JP6873753B2 - 液晶表示装置 - Google Patents
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図1は、実施形態1に係る液晶表示装置LCDの概略構成を示す斜視図である。図1に示すように、液晶表示装置LCDは、観察者に近い位置(前側)に配置された表示パネルLCP1と、表示パネルLCP1より観察者から遠い位置(後側)に配置された表示パネルLCP2と、表示パネルLCP1及び表示パネルLCP2を貼り合わせる接着層ADLと、表示パネルLCP2の背面側に配置されたバックライトBLと、表示面側から表示パネルLCP1及び表示パネルLCP2を覆うフロントシャーシFSとを含んでいる。
実施形態2に係る液晶表示装置LCDは、実施形態1に係る液晶表示装置LCDの表示パネルLCP2が省略され、実施形態1に係る表示パネルLCP1(図3等参照)で構成されている。図17は、実施形態2に係る表示パネルLCPの断面図である。尚、図17は、図7〜図9のB−B´切断線による断面部分を示している。実施形態2に係る表示パネルLCPは、薄膜トランジスタ基板TFTBがバックライトBL側に配置されており、対向基板CFが観察者側に配置されている。光吸収層SIa(第2半導体層)は、平面視で少なくとも薄膜トランジスタTFTのチャネル領域の一部に重なっている。光吸収層SIaは、平面視で薄膜トランジスタTFTのチャネル領域の全部に重なってもよいし、薄膜トランジスタTFTの形成領域の全部に重なってもよい。光吸収層SIbは、リング形状に形成されており、平面視で薄膜トランジスタTFTのチャネル領域の周囲を取り囲むように配置されている。光吸収層SIbは、平面視で薄膜トランジスタTFTのゲート電極GEの一部に重なってもよい。これにより、薄膜トランジスタTFTのチャネル領域に入射される光を遮光することができる。
Claims (16)
- 第1ゲート線と、第1ソース線と、第1チャネル領域及び第1半導体層を含む第1薄膜トランジスタと、前記第1半導体層とは電気的に絶縁している第2半導体層と、前記第1半導体層および前記第2半導体層とは電気的に絶縁している第3半導体層とが形成された第1基板と、
前記第1基板に対向配置された第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に配置された第1液晶層と、
を含み、
前記第2半導体層は、前記第1薄膜トランジスタと前記第1液晶層との間に配置され、平面視で前記第1薄膜トランジスタの第1チャネル領域の少なくとも一部に重なり、
前記第3半導体層は、前記第1半導体層と同一層で、前記第1薄膜トランジスタから離間した位置に配置されており、
前記第2半導体層は、平面視で前記第3半導体層の少なくとも一部に重なっており、
前記第1薄膜トランジスタと前記第2半導体層との間には、無機絶縁膜のみが配置されている、
ことを特徴とする液晶表示装置。 - 前記第1半導体層及び前記第2半導体層は、アモルファスシリコンで形成されている、
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 前記第2半導体層の層厚は、前記第1半導体層の層厚に比べて厚い、
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 前記第1半導体層は、前記第2半導体層よりも、ボロン及びリンの少なくとも一方の密度が高い、
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - バックライトをさらに含み、
前記第1液晶層は、前記バックライトと前記第1基板との間に配置されている、
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 第1ゲート線と、第1ソース線と、第1チャネル領域及び第1半導体層を含む第1薄膜トランジスタと、前記第1半導体層とは電気的に絶縁している第2半導体層と、前記第1半導体層および前記第2半導体層とは電気的に絶縁している第3半導体層とが形成された第1基板と、
前記第1基板に対向配置された第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に配置された第1液晶層と、
を含み、
前記第2半導体層は、前記第1薄膜トランジスタと前記第1液晶層との間に配置され、平面視で前記第1薄膜トランジスタの第1チャネル領域の少なくとも一部に重なり、
前記第3半導体層は、前記第1半導体層と同一層で、前記第1薄膜トランジスタから離間した位置に配置されており、
前記第2半導体層は、平面視で前記第3半導体層の少なくとも一部に重なっており、
前記第2基板は、ブラックマトリクスを含み、
前記第2半導体層の少なくとも一部は、平面視で前記ブラックマトリクスと重畳していない、
ことを特徴とする液晶表示装置。 - 第2ゲート線と、第2ソース線と、第2薄膜トランジスタとが形成された第3基板と、
前記第3基板に対向配置された第4基板と、
前記第3基板と前記第4基板との間に配置された第2液晶層と、
をさらに含み、
前記第2基板は、前記第1液晶層と前記第2液晶層との間に配置されている、
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - バックライトをさらに含み、
前記第1液晶層は、前記バックライトと前記第2基板との間に配置されている、
ことを特徴とする請求項7に記載の液晶表示装置。 - 第2ゲート線と、第2ソース線と、第2薄膜トランジスタとが形成された第3基板と、
前記第3基板に対向配置された第4基板と、
前記第3基板と前記第4基板との間に配置された第2液晶層と、
をさらに含み、
前記第1基板は、前記第1液晶層と前記第2液晶層との間に配置されている、
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - バックライトをさらに含み、
前記第1液晶層は、前記バックライトと前記第1基板との間に配置されている、
ことを特徴とする請求項9に記載の液晶表示装置。 - 前記第3基板に、さらに、第4半導体層が形成されており、
前記第4半導体層は、前記第2薄膜トランジスタと前記第2液晶層との間に配置され、平面視で前記第2薄膜トランジスタの第2チャネル領域の少なくとも一部に重なっている、
ことを特徴とする請求項7乃至10のいずれか一つに記載の液晶表示装置。 - 第1ゲート線と、第1ソース線と、第1チャネル領域及び第1半導体層を含む第1薄膜トランジスタと、前記第1半導体層とは電気的に絶縁している第2半導体層と、前記第1半導体層および前記第2半導体層とは電気的に絶縁している第3半導体層とが形成された第1基板と、
前記第1基板に対向配置された第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に配置された第1液晶層と、
第2ゲート線と、第2ソース線と、第2薄膜トランジスタとが形成された第3基板と、
前記第3基板に対向配置された第4基板と、
前記第3基板と前記第4基板との間に配置された第2液晶層と、
を含み、
前記第2半導体層は、前記第1薄膜トランジスタと前記第1液晶層との間に配置され、平面視で前記第1薄膜トランジスタの第1チャネル領域の少なくとも一部に重なり、
前記第3半導体層は、前記第1半導体層と同一層で、前記第1薄膜トランジスタから離間した位置に配置されており、
前記第2半導体層は、平面視で前記第3半導体層の少なくとも一部に重なっており、
前記第2基板は、前記第1液晶層と前記第2液晶層との間に配置されており、
前記第3基板に、さらに、第4半導体層が形成されており、
前記第4半導体層は、前記第2薄膜トランジスタと前記第2液晶層との間に配置され、平面視で前記第2薄膜トランジスタの第2チャネル領域の少なくとも一部に重なっており、
前記第3基板に、さらに、第5半導体層が形成されており、
前記第5半導体層は、前記第2薄膜トランジスタの半導体層と同一層で、前記第2薄膜トランジスタから離間した位置に配置されており、
前記第5半導体層は、平面視で前記第4半導体層の少なくとも一部に重なっている、
ことを特徴とする液晶表示装置。 - 第1ゲート線と、第1ソース線と、第1チャネル領域及び第1半導体層を含む第1薄膜トランジスタと、前記第1半導体層とは電気的に絶縁している第2半導体層と、前記第1半導体層および前記第2半導体層とは電気的に絶縁している第3半導体層とが形成された第1基板と、
前記第1基板に対向配置された第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に配置された第1液晶層と、
第2ゲート線と、第2ソース線と、第2薄膜トランジスタとが形成された第3基板と、
前記第3基板に対向配置された第4基板と、
前記第3基板と前記第4基板との間に配置された第2液晶層と、
を含み、
前記第2半導体層は、前記第1薄膜トランジスタと前記第1液晶層との間に配置され、平面視で前記第1薄膜トランジスタの第1チャネル領域の少なくとも一部に重なり、
前記第3半導体層は、前記第1半導体層と同一層で、前記第1薄膜トランジスタから離間した位置に配置されており、
前記第2半導体層は、平面視で前記第3半導体層の少なくとも一部に重なっており、
前記第1基板は、前記第1液晶層と前記第2液晶層との間に配置されており、
前記第3基板に、さらに、第4半導体層が形成されており、
前記第4半導体層は、前記第2薄膜トランジスタと前記第2液晶層との間に配置され、平面視で前記第2薄膜トランジスタの第2チャネル領域の少なくとも一部に重なっており、
前記第3基板に、さらに、第5半導体層が形成されており、
前記第5半導体層は、前記第2薄膜トランジスタの半導体層と同一層で、前記第2薄膜トランジスタから離間した位置に配置されており、
前記第5半導体層は、平面視で前記第4半導体層の少なくとも一部に重なっている、
ことを特徴とする液晶表示装置。 - 第1ゲート線と、第1ソース線と、第1チャネル領域及び第1半導体層を含む第1薄膜トランジスタと、前記第1半導体層とは電気的に絶縁している第2半導体層と、前記第1半導体層および前記第2半導体層とは電気的に絶縁している第3半導体層とが形成された第1基板と、
前記第1基板に対向配置された第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に配置された第1液晶層と、
を含み、
前記第2半導体層は、前記第1薄膜トランジスタと前記第1液晶層との間に配置され、平面視で前記第1薄膜トランジスタの第1チャネル領域の少なくとも一部に重なり、
前記第3半導体層は、前記第1半導体層と同一層で、前記第1薄膜トランジスタから離間した位置に配置されており、
前記第2半導体層は、平面視で前記第3半導体層の少なくとも一部に重なっており、
前記第3半導体層は、リング形状であり、平面視で前記第1チャネル領域の周囲を取り囲むように配置されている、
ことを特徴とする液晶表示装置。 - 第1ゲート線と、第1ソース線と、第1チャネル領域及び第1半導体層を含む第1薄膜トランジスタと、前記第1半導体層とは電気的に絶縁している第2半導体層と、前記第1半導体層および前記第2半導体層とは電気的に絶縁している第3半導体層とが形成された第1基板と、
前記第1基板に対向配置された第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に配置された第1液晶層と、
を含み、
前記第2半導体層は、前記第1薄膜トランジスタと前記第1液晶層との間に配置され、平面視で前記第1薄膜トランジスタの第1チャネル領域の少なくとも一部に重なり、
前記第3半導体層は、前記第1半導体層と同一層で、前記第1薄膜トランジスタから離間した位置に配置されており、
前記第2半導体層は、平面視で前記第3半導体層の少なくとも一部に重なっており、
前記第2半導体層は第1孔を有し、前記第3半導体層は第2孔を有し、
平面視で前記第1孔は前記第2孔に重なっている、
ことを特徴とする液晶表示装置。 - 第1ゲート線と、第1ソース線と、第1チャネル領域及び第1半導体層を含む第1薄膜トランジスタと、前記第1半導体層とは電気的に絶縁している第2半導体層と、前記第1半導体層および前記第2半導体層とは電気的に絶縁している第3半導体層とが形成された第1基板と、
前記第1基板に対向配置された第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に配置された第1液晶層と、
第2ゲート線と、第2ソース線と、第2薄膜トランジスタとが形成された第3基板と、
前記第3基板に対向配置された第4基板と、
前記第3基板と前記第4基板との間に配置された第2液晶層と、
を含み、
前記第2半導体層は、前記第1薄膜トランジスタと前記第1液晶層との間に配置され、平面視で前記第1薄膜トランジスタの第1チャネル領域の少なくとも一部に重なり、
前記第3半導体層は、前記第1半導体層と同一層で、前記第1薄膜トランジスタから離間した位置に配置されており、
前記第2半導体層は、平面視で前記第3半導体層の少なくとも一部に重なっており、
前記第2基板は、前記第1液晶層と前記第2液晶層との間に配置されており、
前記第2基板は、カラーフィルターを含む、
ことを特徴とする液晶表示装置。
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