JP6922128B2 - 薄膜キャパシター及びその製造方法 - Google Patents
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Description
11 第1電極層(下部電極)
12 誘電体層
13 第2電極層
14 第1電極層
Claims (16)
- 基板上に誘電体層を挟んで交互に積層された複数の第1電極層及び複数の第2電極層を含む本体を含み、
前記複数の第1電極層及び前記複数の第2電極層の表面粗さは前記誘電体層の表面粗さより小さく、
前記第1及び第2電極層の表面粗さは0.5〜1.5nmであり、
前記誘電体層の上面の表面粗さは、前記第1及び第2電極層の表面粗さとの差が1nm〜4nmである、薄膜キャパシター。 - 前記誘電体層の表面粗さは2〜5nmである、請求項1に記載の薄膜キャパシター。
- 少なくとも一面に下部電極が形成された基板を提供する段階と、
前記下部電極上に誘電体層を形成する段階と、
前記誘電体層上に電極層を形成する段階と、を含み、
前記誘電体層と前記電極層は2層以上の多層構造を成して交互に積層され、
前記電極層の表面粗さは前記誘電体層の表面粗さより小さく、
前記第1及び第2電極層の表面粗さは0.5〜1.5nmであり、
前記誘電体層の上面の表面粗さは、前記第1及び第2電極層の表面粗さとの差が1nm〜4nmである、薄膜キャパシターの製造方法。 - 前記誘電体層の表面粗さは2〜5nmである、請求項3に記載の薄膜キャパシターの製造方法。
- 前記誘電体層を形成する段階において、
前記誘電体層を形成する多結晶質粒塊の結晶成長方向が(100)面、(111)面、及び(110)面の少なくとも2種以上である、請求項3または4に記載の薄膜キャパシターの製造方法。 - 前記誘電体層を形成する多結晶質粒塊の結晶成長方向は温度によって調節される、請求項5に記載の薄膜キャパシターの製造方法。
- 前記誘電体層を形成する多結晶質粒塊は、柱状、四面体状、及び三角柱状の少なくとも一つの形状を有する、請求項5または請求項6に記載の薄膜キャパシターの製造方法。
- 前記電極層を形成する段階で前記電極層の表面に表面処理を行う、請求項3から請求項7の何れか一項に記載の薄膜キャパシターの製造方法。
- 前記表面処理は前記電極層を平坦化することである、請求項8に記載の薄膜キャパシターの製造方法。
- 前記平坦化は、前記電極層をドライエッチングするか、または前記電極層を化学機械研磨することにより行われる、請求項9に記載の薄膜キャパシターの製造方法。
- 前記誘電体層を薄くする段階をさらに含む、請求項3から請求項10の何れか一項に記載の薄膜キャパシターの製造方法。
- 前記誘電体層を薄くする段階は、誘電体層をドライエッチングするか、または誘電体層を化学機械研磨することにより行われる、請求項11に記載の薄膜キャパシターの製造方法。
- 基板と、
複数の誘電体層と、
第1外部電極と電気的に接続される複数の第1電極層と、
前記複数の第1電極層、及び複数の誘電体層の各々を間に挟んで前記複数の第1電極層と交互に積層され、第2外部電極とそれぞれ電気的に接続される複数の第2電極層と、を含み、
前記複数の誘電体層のそれぞれの一方の面の表面粗さが前記複数の誘電体層のそれぞれの他方の面の表面粗さより大きく、
前記第1及び第2電極層の表面粗さは0.5〜1.5nmであり、
前記誘電体層の上面の表面粗さは、前記第1及び第2電極層の表面粗さとの差が1nm〜4nmである、薄膜キャパシター。 - 前記複数の誘電体層のそれぞれの前記他方の面は前記基板に向かって相対する、請求項13に記載の薄膜キャパシター。
- 前記複数の第1電極層及び前記複数の第2電極層のそれぞれの一方の面の表面粗さは、前記複数の第1電極層及び前記複数の第2電極層のそれぞれの他方の面の表面粗さより大きい、請求項13または請求項14に記載の薄膜キャパシター。
- 前記複数の第1電極層及び前記複数の第2電極層の前記一方の面は前記基板に向かって相対する、請求項15に記載の薄膜キャパシター。
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