化する。検出側偏光子33には、直線偏光子であれば任意の偏光子を用いることができ、例えばワイヤーグリッド偏光子を用いても良い。
受光センサ34は、検出側偏光子33の偏光軸C2で直線偏光化された検出光Gを受光して検出光Gの光量Iを示す検出信号35を偏光測定装置20に出力する。
好適な実施形態の1つにおいては、検出側偏光子33がその法線方向Sを回動軸にして、少なくとも1回転に亘り回動(回転)自在に設けられている。検出側偏光子33の回動(回転)は、基準位置P0からの回動(回転)角度θによって規定される。本実施形態では、基準位置P0(又は、基準位置P0の方向)は、偏光軸C2の方向が上記ワイヤーグリッド偏光子16の配列方向Bと一致する位置に設定されている。すなわち、検出部31をリニアガイド32にセットし、基準位置P0に検出側偏光子33を合わせたときには、検出側偏光子33の偏光軸C2が配列方向Bを向いた状態となる。
偏光測定装置20は、偏光光Fの偏光軸F1と消光比とを測定するものである。本実施形態では、測定は、検出側偏光子33が1回転するときの検出光Gの光量の周期的な変化に基づく。具体的には、偏光測定装置20は、図2に示すように、回転駆動制御部21と、入力部22と、変化曲線算出部23と、偏光特性特定部24と、偏光特性出力部25とを備えている。なお、偏光測定装置20は、図2に示す各部を実現するコンピュータ読取可能なプログラムを、例えばパーソナルコンピュータに実行させることで実施することもできる。
回転駆動制御部21は、検出部31の検出側偏光子33の回転を制御する。具体的には、検出部31は、検出側偏光子33を回動(回転)するロータリアクチュエータRAを備え、回転駆動制御部21がロータリアクチュエータを制御し検出側偏光子33を回動(回転)させることで偏光軸C2を所定の回動(回転)角度θの方向に合わせる。このときの回動角度θは変化曲線算出部23に出力される。
入力部22は、検出光Gの光量Iの検出値の入力を受光センサ34から受け付ける手段であり、この入力部22には検出部31の検出信号35が入力される。入力部22は、当該検出信号35から検出光Gの光量Iの検出値を取得し変化曲線算出部23に出力する。
変化曲線算出部23は、検出光Gの光量Iの検出値に基づき、検出側偏光子33を1回転させたときの検出光Gの光量Iの周期的な変化を示す変化曲線Qを算出する。詳述すると、検出光Gは、前掲図3に示すように、ランプ7の放射光Eが、直線偏光子であるワイヤーグリッド偏光子16、及び検出側偏光子33を順に通って得られる光である。検出側偏光子33と受光センサ34との間には他の部材があってもよい。本実施形態では、検出側偏光子33と受光センサ34との間にバンドパスフィルター及び合焦又は撮像光学レンズがある。
したがって、検出側偏光子33の回転に伴う検出光Gの光量Iの変化曲線Qは、理想的には、図4に示すように、1周期がπ[rad](=180°)であって次式(1)に示す余弦波形となる(いわゆる、マリューの法則(Low of Malus))。このような余弦波形を有する変化曲線Qは、検出側偏光子33の偏光軸C2がワイヤーグリッド偏光子16の偏光光Fの偏光軸F1に平行である場合(本実施形態では回動角度θ=0°、180°(極大点))に最大光量Imax(極大値)を有し、偏光軸C2が偏光光Fの偏光軸F1に直交する場合(本実施形態では回動角度θ=90°、270°(極小点))に最小光量Imin(極小値)を有する。
変化曲線Q=α×cos(β×(θ−γ))+ε (1)
ただし、αは振幅、βは周期、γは位相ズレ(基準位置P0に対する偏光光Fの偏光軸F1の位相差)、εはバイアス成分である。
変化曲線算出部23は、検出光Gの光量Iの検出値に基づき、式(1)式に示した余弦波形をカーブフィッティング(曲線回帰とも呼ばれる)の手法により求め、求めた余弦波形を偏光特性特定部24に出力する。
偏光光Fの偏光軸F1が基準位置P0の方向からズレている場合、すなわちワイヤーグリッド偏光子16の偏光軸C1の方向が基準位置P0の方向である配列方向Bからズレている場合には、図4に仮想線(一点鎖線)で示すように、そのズレが変化曲線Qに位相ズレγ(>0)として現れることとなる。
偏光特性特定部24は、変化曲線算出部23によって求められた変化曲線Qに基づき、偏光光Fの偏光方向(すなわち偏光光Fの偏光軸F1の方向)、及び消光比を特定し、偏光特性出力部25に出力する。ここでは、消光比は、最小光量Iminで最大光量Imaxを除算して求められる。
具体的には、偏光特性特定部24は、図4に示すように、変化曲線Qにおいて、検出光Gの最大光量Imaxが得られる回動角度θ(極大点)である上記γを特定することで偏光軸C1の方向を特定し、また、変化曲線Qの最大光量Imaxと最小光量Iminの比(=最大光量Imax/最小光量Imin)に基づいて消光比(Imax/Imin)を特定する。変化曲線Qにおける最大光量Imaxは当該変化曲線Qに回動角度θ=γ(極大点)を代入して求められ、また最小光量Iminは回動角度θ=90°+γ(極小点)を代入して求められる。
偏光特性出力部25は、偏光特性特定部24によって特定された偏光特性(偏光軸(F1)の角度(方向)、及び偏光光Fの消光比)を出力するものである。偏光特性の出力の態様は、ユーザが偏光特性を利用可能であれば任意であり、例えば表示部への表示、他の電子機器への出力、記録媒体への記録等が挙げられる。
ここで、偏光測定装置20の検出側偏光子33の特性ばらつきや経年劣化等に起因して、光の透過特性に個体差が生じる場合がある。透過特性のばらつきは、最大検出光量よりも最小検出光量のばらつきに顕著に現れ、この結果、消光比に大きな誤差を生じさせる。
したがって、偏光測定装置20による消光比の測定では、偏光測定装置20で測定された最小検出光量を、リファレンス用の偏光測定装置で予め測定された最小検出光量と同じになるように補正し、補正後の最小検出光量を用いて消光比を求めることが好ましい。
この偏光特性について、発明者らは、鋭意理論的考察を通じて次のような知見を得た。
すなわち、測定対象となる偏光光の消光比が高い(ワイヤーグリッド偏光子16の消光比が高い)と偏光軸の測定精度が良くなる(偏光軸の誤差が小さくなる)。これは、以下の理由からである。
偏光光Fの偏光軸F1の角度(方向)は、上述したように、変化曲線Qにおいて最大光量Imaxの角度θを計算によって求めることで、ある基準位置P0(基準軸)に対する角度γとして求めることができる。
ここで、変化曲線Qは一定周期で変化しているため、最小光量Iminと最大光量Imaxとの差が小さいと、図5(A)に示すように、極大点における変化曲線Qの曲率が小さくなり変化曲線Qが丸みを帯び、極大点における角度θのばらつきの範囲が広くなる。図5(A)に示す例の場合、例えば、偏光光Fの偏光軸F1の真値が0.000°であるのに対し、偏光測定装置20による測定値は0.01°となってしまう。
一方、最小光量Iminと最大光量Imaxとの差が大きいと、図5(B)に示すように、極大点における変化曲線Qの曲率が大きくなり変化曲線Qがシャープになるため、極大点における角度θのばらつきの範囲が狭くなり、当該角度θを精度良く求められる。図5(B)に示す例の場合、例えば、偏光光Fの偏光軸F1の真値が0.000°であるのに対し、偏光測定装置20による測定値は0.003°となり、図5(A)の例に比べ、最大光量Imaxの角度θを精度良く求めることができる。
消光比は、最小光量Iminで最大光量Imaxを除算して求めることから、測定対象となる偏光光の消光比を高くするほど、角度θを精度良く求めることができ、ひいては、偏光光Fの偏光軸F1を精度良く求めることができることとなる。
また、光配向装置2は、放電灯たるランプ7を光源としている。したがって、ランプ7を点灯する電源装置の点灯電力の揺らぎやランプ7の冷却状態など様々な要因により、光源輝度が非常に短い時間周期で変動し光源に揺らぎやちらつきが発生し、光源の揺らぎやちらつきが光源輝度のノイズフロアとなる。また、消光比及び偏光軸を算出するために行う一連の測定中に変化する光源輝度の長期的な変化、センサに由来するノイズ、ステージ回転精度に由来するノイズ、偏光子を通過しない漏れ光に由来するノイズ、偏光子通過後に物体に反射され偏光特性が意図しない特性となる光によるノイズ等もノイズフロア成分となる。上述のように偏光子性能に由来しないがセンサ出力に現れてしまう出力をノイズフロア成分とする。消光比は、最小光量Iminで最大光量Imaxを除算することから、(ノイズ成分/最小光量Imin)の比率(百分率)が小さければ小さいほど、ノイズ成分が消光比の値に与える影響が小さくなる。
検出側偏光子33には従来からワイヤーグリッド偏光子16の消光比に比べて高い消光比の偏光子が用いられていることから、偏光光の消光比は、調整対象のワイヤーグリッド偏光子16にほぼ依存する。
そこで、本実施形態では、ワイヤーグリッド偏光子16の消光比を高くし、偏光測定装置20に入射して測定される偏光光の消光比を高くしている。なお、本実施形態においても、当然に、検出側偏光子33の消光比は、ワイヤーグリッド偏光子16の消光比よりも高く設定される。
図6〜図8は、ワイヤーグリッド偏光子16の消光比と偏光測定装置20で測定された偏光光Fの偏光軸F1の誤差との関係を示すグラフである。
ここで、消光比は、比ではなく、デシベル(dB)でも表現され、消光比のdB値は、比Eを用いて次に示す換算式(2)により算出される。
消光比,dB=10・1og10・・・(2)
図6〜図8に示す結果の測定においては、検出側偏光子33の消光比が50(dB)、P偏光透過率が60(%)、偏光軸の誤差を求めるための計算試行回数が100(回)である。図6はノイズフロアが35(dB)の場合、図7はノイズフロアが45(dB)の場合、図8はノイズフロアが50(dB)の場合の結果を示す。図6〜図8において、横軸はワイヤーグリッド偏光子16の消光比を、縦軸は真値に対する偏光光Fの偏光軸F1の誤差(位相差γの誤差)を示す。また、図6〜図8中、線L1、L2、L3は前述した消光比及び偏光軸を求めるために算出する変化曲線Qの実測点の角度方向の分割数が異なる場合の結果(偏光軸の測定誤差)であり、線L1は分割数(すなわち、図4、5A及び5Bでの曲線に使用された点の数)が30、線L2は分割数が240、線L3は分割数が810のときの結果を示す。したがって、当業者には、100:1以上の消光比を有する装置側偏光子が測定速度も向上させることは明らかである。
図6〜図8に示すように、ワイヤーグリッド偏光子16の消光比が高くなるほど、測定された偏光光Fの偏光軸F1の誤差が小さくなっている。消光比が約20dB(100:1)以上となると、測定された偏光光Fの偏光軸F1の誤差の変化量が緩やかになっている。
また、偏光軸を誤差0.1°以内の精度で調整するためには測定精度として誤差0.01°以内を要求されるが、図7及び図8では、消光比が約20dB(100:1)以上となると、目標とする誤差(0.01°)以下となっている。
そこで、本実施形態では、ワイヤーグリッド偏光子16の消光比を100:1以上にしている。また、検出側偏光子33の消光比は、ワイヤーグリッド偏光子16の消光比よりも高く設定されており、本実施形態では、偏光測定装置20で測定可能な消光比の上限を1000:1としている。なお、本実施形態では、単波長(例えば254nm)の光を想定して計算を行っているが、多波長の光を照射する光源(例えば、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等)についても同様な考えが成り立つ。
これにより、偏光子16の消光比が高いと、極大点における角度θのばらつきの範囲が狭くなるので、偏光光Fの偏光軸F1の角度(方向)を精度良く測定できる。
次いで、偏光測定機構1を用いた光配向装置2の偏光光の測定について説明する。
作業者は、先ず、測定ユニット30を光配向装置2に設置する。この設置に際し、作業者は、リニアガイド32の案内方向が上記ワイヤーグリッド偏光子16の配列方向Bと平行になり、かつ、偏光子ユニット10の直下に位置するようにリニアガイド32を設置する。次いで、作業者は、検出部31をリニアガイド32で案内して測定対象のワイヤーグリッド偏光子16の直下に配置し、偏光測定機構1を用いて、このワイヤーグリッド偏光子16から出射される偏光光Fを検出し、そのワイヤーグリッド偏光子16の偏光軸C1、及び消光比を測定する。作業者は、偏光光Fの偏光軸F1の測定結果に基づき、必要に応じてワイヤーグリッド偏光子16の回動(回転)を微調整することで、偏光軸C1の方向を所定方向(本実施形態では配列方向B)に合わせる。
作業者は、偏光子ユニット10が備える全てのワイヤーグリッド偏光子16について同様に偏光光Fの測定し、この測定結果に基づき、偏光軸C1の方向を配列方向Bに合わせる作業を行うことで、全てのワイヤーグリッド偏光子16の偏光軸C1の方向が配列方向Bに揃えられる。
上述の通り、この偏光測定機構1によれば、変化曲線Qから偏光軸C1の方向が高精度に特定されるので、個々のワイヤーグリッド偏光子16を微調整する際に、高い精度で偏光光Fの偏光軸F1の方向を調整できる。
以上説明したように、本実施形態によれば、偏光光Fの偏光軸F1を測定する偏光測定装置20を備え、ワイヤーグリッド偏光子16(装置側偏光子)の消光比を100:1以上とする構成とした。具体的には、偏光測定装置20は、検出側偏光子33を備え、ワイヤーグリッド偏光子16及び前記検出側偏光子33を順に透過した光を、検出側偏光子33の偏光軸角度を変えながら検出し、検出側偏光子33の各偏光軸角度での光の光量を検出し、各偏光軸角度での光の光量に基づいて、検出側偏光子33の偏光軸角度を変えたときの光量の周期的な変化を示す変化曲線Qを求め、この変化曲線Qから偏光光Fの偏光軸F1を算出する構成とした。この構成により、変化曲線Qの角度θを精度良く求めることができ、ひいては、偏光光Fの偏光軸F1を精度良く求めることができる。
また、本実施形態によれば、偏光測定装置20は、検出側偏光子33を回動(回転)させることで、検出側偏光子33の偏光軸角度を変える構成とした。この構成により、1つの検出側偏光子33で偏光光を測定できるので、偏光測定装置20を簡素化及び小型化できる。
なお、上述した実施形態は、あくまでも本発明の一態様を例示するものであって、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で任意に変形、及び応用が可能である。
例えば上述した実施形態では、偏光測定機構1が測定する偏光光の光源として、放電灯であるランプ7を例示したが、光源はこれに限定されるものではなく任意である。すなわち、本発明は、任意の光源から偏光子を透過して得られる直線偏光された偏光光の測定に用いることができる。また光源は、必ずしも線状光源である必要はない。
また例えば、上述した実施形態では、測定対象の偏光光を得る偏光子の一例として、ワイヤーグリッド偏光子16を例示したが、偏光子はこれに限定されるものではない。すなわち、偏光子は、直線偏光された偏光光が得られる偏光子であれば任意である。
また例えば、上述した実施形態では、偏光測定装置20が偏光光の偏光軸と消光比の両方を測定する構成を例示したが、偏光軸のみを測定しても良い。また、偏光測定装置20が偏光光の偏光軸に加え、光強度等の他の特性も測定しても良い。
また例えば、上述した実施形態では、検出部31の検出信号35を偏光測定装置20に入力することで、偏光測定装置20が検出光Gの光量を取得する構成としたが、これに限らない。すなわち、回動(回転)角度θと検出光Gの光量との対応が記録された記録データを、例えば他の電子機器や記録媒体(例えば、半導体メモリ等)から取得しても良い。
また例えば、上述した実施形態では、検出側偏光子33を回動(回転)させることで、検出側偏光子33の偏光軸C2の角度(方向)を変えていたが、検出側偏光子33の偏光軸C2の角度(方向)を変える方法はこれに限定されるものではない。例えば、図9に示すように、検出側偏光子33が、配列方向Bに対して異なる偏光軸角度(方向)を有する複数の検出側偏光子133を備えて構成されてもよく、これら複数の検出側偏光子133を、例えば各検出側偏光子133が測定対象物としてのワイヤーグリッド偏光子16の真下を順次通過あるいは位置するように移動されてもよく、これにより、当該検出側の偏光軸C2の角度(方向)を変えるようにしてもよい。この場合においても、図4に示すような変化曲線Qが得られる。これにより、検出側偏光子33の回転・停止の精度を必要としないため、偏光測定装置20を安価に構成できる。
なお、図9の例では、偏光軸C2が例えば10°ずつ異なる複数の検出側偏光子133を同一直線上に一列に並べてフレーム136に配置し、このフレーム136を配列方向Bに直線移動させる構成とした。しかしながら、検出側偏光子133の偏光軸C2の角度、配列方向及び移動方向は図9の例に限定されるものではない。例えば、複数の検出側偏光子を同一円状に並べてフレームに配置し、このフレームを回転(回動)させてもよい。
複数の検出側偏光子の移動の態様は特別の態様に限定されない。例えば、ロータリアクチュエータ、ギアとモータとを組み合わせたもの、あるいは他の周知の移動装置等の駆動機構DMにより、複数の検出側偏光子を順次(連続、あるいは、間欠的に)移動させることで偏光軸C2の角度を変化させてもよい。
2 光配向装置(光照射装置)
7 ランプ(光源)
10 偏光子ユニット
16 ワイヤーグリッド偏光子(装置側偏光子)
20 偏光測定装置(測定器、偏光軸検出器)
33 検出側偏光子
C1 偏光軸

Claims (7)

  1. 偏光した光を照射する光照射装置において、
    光源と、
    この光源の光を偏光し、光の一つ以上の波長において100:1以上10000:1以下の消光比を有する複数の装置側偏光子と、
    検出側偏光子を有する偏光測定機構とを備え、
    前記偏光測定機構は、前記装置側偏光子及び前記検出側偏光子を順に透過した光を、前記検出側偏光子の偏光軸角度を変えながら検出し、前記検出側偏光子の前記偏光軸角度を変えながら検出した光の光量の周期的な変化を示す変化曲線を求め、この変化曲線から前記装置側偏光子の偏光軸の方向を求め、この方向を求める手順を繰り返して、複数の装置側偏光子の全ての偏光軸の方向を求め、
    前記偏光測定機構は、前記光照射装置から移動可能又は前記光照射装置と分離可能であることを特徴とする光照射装置。
  2. 前記偏光測定機構は、前記検出側偏光子を回動させることで、当該検出側偏光子の前記偏光軸角度を変えることを特徴とする請求項1に記載の光照射装置。
  3. 前記検出側偏光子を回動して前記検出側偏光子の前記偏光軸角度を変えるためのロータリアクチュエータをさらに備えたことを特徴とする請求項2に記載の光照射装置。
  4. 前記偏光測定機構は、異なる偏光軸角度を有する複数の検出側偏光子を検出側に備え、前記装置側偏光子を透過した光が前記検出側偏光子の各々を順次通過するように前記複数の検出側偏光子を移動させることで、前記検出側の前記偏光軸角度を変えることを特徴とする請求項1に記載の光照射装置。
  5. 偏光した光を照射する光照射装置において、
    光源と、
    この光源の光を偏光し、光の一つ以上の波長において100:1以上10000:1以下の消光比を有する複数の装置側偏光子と、
    前記装置側偏光子で偏光した光を透過させる検出側偏光子と、
    前記装置側偏光子及び前記検出側偏光子を順に透過した光を、前記検出側偏光子の偏光軸角度を変えながら検出し、前記検出側偏光子の各偏光軸角度で検出した光の光量の周期的な変化を示す変化曲線を求め、この変化曲線から前記装置側偏光子の偏光軸の方向を求め、この方向を求める手順を繰り返して、複数の装置側偏光子の全ての偏光軸の方向を求める偏光軸検出器と、を有し、
    前記偏光軸検出器は、前記光照射装置から移動可能又は前記光照射装置と分離可能であることを特徴とする光照射装置。
  6. 前記偏光軸検出器は、異なる偏光軸角度を有する複数の検出側偏光子を検出側に備え、前記装置側偏光子を透過した光が前記検出側偏光子の各々を順次通過するように前記複数の検出側偏光子を移動させることで、前記検出側の前記偏光軸角度を変える駆動機構を備えたことを特徴とする請求項5に記載の光照射装置。
  7. 前記装置側偏光子は、所定の偏光方向に誤差0.1°以内で揃えられていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の光照射装置。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101855797B1 (ko) * 2016-12-08 2018-06-20 한국기초과학지원연구원 편광기의 비직교 배열을 이용한 투과축 측정 시스템
WO2019142569A1 (ja) * 2018-01-18 2019-07-25 Jfeスチール株式会社 分光分析装置、分光分析方法、鋼帯の製造方法、及び鋼帯の品質保証方法
CN111176075B (zh) * 2018-11-13 2021-08-10 上海微电子装备(集团)股份有限公司 偏振像差检测装置、物镜测试台及光刻设备

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5311283A (en) * 1991-09-05 1994-05-10 The Dow Chemical Company Fiber optic probe and method for detecting optically active materials
GB9121658D0 (en) * 1991-10-11 1991-11-27 Optical Activity Ltd A polarimeter
US6473179B1 (en) * 1998-02-20 2002-10-29 Hinds Instruments, Inc. Birefringence measurement system
US6081337A (en) * 1998-05-05 2000-06-27 The Hong Kong University Of Science & Technology Method and apparatus for measuring liquid crystal cell properties
US6666556B2 (en) * 1999-07-28 2003-12-23 Moxtek, Inc Image projection system with a polarizing beam splitter
US6874899B2 (en) 2002-07-12 2005-04-05 Eastman Kodak Company Apparatus and method for irradiating a substrate
JP4637454B2 (ja) 2003-01-22 2011-02-23 株式会社 オプトクエスト 偏光消光比等測定装置ならびにその測定装置に用い得る偏光消光比等の測定方法
JP2005227019A (ja) 2004-02-10 2005-08-25 Yamatake Corp 偏光軸の測定方法および測定装置
JP2007127567A (ja) * 2005-11-07 2007-05-24 Ushio Inc 偏光方向測定装置
JP4928897B2 (ja) * 2005-12-01 2012-05-09 株式会社東芝 偏光評価マスク、偏光評価方法、及び偏光計測装置
JP5933910B2 (ja) * 2006-08-15 2016-06-15 ポラリゼーション ソリューションズ エルエルシー 偏光子薄膜及びこの製作方法
JP5764747B2 (ja) * 2011-09-02 2015-08-19 パナソニックIpマネジメント株式会社 偏光撮像素子および内視鏡
KR101370135B1 (ko) * 2011-12-05 2014-03-06 주식회사 엘지화학 편광 분리 소자
JP5105567B1 (ja) * 2012-04-19 2012-12-26 信越エンジニアリング株式会社 光配向照射装置
CN102636930B (zh) * 2012-04-27 2015-08-19 深圳市华星光电技术有限公司 采用半源极驱动结构的3d显示装置
JP5603508B2 (ja) * 2012-05-22 2014-10-08 パナソニック株式会社 撮像処理装置および内視鏡
JP5516802B1 (ja) * 2013-07-01 2014-06-11 岩崎電気株式会社 光配向照射装置
TWI585387B (zh) * 2012-07-18 2017-06-01 岩崎電氣股份有限公司 偏光測定方法,偏光測定裝置,偏光測定系統及光配向照射裝置
JP5605399B2 (ja) * 2012-07-18 2014-10-15 岩崎電気株式会社 偏光測定方法、及び偏光測定システム
CN202710848U (zh) * 2012-08-21 2013-01-30 北京量拓科技有限公司 一种高能量利用率的线偏振光产生装置及其应用
JP6201310B2 (ja) * 2012-12-14 2017-09-27 東芝ライテック株式会社 偏光光照射装置
JP5862616B2 (ja) * 2013-07-17 2016-02-16 ウシオ電機株式会社 光配向用偏光光照射装置及び光配向用偏光光照射方法

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