JP6900230B2 - 純度の異なる窒素を製造するための窒素製造システムおよびその窒素製造方法 - Google Patents
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Description
例えば、上記特許文献1の装置では、アルゴン含有量が低い酸素を製造するためには、精留塔の精留部の理論段数を増加させる必要がある。しかしながら、一般的に、窒素精留塔の高さは、非常に高く(例えば、50m)、理論段数を増加させれば結果的に精留塔の伸長となってしまい、工業的には現実的ではない。
表1の酸素、アルゴンの各プロットの勾配から明らかなように、アルゴンは酸素に比べて窒素からの分離が困難であり、原料空気中のアルゴン濃度(約0.9%)は酸素濃度(約21.0%)より低いにも関わらず、理論段数(NTP)19以上では酸素よりアルゴンの方がより多く気相中に存在する。
これは窒素からアルゴンを分離する必要がある場合に、酸素の分離が過大に行われる可能性があることを意味し、例えば酸素、アルゴン共に1ppmの濃度が求められる場合では、アルゴンの濃度を1体積ppmとするためには結果的に酸素濃度が0.001体積ppm程度となるが、これは要求される酸素濃度より非常に小さく、酸素の分離のために過大なエネルギーが投入されたことを意味する。
また、アルゴンを含まない窒素の需要は、例えばプラズマCVD等、半導体製造プロセス全体のごく一部にすぎないので、窒素発生装置で製造されるすべての窒素について高度なアルゴン除去を適用する必要はない。
従って、窒素の用途によって精留塔から複数の純度を持った窒素(例えばアルゴン1体積ppmで制御された超高純度窒素と、酸素1体積ppmで制御された(アルゴン濃度は45体積ppmである)窒素)を別個に回収することは、熱力学的には効率的であり、結果的に窒素発生装置の省電力化に貢献すると考えられる。
上記実験及び検討の結果、本発明者等は、窒素精留塔の精留部の中間段から所望濃度の酸素を含有する(アルゴン含有量が所定値以上である)高純度窒素を回収することにより、所望濃度の酸素を含有する高純度窒素および所望濃度のアルゴンを含有する超高純度窒素を単一の精留塔で製造できることを見出した。さらに、高純度窒素と超高純度窒素の回収量を制御でき、省電力化に貢献できることを見出した。
原料空気を圧縮する圧縮機と
前記圧縮機で圧縮された原料空気から所定の不純物を除去する除去部と、
前記除去部で前記不純物が除去された原料空気を冷却する熱交換器と、
前記熱交換器で冷却された原料空気が導入される精留部と、塔頂に位置するコンデンサ(凝縮器ともいう)とを備える窒素精留塔と、
前記窒素精留塔の前記精留部の位置より下方にあるバッファ部に、前記熱交換器から前記原料空気を導入する第1の導入配管と、
前記窒素精留塔の前記バッファ部から酸素富化液化ガスを前記コンデンサに導入するための第2の導入配管と、
前記窒素精留塔の前記精留部の上段または最上段から、第1の濃度であるアルゴンが含まれている超高純度窒素を導出し、前記熱交換器を通って回収するための第1の導出配管と、
前記窒素精留塔の前記精留部の中間段から、第2の濃度である酸素が含まれている高純度窒素を導出し、前記熱交換器を通って回収するための第2の導出配管と、を備える。
前記第1の導出配管で導出される前記超高純度窒素は、ガス状態であってもよく液体状態であっても良い。
前記第2の導出配管で導出される前記高純度窒素は、ガス状態であってもよく液体状態であっても良い。
ガス状態の超高純度窒素の場合、前記第1の導出配管が前記熱交換器を通って熱交換されてもよい。
ガス状態の高純度窒素の場合、前記第2の導出配管が前記熱交換器を通って熱交換されてもよい。
前記超高純度窒素の取り出し手段(方法)は、精留部の上部からの取り出しであり、例えば、前記第1の導出配管の先端に設けた吸込構造であってもよい。
前記高純度窒素の取り出し手段(方法)は、精留部の中間段からの取り出しであり、例えば、前記第2の導出配管の先端に設けた吸込構造であってもよい。
本発明において、前記アルゴンの第1の濃度は0.001ppm以上100ppm以下であり、好ましくは0.1体積ppm以上10体積ppm以下とすることができる。
本発明において、前記酸素の第2の濃度は例えば0.001ppm以上1000ppm以下である。
本発明において、前記高純度窒素に含まれるアルゴン濃度は、前記超高純度窒素に含まれるアルゴン濃度である前記第1の濃度よりも高くなる。
前記第1の濃度が0.001体積ppm以上100体積ppm以下の濃度範囲である場合、第1の濃度以上のAr含有量を有する高純度窒素は、一般的な半導体プロセスや工業用ガス向けに使用することができる。
前記第1の濃度が0.1体積ppm以上10体積ppm以下の濃度範囲である場合の超高純度窒素は、半導体プロセスの中でも高精度のガスが求められるプラズマCVD等のプロセスに使用することができる。このような、超高純度窒素では、窒素中不純物(Arを含む)の濃度の増減幅が非常に小さく、プラズマプロセスの歩留まり改善に有用である。
また別個の窒素精留塔により複数の純度の窒素を製造する場合に比べ、原料空気の必要量が少なくて済む。原料空気量の削減は、原料空気の圧縮に要する電力および原料空気を熱交換器に導入する前に必要な水分および二酸化炭素の除去に必要な電力消費量の削減につながる。また、窒素の回収率の向上につながる。さらに複数の製造装置を設置する場合に比べ、使用する機器や配管が少なく、設置面積も少ない。
前記高純度窒素取出し配管が1つであれば、超高純度窒素と高純度窒素の2種類の純度の窒素が得られる。
前記高純度窒素取出し配管が前記精留部の中間段のうち、異なる段数に相当する位置に2以上あれば、超高純度窒素と2種以上の高純度窒素の、合計3種類以上の純度の窒素が得られる。
前記酸素濃度測定部で測定された酸素濃度に基づいて、前記熱交換器より下流における前記第1の導出配管に設けられた第1の流量調整部を制御する流量制御部と、を備えていてもよい。
上記発明において、前記熱交換器より下流における前記第2の導出配管に設けられた第2の流量調整部をさらに備えていてもよい。前記第2の流量調整部は、予め規定した所望の流量となるように、前記高純度窒素の取出量を制御してもよい。
前記第1の流量調整部は、予め規定した所望の流量となるように、前記超高純度窒素の取出量を制御してもよい。
前記酸素濃度測定部は、リアルタイムに酸素濃度を測定してもよく、所定タイミングまたは予め設定された測定ルールに従って酸素濃度を測定してもよい。
前記流量制御は、前記酸素濃度が目標値(あるいは所定範囲)を維持するように前記第1の流量調整部を制御してもよい。
前記流量制御部は、例えば、前記酸素濃度が目標値(あるいは所定範囲)より減ったら、前記超高純度窒素の流量を増やすように、前記第1の流量調整部を制御し、前記酸素濃度が目標値(あるいは所定範囲)より増えたら、前記超高純度窒素の流量を減らすように、前記第1の流量調整部を制御してもよい。
高純度窒素中のAr濃度と、超高純度窒素中のO2濃度は相関関係にあるため、超高純度窒素中のAr濃度が所望の濃度であるときに得られる高純度窒素中のO2濃度があらかじめ求めることができる。従って、O2濃度を制御することにより、Ar濃度を目標濃度に高精度に制御できる。
上記構成によれば、精留部を上昇するガスを塔頂コンデンサで冷却し、液化して精留部へ逆流させるために、塔頂コンデンサを冷却する液体窒素を外部から導入する。
原料空気を圧縮する圧縮工程と
前記圧縮工程で圧縮された原料空気から所定の不純物を除去する除去工程と、
前記除去工程で前記不純物が除去された原料空気を熱交換器で冷却する冷却工程と、
精留部と、塔頂に位置するコンデンサとを備える窒素精留塔の前記精留部位置より下部に前記熱交換器で冷却された原料空気を導入する第1の導入工程と、
前記窒素精留塔の精留部位置よりも下部から酸素富化液化ガスを前記コンデンサに導入する第2の導入工程と、
前記窒素精留塔の前記精留部の上段または最上段から、第1の濃度であるアルゴンが含まれている超高純度窒素を導出し、前記熱交換器を通って回収する第1の導出工程と、
前記窒素精留塔の前記精留部の中間段から、第2の濃度である酸素が含まれている高純度窒素を導出し、前記熱交換器を通って回収する第2の導出工程と、を含む。
前記熱交換器より下流において前記高純度窒素中の酸素濃度を測定する酸素濃度測定工程と、
前記酸素濃度測定工程で測定された酸素濃度に基づいて、前記熱交換器より下流に設けられた超高純度窒素の流量を調整する第1の流量調整部を制御する流量制御工程と、さらに含んでいてもよい。
上記発明において、前記高純度窒素の取出量を、前記熱交換器より下流に設けられた高純度窒素の流量を調整する第2の流量調整部で制御する制御工程をさらに含んでいてもよい。
前記酸素濃度測定工程は、リアルタイムに酸素濃度を測定してもよく、所定タイミングまたは予め設定された測定ルールに従って酸素濃度を測定してもよい。
前記流量制御工程は、前記酸素濃度が目標値(あるいは所定範囲)を維持するように前記第1の流量調整部を制御してもよい。
前記流量制御工程は、例えば、前記酸素濃度が目標値(あるいは所定範囲)より減ったら、前記超高純度窒素の流量を増やすように、前記第1の流量調整部を制御し、前記酸素濃度が目標値(あるいは所定範囲)より増えたら、前記超高純度窒素の流量を減らすように、前記第1の流量調整部を制御してもよい。
実施形態1の窒素製造システム1について図2を用いて説明する。窒素製造システム1は、熱交換器Hと、精留部Aと塔頂に位置するコンデンサCを備える窒素精留塔と、熱交換器H内で冷却するために原料空気を送るための原料空気取入配管2と、冷却された原料空気を精留部Aに送るための原料空気導入配管3と、精留部A下部から酸素富化液化ガスを導出し、コンデンサC内を冷却するためにコンデンサCに導入する酸素富化液化ガス導入配管4と、精留部A上段から超高純度窒素を導出し熱交換器Hに導入する超高純度窒素取出配管5と、精留部Aの中間段から高純度窒素を導出し熱交換器Hに導入する高純度窒素取出配管6と、を有する。各構成について以下に詳述する。
例えば、精留部Aの理論段数が60段であった場合には、超高純度窒素取出配管5を60段に相当する位置とし、高純度窒素取出配管6は中間段(例えば40段から49段の間に相当する位置)に設けることができる。
原料空気取り込み量と、高純度窒素取り出し量はそれぞれ所望の流量に設定する。さらに所望の超高純度窒素中のアルゴン含有量に応じて超高純度窒素の取出量を設定する。これにより一定の取り出し量の高純度窒素および一定の取り出し量の超高純度窒素(所望量のArを含有している)を単一の精留部で製造することができる。
発明者らはシミュレーションにより、理論段数60の精留部、原料空気量1000Nm3/hの条件において、中間段の位置の変化による高純度窒素(酸素濃度が1体積ppmである)と超高純度窒素(Ar濃度が1体積ppmである)の導出量を算出し、その結果を図3に示す。また、理論段数60段の精留塔から同量の超高純度窒素(Ar濃度が1体積ppmである)を、理論段数が49段から40段までのそれぞれ異なる精留塔から同量の高純度窒素(酸素濃度が1体積ppmである)を取出す従来技術と比較した場合の改善効率も図3に示す。
本シミュレーションでは、中間段は理論段数49の位置から40の位置までの範囲とした。例えば中間段が理論段数44の位置であれば、超高純度窒素の導出量は208Nm3/hとなり、高純度窒素の導出量は184Nm3/hとなる。
従って、従来技術において超高純度窒素導出量208Nm3/hと高純度窒素導出量184Nm3/hを得るためには573Nm3/hと465.8Nm3/hの合計である1038.8Nm3/hの原料空気が必要である。
この1038.8Nm3/hとなることから、原料空気量が1000Nm3/hである場合と比較して3.88%の改善率が得られることになる。このようにシミュレーション結果より、高純度窒素取出配管の位置を決定することができる。また、シミュレーション結果のみならず、パイロットプラントによって、または両者の結果に基づいて高純度窒素取出位置(精留部の中間段の位置)を設定できる。
図2に示すとおり、最適条件から外れた時に、例えば、酸素濃度が第2の濃度(1体積ppm)未満になれば、その第2の濃度(1体積ppm)を維持するように、流量制御部12が第1の流量調整部11を調整して超高純度窒素の導出量を制御する。酸素濃度が第2の濃度(1体積ppm)を超えれば、その第2の濃度(1体積ppm)を維持するように、流量制御部12が第1の流量調整部11を調整して超高純度窒素の導出量を制御する。
液体窒素を導入する場合には、外部液体窒素タンク等の液体窒素供給減から液体窒素を供給し、コンデンサCを冷却する。
小規模な窒素製造システムの場合には、高価な膨張タービンTを設置せずに液体窒素導入による冷却のみで対応することができる。膨張タービンTを備える設備であれば液体窒素導入配管は設置しなくてもよいが、バックアップの設備として液体窒素導入配管を設置することもできる。
本実施形態では、高純度窒素取出配管6は1つであったが、別実施形態として、あってもよいが、製造する窒素の種類に応じて複数設けることもできる。高純度窒素取出配管6が1つの場合には、1種類の高純度窒素と、超高純度窒素の2種類の製品が得られる。高純度窒素取出配管6が2つまたは2つ以上の場合には(それぞれ別の段数に設置する)、異なる理論段数に相当する高さに高純度窒素取出し配管を設ける。これによって高純度窒素取出配管6の取り付け位置により異なる純度を有する2種類または2種類以上の高純度窒素と、超高純度窒素の3種類または3種類以上の製品が得られる。
実施形態2の異なる純度の窒素を製造する方法について説明する。実施形態2の方法は、上記実施形態1のシステムを用いて好適に実行できる。
低温蒸留によって窒素を製造する窒素製造方法は、
原料空気を圧縮する圧縮工程と
前記圧縮工程で圧縮された原料空気から所定の不純物を除去する除去工程と、
前記除去工程で前記不純物が除去された原料空気を熱交換器で冷却する冷却工程と、
精留部と、塔頂に位置するコンデンサとを備える窒素精留塔の前記精留部位置より下部に前記熱交換器で冷却された原料空気を導入する第1の導入工程と、
前記窒素精留塔の精留部位置よりも下部から酸素富化液化ガスを前記コンデンサに導入する第2の導入工程と、
前記窒素精留塔の前記精留部の上段または最上段から、第1の濃度であるアルゴンが含まれている超高純度窒素を導出し、前記熱交換器を通って回収する第1の導出工程と、
前記窒素精留塔の前記精留部の中間段から、第2の濃度である酸素が含まれている高純度窒素を導出し、前記熱交換器を通って回収する第2の導出工程と、を含む。
また、前記酸素濃度測定工程は、リアルタイムに酸素濃度を測定してもよく、所定タイミングまたは予め設定された測定ルールに従って酸素濃度を測定してもよい。
また、前記流量制御工程は、前記酸素濃度が目標値(あるいは所定範囲)を維持するように前記第1の流量調整部を制御してもよい。
また、前記流量制御工程は、例えば、前記酸素濃度が目標値(あるいは所定範囲)より減ったら、前記超高純度窒素の流量を増やすように、前記第1の流量調整部を制御し、前記酸素濃度が目標値(あるいは所定範囲)より増えたら、前記超高純度窒素の流量を減らすように、前記第1の流量調整部を制御してもよい。
2 原料空気取入配管
3 原料空気導入配管
4 酸素富化液化ガス導入配管
5 超高純度窒素取出配管(第1の導出配管)
6 高純度窒素取出配管(第2の導出配管)
10 第1の流量調節部
11 第2の流量調整部
12 流量制御部
A 精留部
C コンデンサ
D 不純物濃度測定部
H 熱交換器
Claims (5)
- 原料空気を圧縮する圧縮機と
前記圧縮機で圧縮された原料空気から所定の不純物を除去する除去部と、
前記除去部で前記不純物が除去された原料空気を冷却する熱交換器と、
前記熱交換器で冷却された原料空気が導入される精留部と、塔頂に位置するコンデンサとを備える窒素精留塔と、
前記窒素精留塔の前記精留部の位置より下方にあるバッファ部に、前記熱交換器から前記圧縮原料空気を導入する第1の導入配管と、
前記窒素精留塔の前記バッファ部から酸素富化液化ガスを前記コンデンサに導入するための第2の導入配管と、
前記窒素精留塔の前記精留部の上段または最上段から、第1の濃度であるアルゴンが含まれている超高純度窒素を導出し、前記熱交換器を通って回収するための第1の導出配管と、
前記窒素精留塔の前記精留部の中間段から、第2の濃度である酸素が含まれている高純度窒素を導出し、前記熱交換器を通って回収するための第2の導出配管と、
前記熱交換器より下流における前記第2の導出配管において前記高純度窒素中の酸素濃度を測定する酸素濃度測定部と、
前記酸素濃度測定部で測定された酸素濃度に基づいて、前記熱交換器より下流における前記第1の導出配管に設けられた流量調整部(11)を制御する流量制御部と、を備える窒素製造システム。 - 前記第2の導出配管に設けられた流量調整部(10)をさらに備え、
前記流量調整部(10)は、予め規定した所望の流量となるように、前記高純度窒素の取出量を制御することを特徴とする、請求項1に記載の窒素製造システム。 - 前記コンデンサは、前記コンデンサの冷熱源として冷却用液体窒素を導入する第3の導入配管を有する、請求項1または2に記載の窒素製造システム。
- 前記コンデンサから取り出した廃ガスを膨張タービンを介して前記熱交換器に導入する廃ガス導入配管をさらに備える、請求項1から3のいずれか1項に記載の窒素製造システム。
- 原料空気を圧縮する圧縮工程と
前記圧縮工程で圧縮された原料空気から所定の不純物を除去する除去工程と、
前記除去工程で前記不純物が除去された原料空気を熱交換器で冷却する冷却工程と、
精留部と、塔頂に位置するコンデンサとを備える窒素精留塔の前記精留部位置より下部に前記熱交換器で冷却された原料空気を導入する第1の導入工程と、
前記窒素精留塔の精留部位置よりも下部から酸素富化液化ガスを前記コンデンサに導入する第2の導入工程と、
前記窒素精留塔の前記精留部の上段または最上段から、第1の濃度であるアルゴンが含まれている超高純度窒素を導出し、前記熱交換器を通って回収する第1の導出工程と、
前記窒素精留塔の前記精留部の中間段から、第2の濃度である酸素が含まれている高純度窒素を導出し、前記熱交換器を通って回収する第2の導出工程と、
前記熱交換器より下流において前記高純度窒素中の酸素濃度を測定する酸素濃度測定工程と、
前記酸素濃度測定工程で測定された酸素濃度に基づいて、前記熱交換器より下流に設けられた超高純度窒素の流量を調整する流量調整部(11)を制御する流量制御工程と、を含む窒素製造方法。
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