JP6890091B2 - 膜電極アセンブリ - Google Patents
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- 239000012528 membrane Substances 0.000 title claims description 94
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 210
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 186
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 153
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 136
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 129
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 127
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 123
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 115
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 108
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 107
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims description 104
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 103
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 103
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 102
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 101
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 100
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 100
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 100
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 99
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 99
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 99
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 98
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 97
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 claims description 91
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 89
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 88
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 83
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 79
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 69
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 61
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 61
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 55
- 239000000446 fuel Substances 0.000 claims description 37
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 31
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 28
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 claims description 26
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 20
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 16
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 238000000429 assembly Methods 0.000 claims description 10
- 230000000712 assembly Effects 0.000 claims description 10
- 229910052789 astatine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 334
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 95
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 95
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 44
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 239000013110 organic ligand Substances 0.000 description 42
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 37
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 36
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 description 25
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 24
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 24
- 239000000463 material Substances 0.000 description 23
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 23
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 22
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 22
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 22
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 20
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 20
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 18
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 17
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 15
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 14
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 13
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 13
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N phosphine group Chemical group P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 11
- 239000005518 polymer electrolyte Substances 0.000 description 10
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 9
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical group CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001361 allenes Chemical class 0.000 description 8
- 229910052798 chalcogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000001787 chalcogens Chemical class 0.000 description 8
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 8
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 8
- 238000004776 molecular orbital Methods 0.000 description 8
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 8
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 8
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 8
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 8
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 8
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 7
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 7
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 7
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 6
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 6
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 6
- ZZSIDSMUTXFKNS-UHFFFAOYSA-N perylene red Chemical compound CC(C)C1=CC=CC(C(C)C)=C1N(C(=O)C=1C2=C3C4=C(OC=5C=CC=CC=5)C=1)C(=O)C2=CC(OC=1C=CC=CC=1)=C3C(C(OC=1C=CC=CC=1)=CC1=C2C(C(N(C=3C(=CC=CC=3C(C)C)C(C)C)C1=O)=O)=C1)=C2C4=C1OC1=CC=CC=C1 ZZSIDSMUTXFKNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 239000004812 Fluorinated ethylene propylene Substances 0.000 description 5
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000010411 electrocatalyst Substances 0.000 description 5
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 5
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 5
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 5
- 229920009441 perflouroethylene propylene Polymers 0.000 description 5
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 5
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 5
- 229910003321 CoFe Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Chemical group 0.000 description 4
- 239000005922 Phosphane Chemical group 0.000 description 4
- 241001061127 Thione Species 0.000 description 4
- 150000001299 aldehydes Chemical group 0.000 description 4
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 4
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 4
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 4
- 150000008064 anhydrides Chemical group 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004774 atomic orbital Methods 0.000 description 4
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 4
- 150000004657 carbamic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 4
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 4
- 150000002019 disulfides Chemical class 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 4
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 4
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 4
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 4
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N methanediyl Chemical compound [CH2] HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 238000006213 oxygenation reaction Methods 0.000 description 4
- 229910000064 phosphane Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 4
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 4
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 4
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 4
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 4
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 4
- 150000003233 pyrroles Chemical class 0.000 description 4
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 4
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 4
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 4
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid Chemical class NS(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NVBFHJWHLNUMCV-UHFFFAOYSA-N sulfamide Chemical class NS(N)(=O)=O NVBFHJWHLNUMCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical compound FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002813 thiocarbonyl group Chemical group *C(*)=S 0.000 description 4
- 125000005323 thioketone group Chemical group 0.000 description 4
- 150000003573 thiols Chemical group 0.000 description 4
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 4
- 150000003577 thiophenes Chemical class 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 3
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 3
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 3
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 3
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 3
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 230000036647 reaction Effects 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 3
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910016569 AlF 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910020599 Co 3 O 4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 241000588724 Escherichia coli Species 0.000 description 2
- 229910015475 FeF 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 241000258241 Mantis Species 0.000 description 2
- 229910018663 Mn O Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910019800 NbF 5 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 2
- 229910003923 SiC 4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910008449 SnF 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004529 TaF 5 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 2
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 238000003411 electrode reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000000132 electrospray ionisation Methods 0.000 description 2
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 2
- KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N ferrocene Chemical compound [Fe+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 2
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 2
- 238000004549 pulsed laser deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 2
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 2
- 229910002076 stabilized zirconia Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 2
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 2
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 229920003935 Flemion® Polymers 0.000 description 1
- 229920000557 Nafion® Polymers 0.000 description 1
- 229920006367 Neoflon Polymers 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229910020813 Sn-C Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018732 Sn—C Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006356 Teflon™ FEP Polymers 0.000 description 1
- GLLRIXZGBQOFLM-UHFFFAOYSA-N Xanthorin Natural products C1=C(C)C=C2C(=O)C3=C(O)C(OC)=CC(O)=C3C(=O)C2=C1O GLLRIXZGBQOFLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 239000006230 acetylene black Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 210000003850 cellular structure Anatomy 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000011853 conductive carbon based material Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 150000008056 dicarboxyimides Chemical class 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001962 electrophoresis Methods 0.000 description 1
- 238000004146 energy storage Methods 0.000 description 1
- HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-1-ene Chemical group C=C.CC=C HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-N fluorosulfonic acid Chemical compound OS(F)(=O)=O UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 239000013461 intermediate chemical Substances 0.000 description 1
- 239000003014 ion exchange membrane Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000000877 morphologic effect Effects 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000307 polymer substrate Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000001338 self-assembly Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
- H01M8/00—Fuel cells; Manufacture thereof
- H01M8/10—Fuel cells with solid electrolytes
- H01M8/1004—Fuel cells with solid electrolytes characterised by membrane-electrode assemblies [MEA]
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- H—ELECTRICITY
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- H01M4/00—Electrodes
- H01M4/86—Inert electrodes with catalytic activity, e.g. for fuel cells
- H01M4/8605—Porous electrodes
- H01M4/8615—Bifunctional electrodes for rechargeable cells
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- H01M4/90—Selection of catalytic material
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Description
第1のガス供給層と、
任意選択で第1のガス分散層と、
第1の触媒を含むアノード触媒層と、
膜と、
第2の触媒を含むカソード触媒層と、
任意選択で第2のガス分散層と、
第2のガス供給層と、を順に備え、
第1のガス供給層が、略対向した第1主面と第2主面とを有し、
アノード触媒層が、略対向した第1主面と第2主面とを有し、第1のガス供給層の第2主面が、第1のアノード触媒層の第2主面によりもアノード触媒層の第1主面により近く、
膜が、略対向した第1主面と第2主面とを有し、アノード触媒層の第2主面が、膜の第2主面によりも膜の第1主面により近く、
カソード触媒層が、略対向した第1主面と第2主面とを有し、膜の第2主面が、カソード触媒層の第2主面によりもカソード触媒層の第1主面により近く、
第2のガス供給層が、略対向した第1主面と第2主面とを有し、カソード触媒層の第2主面が、第2のガス供給層の第2主面によりも第2のガス供給層の第1主面により近く、
下記の層のうちの少なくとも1つ、即ち、
第1のガス供給層の第1主面の上に配置された酸素発生反応触媒を含む層、
酸素発生反応触媒を含む第1のガス供給層、
第1のガス供給層の第2主面の上に配置された酸素発生反応触媒を含む層、
第1のガス供給層と第1のガス分散層との間に配置された酸素発生反応触媒を含む層、
第1のガス分散層の第1主面の上に配置された酸素発生反応触媒を含む層、
酸素発生反応触媒を含む第1のガス分散層、
第1のガス分散層の第2主面の上に配置された酸素発生反応触媒を含む層、
第2のガス分散層の第1主面の上に配置された酸素発生反応触媒を含む層、
酸素発生反応触媒を含む第2のガス分散層、
第2のガス分散層の第2主面の上に配置された酸素発生反応触媒を含む層、
第2のガス供給層と第2のガス分散層との間に配置された酸素発生反応触媒を含む層、
第2のガス供給層の第1主面の上に配置された酸素発生反応触媒を含む層、
酸素発生反応触媒を含む第2のガス供給層、
第2のガス供給層の第2主面の上に配置された酸素発生反応触媒を含む層、のうちの少なくとも1つが存在する、膜電極アセンブリを提供する。
第1のガス供給層100の第1主面101の上に配置された酸素発生反応(OER)触媒を含む層1100、
酸素発生反応触媒を含む第1のガス供給層100、
第1のガス供給層100の第2主面102の上に配置された酸素発生反応触媒を含む層1150、
第1のガス供給層100と第1のガス分散層200との間に配置された酸素発生反応触媒を含む層1200、
第1のガス分散層200の第1主面201の上に配置された酸素発生反応触媒を含む層1250、
酸素発生反応触媒を含む第1のガス分散層200、
第1のガス分散層200の第2主面202の上に配置された酸素発生反応触媒を含む層1300、
第2のガス分散層600の第1主面601の上に配置された酸素発生反応触媒を含む層1400、
酸素発生反応触媒を含む第2のガス分散層600、
第2のガス分散層600の第2主面602の上に配置された酸素発生反応触媒を含む層1500、
第2のガス供給層600と第2のガス分散層700との間に配置された酸素発生反応触媒を含む層1550、
第2のガス供給層700の第1主面701の上に配置された酸素発生反応触媒を含む層1600、
酸素発生反応触媒を含む第2のガス供給層700、
第2のガス供給層700の第2主面702の上に配置された酸素発生反応触媒を含む層1700、のうちの少なくとも1つを有する。図示のように、酸素発生反応触媒は、層1100に存在する。
(a)元素Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つ、
(b)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つを含む、少なくとも1つの合金、
(c)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つを含む、少なくとも1つの複合物、
(d)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸化物、水和酸化物若しくは水酸化物、
(e)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの有機金属錯体、
(f)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの炭化物、
(g)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つのフッ化物、
(h)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの窒化物、
(i)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つのホウ化物、
(j)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸炭化物、
(k)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸フッ化物、
(l)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸窒化物、又は
(m)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸ホウ化物、のうちの少なくとも1つを含む
(ここで、酸化物、有機金属錯体、ホウ化物、炭化物、フッ化物、窒化物、酸ホウ化物、酸炭化物、酸フッ化物及び酸窒化物は、Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh又はRuと共に存在するものであることを理解されたい)。
る。
(a’’)元素Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つ、
(b’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つを含む、少なくとも1つの合金、
(c’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つを含む、少なくとも1つの複合物、
(d’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸化物、
(e’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの有機金属錯体、
(f’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの炭化物、
(g’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つのフッ化物、
(h’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの窒化物、
(i’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つのホウ化物、
(j’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸炭化物、
(k’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸フッ化物、又は
(l’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸窒化物、又は
(m’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸ホウ化物、のうちの少なくとも1つを含む
(ここで、酸化物、有機金属錯体、ホウ化物、炭化物、フッ化物、窒化物、酸ホウ化物、酸炭化物、酸フッ化物及び酸窒化物は、Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh又はRuと共に存在するものであることを理解されたい)。
(a’)元素Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つ、
(b’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つを含む、少なくとも1つの合金、
(c’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つを含む、少なくとも1つの複合物、
(d’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸化物、
(e’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの有機金属錯体、
(f’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの炭化物、
(g’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つのフッ化物、
(h’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの窒化物、
(i’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸炭化物、
(j’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸フッ化物、
(k’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸窒化物、
(l’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つのホウ化物、又は
(m’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸ホウ化物、のうちの少なくとも1つを含む担持材料を含む
(ここで、酸化物、有機金属錯体、ホウ化物、炭化物、フッ化物、窒化物、酸ホウ化物、酸炭化物、酸フッ化物及び酸窒化物は、Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W又はZrと共に存在するものであることを理解されたい)。
(a’’’)元素Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つ、
(b’’’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つを含む、少なくとも1つの合金、
(c’’’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つを含む、少なくとも1つの複合物、
(d’’’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸化物、
(e’’’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの有機金属錯体、
(f’’’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの炭化物、
(g’’’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つのフッ化物、
(h’’’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの窒化物、
(i’’’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸炭化物、
(j’’’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸フッ化物、
(k’’’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸窒化物、
(l’’’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つのホウ化物、又は
(m’’’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸ホウ化物、のうちの少なくとも1つを含む担持材料を含む
(ここで、酸化物、有機金属錯体、ホウ化物、炭化物、フッ化物、窒化物、酸炭化物、酸フッ化物、酸ホウ化物及び酸窒化物は、a’’’と共に存在するものであることを理解されたい)。
(a)酸素発生反応触媒を含む複数の層のうちの少なくとも1つが、1:1以下(いくつかの実施形態では、0.9:1以下、0.8:1以下、0.75:1以下、0.7:1以下、0.6:1以下、0.5:1以下、0.4:1以下、0.3:1以下、0.25:1以下、0.2:1以下であり、又は0.1:1以下の場合や0:1以下の場合さえある)の元素金属酸素発生反応触媒に対する元素金属Ptの比率(即ち、RuO2が酸素発生反応触媒である場合、Ru原子の数に対するPt原子の数の比率)を有する、又は
(b)酸素発生反応触媒を含む、第1のガス供給層、第2のガス供給層、任意の第1のガス分散層又は任意の第2のガス分散層のうちの少なくとも1つの上に配置された層のうちの少なくとも1つが、1:1以下(いくつかの実施形態では、0.9:1以下、0.8:1以下、0.75:1以下、0.7:1以下、0.6:1以下、0.5:1以下、0.4:1以下、0.3:1以下、0.25:1以下、0.2:1以下であり、又は0.1:1以下の場合や0:1以下の場合さえある)の元素金属酸素発生反応触媒に対する元素金属Ptの比率を有する。
第1のガス供給層の第1主面の上に配置された(例えば、取り付けられた)、酸素発生反応触媒を含む(例えば、少なくとも一部分が存在する)層、
酸素発生反応触媒を含む(例えば、少なくとも一部分が存在し、このことは、層全体への分布を含む)第1のガス供給層、
第1のガス供給層の第2主面の上に配置された(例えば、取り付けられた)、酸素発生反応触媒を含む(例えば、少なくとも一部分が存在し、このことは、層全体への分布を含む)層、
第1のガス供給層と第1のガス分散層との間に配置された、酸素発生反応触媒を含む(例えば、少なくとも一部分が存在し、このことは、層全体への分布を含む)層、
第1のガス分散層の第1主面の上に配置された(例えば、取り付けられた)、酸素発生反応触媒を含む(例えば、少なくとも一部分が存在し、このことは、層全体への分布を含む)層、
酸素発生反応触媒を含む(例えば、少なくとも一部分が存在し、このことは、層全体への分布を含む)第1のガス分散層、
第1のガス分散層の第2主面の上に配置された(例えば、取り付けられた)、酸素発生反応触媒を含む(例えば、少なくとも一部分が存在し、このことは、層全体への分布を含む)層、
第2のガス分散層の第1主面の上に配置された(例えば、取り付けられた)、酸素発生反応触媒を含む(例えば、少なくとも一部分が存在し、このことは、層全体への分布を含む)層、
酸素発生反応触媒を含む(例えば、少なくとも一部分が存在し、このことは、層全体への分布を含む)第2のガス分散層、
第2のガス分散層の第2主面の上に配置された(例えば、取り付けられた)、酸素発生反応触媒を含む(例えば、少なくとも一部分が存在し、このことは、層全体への分布を含む)層、
第2のガス供給層と第2のガス分散層との間に配置された、酸素発生反応触媒を含む(例えば、少なくとも一部分が存在し、このことは、層全体への分布を含む)層、
第2のガス供給層の第1主面の上に配置された(例えば、取り付けられた)、酸素発生反応触媒を含む(例えば、少なくとも一部分が存在し、このことは、層全体への分布を含む)層、
酸素発生反応触媒を含む(例えば、少なくとも一部分が存在し、このことは、層全体への分布を含む)第2のガス供給層、
第2のガス供給層の第2主面の上に配置された(例えば、取り付けられた)、酸素発生反応触媒を含む(例えば、少なくとも一部分が存在し、このことは、層全体への分布を含む)層、のうちの少なくとも1つを有し、
存在する部分の量は、少なくとも0.5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、1マイクログラム/cm2、1.5マイクログラム/cm2、2マイクログラム/cm2、2.5マイクログラム/cm2、3マイクログラム/cm2又は少なくとも5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、0.5マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜30マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内又は2マイクログラム/cm2〜20マイクログラム/cm2の範囲内であり、これは、酸素発生反応触媒の元素金属含有率に基づく。
例示的な実施形態
1.
第1のガス供給層(例えば、第1のガス拡散層)と、
任意選択で第1のガス分散層(例えば、第1の微多孔層)と、
第1の触媒を含むアノード触媒層と、
膜と、
第2の触媒を含むカソード触媒層と、
任意選択で第2のガス分散層(例えば、第2の微多孔層)と、
第2のガス供給層(例えば、第2のガス拡散層)と、を順に備え、
第1のガス供給層が、略対向した第1主面と第2主面とを有し、
アノード触媒層が、略対向した第1主面と第2主面とを有し、第1のガス供給層の第2主面が、第1のアノード触媒層の第2主面によりもアノード触媒層の第1主面により近く、
膜が、略対向した第1主面と第2主面とを有し、アノード触媒層の第2主面が、膜の第2主面によりも膜の第1主面により近く、
カソード触媒層が、略対向した第1主面と第2主面とを有し、膜の第2主面が、カソード触媒層の第2主面によりもカソード触媒層の第1主面により近く、
第2のガス供給層が、略対向した第1主面と第2主面とを有し、カソード触媒層の第2主面が、第2のガス供給層の第2主面によりも第2のガス供給層の第1主面により近く、
以下のうちの少なくとも1つが存在する(即ち、以下のうちのいずれか1つ及び任意の組み合わせを有し、ここで、任意の第1及び第2のガス分散層のいずれかが存在する場合、任意の第1及び第2のガス分散層への言及が意図されることを理解されたい)、即ち、
第1のガス供給層の第1主面の上に配置された(例えば、取り付けられた)、酸素発生反応触媒を含む層(例えば、存在する部分の量は、少なくとも0.5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、1マイクログラム/cm2、1.5マイクログラム/cm2、2マイクログラム/cm2、2.5マイクログラム/cm2、3マイクログラム/cm2又は少なくとも5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、0.5マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜30マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内又は2マイクログラム/cm2〜20マイクログラム/cm2の範囲内であり、これは、酸素発生反応触媒の元素金属含有率に基づく)、
酸素発生反応触媒を含む第1のガス供給層(例えば、存在する部分の量は、少なくとも0.5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、1マイクログラム/cm2、1.5マイクログラム/cm2、2マイクログラム/cm2、2.5マイクログラム/cm2、3マイクログラム/cm2又は少なくとも5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、0.5マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜30マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内又は2マイクログラム/cm2〜20マイクログラム/cm2の範囲内であり、これは、酸素発生反応触媒の元素金属含有率に基づく)、
第1のガス供給層の第2主面の上に配置された(例えば、取り付けられた)、酸素発生反応触媒を含む層(例えば、存在する部分の量は、少なくとも0.5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、1マイクログラム/cm2、1.5マイクログラム/cm2、2マイクログラム/cm2、2.5マイクログラム/cm2、3マイクログラム/cm2又は少なくとも5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、0.5マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜30マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内又は2マイクログラム/cm2〜20マイクログラム/cm2の範囲内であり、これは、酸素発生反応触媒の元素金属含有率に基づく)、
第1のガス供給層と第1のガス分散層との間に配置された、酸素発生反応触媒を含む層(例えば、存在する部分の量は、少なくとも0.5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、1マイクログラム/cm2、1.5マイクログラム/cm2、2マイクログラム/cm2、2.5マイクログラム/cm2、3マイクログラム/cm2又は少なくとも5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、0.5マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜30マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内又は2マイクログラム/cm2〜20マイクログラム/cm2の範囲内であり、これは、酸素発生反応触媒の元素金属含有率に基づく)、
第1のガス分散層の第1主面の上に配置された(例えば、取り付けられた)、酸素発生反応触媒を含む層(例えば、存在する部分の量は、少なくとも0.5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、1マイクログラム/cm2、1.5マイクログラム/cm2、2マイクログラム/cm2、2.5マイクログラム/cm2、3マイクログラム/cm2又は少なくとも5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、0.5マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜30マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内又は2マイクログラム/cm2〜20マイクログラム/cm2の範囲内であり、これは、酸素発生反応触媒の元素金属含有率に基づく)、
酸素発生反応触媒を含む第1のガス分散層(例えば、存在する部分の量は、少なくとも0.5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、1マイクログラム/cm2、1.5マイクログラム/cm2、2マイクログラム/cm2、2.5マイクログラム/cm2、3マイクログラム/cm2又は少なくとも5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、0.5マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜30マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内又は2マイクログラム/cm2〜20マイクログラム/cm2の範囲内であり、これは、酸素発生反応触媒の元素金属含有率に基づく)、
第1のガス分散層の第2主面の上に配置された(例えば、取り付けられた)、酸素発生反応触媒を含む層(例えば、存在する部分の量は、少なくとも0.5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、1マイクログラム/cm2、1.5マイクログラム/cm2、2マイクログラム/cm2、2.5マイクログラム/cm2、3マイクログラム/cm2又は少なくとも5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、0.5マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜30マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内又は2マイクログラム/cm2〜20マイクログラム/cm2の範囲内であり、これは、酸素発生反応触媒の元素金属含有率に基づく)、
第2のガス分散層の第1主面の上に配置された(例えば、取り付けられた)、酸素発生反応触媒を含む層(例えば、存在する部分の量は、少なくとも0.5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、1マイクログラム/cm2、1.5マイクログラム/cm2、2マイクログラム/cm2、2.5マイクログラム/cm2、3マイクログラム/cm2又は少なくとも5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、0.5マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜30マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内又は2マイクログラム/cm2〜20マイクログラム/cm2の範囲内であり、これは、酸素発生反応触媒の元素金属含有率に基づく)、
酸素発生反応触媒を含む第2のガス分散層(例えば、存在する部分の量は、少なくとも0.5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、1マイクログラム/cm2、1.5マイクログラム/cm2、2マイクログラム/cm2、2.5マイクログラム/cm2、3マイクログラム/cm2又は少なくとも5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、0.5マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜30マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内又は2マイクログラム/cm2〜20マイクログラム/cm2の範囲内であり、これは、酸素発生反応触媒の元素金属含有率に基づく)、
第2のガス分散層の第2主面の上に配置された(例えば、取り付けられた)、酸素発生反応触媒を含む層(例えば、存在する部分の量は、少なくとも0.5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、1マイクログラム/cm2、1.5マイクログラム/cm2、2マイクログラム/cm2、2.5マイクログラム/cm2、3マイクログラム/cm2又は少なくとも5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、0.5マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜30マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内又は2マイクログラム/cm2〜20マイクログラム/cm2の範囲内であり、これは、酸素発生反応触媒の元素金属含有率に基づく)、
第2のガス供給層と第2のガス分散層との間に配置された、酸素発生反応触媒を含む層(例えば、存在する部分の量は、少なくとも0.5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、1マイクログラム/cm2、1.5マイクログラム/cm2、2マイクログラム/cm2、2.5マイクログラム/cm2、3マイクログラム/cm2又は少なくとも5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、0.5マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜30マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内又は2マイクログラム/cm2〜20マイクログラム/cm2の範囲内であり、これは、酸素発生反応触媒の元素金属含有率に基づく)、
第2のガス分散層の第1主面の上に配置された(例えば、取り付けられた)、酸素発生反応触媒を含む層(例えば、存在する部分の量は、少なくとも0.5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、1マイクログラム/cm2、1.5マイクログラム/cm2、2マイクログラム/cm2、2.5マイクログラム/cm2、3マイクログラム/cm2又は少なくとも5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、0.5マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜30マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内又は2マイクログラム/cm2〜20マイクログラム/cm2の範囲内であり、これは、酸素発生反応触媒の元素金属含有率に基づく)、
酸素発生反応触媒を含む第2のガス供給層(例えば、存在する部分の量は、少なくとも0.5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、1マイクログラム/cm2、1.5マイクログラム/cm2、2マイクログラム/cm2、2.5マイクログラム/cm2、3マイクログラム/cm2又は少なくとも5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、0.5マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜30マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内又は2マイクログラム/cm2〜20マイクログラム/cm2の範囲内であり、これは、酸素発生反応触媒の元素金属含有率に基づく)、
第2のガス分散層の第2主面の上に配置された(例えば、取り付けられた)、酸素発生反応触媒を含む層(例えば、存在する部分の量は、少なくとも0.5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、1マイクログラム/cm2、1.5マイクログラム/cm2、2マイクログラム/cm2、2.5マイクログラム/cm2、3マイクログラム/cm2又は少なくとも5マイクログラム/cm2であり、いくつかの実施形態では、0.5マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、0.5マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、1マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜100マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜75マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜50マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜30マイクログラム/cm2の範囲内、2マイクログラム/cm2〜25マイクログラム/cm2の範囲内又は2マイクログラム/cm2〜20マイクログラム/cm2の範囲内であり、これは、酸素発生反応触媒の元素金属含有率に基づく)、のうちの少なくとも1つが存在する、膜電極アセンブリ。
2.アノード触媒層が、
(a)元素Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つ、
(b)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つを含む、少なくとも1つの合金、
(c)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つを含む、少なくとも1つの複合物、
(d)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸化物、水和酸化物若しくは水酸化物、
(e)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの有機金属錯体、
(f)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの炭化物、
(g)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つのフッ化物、
(h)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの窒化物、
(i)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つのホウ化物、
(j)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸炭化物、
(k)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸フッ化物、
(l)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸窒化物、又は
(m)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸ホウ化物、のうちの少なくとも1つを含む、例示的な実施形態1に記載の膜電極アセンブリ。
3.アノード触媒層が、
(a’)元素Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つ、
(b’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つを含む、少なくとも1つの合金、
(c’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つを含む、少なくとも1つの複合物、
(d’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸化物、
(e’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの有機金属錯体、
(f’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの炭化物、
(g’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つのフッ化物、
(h’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの窒化物、
(i’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸炭化物、
(j’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸フッ化物、
(k’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸窒化物、
(l’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つのホウ化物、又は
(m’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸ホウ化物、のうちの少なくとも1つを含む、例示的な実施形態1又は2に記載の膜電極アセンブリ。
4.アノード触媒層が、触媒が付着したナノ構造化ウィスカーを含む、例示的な実施形態1〜3のいずれか1つに記載の膜電極アセンブリ。
5.カソード触媒層が、
(a’’)元素Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つ、
(b’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つを含む、少なくとも1つの合金、
(c’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つを含む、少なくとも1つの複合物、
(d’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸化物、
(e’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの有機金属錯体、
(f’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの炭化物、
(g’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つのフッ化物、
(h’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの窒化物、
(i’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つのホウ化物、
(j’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸炭化物、
(k’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸フッ化物、
(l’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸窒化物、又は
(m’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸ホウ化物、のうちの少なくとも1つを含む、例示的な実施形態1〜4のいずれか1つに記載の膜電極アセンブリ。
6.カソード触媒層が、
(a’’’)元素Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つ、
(b’’’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つを含む、少なくとも1つの合金、
(c’’’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つを含む、少なくとも1つの複合物、
(d’’’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸化物、
(e’’’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの有機金属錯体、
(f’’’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの炭化物、
(g’’’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つのフッ化物、
(h’’’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの窒化物、
(i’’’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸炭化物、
(j’’’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸フッ化物、
(k’’’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸窒化物、
(l’’’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つのホウ化物、又は
(m’’’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸ホウ化物、のうちの少なくとも1つを含む、例示的な実施形態1から5のいずれか1つに記載の膜電極アセンブリ。
7.カソード触媒層が、触媒が付着したナノ構造化ウィスカーを含む、例示的な実施形態1〜6のいずれか1つに記載の膜電極アセンブリ。
8.膜電極アセンブリが、以下の条件、即ち、
(a)酸素発生反応触媒を含む複数の層のうちの少なくとも1つが、1:1以下(いくつかの実施形態では、0.9:1以下、0.8:1以下、0.75:1以下、0.7:1以下、0.6:1以下、0.5:1以下、0.4:1以下、0.3:1以下、0.25:1以下、0.2:1以下であり、又は0.1:1以下の場合や0:1以下の場合さえある)の元素金属酸素発生反応触媒に対する元素金属Ptの比率(即ち、RuO2が酸素発生反応触媒である場合、Ru原子の数に対するPt原子の数の比率)を有する、又は
(b)酸素発生反応触媒を含む、第1のガス供給層、第2のガス供給層、任意選択の第1のガス分散層又は任意選択の第2のガス分散層のうちの少なくとも1つの上に配置された層のうちの少なくとも1つが、1:1以下(いくつかの実施形態では、0.9:1以下、0.8:1以下、0.75:1以下、0.7:1以下、0.6:1以下、0.5:1以下、0.4:1以下、0.3:1以下、0.25:1以下、0.2:1以下であり、又は0.1:1以下の場合や0:1以下の場合さえある)の元素金属酸素発生反応触媒に対する元素金属Ptの比率を有する、という条件のうちの少なくとも1つを満たす、例示的な実施形態1から7のいずれか1つに記載の膜電極アセンブリ。
9.第1のガス分散層が、略対向した第1主面と第2主面とを有し、第1のガス供給層の第2主面が、第1のガス分散層の第2主面によりも第1のガス分散層の第1主面により近い、例示的な実施形態1〜8のいずれか1つに記載の膜電極アセンブリ。
10.第1のガス供給層が、Ptを実質的に含まない(即ち、0.1マイクログラム/cm2未満のPtである)、例示的な実施形態9に記載の膜電極アセンブリ。
11.第2のガス分散層が、略対向した第1主面と第2主面とを有し、カソード触媒層の第2主面が、第2のガス分散層の第2主面によりも第2のガス分散層の第1主面により近い、例示的な実施形態1〜10のいずれか1つに記載の膜電極アセンブリ。
12.第2のガス供給層が、Ptを実質的に含まない(即ち、0.1マイクログラム/cm2未満)、例示的な実施形態11に記載の膜電極アセンブリ。
13.例示的な実施形態1〜12のうちのいずれか1つに記載の膜電極アセンブリのうちの少なくとも1つを備える、電気化学デバイス。
14.電気化学デバイスが、燃料電池である、例示的な実施形態13に記載の電気化学デバイス。
膜電極アセンブリ(MEA)の調製
実施例及び比較例のMEAはすべて、名目当量825の同じ過フッ素化したスルホン酸膜(「825EW ionomer」として3M Company(米国ミネソタ州セントポール)から入手可能)を用いて作製した。この膜の厚さは、約24マイクロメートルであった。カソード触媒層は、当技術分野において周知の転写方法を用いることによって、分散Pt触媒から(400マイクログラム/cm2の担持量で)調製した。例えば、Gottesfeld及びZawodzinski,Advances in Electrochemical Science and Engineering,Vol.5.,Weinheim:Wiley−VCH;1997年又はWilson及びGottesfeld,J Appl.Electrochem.,1992年,22:1〜7を参照されたく、これらの開示内容は参照によって本明細書に組み込まれる。
下記の実施例及び比較例を、約10%の圧縮率で4つの蛇行流場を有する50cm2のセルに設置し、試運転のために事前に準備したプロトコル及び燃料電池性能試験下で動作させた。試験場は、Fuel Cell Technology(Albuquerque,NM)から入手した。この試験法のために、調整中に、酸素発生反応触媒をカソードとして動作させ、一連の約14回の熱サイクル(熱サイクルの詳細は、2010 DOE Hydrogen Program Review,Advance Cathode Catalysts and Supports for PEM Fuel Cells,Debe,2010年6月8日(http://www.hydrogen.energy.gov/pdfs/review10/fc001_debe_2010_o_web.pdfを参照されたく、この開示内容は、参照によって本明細書に組み込まれる(最終閲覧2014年12月1日午前9:37(中部標準時))にみられる)を実行して、OER触媒及びMEAを試運転した。しかしながら、ガスの切り替え/注入サイクル試験を含む、実際のセル動作の間は、OER触媒をアノードとして動作させた。セルの設定点は、75℃のセル温度、68℃の入口露点において800sccmの水素のアノード流、68℃の入口露点において1800sccmの空気のカソード流の設定点とし、出口は大気圧とした。熱サイクル中、0.9〜0.3ボルトで動電位走査を3回行うことによって、試験対象のMEAを作動させた。「熱サイクル」は、不純物を一掃し、薄膜電極の性能を速やかに一定水準に到達させるのに有用であることが見出された。
ナノ構造化ウィスカーの調製
米国特許第4812352号(Debe)(この開示内容は、参照によって本明細書に組み込まれる)に説明されているとおり、ペリレンレッド顔料(C.I.ピグメントレッド149、「PR149」としても知られている、Clariant(米国ノースカロライナ州シャーロット)から入手)の層を熱アニール処理し、これをミクロ構造化触媒移動ポリマー基材(MCTS)(名目被覆厚さ200nm)上に昇華真空コーティングすることによって、ナノ構造化ウィスカーを調製した。これらの実施例では、90/3/3(角度(度)/ピーク間距離(マイクロメートル)/大半のピークの高さ又は長い反復特徴の高さ(マイクロメートル))及び120/5/0を用いた。すべてのMCTS構造は、Debe特許と同じく、表面積が2の平方根倍となった。被覆後、ペリレンレッドの被覆を被覆した後、ロール品をラインプロセスで減圧アニール処理して、それにより、上記特許で説明したようにウィスカーを形成する。
ナノ構造化薄膜(NSTF)触媒層の調製
比較例Bは、比較例Aで説明したように調整したが、ただし、NSTF触媒にPtを20マイクログラム/cm2担持させた後、16マイクログラム/cm2のZrを担持させ、次いで、Zrの上に、Irの担持量15マイクログラム/cm2でIr層を担持させた点が異なる。上述のMEA評価法を用いて、比較例BのOER有効性耐久時間を試験した。結果を図3にプロットする。
25マイクログラム/cm2分散触媒の調製
使用した原材料は、50wt%Pt担持炭素触媒粉末(「SA50BK」という商品名でN.E.CHEMCAT(東京)から市販)、60/40のn−プロピルアルコール/水における固体含有率20%の、825当量のパーフルオロスルホン酸イオノマー(「3M825」という商品名で3M Company(米国ミネソタ州セントポール)から市販)、並びに、全固体含有率が12wt%でインクを形成するために、追加的なn−プロピルアルコール(nPa)及び水であった。ポリエチレンボトル内で原材料を共に混合して、インクを形成した。100〜200グラムのインク用に250グラムのボトルを用いた。インク混和物は、被覆可能な粘度とするには、5%〜25%の固体を含有するべきであり、固体含有率wt%は、インクにnPa及び水を加えることにより調整される。6ミリメートルのジルコニアビーズからなる混合媒質(「ZIRBEADS」という商品名でZircoa(米国オハイオ州ソロン)から入手)をインクの重量の1〜4倍の重量比で加えた。次いで、インクを30〜180回転毎分で4〜96時間ロールして、確実に適切に混合され、インクが均質になるようにした。次いで、番号が36〜72(3.6〜7.2ミル。ここで、1ミル=25.4マイクロメートル)のメイヤーバー(Industry Tech(米国フロリダ州オールドスマー)から入手)を用いて、このインクを剥離ライナー上に被覆した。標準的な剥離ライナーは、インクが容易に塗布され、そして乾燥後、膜などの別の基材への積層を含む方法によって、続いて塗布された材料を容易に除去し得るような剥離特性を有する基材である。所望の触媒担持量(例:400マイクログラムのPt/cm2)を得るために、塗布のためのメイヤーバー番号を調整しなければならない。次いで、剥離ライナー+湿潤インクコーティングを75℃〜150℃で3〜10分間乾燥させて、本作業で説明した乾燥電極複合物を得た。
Claims (8)
- 第1のガス供給層と、
第1のガス分散層と、
第1の触媒を含むアノード触媒層と、
電解質膜と、
第2の触媒を含むカソード触媒層と、
第2のガス分散層と、
第2のガス供給層と、を順に備え、
前記第1のガス供給層が、対向した第1主面と第2主面とを有し、
前記第1のガス分散層は、対向した第1主面と第2主面とを有し、前記第1のガス分散層の前記第1主面は、前記アノード触媒層側とは反対側にあり、前記第1のガス分散層の前記第2主面は前記アノード触媒層側にあり、
前記アノード触媒層が、対向した第1主面と第2主面とを有し、前記第1のガス供給層の前記第2主面が、前記アノード触媒層の前記第2主面によりも前記アノード触媒層の前記第1主面により近く、
前記電解質膜が、対向した第1主面と第2主面とを有し、前記アノード触媒層の前記第2主面が、前記電解質膜の前記第2主面によりも前記電解質膜の前記第1主面により近く、
前記カソード触媒層が、対向した第1主面と第2主面とを有し、前記電解質膜の前記第2主面が、前記カソード触媒層の前記第2主面によりも前記カソード触媒層の前記第1主面により近く、
前記第2のガス分散層は、対向した第1主面と第2主面とを有し、前記第2のガス分散層の前記第1主面は、前記カソード触媒層側にあり、前記第2のガス分散層の前記第2主面は、前記カソード触媒層側とは反対側にあり、
前記第2のガス供給層が、対向した第1主面と第2主面とを有し、前記カソード触媒層の前記第2主面が、前記第2のガス供給層の前記第2主面によりも前記第2のガス供給層の前記第1主面により近く、
下記の層のうちの少なくとも1つ、即ち、
前記第1のガス供給層の前記第1主面の上に配置された酸素発生反応触媒を含む層、
酸素発生反応触媒を含む前記第1のガス供給層であって、当該酸素発生反応触媒は前記第1のガス供給層全体に分布している、前記第1のガス供給層、
前記第1のガス供給層と前記第1のガス分散層との間に配置された酸素発生反応触媒を含む層、
前記第1のガス分散層の前記第1主面の上に配置された酸素発生反応触媒を含む層、
前記第2のガス分散層の前記第2主面の上に配置された酸素発生反応触媒を含む層、
前記第2のガス供給層と前記第2のガス分散層との間に配置された酸素発生反応触媒を含む層、
酸素発生反応触媒を含む前記第2のガス供給層であって、当該酸素発生反応触媒は前記第2のガス供給層全体に分布している、前記第2のガス供給層、
前記第2のガス供給層の前記第2主面の上に配置された酸素発生反応触媒を含む層、のうちの少なくとも1つが存在する、膜電極アセンブリ。 - 前記アノード触媒層が、
(a)元素Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つ、
(b)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つを含む、少なくとも1つの合金、
(c)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つを含む、少なくとも1つの複合物、
(d)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸化物、
(e)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの有機金属錯体、
(f)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの炭化物、
(g)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つのフッ化物、
(h)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの窒化物、
(i)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つのホウ化物、
(j)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸炭化物、
(k)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸フッ化物、
(l)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸窒化物、又は
(m)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸ホウ化物、
のうちの少なくとも1つを含む、請求項1に記載の膜電極アセンブリ。 - 前記アノード触媒層が、
(a’)元素Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つ、
(b’)元素Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つを含む、少なくとも1つの合金、
(c’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つを含む、少なくとも1つの複合物、
(d’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸化物、
(e’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの有機金属錯体、
(f’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの炭化物、
(g’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つのフッ化物、
(h’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの窒化物、
(i’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸炭化物、
(j’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸フッ化物、
(k’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸窒化物、
(l’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つのホウ化物、又は
(m’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸ホウ化物、
のうちの少なくとも1つを含む、請求項1又は2に記載の膜電極アセンブリ。 - 前記カソード触媒層が、
(a’’)元素Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つ、
(b’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つを含む、少なくとも1つの合金、
(c’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つを含む、少なくとも1つの複合物、
(d’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸化物、
(e’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの有機金属錯体、
(f’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの炭化物、
(g’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つのフッ化物、
(h’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの窒化物、
(i’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つのホウ化物、
(j’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸炭化物、
(k’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸フッ化物、
(l’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸窒化物、又は
(m’’)Au、Co、Fe、Ir、Mn、Ni、Os、Pd、Pt、Rh若しくはRuのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸ホウ化物、
のうちの少なくとも1つを含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の膜電極アセンブリ。 - 前記カソード触媒層が、
(a’’’)元素Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つ、
(b’’’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つを含む、少なくとも1つの合金、
(c’’’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つを含む、少なくとも1つの複合物、
(d’’’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸化物、
(e’’’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの有機金属錯体、
(f’’’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの炭化物、
(g’’’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つのフッ化物、
(h’’’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの窒化物、
(i’’’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸炭化物、
(j’’’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸フッ化物、
(k’’’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの酸窒化物、
(l’’’)Al、炭素、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つのホウ化物、又は
(m’’’)Al、Hf、Nb、Re、Si、Sn、Ta、Ti、W若しくはZrのうちの少なくとも1つの、少なくとも1つの酸ホウ化物、
のうちの少なくとも1つを含む、請求項1〜4のいずれか一項に記載の膜電極アセンブリ。 - 前記膜電極アセンブリが、
(a)前記酸素発生反応触媒を含む複数の前記層のうちの少なくとも1つが、元素金属Ptを含むと共に、1:1以下の元素金属酸素発生反応触媒に対する元素金属Ptの比率を有する、又は
(b)元素金属Ptを含むと共に前記酸素発生反応触媒を含む、前記第1のガス供給層、前記第2のガス供給層、前記第1のガス分散層又は前記第2のガス分散層のうちの少なくとも1つの上に配置された前記層のうちの少なくとも1つが、1:1以下の元素金属酸素発生反応触媒に対する元素金属Ptの比率を有する、のうちの少なくとも1つを含み、
前記第1のガス分散層が、対向した第1主面と第2主面とを有し、前記第1のガス供給層の前記第2主面が、前記第1のガス分散層の前記第2主面によりも前記第1のガス分散層の前記第1主面により近い請求項1〜5のいずれか一項に記載の膜電極アセンブリ。 - 請求項1〜6のうちのいずれか一項に記載の膜電極アセンブリのうちの少なくとも1つを備える、電気化学デバイス。
- 前記電気化学デバイスが、燃料電池である、請求項7に記載の電気化学デバイス。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201462091851P | 2014-12-15 | 2014-12-15 | |
US62/091,851 | 2014-12-15 | ||
US201462096097P | 2014-12-23 | 2014-12-23 | |
US62/096,097 | 2014-12-23 | ||
PCT/US2015/064698 WO2016100034A1 (en) | 2014-12-15 | 2015-12-09 | Membrane electrode assembly |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018503942A JP2018503942A (ja) | 2018-02-08 |
JP2018503942A5 JP2018503942A5 (ja) | 2018-11-22 |
JP6890091B2 true JP6890091B2 (ja) | 2021-06-18 |
Family
ID=54851414
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017531869A Active JP6890091B2 (ja) | 2014-12-15 | 2015-12-09 | 膜電極アセンブリ |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10700372B2 (ja) |
EP (1) | EP3235039B1 (ja) |
JP (1) | JP6890091B2 (ja) |
KR (1) | KR20170095296A (ja) |
CN (1) | CN107004862B (ja) |
CA (1) | CA2971171A1 (ja) |
WO (1) | WO2016100034A1 (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6846359B2 (ja) | 2015-05-26 | 2021-03-24 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 酸素発生触媒電極並びにそれを製造及び使用する方法 |
TWI580103B (zh) | 2016-07-27 | 2017-04-21 | 財團法人工業技術研究院 | 電催化觸媒及其燃料電池 |
JP7321100B2 (ja) * | 2017-06-05 | 2023-08-04 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 電極用触媒含有分散組成物及びそれによる物品 |
JP7027874B2 (ja) * | 2017-12-21 | 2022-03-02 | トヨタ自動車株式会社 | 燃料電池用セパレータ及びその製造方法 |
WO2019193461A1 (en) | 2018-04-04 | 2019-10-10 | 3M Innovative Properties Company | Catalyst comprising pt, ni, and cr |
US11973232B2 (en) | 2018-04-04 | 2024-04-30 | 3M Innovative Properties Company | Catalyst |
CN112042023A (zh) | 2018-04-13 | 2020-12-04 | 3M创新有限公司 | 催化剂 |
US11990626B2 (en) | 2018-04-13 | 2024-05-21 | 3M Innovative Properties Company | Catalyst |
US11476470B2 (en) | 2018-04-13 | 2022-10-18 | 3M Innovative Properties Company | Catalyst |
EP3856956A4 (en) | 2018-09-28 | 2022-08-10 | 3M Innovative Properties Company | HYDROGEN REFUELING SYSTEM |
WO2020209195A1 (ja) * | 2019-04-12 | 2020-10-15 | 株式会社フルヤ金属 | 燃料電池アノード用水電解触媒、アノード触媒組成物及び膜電極接合体 |
WO2021102739A1 (zh) * | 2019-11-27 | 2021-06-03 | 苏州擎动动力科技有限公司 | 膜电极及其制备方法、燃料电池 |
CN111082078B (zh) * | 2019-12-30 | 2021-08-03 | 新源动力股份有限公司 | 一种高性能且抗电压反转的膜电极组件的制备方法 |
KR20210086509A (ko) * | 2019-12-31 | 2021-07-08 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 연료전지의 역전압 내구성을 향상시킬 수 있는 막-전극 어셈블리, 그 제조방법, 및 그것을 포함하는 연료전지 |
JP6799346B1 (ja) | 2020-05-21 | 2020-12-16 | 学校法人同志社 | 酸素触媒、当該酸素触媒を用いた電極及び電気化学測定法 |
KR20220049690A (ko) * | 2020-10-15 | 2022-04-22 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 우수한 성능과 높은 내구성의 두 가지 요구들을 모두 만족시킬 수 있는 막-전극 어셈블리 및 그것을 포함하는 연료전지 |
Family Cites Families (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4340276A (en) | 1978-11-01 | 1982-07-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method of producing a microstructured surface and the article produced thereby |
US4568598A (en) | 1984-10-30 | 1986-02-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Article with reduced friction polymer sheet support |
US5039561A (en) | 1986-08-25 | 1991-08-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method for preparing an article having surface layer of uniformly oriented, crystalline, organic microstructures |
US4812352A (en) | 1986-08-25 | 1989-03-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Article having surface layer of uniformly oriented, crystalline, organic microstructures |
US5306579A (en) | 1992-10-30 | 1994-04-26 | Aer Energy Resources, Inc. | Bifunctional metal-air electrode |
US5338430A (en) | 1992-12-23 | 1994-08-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Nanostructured electrode membranes |
US5879827A (en) | 1997-10-10 | 1999-03-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Catalyst for membrane electrode assembly and method of making |
US5879828A (en) | 1997-10-10 | 1999-03-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Membrane electrode assembly |
US6136412A (en) * | 1997-10-10 | 2000-10-24 | 3M Innovative Properties Company | Microtextured catalyst transfer substrate |
US6610436B1 (en) | 1998-09-11 | 2003-08-26 | Gore Enterprise Holdings | Catalytic coatings and fuel cell electrodes and membrane electrode assemblies made therefrom |
US6482763B2 (en) | 1999-12-29 | 2002-11-19 | 3M Innovative Properties Company | Suboxide fuel cell catalyst for enhanced reformate tolerance |
US6465041B1 (en) | 2001-12-19 | 2002-10-15 | 3M Innovative Properties Company | Method of making gas diffusion layers for electrochemical cells |
ATE300101T1 (de) | 2002-05-31 | 2005-08-15 | Umicore Ag & Co Kg | Verfahren zur herstellung von membran-elektroden- einheiten unter verwendung von mit katalysator beschichteten membranen und klebstoffen |
US6946362B2 (en) | 2002-09-06 | 2005-09-20 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Method and apparatus for forming high surface area material films and membranes |
US6624328B1 (en) | 2002-12-17 | 2003-09-23 | 3M Innovative Properties Company | Preparation of perfluorinated vinyl ethers having a sulfonyl fluoride end-group |
US7348088B2 (en) | 2002-12-19 | 2008-03-25 | 3M Innovative Properties Company | Polymer electrolyte membrane |
US7419741B2 (en) | 2003-09-29 | 2008-09-02 | 3M Innovative Properties Company | Fuel cell cathode catalyst |
JP2005216834A (ja) | 2004-02-02 | 2005-08-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 高分子電解質型燃料電池 |
US7569082B2 (en) | 2004-10-07 | 2009-08-04 | Gm Global Technology Operations, Inc. | Manufacture of unitized electrode assembly for PEM fuel cells |
JP2006134629A (ja) | 2004-11-04 | 2006-05-25 | Honda Motor Co Ltd | 固体高分子型燃料電池の電極構造体 |
JP4993867B2 (ja) * | 2005-03-07 | 2012-08-08 | ダイハツ工業株式会社 | 燃料電池 |
JP2006314871A (ja) * | 2005-05-10 | 2006-11-24 | Toyota Motor Corp | ポルフィリン系電極触媒 |
US7901829B2 (en) | 2005-09-13 | 2011-03-08 | 3M Innovative Properties Company | Enhanced catalyst interface for membrane electrode assembly |
JP5034344B2 (ja) | 2006-07-06 | 2012-09-26 | 日産自動車株式会社 | ガス拡散電極およびそれを用いてなる燃料電池 |
KR20100120650A (ko) | 2008-01-18 | 2010-11-16 | 엠엠아이-아이피씨오, 엘엘씨 | 복합 직물 |
JP2009238685A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-15 | Panasonic Corp | 触媒担持体および触媒電極 |
KR20100004495A (ko) | 2008-07-04 | 2010-01-13 | 현대자동차주식회사 | 연료전지 스택의 막-전극 접합체와 가스확산층간의 접합방법 |
JP2010049933A (ja) | 2008-08-21 | 2010-03-04 | Toyota Motor Corp | 燃料電池の電極体の製造方法 |
JP2010149008A (ja) * | 2008-12-24 | 2010-07-08 | Toyota Motor Corp | 電極触媒 |
US9263748B2 (en) | 2009-01-08 | 2016-02-16 | Daimler Ag | Reversal tolerant membrane electrode assembly for a fuel cell |
US9337494B2 (en) * | 2009-01-12 | 2016-05-10 | GM Global Technology Operations LLC | Ionic layer with oxygen evolution reaction catalyst for electrode protection |
CN104466205B (zh) * | 2009-04-23 | 2018-04-13 | 3M创新有限公司 | 使用混合无机物的催化剂性质控制 |
KR20110046907A (ko) | 2009-10-29 | 2011-05-06 | (주)에프티이앤이 | 나노섬유 접착층을 갖는 나노섬유 필터여재 및 그 제조방법 |
US20130022890A1 (en) * | 2011-07-18 | 2013-01-24 | Ford Motor Company | Solid polymer electrolyte fuel cell with improved voltage reversal tolerance |
WO2013101595A1 (en) * | 2011-12-29 | 2013-07-04 | 3M Innovative Properties Company | Electrochemical cell electrode |
JP2013164929A (ja) * | 2012-02-09 | 2013-08-22 | Toyota Motor Corp | 燃料電池用電極触媒の製造方法 |
JP5991670B2 (ja) * | 2012-11-22 | 2016-09-14 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | 小径Ni3Cナノ粒子の製造方法、小径Ni3Cナノ粒子含有電極触媒及びその製造方法 |
WO2014100811A1 (en) | 2012-12-21 | 2014-06-26 | The University Of Akron | Adhesive attachment discs |
WO2014189637A1 (en) | 2013-04-23 | 2014-11-27 | 3M Innovative Properties Company | Catalyst electrodes and method of making it |
-
2015
- 2015-12-09 WO PCT/US2015/064698 patent/WO2016100034A1/en active Application Filing
- 2015-12-09 JP JP2017531869A patent/JP6890091B2/ja active Active
- 2015-12-09 CA CA2971171A patent/CA2971171A1/en not_active Abandoned
- 2015-12-09 KR KR1020177019023A patent/KR20170095296A/ko not_active Application Discontinuation
- 2015-12-09 US US15/531,786 patent/US10700372B2/en active Active
- 2015-12-09 CN CN201580065900.7A patent/CN107004862B/zh active Active
- 2015-12-09 EP EP15812927.0A patent/EP3235039B1/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20170095296A (ko) | 2017-08-22 |
US10700372B2 (en) | 2020-06-30 |
CN107004862B (zh) | 2021-02-05 |
JP2018503942A (ja) | 2018-02-08 |
CN107004862A (zh) | 2017-08-01 |
CA2971171A1 (en) | 2016-06-23 |
US20170294669A1 (en) | 2017-10-12 |
WO2016100034A1 (en) | 2016-06-23 |
EP3235039A1 (en) | 2017-10-25 |
EP3235039B1 (en) | 2019-04-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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|
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|
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|
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|
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|
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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