JP6893302B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents
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Description
図1は、本開示の実施の形態1における扉を開けた状態での高周波加熱装置の斜視図である。図2は、本開示の実施の形態1における扉を閉めた状態の高周波加熱装置の縦断面図である。図3は、本開示の実施の形態1における高周波加熱装置の電波シール部を示す部分断面図である。図4は、本開示の実施の形態1における高周波加熱装置の電波シール部の部分断面斜視図である。図5は、本開示の実施の形態1における高周波加熱装置の電波漏洩特性図である。図6は、本開示の実施の形態1における高周波加熱装置の電波シール部の他の部分断面図である。図7は、本開示の実施の形態1における高周波加熱装置のさらに他の部分断面図である。
次に、本実施の形態2に係る高周波加熱装置における、電波シール部周辺の構成について、図面を用いて詳細に説明する。図10は、本開示の実施の形態2における高周波加熱装置の電波シール部を示す部分断面図である。図11は、本開示の実施の形態2における高周波加熱装置の電波シール部に伝搬する高周波の概念図である。なお、本実施の形態において、前述の実施の形態1と同様の構成や機能については、同じ符号を使い詳細な説明を省略する。また、本実施の形態における、高周波加熱装置全体の構成は、図1〜図7に示した電子レンジ1の構成と同様である。
次に、本実施の形態3に係る高周波加熱装置における、電波シール部周辺の構成について図面を用いて詳細に説明する。図12は、本開示の実施の形態3における高周波加熱装置の電波シール部を示す部分断面図である。図13は、本開示の実施の形態3における凸部と加熱室の内壁面との相対形状を示す概念図である。なお、本実施の形態において、前述の実施の形態1および実施の形態2と同様の構成や機能については、同じ符号を使い、詳細な説明を省略する。また、本実施の形態における、高周波加熱装置全体の構成は、図1〜図9に示した電子レンジ1の構成と同様である。
2 外箱
3 加熱室
4 開口部
5 扉
6 開口部周縁面(前板)
7 内壁面
11 高周波発生部
30,90 電波シール部
32,72,76 チョーク溝
33,55,60,80,83 凹状板金(導体)
34,50,84 凸状板金(導体)
35,53,85 接合部
36,91 凸部
74 裏面側空間
92 凸部対向面
Claims (4)
- 前面に開口部を有し被加熱物を収納する加熱室と、
前記加熱室に高周波を供給して前記被加熱物を加熱する高周波発生部と、
前記開口部を開閉自在に覆い、前記開口部の周縁面に対向する位置に電波シール部を有する扉と、を備える高周波加熱装置であって、
前記電波シール部は、前記開口部の前記周縁面と対向する位置に形成されている開孔と、前記開孔に対して前記加熱室側に屈曲するチョーク溝とを備え、
前記チョーク溝は、複数の導体が接合されて形成され、
前記複数の導体は、前記複数の導体の接合部の近傍に前記加熱室奥側に突出する凸部を備える第1の導体を有し、
前記凸部は、前記扉を閉めた状態において、前記加熱室の内壁面と隙間を形成するように配置されており、
前記凸部の裏面側空間は前記チョーク溝の共振空間の一部を構成し、
前記チョーク溝の前記共振空間は、前記周縁面と対向する部分の幅が、前記加熱室に対向する部分の幅よりも小さい、
高周波加熱装置。 - 前記凸部の高さは2mm以上10mm以下である、請求項1に記載の高周波加熱装置。
- 前記凸部の加熱室の内壁面との対向面は、前記加熱室側に傾斜している傾斜面を有する、請求項1に記載の高周波加熱装置。
- 前記凸部の前記傾斜面に対向する前記加熱室の前記内壁面を、前記傾斜面と一定の隙間となるよう傾斜させる、請求項3に記載の高周波加熱装置。
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