JP6915648B2 - 転写箔の製造方法 - Google Patents
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Description
例えば、顔画像等の個人情報を表す画像を表示する印刷層上に、透明なホログラムを貼り付けることで、個人情報を改竄から保護することがある。また、ID(identification)カード及びクレジットカードなどの各種カードや紙幣などの有価証券の不正な複製を牽制する目的で、それらにおいてホログラムを使用することもある。
接着層は、例えば熱可塑性樹脂からなる。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、及びオレフィン樹脂が挙げられる。接着層の厚さは、例えば、0.5乃至20μmの範囲内とすることができる。
先ず、本発明の一実施形態に係る方法により製造可能な転写箔について説明する。
支持体11は、転写材層12を剥離可能に支持している。支持体11は、例えば、帯形状を有している。
転写部は、転写材層12のうち、物品へ転写される部分である。転写部は、表示体として利用される部分である。非転写部は、転写材層12のうち、物品へ転写されずに残留する部分である。ここでは、転写部は、第1部分P1と第2部分P2の一部とを含んだ部分であり、非転写部は、第2部分の残りの部分であるとする。
次に、本発明の一実施形態に係る転写箔の製造方法を説明する。ここでは、一例として、上述した転写箔10の製造方法を説明する。
図3は、第1原版の一例を概略的に示す斜視図である。図4は、第2原版の一例を概略的に示す斜視図である。
図7は、第1領域を拡大して示す平面図である。図8は、第2領域を拡大して示す平面図である。
エッチングマスクは、例えば、先ず、金属層上に感光性樹脂層を形成し、次いで、金属層を間に挟んで感光性樹脂層を露光し、その後、感光性樹脂層を現像処理に供することにより得る。或いは、エッチングマスクは、真空蒸着法やスパッタリング法などの気相堆積法により、金属層と比較してエッチングされ難い無機化合物からなる層を金属層上へ形成することにより得る。このようなエッチングマスクは、例えば、第1凹部又は凸部RP1に相当する凹部又は凸部の位置で開口している。
次に、第1変形例に係る転写箔の製造方法について説明する。
第1変形例に係る転写箔の製造方法は、以下の点を除き、図1乃至図10を参照しながら説明した転写箔の製造方法と同様である。
次に、第2変形例に係る転写箔の製造方法について説明する。
第2変形例に係る転写箔の製造方法は、以下の点を除き、図1乃至図10を参照しながら説明した転写箔の製造方法と同様である。
上述した転写箔の製造方法には、更に他の変形も可能である。例えば、第3レーザビームの照射は、第3領域R3が、熱可塑性樹脂層40の主面のうち第2領域R2と第3領域R3とが部分的に重なり合った位置に、第2レーザビームのビーム径よりも小さな幅のスリットを有するように行ってもよい。こうすると、第2レーザビームのビーム径よりも小さな幅の帯状部、より具体的には、第3領域R3のスリットの幅と等しい幅を有する帯状部を有し、この帯状部に第2レリーフ構造RS2の一部が設けられた反射層122が得られる。
以下に、当初の特許請求の範囲に記載していた発明を付記する。
[1]
複数の第1凹部又は凸部からなる第1レリーフ構造が設けられた第1原版に、熱可塑性樹脂層の一方の主面を押し当て、この状態で前記熱可塑性樹脂層の一部又は全体を第1レーザビームの照射によって加熱して、前記主面の第1領域に前記第1レリーフ構造の一部又は全体を転写することと、
その後、前記複数の第1凹部又は凸部と比較して深さと幅との比又は高さと幅との比がより小さい複数の第2凹部又は凸部からなる第2レリーフ構造が設けられた第2原版に、前記熱可塑性樹脂層の前記主面を押し当て、この状態で前記熱可塑性樹脂層の一部を第2レーザビームの照射によって加熱して、前記主面のうち前記第1領域の一部と重なり合った部分を有する第2領域に、前記第2レリーフ構造の一部を転写することと、
その後、前記熱可塑性樹脂層の前記主面に、又は、前記熱可塑性樹脂層の前記主面に設けられたレリーフ構造が直接若しくは間接的に転写された主面を有する他の層の前記主面に、金属層を形成することと、
前記金属層のうち前記第1レリーフ構造の一部に対応した部分を、エッチングによって選択的に除去することと
を含んだ転写箔の製造方法。
[2]
前記第2レーザビームの照射は、前記第2領域のうち前記第1領域の前記一部と重なり合った前記部分が、180°より大きく且つ360°よりも小さい角部を有するように行う項1に記載の製造方法。
[3]
前記第2レーザビームの照射は、前記第2領域が、前記主面のうち前記第1領域と前記第2領域とが部分的に重なり合った位置に、前記第1レーザビームのビーム径よりも小さな幅のスリットを有するように行う項1又は2に記載の製造方法。
[4]
前記複数の第1凹部又は凸部は、深さと幅との比又は高さと幅との比が0.4以上であり、前記複数の第2凹部又は凸部は、深さと幅との比又は高さと幅との比が0.4未満である項1乃至3の何れか1項に記載の製造方法。
[5]
前記複数の第1凹部又は凸部は、前記複数の第2凹部又は凸部と比較して空間周波数がより大きい項1乃至4の何れか1項に記載の製造方法。
[6]
前記複数の第1凹部又は凸部は空間周波数が2000mm −1 以上であり、前記複数の第2凹部又は凸部は空間周波数が2000mm −1 未満である項1乃至4の何れか1項に記載の製造方法。
[7]
前記第2領域に前記第2レリーフ構造の前記一部を転写した後であって、前記熱可塑性樹脂層の前記主面に又は前記他の層の前記主面に前記金属層を形成する前に、前記複数の第2凹部又は凸部と比較して深さと幅との比又は高さと幅との比がより大きい複数の第3凹部又は凸部からなる第3レリーフ構造が設けられた第3原版に、前記熱可塑性樹脂層の前記主面を押し当て、この状態で前記熱可塑性樹脂層の一部を第3レーザビームの照射によって加熱して、前記主面のうち前記第2領域の一部と重なり合った部分を有する第3領域に、前記第3レリーフ構造の一部を転写することを更に含んだ項1乃至6の何れか1項に記載の製造方法。
[8]
前記第3レーザビームの照射は、前記第3領域のうち前記第2領域の前記一部と重なり合った前記部分が、180°より大きく且つ360°よりも小さい角部を有するように行う項7に記載の製造方法。
[9]
前記第3レーザビームの照射は、前記第3領域が、前記主面のうち前記第2領域と前記第3領域とが部分的に重なり合った位置に、前記第2レーザビームのビーム径よりも小さな幅のスリットを有するように行う項7又は8に記載の製造方法。
[10]
前記複数の第1凹部又は凸部は、深さと幅との比又は高さと幅との比が0.4以上であり、前記複数の第2凹部又は凸部は、深さと幅との比又は高さと幅との比が0.4未満であり、前記複数の第3凹部又は凸部は、深さと幅との比又は高さと幅との比が0.4以上である項7乃至9の何れか1項に記載の製造方法。
[11]
前記複数の第1凹部又は凸部及び前記複数の第3凹部又は凸部は、前記複数の第2凹部又は凸部と比較して空間周波数がより大きい項7乃至10の何れか1項に記載の製造方法。
[12]
前記複数の第1凹部又は凸部及び前記複数の第3凹部又は凸部は空間周波数が2000mm −1 以上であり、前記複数の第2凹部又は凸部は空間周波数が2000mm −1 未満である項7乃至10の何れか1項に記載の製造方法。
Claims (9)
- 複数の第1凹部又は凸部からなる第1レリーフ構造が設けられた第1原版であって、前記複数の第1凹部又は凸部は、深さと幅との比又は高さと幅との比が0.5乃至3.2の範囲内にあり、空間周波数が2000m −1 以上である第1原版に、熱可塑性樹脂層の一方の主面を押し当て、この状態で前記熱可塑性樹脂層の一部又は全体を第1レーザビームの照射によって加熱して、前記主面の第1領域に前記第1レリーフ構造の一部又は全体を転写することと、
その後、深さと幅との比又は高さと幅との比が0.4未満であり、空間周波数が2000mm −1 未満である複数の第2凹部又は凸部からなる第2レリーフ構造が設けられた第2原版に、前記熱可塑性樹脂層の前記主面を押し当て、この状態で前記熱可塑性樹脂層の一部を第2レーザビームの照射によって加熱して、前記主面のうち前記第1領域の一部と重なり合った部分を有する第2領域に、前記第2レリーフ構造の一部を転写することと、
その後、前記熱可塑性樹脂層の前記主面に、又は、前記熱可塑性樹脂層の前記主面に設けられたレリーフ構造が直接若しくは間接的に転写された主面を有する他の層の前記主面に、厚さが20乃至100nmの範囲内にある金属層を形成することと、
前記金属層上にエッチングマスクを形成することと、
前記金属層のうち前記第1レリーフ構造の一部に対応した部分を、前記エッチングマスクを用いたエッチングによって選択的に除去することと
を含み、
前記エッチングマスクの形成は、
前記金属層上に感光性樹脂層を形成し、前記金属層を間に挟んで前記感光性樹脂層を露光し、その後、前記感光性樹脂層を現像処理に供して、前記第1凹部又は凸部に相当する凹部又は凸部の位置で開口した層を得ること、又は、
前記金属層と比較してエッチングされ難い無機化合物からなる層を、前記第1レリーフ構造の一部に対応した位置で不連続層となり、前記第2レリーフ構造の前記一部に対応した位置で連続層となるように、気相堆積法により前記金属層上へ形成すること
を含んだ転写箔の製造方法。 - 前記第2レーザビームの照射は、前記第2領域のうち前記第1領域の前記一部と重なり合った前記部分が、180°より大きく且つ360°よりも小さい角部を有するように行う請求項1に記載の製造方法。
- 前記第2レーザビームの照射は、前記第2領域が、前記主面のうち前記第1領域と前記第2領域とが部分的に重なり合った位置に、前記第1レーザビームのビーム径よりも小さな幅のスリットを有するように行う請求項1又は2に記載の製造方法。
- 前記第2領域に前記第2レリーフ構造の前記一部を転写した後であって、前記熱可塑性樹脂層の前記主面に又は前記他の層の前記主面に前記金属層を形成する前に、前記複数の第2凹部又は凸部と比較して深さと幅との比又は高さと幅との比がより大きい複数の第3凹部又は凸部からなる第3レリーフ構造が設けられた第3原版に、前記熱可塑性樹脂層の前記主面を押し当て、この状態で前記熱可塑性樹脂層の一部を第3レーザビームの照射によって加熱して、前記主面のうち前記第2領域の一部と重なり合った部分を有する第3領域に、前記第3レリーフ構造の一部を転写することを更に含んだ請求項1乃至3の何れか1項に記載の製造方法。
- 前記第3レーザビームの照射は、前記第3領域のうち前記第2領域の前記一部と重なり合った前記部分が、180°より大きく且つ360°よりも小さい角部を有するように行う請求項4に記載の製造方法。
- 前記第3レーザビームの照射は、前記第3領域が、前記主面のうち前記第2領域と前記第3領域とが部分的に重なり合った位置に、前記第2レーザビームのビーム径よりも小さな幅のスリットを有するように行う請求項4又は5に記載の製造方法。
- 前記複数の第3凹部又は凸部は、深さと幅との比又は高さと幅との比が0.4以上である請求項4乃至6の何れか1項に記載の製造方法。
- 前記複数の第3凹部又は凸部は、前記複数の第2凹部又は凸部と比較して空間周波数がより大きい請求項4乃至7の何れか1項に記載の製造方法。
- 前記複数の第3凹部又は凸部は空間周波数が2000mm−1以上である請求項4乃至7の何れか1項に記載の製造方法。
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