JP6808335B2 - 液晶表示装置 - Google Patents

Description

本発明の実施形態は、液晶表示装置に関する。

液晶表示装置は、一対の基板間の間隙を保持するために、例えば柱状スペーサを備えている。柱状スペーサは、基板との密着性を向上させるため、例えば画素電極と重なっている。しかし、柱状スペーサの近傍では液晶分子の配向が乱れるため、柱状スペーサおよびその周囲に重畳する様に遮光層が配置され、開口部の面積が減少する。

特開２００３−２１５５５３号公報 特開２０１２−１８１４４１号公報

本実施形態の目的は、表示品位の低下を抑制することが可能な液晶表示装置を提供することにある。

本実施形態によれば、
第１基板と、前記第１基板に対向配置された第２基板と、前記第１基板と第２基板との間に配置された液晶層と、第１方向に延在する第１遮光部と、第２方向に延在し前記第１遮光部と交差する第２遮光部と、を有する遮光層と、前記第１基板と第２基板との間の間隙を保持するスペーサと、を備え、前記スペーサは、平面視で、前記第１遮光部と第２遮光部とが交差する交差領域に重畳し、前記遮光層の外側に露出する露出領域を有している、液晶表示装置が提供される。

本実施形態によれば、
第１基板と、前記第１基板に対向配置された第２基板と、前記第１基板と第２基板との間に配置された液晶層と、第１方向に延在する第１遮光部と、第２方向に延在する第２遮光部及び第３遮光部と、前記第１遮光部と前記第２遮光部とが交差する第１交差領域と、前記第１遮光部と前記第３遮光部とが交差する第２交差領域と、を有する遮光層と、平面視で前記第１交差領域と重畳する第１スペーサと、平面視で前記第２交差領域と重畳する第２スペーサとを有し、前記第１基板と第２基板との間の間隙を保持するスペーサと、を備え、前記第１スペーサは、平面視で前記遮光層の外側に露出する第１露出領域を有し、前記第２スペーサは、平面視で前記遮光層の外側に露出する第２露出領域を有し、前記第１露出領域は、前記第２方向の順方向で前記第１遮光部に隣接し、前記第２露出領域は、前記第２方向の逆方向で前記第１遮光部に隣接している、液晶表示装置が提供される。

図１は、表示装置の断面を示した図である。 図２は、平面視した表示パネルを示した図である。 図３は、互いの中心が平面視で一致する様に配置された交差領域およびスペーサを示した図である。 図４は、遮光層およびスペーサの幅を示した図である。 図５は、互いの中心が平面視で離れる様に配置された交差領域およびスペーサを示した図である。 図６は、表示パネルの構成を示した断面図である。 図７Ａは、スペーサの中心が交差領域の中心に対してずれている場合の、表示パネルの拡大断面図である。 図７Ｂは、電子顕微鏡で撮影したスペーサの断面の一例である。 図８は、図７Ａに示した表示パネルを平面視した場合の画素電極およびスペーサを示した図である。 図９は、露出領域、中間領域、および重畳領域を示した図である。 図１０は、スペーサの中心が交差領域の中心に平面視で一致している場合の、表示パネルの拡大断面図である。 図１１は、図１０に示した表示パネルを平面視した場合の画素電極およびスペーサを示した図である。 図１２は、スペーサ密度とスペーサ露出密度との関係を示したグラフである。 図１３は、スペーサの中心が交差領域の中心に対して第１方向に離れている場合の重畳領域を示す図である。 図１４は、図１３よりも更に、スペーサの中心が交差領域の中心に対して第１方向に離れている場合の重畳領域を示す図である。 図１５は、図１３よりも更に、スペーサの中心が交差領域の中心に対して第２方向に離れている場合の重畳領域を示す図である。 図１６は、図１５よりも更に、スペーサの中心が交差領域の中心に対して第２方向に離れている場合の重畳領域を示す図である。 図１７は、図１５よりも更に、スペーサの中心が交差領域の中心に対して第１方向に離れている場合の重畳領域を示す図である。 図１８は、図１７よりも更に、スペーサの中心が交差領域の中心に対して第２方向に離れている場合の重畳領域を示す図である。 図１９は、第２基板側からスペーサが突出している場合の表示パネルの断面を示す図である。 図２０は、表示パネルの構成を示す図である。 図２１は、単位画素の構成を示す図である。 図２２は、図２１に示した単位画素に対応する遮光層の構成を示す図である。 図２３は、図２１に示した単位画素に対応するスペーサの配置例を示す図である。

以下、本実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。

本実施形態においては、表示装置の一例として、液晶表示装置を開示する。この表示装置は、例えば、スマートフォン、タブレット端末、携帯電話端末、パーソナルコンピュータ、テレビ受像装置、車載装置、ゲーム機器等の種々の装置に適用可能である。なお、本実施形態にて開示する主要な構成は、電気泳動素子等を有する電子ペーパ型の表示装置、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）を応用した表示装置、或いはエレクトロクロミズムを応用した表示装置などにも適用可能である。

図１は、表示装置の断面を示した図である。なお、第１方向Ｘは、例えば表示パネルＰＮＬの短辺に沿った方向である。第２方向Ｙは、第１方向Ｘと交差する方向であり、例えば表示パネルＰＮＬの長辺に沿った方向である。第３方向Ｚは、第１方向Ｘおよび第２方向Ｙと交差する方向であり、例えば表示パネルＰＮＬの法線方向である。図示した例では、第１方向Ｘと第２方向Ｙとは、互いに直交しており、第３方向Ｚは、第１方向Ｘおよび第２方向Ｙと直交している。なお、第１方向Ｘと第２方向Ｙとは、直交とは異なる角度で交差している構成も採用可能である。

表示装置ＤＳＰは、表示領域ＤＡと、表示領域ＤＡの外側に位置する非表示領域ＮＤＡと、を有する表示パネルＰＮＬを備えている。表示パネルＰＮＬは、第１基板ＳＵＢ１と、第１基板ＳＵＢ１に対向配置された第２基板ＳＵＢ２と、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間に配置された液晶層ＬＣと、を備えている。第２基板ＳＵＢ２は、第３方向Ｚに間隙Ｇを置いて第１基板ＳＵＢ１と対向しており、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間にはスペーサＳＰおよびシール材ＳＥが備えられている。スペーサＳＰは、表示領域ＤＡ内に一定の間隔を置いて並べられており、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間の間隙Ｇを保持している。スペーサＳＰは、例えば、アクリル樹脂などのフォトレジストによって形成されている。シール材ＳＥは、非表示領域ＮＤＡに配置され、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とを接着している。シール材ＳＥは、例えば、熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂などで形成されている。液晶層ＬＣは、第１基板ＳＵＢ１、第２基板ＳＵＢ２、及びシール材ＳＥに包囲された空間に充填されている。

図２は、平面視した表示パネルを示した図である。平面視とは、第３方向Ｚの順方向から逆方向を観察した状態である。或いは、表示領域ＤＡの表面に対する法線方向に視点を設け、当該視点から表示領域ＤＡを視認することを平面視という。なお、第３方向Ｚに限らず第１乃至第３方向Ｘ，Ｙ，Ｚにおいて、順方向とは矢印の先端が指す方向であり、逆方向とは矢印の先端が指す方向とは反対の方向であるものとする。

平面視した場合の表示パネルＰＮＬの形状は、図示した例では長方形状であるが、特に限定されるものではなく、菱型や台形などの図示した例とは異なる四角形状であってもよく、三角形や五角形などの他の多角形状であってもよい。平面視した場合の表示パネルＰＮＬの形状は、円形（楕円形）や扇形などの曲線を含む形状であってもよい。また、平面視した場合の表示領域ＤＡの形状も、図示した例では長方形状であるが、特に限定されるものではなく、四角形状以外の多角形状や円形や楕円形等の曲線を含む形状であってもよい。

表示パネルＰＮＬは、遮光層ＳＨを備えている。遮光層ＳＨは、例えば黒色樹脂を含んで形成されており、光の反射および透過を抑制する。遮光層ＳＨは、非表示領域ＮＤＡに配置された周辺遮光層ＰＲＰと、表示領域ＤＡに線状に形成された複数本の遮光部ＳＨ１，ＳＨ２と、を有している。複数本の遮光部ＳＨ１は夫々、第１方向Ｘに延在し、第２方向Ｙに間隔を置いて並んでいる。複数本の遮光部ＳＨ２は夫々、第２方向Ｙに延在し遮光部ＳＨ１と交差しており、第１方向Ｘに間隔を置いて並んでいる。遮光部ＳＨ１とＳＨ２とは格子状に配置されており、互いに隣り合う一対の遮光部ＳＨ１および一対のＳＨ２によって開口部ＡＰが規定される。表示パネルＰＮＬに入射する光は、遮光層ＳＨで遮光され、開口部ＡＰを透過する。開口部ＡＰは、例えば、第１方向Ｘおよび第２方向Ｙにマトリクス状に並んでいる。

図３は、互いの中心が平面視で一致する様に配置された交差領域およびスペーサを示した図である。

スペーサＳＰは、遮光層ＳＨと重畳している。スペーサＳＰは、平面視で、遮光部ＳＨ１と遮光部ＳＨ２とが交差する交差領域ＣＲに重畳し、遮光層ＳＨの外側に露出する露出領域ＥＲを有している。図示した例では、平面視で、スペーサＳＰの中心ＣＳＰは、交差領域ＣＲに重畳しており、スペーサＳＰは、４つの露出領域ＥＲ１，ＥＲ２，ＥＲ３，ＥＲ４を有している。露出領域ＥＲ１乃至ＥＲ４は、平面視で、それぞれ対応する開口部ＡＰに重畳している。中心ＣＳＰは、平面視で、交差領域ＣＲの中心ＣＣＲと重畳していてもよく、離間していてもよい。このとき、中心ＣＳＰは、スペーサＳＰの端縁ＥＤで規定される図形の幾何学的な重心である。端縁ＥＤは、スペーサＳＰの平面視における最外周に相当する。スペーサＳＰが底面と底面よりも面積が小さい頂面とを有するテーパ状に形成されている場合、端縁ＥＤは、スペーサＳＰの底面の端部に相当する。また、中心ＣＣＲは、遮光部ＳＨ１の中心軸ＡＸ１と遮光部ＳＨ２の中心軸ＡＸ２との交点である。中心軸ＡＸ１は、遮光部ＳＨ１の第２方向Ｙの中間点を結び第１方向Ｘに延在する仮想線であり、中心軸ＡＸ２は、遮光部ＳＨ２の第１方向Ｘの中間点を結び第２方向Ｙに延在する仮想線である。

露出領域ＥＲ１は、第１方向Ｘで遮光部ＳＨ２を挟んで露出領域ＥＲ２と対向し、第２方向Ｙで遮光部ＳＨ１を挟んで露出領域ＥＲ３と対向している。露出領域ＥＲ４は、第１方向Ｘで遮光部ＳＨ２を挟んで露出領域ＥＲ３と対向し、第２方向Ｙで遮光部ＳＨ１を挟んで露出領域ＥＲ２と対向し、交差領域ＣＲを挟んで露出領域ＥＲ１と対向している。

図４は、遮光層およびスペーサの幅を示した図である。
スペーサＳＰの第１方向Ｘの幅Ｗ１２は、第２遮光部ＳＨ２の第１方向Ｘの幅Ｗ１１よりも大きく、スペーサＳＰの第２方向Ｙの幅Ｗ２２は、第１遮光部ＳＨ１の第２方向Ｙの幅Ｗ２１よりも大きい。幅Ｗ１２およびＷ２２は、それぞれ端縁ＥＤで規定される図形の第１方向Ｘの最大幅および第２方向Ｙの最大幅に相当する。図示した例では、端縁ＥＤで規定される図形は円形状であり、幅Ｗ１２およびＷ２２は互いに等しく、端縁ＥＤで規定される円の直径に相当する。幅Ｗ１１およびＷ２１は、例えば、それぞれ交差領域ＣＲの第１方向Ｘの最大幅および第２方向Ｙの最大幅に相当する。遮光層ＳＨは、露出領域ＥＲ１乃至ＥＲ４に対応する領域を遮光するための遮光部を備えていない。図示した例において、遮光部ＳＨ１の第２方向Ｙの幅Ｗ２１は、いずれの位置においても一様である。また、遮光部ＳＨ２の第１方向Ｘの幅Ｗ１１も、図示した例では、いずれの位置においても一様である。すなわち、幅Ｗ２１及びＷ１１の大きさは、それぞれ、交差領域ＣＲに近接する位置であっても、交差領域ＣＲから離間する位置であっても等しい。

夫々の開口部ＡＰのうち表示に寄与する有効表示領域の面積は、夫々の開口部ＡＰの面積から夫々の露出領域ＥＲ（ＥＲ１，ＥＲ２，ＥＲ３，又はＥＲ４）の面積を差し引いたものとなる。また、露出領域ＥＲ１乃至ＥＲ４近傍では液晶層ＬＣの液晶組成物の配向が乱れてコントラストが低下する恐れがあるので、１つのスペーサＳＰが有する露出領域ＥＲの総面積は、小さいことが望ましい。このため、表示領域ＤＡに対する開口部ＡＰの面積比を表す開口率を向上させる観点から遮光部ＳＨ１，ＳＨ２の幅Ｗ１１，Ｗ２１は小さいことが望ましいが、幅Ｗ１１，Ｗ２１の狭小化に比例してスペーサＳＰの幅Ｗ１２，Ｗ２２も小さいことが望ましい。

図５は、互いの中心が平面視で離れる様に配置された交差領域およびスペーサを示した図である。

平面視での交差領域ＣＲの中心ＣＣＲに対するスペーサＳＰの中心ＣＳＰのズレを変位ＤＰと表すものとする。図示した例では、変位ＤＰの向きは、第１方向Ｘの逆方向であり、変位ＤＰの大きさは、スペーサＳＰの半径よりも小さい。このとき、開口部ＡＰの面積に対して露出領域ＥＲ１の面積が占める割合を抑制する観点から、スペーサＳＰは、少なくとも交差領域ＣＲと重畳していることが望ましく、更に望ましくは中心ＣＣＲと重畳している。言い換えると、変位ＤＰの大きさは、（Ｗ１２＋Ｗ１１）／２よりも小さいことが望ましく、更に望ましくは（Ｗ１２）／２以下である。

図６は、表示パネルの構成を示した断面図である。

表示パネルＰＮＬは、図１で図示した第１基板ＳＵＢ１および第２基板ＳＵＢ２に加えて、液晶層ＬＣおよび光学素子ＯＤを備えている。図示した構成例では、表示パネルＰＮＬは、光を選択的に反射させることで画像を表示する反射表示機能を備えた反射型である。なお、表示パネルＰＮＬは、光を選択的に透過させることで画像を表示する透過表示機能を備えた透過型であってもよい。また、表示パネルＰＮＬは、反射表示機能および透過表示機能を備えた半透過型であってもよい。

第１基板ＳＵＢ１は、第１絶縁基板１０、絶縁膜１１、複数の画素電極ＰＥ、配向膜ＡＬ１などを備えている。なお、図示しないが、第１基板ＳＵＢ１は、図２０で後述する制御線ＣＬや信号線ＳＬなどの各種配線などを備えている。第１絶縁基板１０は、ガラス基板や樹脂基板などの透明な絶縁基板からなり、互いに対向する一対の面を有する平板状に形成されている。絶縁膜１１は、第１絶縁基板１０の一対の面のうち、第２基板ＳＵＢ２に対向する面側に配置され、例えばアクリル樹脂などの有機絶縁材料で形成されている。画素電極ＰＥは、絶縁膜１１の上に配置されている。配向膜ＡＬ１は、画素電極ＰＥを覆っている。

第２基板ＳＵＢ２は、第２絶縁基板２０、遮光層ＳＨ、カラーフィルタ層ＣＦ、オーバーコート層ＯＣ、共通電極ＣＥ、配向膜ＡＬ２などを備えている。第２絶縁基板２０は、ガラス基板や樹脂基板などの透明な絶縁基板からなり、互いに対向する一対の面を有する平板状に形成されている。遮光層ＳＨは、第２絶縁基板２０の一対の面のうち、第１基板ＳＵＢ１と対向する面側に位置している。図示した例では、遮光層ＳＨは、隣り合う画素電極ＰＥ間の隙間に対向している。カラーフィルタ層ＣＦは、第２絶縁基板２０の一対の面のうち、第１基板ＳＵＢ１と対向する面側に位置している。カラーフィルタ層ＣＦは、詳述しないが、例えば、赤色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタ、及び、青色カラーフィルタを含んでいる。各カラーフィルタの端部は、遮光層ＳＨと重畳している。なお、カラーフィルタ層ＣＦは、白色などの他の色のカラーフィルタ、あるいは、透明層を含んでいても良い。オーバーコート層ＯＣは、カラーフィルタ層ＣＦを覆っている。共通電極ＣＥは、オーバーコート層ＯＣの第１基板ＳＵＢ１と対向する側に位置している。共通電極ＣＥは、複数の画素電極ＰＥと対向している。共通電極ＣＥは、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）やインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）などの透明導電材料によって形成されている。配向膜ＡＬ２は、共通電極ＣＥを覆っている。

液晶層ＬＣは、配向膜ＡＬ１およびＡＬ２に隣接している。図示した例では、表示パネルＰＮＬは、液晶層ＬＣ中に画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの電位差に応じて第１基板ＳＵＢ１の法線方向に形成される電界を利用して、液晶層ＬＣの光学特性を変化させる縦電界方式である。液晶層ＬＣは、負の誘電率異方性を有する液晶組成物を含んでいる。なお、表示パネルＰＮＬは、液晶層ＬＣ中に第１基板ＳＵＢと平行な電界を形成して当該電界を利用する横電界方式であってよく、第１基板ＳＵＢ１に対して斜めの電界が形成される斜め電界方式であってもよい。横電界方式の場合、第１基板ＳＵＢ１に画素電極ＰＥおよび共通電極ＣＥの両方が配置される。また、表示パネルＰＮＬは、画素電極ＰＥへ電圧が印加されていないときに表示状態（白表示）となり、電圧が印加されているときに非表示状態（黒表示）となる、いわゆるノーマリーホワイトモードであることが望ましい。この場合、表示状態では配向膜ＡＬ１，ＡＬ２の配向規制力によって液晶組成物が第１基板ＳＵＢ１の法線方向に初期配向し、非表示状態では液晶組成物は負の誘電率異方性を有している為に電界に対して垂直な方向に配向する。

光学素子ＯＤは、第２基板ＳＵＢ２の一対の面のうち、液晶層ＬＣに接する面とは反対側となる面側に位置している。光学素子ＯＤは、例えば散乱層ＦＳ、位相差板ＲＴ、偏光板ＰＬなどを備えている。散乱層ＦＳは第２絶縁基板２０に接着され、位相差板ＲＴは散乱層ＦＳに積層され、偏光板ＰＬは位相差板ＲＴに積層されている。なお、光学素子ＯＤの構成は、図示した例に限らない。

散乱層ＦＳは、特定方向からの入射光を散乱させる異方性散乱層である。図示した例では、散乱層ＦＳは、図中の光源ＬＳ側からの入射光をほとんど散乱させずに透過し、特定方向、つまり、画素電極ＰＥでの反射光を散乱させる機能を有している。なお、散乱層ＦＳは、拡散範囲の拡大、虹色の防止などの目的のために複数枚を積層することが望ましい。位相差板ＲＴは、１／４波長板としての機能を有している。一例では、位相差板ＲＴは、１／４波長板と１／２波長板とを積層した積層体であり、波長依存性を低減し、カラー表示に利用される波長範囲において所望の位相差が得られるように構成されている。

図７Ａは、スペーサの中心が交差領域の中心に対してずれている場合の、表示パネルの拡大断面図である。なお、図示した例において、上とは、第３方向Ｚの矢印の向きであるものとする。

画素電極ＰＥ１は、反射電極ＲＥ１と、反射電極ＲＥ１に積層された透明な保護電極ＴＥ１と、を備えている。反射電極ＲＥ１は、可視光の反射率が高いアルミニウムや銀などの金属材料によって形成されている。保護電極ＴＥ１は、ＩＴＯやＩＺＯなどの透明導電材料によって形成されている。反射電極ＲＥ１は、絶縁膜１１の上に配置され、第２基板ＳＵＢ２に対向する側に位置する上面ＲＥ１ａと、他の反射電極に対向する側に位置する側面ＲＥ１ｂと、を有している。通電時の反射電極ＲＥ１の腐食を抑制する観点から、保護電極ＴＥ１は、反射電極ＲＥ１の上面ＲＥ１ａおよび側面ＲＥ１ｂを覆っていることが望ましい。保護電極ＴＥ１は、反射電極ＲＥ１の上に配置され、第２基板ＳＵＢ２に対向する側に位置する上面ＴＥ１ａと、他の保護電極に対向する側に位置する側面ＴＥ１ｂと、を有している。

スペーサＳＰは、保護電極ＴＥ１および絶縁膜１１の上に配置され、上面ＴＥ１ａおよび側面ＴＥ１ｂと接触している。スペーサＳＰは、第１基板ＳＵＢ１に対向する側に位置する下面ＳＰａ、第２基板ＳＵＢ２に対向する側に位置する上面ＳＰｂ、および上面ＳＰａの端部と下面ＳＰｂの端部とを繋ぐ側面ＳＰｃ、を有している。図示した例では、側面ＳＰｃは、配向膜ＡＬ１の端部に接触している。例えば、第１基板ＳＵＢ１の製造プロセスにおいて、配向膜ＡＬ１は、スペーサＳＰの形成後に塗布・乾燥工程によって成膜される。この様な製造プロセスとの関係上、当該スペーサＳＰの上面ＳＰｂや側面ＳＰｃにも配向膜ＡＬ１が成膜される構成が考えられる。しかし、当該配向膜ＡＬ１は、その塗布工程から乾燥過程完了までの間にスペーサＳＰの上面ＳＰｂおよび側面ＳＰｃから滑り落ちてしまう場合があるため、上面ＳＰｂおよび側面ＳＰｃ上の配向膜ＡＬ１は、きわめて薄膜あるいは実質的に成膜されないもとなる。したがって、上面ＳＰｂおよび側面ＳＰｃ上の配向膜ＡＬ１は、あえて図示を省略している。上面ＳＰｂは、図示した例では配向膜ＡＬ２に接触しているが、配向膜ＡＬ２から離間していてもよい。例えば、表示パネルＰＮＬに外力が加わった際に補助的に間隙Ｇを保持する補助スペーサとして機能する場合、スペーサＳＰは、表示パネルＰＮＬに外力が加わっていない状態では配向膜ＡＬ２から離間している。

図示した例において、下面ＳＰａの面積は、上面ＳＰｂの面積よりも大きい。テーパ形状において面積の小さい面を頂面、面積の大きい面を底面と定義した場合、スペーサＳＰは、下面ＳＰａが底面に相当し上面ＳＰｂが頂面に相当する順テーパ形状を有している。このとき、端縁ＥＤは、下面ＳＰａの端部に相当する。なお、図１９で後述する様に、下面ＳＰａが頂面に相当し上面ＳＰｂが底面に相当する逆テーパ形状を有するスペーサＳＰの場合、端縁ＥＤは、上面ＳＰｂの端部に相当する。

スペーサＳＰとその下地層（保護電極ＴＥ１および絶縁膜１１）との密着性を向上させるためには、スペーサＳＰと下地層とが互いに密着する密着面の面積が大きいことが望ましい。図示した例では、スペーサＳＰ側の密着面は下面ＳＰａに相当し、下地層側の密着面は保護電極ＴＥ１の上面ＴＥ１ａ、側面ＴＥ１ｂ、および絶縁膜１１の上面の、下面ＳＰａと接触する領域に相当する。また、スペーサＳＰは、一例では、無機材料との密着性が有機材料との密着性よりも良好である。保護電極ＴＥ１は無機材料製であり絶縁膜１１は有機材料製であるため、スペーサＳＰと下地層との密着性を向上させる観点から、下地層の密着面における保護電極ＴＥ１の上面ＴＥ１ａが占める割合が大きいことが望ましい。

図７Ｂは、電子顕微鏡で撮影したスペーサの断面の一例である。図７Ａは、構成例を説明するための模式図であって、実際のスペーサＳＰは、図７Ｂに示す如き断面形状を有し、図７Ａに示す如き明確な台形形状の断面を呈していない場合もある。

この場合、図７Ｂに示す如く、下層に密着しているスペーサＳＰの部分を平面視した状態で形成される外形形状を下面ＳＰａの形状とする。第３方向Ｚで最も下面ＳＰａから離間している部分において第１絶縁基板１０の上面と平行な直線ＬＮを引き、当該直線ＬＮに対するスペーサＳＰの断面形状の傾きにおいて、微小空間における第１方向Ｘの変化に対する第３方向Ｚへの変化量が０以上１未満となる領域を上面ＳＰｂとし、当該変化量が１以上となる領域を側面ＳＰｃとする。

図８は、図７Ａに示した表示パネルを平面視した場合の画素電極およびスペーサを示した図である。

第１基板ＳＵＢ１は、画素電極ＰＥ１に加えて、画素電極ＰＥ２乃至ＰＥ４を備えている。平面視で、画素電極ＰＥ１は、遮光部ＳＨ２を挟んで第１方向Ｘに画素電極ＰＥ２と隣り合い、遮光部ＳＨ１を挟んで第２方向Ｙに画素電極ＰＥ３と隣り合っている。また、画素電極ＰＥ４は、遮光部ＳＨ２を挟んで第１方向Ｘに画素電極ＰＥ３と隣り合い、遮光部ＳＨ１を挟んで第２方向Ｙに画素電極ＰＥ２と隣り合っている。画素電極ＰＥ１同様に、画素電極ＰＥ２乃至ＰＥ４は、それぞれ、反射電極ＲＥ２乃至ＲＥ４と、反射電極ＲＥ２乃至ＲＥ４に積層された保護電極ＴＥ２乃至ＴＥ４と、を備えている。図示した例では、スペーサＳＰは、交差領域ＣＲに対して第１方向Ｘの逆方向にずれて配置されており、画素電極ＰＥ１，ＰＥ３と重畳し、露出領域ＥＲ１，ＥＲ３を有している。

遮光部ＳＨ１およびＳＨ２は、反射電極ＲＥ１乃至ＲＥ４のそれぞれの端部と重畳しており、保護電極ＴＥ１乃至ＴＥ４のそれぞれの端部とも重畳している。開口部ＡＰ１乃至ＡＰ４には、それぞれ、反射電極ＲＥ１乃至ＲＥ４と、保護電極ＴＥ１乃至ＴＥ４と、が延在している。したがって、露出領域ＥＲ１，ＥＲ２と対向する領域にも、ぞれぞれ、反射電極ＲＥ１，ＲＥ３と、保護電極ＴＥ１，ＴＥ３と、が延在している。
スペーサＳＰの重畳関係について、画素電極ＰＥ１に対応する領域に着目して、次の図９で説明する。

図９は、露出領域、中間領域、および重畳領域を示した図である。

図９に図示したスペーサＳＰは、図８で図示したスペーサＳＰと同様のずれ方をしている。図９中で、（ａ）の斜線部は露出領域ＥＲ１を示しており、（ｂ）の斜線部は中間領域ＭＲ１を示しており、（ｃ）の斜線部は重畳領域ＳＲ１を示している。中間領域ＭＲ１は、平面視でスペーサＳＰの反射電極ＲＥ１と重畳する領域であり、重畳領域ＳＲ１は、平面視でスペーサＳＰの画素電極ＰＥ１と重畳する領域であり、スペーサＳＰの保護電極ＴＥ１と重畳する領域に相当する。

露出領域ＥＲ１は、当該遮光層ＳＨの交差領域ＣＲを平面視した場合に、スペーサＳＰの端縁ＥＤと遮光層ＳＨとで区画された領域に相当する。図４で説明した様に、開口部ＡＰの面積に対する有効表示領域の面積の割合を向上する観点から、スペーサＳＰは小さいことが望ましい。しかし、スペーサＳＰの小型化によってスペーサＳＰとその下地層との密着面の面積が減少すると、図７Ａで説明した様に、スペーサＳＰの下地層に対する密着性が低下してしまう。特に、例えば平面視でスペーサＳＰの全体が遮光層ＳＨと重畳する場合、下地層側の密着面の大部分を有機材料製の絶縁膜１１の上面が占めることとなるため、スペーサＳＰの下地層に対する密着性が更に低下し、スペーサＳＰが基板から脱落する恐れがある。一方、スペーサＳＰが露出領域ＥＲ１を有する場合、露出領域ＥＲ１に対応する領域の下地層側の密着面が有機材料製の保護電極ＴＥ１であるため、スペーサＳＰの下地層に対する密着性が向上する。このため、開口率を向上しつつ有効表示領域の面積を拡大し、且つ、スペーサと基板との密着性の向上を両立する観点から、スペーサＳＰは露出領域ＥＲ１を有しつつ、且つ、露出領域ＥＲ１の面積は抑制されることが望ましい。すなわち、露出領域ＥＲ１は、端縁ＥＤと遮光部ＳＨ１およびＳＨ２とで区画されていることが望ましい。なお、露出領域ＥＲ１が端縁ＥＤと遮光部ＳＨ１とで区画され遮光部ＳＨ２で区画されていない場合、有効表示領域の面積の低下による開口部ＡＰの輝度低下が、表示画像の視認性に悪影響を及ぼす恐れがある。

中間領域ＭＲ１は、当該遮光層ＳＨの交差領域ＣＲを平面視した場合に、スペーサＳＰの端縁ＥＤと反射電極ＲＥ１の側面ＲＥ１ｂとで区画された領域である。中間領域ＭＲ１は、露出領域ＥＲ１を含んでいる。

重畳領域ＳＲ１は、当該遮光層ＳＨの交差領域ＣＲを平面視した場合に、スペーサＳＰの端縁ＥＤと保護電極ＴＥ１の側面ＴＥ１ｂとで区画された領域である。重畳領域ＳＲ１は、中間領域ＭＲ１を含んでいる。したがって、重畳領域ＳＲ１は、露出領域ＥＲ１を含んでいる。すなわち、中間領域ＭＲ１の面積は、重畳領域ＳＲ１の面積よりも小さく、露出領域ＥＲ１の面積よりも大きい。スペーサと基板との密着性を充分確保する観点から、平面視した場合に、１つのスペーサの面積に対して当該スペーサが有する重畳領域の総面積が占める割合は、２５％であることが望ましい。

なお、本実施形態においては、図３で説明した様にスペーサＳＰの中心ＣＳＰと交差領域ＣＲの中心ＣＣＲとが平面視で重畳していても良い。この様な構成例について、図１０および図１１で説明する。

図１０は、スペーサの中心が交差領域の中心に平面視で一致している場合の、表示パネルの拡大断面図である。
本構成例は、スペーサＳＰが画素電極ＰＥ２と重畳している点で、図７に図示した構成例と相違している。画素電極ＰＥ２の保護電極ＴＥ２は、画素電極ＰＥ１と同様に、上面ＴＥ２ａおよび側面ＴＥ２ｂを有している。スペーサＳＰは、反射電極ＲＥ２および保護電極ＴＥ２と重畳し、上面ＴＥ２ａおよび側面ＴＥ２ｂと接触している。

図１１は、図１０に示した表示パネルを平面視した場合の画素電極およびスペーサを示した図である。
スペーサＳＰは、重畳領域ＳＲ１乃至ＳＲ４を有している。重畳領域ＳＲ２乃至ＳＲ４は、それぞれ、スペーサＳＰの画素電極ＰＥ２乃至ＰＥ４と重畳し露出領域ＥＲ２乃至Ｅ４を含む領域であり、スペーサＳＰの保護電極ＴＥ２乃至ＴＥ４に重畳する領域に相当する。例えば、重畳領域ＳＲ１乃至ＳＲ４は、それぞれ中心ＣＳＰに対して点対称な形状を有しており、重畳領域ＳＲ１乃至ＳＲ４の面積は、互いに等しい。

図１２は、スペーサ密度とスペーサ露出密度との関係を示したグラフである。
図１２は、図５で説明したスペーサＳＰの変位ＤＰを基に、スペーサ密度に対するスペーサ露出密度の関係を図示したグラフである。図中の横軸は、スペーサ密度を示しており、これは、平面視で、表示領域ＤＡの面積に対して、全てのスペーサＳＰの面積の総和が占める割合である。図中の縦軸は、スペーサ露出密度を示しており、これは、平面視で、表示領域ＤＡの面積に対して、全ての露出領域の面積の総和が占める割合である。スペーサ露出密度が高いと、表示に寄与する領域の面積が低下するため、スペーサ露出密度は低いことが望ましい。

点線のグラフは、ＤＰ＞（Ｗ１１＋Ｗ１２）／２、すなわちスペーサＳＰが平面視で交差領域ＣＲから離間した状態で、変位ＤＰを一定とした場合のスペーサ密度に対するスペーサ露出密度の変化を表している。実線のグラフは、ＤＰ＜（Ｗ１２）／２、すなわちスペーサＳＰが交差領域ＣＲの中心ＣＣＲと対向している状態で、変位ＤＰを一定とした場合のスペーサ密度に対するスペーサ露出密度の変化を表している。露出密度差ＤＤは、同一のスペーサ密度におけるスペーサ露出密度の差異を示したものである。スペーサ密度が大きいほど、露出密度差ＤＤは大きくなっている。

当該グラフから、スペーサＳＰの一部を遮光層ＳＨから露出させつつ配置するにつき、当該遮光層ＳＨの交差領域ＣＲとスペーサＳＰとの位置関係について、当該交差領域ＣＲからわずかにずらして配置する方が、当該交差領域ＣＲから大きくずらして配置し、実質的にスペーサＳＰが交差領域ＣＲとは無関係な位置に配置される場合よりも、表示パネルＰＮＬ全体としてのスペーサ密度に対するスペーサ露出密度を低下させ、結果的に開口率の向上に貢献するものとなることがわかる。

本実施形態によれば、表示装置ＤＳＰは、遮光部ＳＨ１と遮光部ＳＨ２とを有する遮光層と、遮光部ＳＨ１と遮光部ＳＨ２との交差領域ＣＲに重畳し露出領域ＥＲ１を有するスペーサＳＰと、を備えている。このとき、スペーサが画素電極と重畳する重畳領域の総面積を増大させて基板とスペーサとの密着性を向上させつつ、露出領域の総面積の増大を抑制し、表示に寄与する領域の面積の減少を抑制することが可能となる。図１２で説明した様に、本実施形態によれば、スペーサが平面視で交差領域から離間している場合と比較して、要求されるスペーサ密度が増大すればするほど、スペーサ露出密度を低減させることができる。したがって、表示品位の低下を抑制することが可能な液晶表示装置を提供することができる。

このとき、スペーサＳＰの幅Ｗ１１およびＷ２１は、それぞれ遮光部ＳＨ２の幅Ｗ１２および遮光部ＳＨ１の幅Ｗ２２よりも大きいため、表示装置は、充分な重畳領域を確保することができ、スペーサと基板との密着性を良好とすることができる。

特に、スペーサＳＰが交差領域ＣＲの中心ＣＣＲと重畳している構成例では、露出領域ＥＲ１の面積を抑制することができるため、液晶表示装置は、露出領域の総面積を抑制することができる。
また、露出領域ＥＲ１がスペーサＳＰの端縁ＥＤと遮光部ＳＨ１，ＳＨ２とで区画されている構成例では、露出領域ＥＲ１が端縁ＥＤと遮光部ＳＨ１のみで区画される構成例と比較して、露出領域の総面積を抑制することができる。
画素電極が反射電極に積層された保護電極を備え、保護電極が反射電極の上面および側面を覆っている構成例では、反射電極の腐食を抑制可能である。

表示装置ＤＳＰは、ノーマリーホワイトモードの液晶表示装置であるため、露出領域の近傍での液晶組成物の初期配向の乱れに起因したコントラストの低下がノーマリーブラックモードに比べて抑制可能である。

次に、本構成例の変形例について図１３乃至図１９で説明する。図３や図５に示すように、遮光層ＳＨの交差領域ＣＲにおけるスペーサＳＰの配置において、スペーサＳＰの端縁ＥＤと遮光部ＳＨ１と遮光部ＳＨ２とで区画される各露出領域ＥＲを互いに離間して２つ以上有している構成が望ましい。より具体には、かかる区画状態にある露出領域ＥＲを３つ有している構成が望ましく、さらには、かかる区画領域にある露出領域ＥＲを４つ有している構成が最も望ましい。そしてこれらの露出領域ＥＲの少なくとも２つが保護電極ＴＥに密着している構成が望ましい。また、以下に示すように、１つのスペーサＳＰが第１方向Ｘ又は第２方向Ｙで互いに対向する２つ以上の重畳領域ＳＲを有する構成が望ましく、更に望ましくは３つの重畳領域ＳＲを有する構成であり、更に望ましくは４つの重畳領域ＳＲを有する構成である。重畳領域ＳＲではスペーサＳＰと無機材料製の保護電極ＴＥとが密着している構成が望ましい。複数の露出領域ＥＲ（重畳領域ＳＲ）が互いに離間して配置されることで、スペーサＳＰに対して、端縁ＥＤに沿って密着力の強い領域を分散して複数配置することができる。
なお、このような変形例においても、上記したのと同様の効果を得ることができる。

図１３は、スペーサの中心が交差領域の中心に対して第１方向に離れている場合の重畳領域を示す図である。
本変形例は、スペーサＳＰが重畳領域ＳＲ２およびＳＲ４を備えている点で、図８で図示した構成例と相違している。
変位ＤＰは、第１方向Ｘの逆方向であり、重畳領域ＳＲ１の面積は、重畳領域ＳＲ２の面積よりも大きい。このとき、例えば重畳領域ＳＲ１およびＳＲ２は、遮光部ＳＨ１を挟んで重畳領域ＳＲ３およびＳＲ４と線対称であり、重畳領域ＳＲ１およびＳＲ２の面積は、それぞれ重畳領域ＳＲ３およびＳＲ４の面積と等しい。

図１４は、図１３よりも更に、スペーサの中心が交差領域の中心に対して第１方向に離れている場合の重畳領域を示す図である。
本変形例は、図１３に比べて、変位ＤＰの向きは変わらず、変位ＤＰの大きさが更に大きい。
スペーサＳＰは、重畳領域ＳＲ１およびＳＲ３を有しており、画素電極ＰＥ２およびＰＥ４から平面視で離間している。また、スペーサＳＰは、平面視で交差領域ＣＲと重畳し、中心ＣＣＲから離間している。この様な場合、トレードオフとなる表示に寄与する領域の面積とスペーサの密着性とのバランスの観点から、重畳領域ＳＲ１は、端縁ＥＤと、側面ＴＥ１ｂの第１方向Ｘに延在する部分および第２方向Ｙに延在する部分と、で区画されていることが望ましい。

図１５は、図１３よりも更に、スペーサの中心が交差領域の中心に対して第２方向に離れている場合の重畳領域を示す図である。
本変形例は、変位ＤＰの向きが第１方向Ｘの逆方向かつ第２方向Ｙの逆方向である点で、図１３に示した変形例と相違している。
スペーサＳＰは、重畳領域ＳＲ１乃至ＳＲ４を有している。重畳領域ＳＲ１の面積は、重畳領域ＳＲ２やＳＲ３よりも大きい。重畳領域ＳＲ４の面積は、重畳領域ＳＲ２やＳＲ３よりも小さい。重畳領域ＳＲ２の面積は、図示した例では、重畳領域ＳＲ３の面積よりも小さい。重畳領域ＳＲ２乃至ＳＲ４は、それぞれ、露出領域が含まれていなくてもよく、図示した例では、重畳領域ＳＲ２およびＳＲ４は、全て遮光層ＳＨに重畳している。

図１６は、図１５よりも更に、スペーサの中心が交差領域の中心に対して第２方向に離れている場合の重畳領域を示す図である。
本変形例は、変位ＤＰの第２方向Ｙの大きさが、図１５に図示した変形例よりも大きい。
スペーサＳＰは、重畳領域ＳＲ１乃至ＳＲ３を有しており、平面視で画素電極ＰＥ４から離間している。重畳領域ＳＲ１の面積は、重畳領域ＳＲ２やＳＲ３よりも大きい。重畳領域ＣＲ２の面積は、図示した例では、重畳領域ＳＲ３の面積と等しい。重畳領域ＳＲ２およびＳＲ３は、それぞれ、露出領域が含まれていなくてもよく、図示した例では、重畳領域ＳＲ２およびＳＲ３は、全て遮光層ＳＨに重畳している。

図１７は、図１５よりも更に、スペーサの中心が交差領域の中心に対して第１方向に離れている場合の重畳領域を示す図である。
本変形例は、変位ＤＰの第１方向Ｘの大きさが、図１５に図示した変形例よりも大きい。
スペーサＳＰは、重畳領域ＳＲ１およびＳＲ３を有しており、平面視で画素電極ＰＥ２およびＰＥ４から離間している。重畳領域ＳＲ１の面積は、重畳領域ＳＲ３の面積よりも大きい。図示した例では、重畳領域ＳＲ３は、露出領域が含まれているが、全て遮光層ＳＨに重畳していてもよい。

図１８は、図１７よりも更に、スペーサの中心が交差領域の中心に対して第２方向に離れている場合の重畳領域を示す図である。
本変形例は、変位ＤＰの第２方向Ｙの大きさが、図１７に図示した変形例よりも大きい。
スペーサＳＰは、重畳領域ＳＲ１を有しており、平面視で画素電極ＰＥ２乃至ＰＥ４から離間している。表示に寄与する領域の面積とスペーサの密着性とのバランスの観点から、スペーサＳＰは、平面視で、側面ＴＥ１ｂの第１方向Ｘに延在する部分と第２方向Ｙに延在する部分とで形成される角ＴＥ１ｃに重畳していることが望ましい。

図１９は、第２基板側からスペーサが突出している場合の表示パネルの断面を示す図である。
本変形例は、スペーサＳＰが第２基板ＳＵＢ２から第２基板ＳＵＢ１へ突出している点で、図１０に図示した構成例と相違している。
スペーサＳＰの形状は、上面ＳＰｂの面積が下面ＳＰａの面積よりも大きい、いわゆる逆テーパ状である。上面ＳＰｂは、共通電極ＣＥと接触している。このとき、端縁ＥＤは、上面ＳＰｂの端部に相当する。下面ＳＰａは、配向膜ＡＬ１と対向しており、図示した例では接触している。

次に、面積階調方式による反射型の表示パネルＰＮＬの構成について説明する。このような表示パネルＰＮＬは、一例では、外光や補助光といった表示面側からの入射光を各セグメントＳＧで選択的に反射させることで画像を表示する反射表示機能を備えた反射型である。なお、このような構成例においても、上記したのと同様の効果を得ることができる。

図２０は、表示パネルの構成を示す図である。図示した例では、表示装置ＤＳＰは、表示パネルＰＮＬに駆動部ＤＲなどを備えている。

表示パネルＰＮＬは、表示領域ＤＡにおいて、信号線ＳＬ、制御線ＣＬ、単位画素ＰＸ、図示しない各種電圧を伝送するための配線や電源線などを備えている。複数の信号線ＳＬは、第１方向Ｘに並んでいる。複数の制御線ＣＬは、第１方向Ｘに交差する第２方向Ｙに並んでいる。複数の単位画素ＰＸは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙによって規定されるＸ−Ｙ平面において、マトリクス状に配列されている。

単位画素ＰＸは、カラー画像を構成する最小単位である。このような単位画素ＰＸは、複数のセグメント（以下、単に画素と称する場合もある）ＳＧを備えている。後述するが、単位画素ＰＸは、複数の副画素によって構成されている。一例では、１つの単位画素ＰＸは、赤色を表示する副画素、緑色を表示する副画素、及び、青色を表示する副画素を備えている。また、単位画素ＰＸは、上記の３色の副画素の他に、白色などの他の色を表示する副画素を備えていても良い。各副画素は、複数のセグメントＳＧによって構成されている。

駆動部ＤＲは、信号線駆動部Ｄ１及び制御線駆動部Ｄ２を備えている。駆動部ＤＲは、表示パネルＰＮＬの非表示領域ＮＤＡに形成されていても良いし、表示パネルＰＮＬに実装されるＩＣチップに内蔵されていても良いし、表示パネルＰＮＬに接続されるフレキシブルプリント回路基板に形成されていても良い。

信号線ＳＬのそれぞれは、信号線駆動部Ｄ１に接続されている。信号線駆動部Ｄ１は、例えば、所定の階調に対応した信号電位を、対応する信号線ＳＬに出力する。制御線ＣＬのそれぞれは、制御線駆動部Ｄ２に接続されている。制御線駆動部Ｄ２は、セグメントＳＧへの信号電位の書込動作を制御するための制御信号を、対応する制御線ＣＬに出力する。なお、駆動部ＤＲは、さらに、駆動タイミング発生回路や電源回路などを備えていても良い。

図２１は、単位画素の構成を示す図である。
単位画素ＰＸは、４つの副画素Ｐ１乃至Ｐ４を有している。副画素Ｐ１とＰ２とは、第１方向Ｘに沿って隣り合って並べられている。副画素Ｐ３とＰ４とは、第１方向Ｘに沿って隣り合って並べられている。また、副画素Ｐ１とＰ３とは、第２方向Ｙに沿って隣り合って並べられている。副画素Ｐ２とＰ４とは、第２方向Ｙに沿って隣り合って並べられている。ここで、単位画素ＰＸにおいて、第１方向Ｘに延出する直線を境界線Ｂ１とし、第２方向Ｙに延出する直線を境界線Ｂ２とする。境界線Ｂ１は、後述する遮光部ＳＨＸ２の中心軸に相当し、境界線Ｂ２は、後述する遮光部ＳＨＹ２の中心軸に相当する。副画素Ｐ１は、遮光部ＳＨＹ２を挟んで副画素Ｐ２と隣り合い、遮光部ＳＨＸ２を挟んで副画素Ｐ３と隣り合う。副画素Ｐ４は、遮光部ＳＨＹ２を挟んで副画素Ｐ３と隣り合い、遮光部ＳＨＸ２を挟んで副画素Ｐ２と隣り合う。

副画素Ｐ１乃至Ｐ４は、それぞれ異なる色を表示する。一例では、副画素Ｐ１は緑色（Ｇ）を表示し、副画素Ｐ２は赤色（Ｒ）を表示し、副画素Ｐ３は青色（Ｂ）を表示し、副画素Ｐ４は白色（Ｗ）を表示する。このようなカラー表示は、副画素Ｐ１乃至Ｐ４の各々に対応する色のカラーフィルタを対向して配置することで実現される。

第１方向Ｘに並んだ副画素Ｐ１及びＰ２は、それぞれ等しい面積を有している。副画素Ｐ１及びＰ２のそれぞれは、第１方向ＸにＬＸ／２の長さを有し、第２方向ＹにＬＹａの長さを有する四角形状に構成されている。図示した例では、副画素Ｐ１及びＰ２のそれぞれは、長さＬＸ／２が長さＬＹａより長い横長の長方形状に構成されている。

第１方向Ｘに並んだ副画素Ｐ３及びＰ４は、それぞれ等しい面積を有している。副画素Ｐ３及びＰ４の面積は、副画素Ｐ１及びＰ２の面積と異なっている。副画素Ｐ３及びＰ４のそれぞれは、第１方向Ｘに沿った長さＬＸ／２及び第２方向Ｙに沿った長さＬＹｂを有する四角形状に構成されている。長さＬＹｂは、長さＬＹａよりも長い。図示した例では、副画素Ｐ３及びＰ４のそれぞれは、長さＬＸ／２が長さＬＹａより短い縦長の長方形状に構成されている。

すなわち、本構成例では、第２方向Ｙに並ぶ副画素Ｐ１と副画素Ｐ３とは、互いに第１方向Ｘの長さを共有した状態で、副画素Ｐ１は横長の長方形状、副画素Ｐ３は縦長の長方形状を呈するものとなる。ここで、各副画素のアスペクト比Ａ＝第２方向Ｙの長さ／第１方向Ｘの長さとすると、副画素Ｐ１のアスペクト比Ａ１は、０＜Ａ１＜１となり、副画素Ｐ３のアスペクト比Ａ３は、１＜Ａ３となる。副画素Ｐ２と副画素Ｐ４との関係も同様である。

また、副画素Ｐ１及び副画素Ｐ３は、第１方向Ｘに沿った同一の長さＬＸ／２を有している。副画素Ｐ１の第２方向Ｙに沿った長さＬＹａは、副画素Ｐ３の第２方向Ｙに沿った長さＬＹｂよりも短い。従って、副画素Ｐ３の面積は、副画素Ｐ１の面積より大きい。同様に、副画素Ｐ４の面積は、副画素Ｐ２の面積よりも大きい。

単位画素ＰＸにおいて、境界線Ｂ２に対して、副画素Ｐ１は、副画素Ｐ２と線対称の構成を有している。同様に、境界線Ｂ２に対して、副画素Ｐ３は、副画素Ｐ４と線対称の構成を有している。なお、副画素Ｐ１を構成するセグメントＳＧ１１乃至ＳＧ１３のそれぞれの面積は、副画素Ｐ３を構成するセグメントＳＧ３１乃至ＳＧ３３のそれぞれの面積より小さい。このため、副画素Ｐ１の構成は、境界線Ｂ１に対して、副画素Ｐ３の構成とは非対称である。同様に、副画素Ｐ２を構成するセグメントＳＧ２１乃至ＳＧ２３のそれぞれの面積は、副画素Ｐ４を構成するセグメントＳＧ４１乃至ＳＧ４３のそれぞれの面積より小さい。このため、副画素Ｐ２の構成は、境界線Ｂ１に対して、副画素Ｐ４の構成とは非対称である。

単位画素ＰＸの幾何学中心ＰＸＣは、単位画素ＰＸの外周に規定される四角形（図示した例では正方形）の２本の対角線（図中の点線）の交点として定義される。単位画素ＰＸは、境界線Ｂ２に対して線対称の構成を有しているので、幾何学中心ＰＸＣは、境界線Ｂ２上に位置する。また、単位画素ＰＸは、境界線Ｂ１に対して非対称の構成を有しているので、幾何学中心ＰＸＣは、境界線Ｂ１から離れている。すなわち、幾何学中心ＰＸＣの位置は、境界線Ｂ１及びＢ２の交点ＰＸＮの位置とは異なっている。

各副画素の構成について、以下により詳細に説明する。なお、ここでは、副画素Ｐ１を例に説明し、他の副画素についての詳細な説明を省略する。
副画素Ｐ１は、３ビットの階調を表示するための３つのセグメントＳＧ１１乃至ＳＧ１３を備えている。
セグメントＳＧ１１は、副画素Ｐ１における中央部（つまり、副画素Ｐ１の第２方向Ｙに沿った長さＬＹａ／２の中間点、あるいは、第２方向Ｙに沿って境界線Ｂ１からの距離がＬＹａ／２となる位置を含む領域）に位置した四角形の領域に相当する。セグメントＳＧ１１は、第１方向Ｘに沿った一対の辺１１Ａ及び１１Ｂと、第２方向Ｙに沿った一対の辺１１Ｃ及び１１Ｄとを有している。

セグメントＳＧ１２は、セグメントＳＧ１１よりも幾何学中心ＰＸＣに近接する側に位置している。セグメントＳＧ１２は、辺１１Ａ及び１１Ｃに沿って形成されたＬ字形の領域に相当する。このようなセグメントＳＧ１２は、境界線Ｂ１を挟んで副画素Ｐ３と隣り合い、また、境界線Ｂ２を挟んで副画素Ｐ２と隣り合う。
セグメントＳＧ１１及びＳＧ１２を合わせた四角形の領域は、セグメントＳＧ１１の四角形の領域の相似形である。

セグメントＳＧ１３は、セグメントＳＧ１１よりも幾何学中心ＰＸＣから離れる側に位置している。セグメントＳＧ１３は、辺１１Ｂ及び１１Ｄに沿って形成されたＬ字形の領域に相当する。また、セグメントＳＧ１３は、辺１１Ｂを超えて第１方向Ｘに延出し、セグメントＳＧ１２の一部と隣接している。さらに、セグメントＳＧ１３は、辺１１Ｄを超えて第２方向Ｙに延出し、セグメントＳＧ１２の一部と隣接している。セグメントＳＧ１３の面積は、セグメントＳＧ１２の面積よりも大きい。このようなセグメントＳＧ１３は、セグメントＳＧ１２とでセグメントＳＧ１１を囲んでいる。
セグメントＳＧ１１、セグメントＳＧ１２、及び、セグメントＳＧ１３を合わせた四角形の領域は、セグメントＳＧ１１の四角形の領域の相似形である。

副画素Ｐ１の中央部においては、セグメントＳＧ１１を中心として、３つのセグメントＳＧ１１乃至ＳＧ１３が第１方向Ｘに沿って並んでいる。図示した例では、第２方向Ｙに沿って境界線Ｂ１からの距離がＬＹａ／２となる位置で、セグメントＳＧ１３、セグメントＳＧ１１、及び、セグメントＳＧ１２が第１方向Ｘに沿ってこの順に並んでいる。

セグメントＳＧ１１、セグメントＳＧ１２、及び、セグメントＳＧ１３の面積比は、例えば、１：２：４（＝２^０：２^１：２^２）である。本実施形態において係る面積比は、各セグメントにおいて実質的に表示に寄与する領域の面積のみに基づくものであり、表示に寄与しないスペーサＳＰや遮光層ＳＨと重なる領域の面積は含まれない。他方、スペーサＳＰを含む各セグメントの面積比を１：２：４と設定する構成も採用可能である。なお、セグメントＳＧ１１乃至ＳＧ１３の面積比の組み合わせは、上記の例に限定されるものではない。

セグメントＳＧ１１は、３ビットの面積階調における最下位のビット（例えば２^０）に相当する表示領域である。セグメントＳＧ１３は、３ビットの面積階調における最上位のビット（例えば２^２）に相当する表示領域である。セグメントＳＧ１２は、３ビットの面積階調における中間のビット（例えば２¹）に相当する表示領域である。これらのセグメントＳＧ１１乃至ＳＧ１３の組み合わせにより、３ビットの面積階調表示が可能となる。

図示した単位画素ＰＸを構成する１２個のセグメントの位置関係は、以下の通りである。すなわち、第１方向Ｘに並ぶ副画素Ｐ１及びＰ２に着目すると、副画素Ｐ１の３つのセグメントＳＧ１１乃至ＳＧ１３は、境界線Ｂ２について、副画素Ｐ２の３つのセグメントＳＧ２１乃至２３とそれぞれ線対称に設けられている。第１方向Ｘに並ぶ副画素Ｐ３及びＰ４に着目すると、副画素Ｐ３の３つのセグメントＳＧ３１乃至ＳＧ３３は、境界線Ｂ２について、副画素Ｐ４の３つのセグメントＳＧ４１乃至４３とそれぞれ線対称に設けられている。

副画素Ｐ２の中央部において３つのセグメントＳＧ２１乃至ＳＧ２３が第１方向Ｘに並び、副画素Ｐ３の中央部において３つのセグメントＳＧ３１乃至ＳＧ３３が第１方向Ｘに並び、副画素Ｐ４の中央部において３つのセグメントＳＧ４１乃至ＳＧ４３が第１方向Ｘに並んでいる。なお、図示した例では、第２方向Ｙに沿って境界線Ｂ１からの距離がＬＹｂ／２となる位置で、セグメントＳＧ３３、セグメントＳＧ３１、セグメントＳＧ３２、セグメントＳＧ４２、セグメントＳＧ４１、及びセグメントＳＧ４３が第１方向Ｘに沿ってこの順に並んでいる。また、副画素Ｐ１において３つのセグメントＳＧ１１乃至ＳＧ１３が第１方向Ｘに並ぶ位置と、副画素Ｐ３において３つのセグメントＳＧ３１乃至ＳＧ３３が第１方向Ｘに並ぶ位置との第２方向Ｙに沿ったピッチは、単位画素ＰＸの第２方向Ｙに沿った長さＬＹの約１／２である。

なお、セグメントＳＧ１１乃至ＳＧ１３の各々は、対応する形状の画素電極を備え、各セグメントの画素電極は互いに離間している。

図２２は、図２１に示した単位画素に対応する遮光層の構成を示す図である。なお、図中において、光源は第２方向Ｙの負側に位置し、主視角方位は第２方向Ｙの正側であるものとする。ここで、主視角方位とは、ユーザが図６に示した反射型の表示パネルＰＮＬを観察する方向を、Ｘ−Ｙ平面に正射影した方位に相当する。この主視角方位では、光源ＬＳから表示パネルＰＮＬに入射した光が反射され、散乱層ＦＳによって散乱されることで、輝度が最も明るくなる（あるいは、反射率が最も高くなる）ように設定される。主視角方位が第２方向Ｙの正側である場合、第１方向Ｘに並ぶ副画素と比較して、第２方向Ｙに並ぶ副画素において混色が顕著に発生しやすい。例えば、副画素Ｐ１及びＰ３について、副画素Ｐ１で反射された光のほとんどは、副画素Ｐ１に配置された緑色のカラーフィルタを透過するが、副画素Ｐ１での一部の反射光が副画素Ｐ３に配置された青色のカラーフィルタを透過することで混色が発生しやすい。

遮光層ＳＨは、第１方向Ｘに延出した遮光部ＳＨＸ１乃至ＳＨＸ３、及び、第２方向Ｙに延出した遮光部ＳＨＹ１乃至ＳＨＹ３を有し、副画素Ｐ１乃至Ｐ４の各々を区画している。遮光部ＳＨＸ１乃至ＳＨＸ３は、それぞれ同一の幅Ｗ１を有している。遮光部ＳＨＹ１乃至ＳＨＹ３は、それぞれ同一の幅Ｗ２を有している。幅Ｗ１は、幅Ｗ２とは異なる。例えば、副画素Ｐ１及びＰ２と副画素Ｐ３及びＰ４との間に位置する遮光部ＳＨＸ２の幅Ｗ１は、副画素Ｐ１及びＰ３と副画素Ｐ２及びＰ４との間に位置する遮光部ＳＨＹ２の幅Ｗ２よりも大きい。

なお、遮光層ＳＨは、図示したように、各セグメントの間にも配置されている。例えば、遮光部ＳＨＸ４は、第１方向Ｘに延在し、セグメントＳＧ１１とＳＧ１３との間、セグメントＳＧ１２とＳＧ１３との間、セグメントＳＧ２２とＳＧ２３との間、およびセグメントＳＧ２１とＳＧ２３との間に位置している。また、遮光部ＳＨＸ５は、第１方向Ｘに延在し、セグメントＳＧ３１とＳＧ３３との間、セグメントＳＧ３２とＳＧ３３との間、セグメントＳＧ４２とＳＧ４３との間、およびセグメントＳＧ４１とＳＧ４３との間に位置している。また、遮光部ＳＨＹ４は、第２方向Ｙに延在し、セグメントＳＧ１１とＳＧ１３との間、セグメントＳＧ１２とＳＧ１３との間、セグメントＳＧ３１とＳＧ３３との間、およびセグメントＳＧ３２とＳＧ３３との間に位置している。また、遮光部ＳＨＹ５は、第２方向Ｙに延在し、セグメントＳＧ２１とＳＧ２３との間、セグメントＳＧ２２とＳＧ２３との間、セグメントＳＧ４１とＳＧ４３との間、およびセグメントＳＧ４２とＳＧ４３との間に位置している。セグメント間に位置する遮光部は、ほぼ同一の幅を有し、例えば、遮光部ＳＨＹ２と同一の幅Ｗ２を有している。

例えば、遮光層ＳＨは、遮光部ＳＨＸ１とＳＨＹ１とが交差する交差領域ＣＲ１、遮光部ＳＨＸ１とＳＨＹ２とが交差する交差領域ＣＲ２、遮光部ＳＨＸ１とＳＨＹ３とが交差する交差領域ＣＲ３、遮光部ＳＨＸ２とＳＨＹ１とが交差する交差領域ＣＲ４、遮光部ＳＨＸ２とＳＨＹ４とが交差する交差領域ＣＲ５、遮光部ＳＨＸ２とＳＨＹ２とが交差する交差領域ＣＲ６、遮光部ＳＨＸ２とＳＨＹ５とが交差する交差領域ＣＲ７、遮光部ＳＨＸ２とＳＨＹ３とが交差する交差領域ＣＲ８、遮光部ＳＨＸ５とＳＨＹ２とが交差する交差領域ＣＲ９、遮光部ＳＨＸ３とＳＨＹ１とが交差する交差領域ＣＲ１０、遮光部ＳＨＸ３とＳＨＹ２とが交差する交差領域ＣＲ１１、遮光部ＳＨＸ３とＳＨＹ３とが交差する交差領域ＣＲ１２、を有している。

このような構成例によれば、第２方向Ｙに並ぶ副画素において、一方の副画素での一部の反射光が他方の副画素に向かって反射されたとしても、遮光部ＳＨＸ２によって遮光されるため、混色を抑制することが可能となる。したがって、表示品位の劣化を抑制することが可能となる。

図２３は、図２１に示した単位画素に対応するスペーサの配置例を示す図である。

単位画素ＰＸは、例えば、交差領域ＣＲ１乃至ＣＲ１２の近傍に、それぞれスペーサＳＰ１乃至ＳＰ１２を有している。スペーサＳＰ１乃至ＳＰ１２は、遮光層ＳＨに重畳し、それぞれ交差領域ＣＲ１乃至ＣＲ１２に重畳している。スペーサＳＰ１乃至ＳＰ１２の中心は、平面視でそれぞれ交差領域ＣＲ１乃至ＣＲ１２の中心に対して様々な方向に離間している。図２３中のスペーサの矢印は、各交差領域の中心に対する各スペーサのずれ方向を示している。例えば、スペーサＳＰ６は、平面視で交差領域ＣＲ６に重畳し交差領域ＣＲ６の中心に対して第１ずれ方向にずれており、スペーサＳＰ９は、平面視で交差領域ＣＲ９の中心に対して第１ずれ方向とは異なる第２ずれ方向にずれている。遮光部ＳＨＹ２に沿って配置され第２方向Ｙに並んだスペーサＳＰ２，ＳＰ６，ＳＰ９，ＳＰ１１のうち、スペーサＳＰ２，ＳＰ９，ＳＰ１１のずれ方向は、第１方向Ｘの順方向の成分を有しており、スペーサＳＰ９のずれ方向は、第１方向Ｘの逆方向の成分を有している。遮光部ＳＨＸ２に沿って配置され第１方向Ｘに並んだスペーサＳＰ４，ＳＰ５、ＳＰ６，ＳＰ７，ＳＰ８のうち、スペーサＳＰ５，ＳＰ８のずれ方向は、第２方向Ｙの順方向の成分を有し、スペーサＳＰ４，ＳＰ６，ＳＰ７のずれ方向は、第２方向Ｙの逆方向の成分を有している。

スペーサＳＰ１乃至ＳＰ１２は、それぞれ、平面視で遮光層ＳＨの外側に露出する露出領域Ｅ１乃至Ｅ１２を有している。露出領域Ｅ１乃至Ｅ１２は、それぞれ平面視で、交差領域ＣＲ１乃至ＣＲ１２に対して様々な方向に露出している。遮光部ＳＨＹ２に沿って配置され第２方向Ｙに並んだスペーサＳＰ２，ＳＰ６，ＳＰ９，ＳＰ１１を例に挙げると、スペーサＳＰ２，ＳＰ９，ＳＰ１１が有する露出領域Ｅ２，Ｅ９，Ｅ１１は、第１方向Ｘの順方向で遮光部ＳＨＹ２に隣接し、スペーサＳＰ６が有する露出領域Ｅ６は、第１方向Ｘの逆方向で遮光部ＳＨＹ２に隣接している。すなわち、露出領域Ｅ６は、遮光部ＳＨＹ２を挟んで露出領域Ｅ２，Ｅ９，Ｅ１１とは反対側に位置している。また、遮光部ＳＨＸ２に沿って配置され第１方向Ｘに並んだスペーサＳＰ４，ＳＰ５、ＳＰ６，ＳＰ７，ＳＰ８を例に挙げると、スペーサＳＰ５，ＳＰ８が有する露出領域Ｅ５，Ｅ８は、第２方向Ｙの順方向で遮光部ＳＨＸ２に隣接し、スペーサＳＰ４，ＳＰ６，ＳＰ７が有する露出領域Ｅ４，Ｅ６，Ｅ７は、第２方向Ｙの逆方向で遮光部ＳＨＸ２に隣接している。すなわち、露出領域Ｅ５，Ｅ８は、遮光部ＳＨＸ２を挟んで露出領域Ｅ４，Ｅ６，Ｅ７とは反対側に位置している。

本構成例によれば、複数のスペーサＳＰ１乃至ＳＰ１２が、それぞれ露出領域Ｅ１乃至Ｅ１２を有している。第２方向Ｙに延在する遮光部に沿って配置された複数のスペーサのうち、少なくとも１つのスペーサが有する露出領域は第１方向Ｘの順方向で遮光部に隣接し、少なくとも１つのスペーサが有する露出領域は第１方向Ｘの逆方向で遮光部に隣接しているので、第１基板ＳＵＢ１が第２基板ＳＵＢ２に対して第１方向Ｘの順方向または逆方向にずれたとしても、露出領域の面積の増大を抑制し、表示品位の低下を抑制することができる。

また、第１方向Ｘに延在する遮光部に沿って配置された複数のスペーサのうち、少なくとも１つのスペーサが有する露出領域は第２方向Ｙの順方向で遮光部に隣接し、少なくとも１つのスペーサが有する露出領域は第２方向Ｙの逆方向で遮光部に隣接しているので、第１基板ＳＵＢ１が第２基板ＳＵＢ２に対して第２方向Ｙの順方向または逆方向にずれたとしても、露出領域の面積の増大を抑制し、表示品位の低下を抑制することができる。このため、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との基板ズレが、第１方向Ｘおよび第２方向Ｙで規定されるＸ−Ｙ平面のどの方向で生じたとしても、スペーサの露出領域の増大を抑制し、表示品位の低下を抑制することができる。

以上説明したように、本実施形態によれば、表示品位の低下を抑制することが可能な表示装置を提供することができる。

なお、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。例えば、本実施形態においては、隣り合う反射電極ＲＥの間隔や保護電極ＴＥの間隔よりも遮光部ＳＨ１、ＳＨ２の幅の方が大きい構成が採用されているが、かかる遮光部ＳＨ１、ＳＨ２の幅のいずれか、またはいずれもがこれら反射電極ＲＥの間隔や保護電極ＴＥの間隔よりも小さい構成を採用することも可能である。

なお、これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

ＤＳＰ…表示装置 ＰＮＬ…パネル ＳＵＢ１…第１基板 ＳＵＢ２…第２基板
ＥＤ…端縁 ＳＨ…遮光層 ＳＨ１，ＳＨ２…遮光部 ＡＸ１，ＡＸ２…中心軸
ＣＳＰ…スペーサの中心 ＳＰ…スペーサ ＣＲ…交差領域 ＣＣＲ…交差領域の中心

Claims (15)

1. 第１画素電極を備えた第１基板と、
   前記第１基板に対向配置された第２基板と、
   前記第１基板と第２基板との間に配置された液晶層と、
   第１方向に延在する第１遮光部と、第２方向に延在し前記第１遮光部と交差する第２遮光部と、を有する遮光層と、
   前記第１基板と第２基板との間の間隙を保持するスペーサと、を備え、
   前記スペーサは、平面視で、前記第１遮光部と第２遮光部とが交差する交差領域に重畳し、前記遮光層の外側に露出する露出領域を有し、
   前記第１画素電極は、反射電極と、前記反射電極に積層された透明な保護電極と、を備え、
   前記保護電極は、前記反射電極の上面および側面を覆い、
   平面視において、前記保護電極の端部及び前記反射電極の端部は、前記遮光層に重畳し、前記スペーサは、前記反射電極と重畳する領域と、前記保護電極と重畳する領域と、を有し、
   前記スペーサと前記反射電極とが重畳する領域の面積は、前記スペーサと前記保護電極とが重畳する領域の面積よりも小さく、前記露出領域の面積よりも大きい、液晶表示装置。
2. 前記スペーサの第１方向の幅は、前記第２遮光部の第１方向の幅よりも大きく、
   前記スペーサの第２方向の幅は、前記第１遮光部の第２方向の幅よりも大きい、請求項１に記載の液晶表示装置。
3. 前記スペーサは、前記交差領域の中心と重畳している、請求項１または２に記載の液晶表示装置。
4. 前記露出領域は、前記スペーサの端縁と、前記第１および第２遮光部と、で区画されている、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
5. 前記スペーサは、平面視で前記第１画素電極と重畳する第１重畳領域を有し、
   前記第１重畳領域は、前記露出領域を含んでいる、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
6. 前記第１基板は、更に、平面視で前記第２遮光部を挟んで第１方向に前記第１画素電極と隣り合う第２画素電極を備え、
   前記スペーサは、前記第２画素電極と重畳する第２重畳領域を有し、
   前記第１重畳領域の面積は、前記第２重畳領域の面積と同じである、請求項５に記載の液晶表示装置。
7. 前記第１基板は、更に、平面視で前記第２遮光部を挟んで第１方向に前記第１画素電極と隣り合う第２画素電極を備え、
   前記スペーサは、前記第２画素電極と重畳する第２重畳領域を有し、
   前記第１重畳領域の面積は、前記第２重畳領域の面積よりも大きい、請求項５に記載の液晶表示装置。
8. 前記スペーサは、前記保護電極と接触している、請求項１に記載の液晶表示装置。
9. 前記第２基板は、前記第１画素電極と対向する共通電極を備え、
   前記スペーサは、前記共通電極と接触している、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
10. 前記第１遮光部の前記第２方向の幅の大きさは、前記交差領域に近接する位置と、前記第１遮光部の前記交差領域から離間する位置とで互いに等しい、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
11. 前記露出領域は、第１露出領域と、第２露出領域とを備え、
    前記第２露出領域は、前記第１又は第２遮光部を挟んで前記第１露出領域と対向している、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
12. 前記露出領域は、さらに第３露出領域を備え、
    前記第２露出領域は、前記第２遮光部を挟んで前記第１露出領域と対向し、
    前記第３露出領域は、前記第１遮光部を挟んで前記第１露出領域と対向している、請求項１１に記載の液晶表示装置。
13. 前記露出領域は、さらに第４露出領域を備え、
    前記第４露出領域は、前記第１遮光部を挟んで前記第２露出領域と対向し、且つ、前記第２遮光部を挟んで前記第３露出領域と対向している、請求項１２に記載の液晶表示装置。
14. 第１画素電極を備えた第１基板と、
    前記第１基板に対向配置された第２基板と、
    前記第１基板と第２基板との間に配置された液晶層と、
    第１方向に延在する第１遮光部と、第２方向に延在する第２遮光部及び第３遮光部と、前記第１遮光部と前記第２遮光部とが交差する第１交差領域と、前記第１遮光部と前記第３遮光部とが交差する第２交差領域と、を有する遮光層と、
    平面視で前記第１交差領域と重畳する第１スペーサと、平面視で前記第２交差領域と重畳する第２スペーサとを有し、前記第１基板と第２基板との間の間隙を保持するスペーサと、を備え、
    前記第１スペーサは、平面視で前記遮光層の外側に露出する第１露出領域を有し、
    前記第２スペーサは、平面視で前記遮光層の外側に露出する第２露出領域を有し、
    前記第１露出領域は、前記第２方向の順方向で前記第１遮光部に隣接し、
    前記第２露出領域は、前記第２方向の逆方向で前記第１遮光部に隣接し、
    前記第１画素電極は、反射電極と、前記反射電極に積層された透明な保護電極と、を備え、
    前記保護電極は、前記反射電極の上面および側面を覆い、
    平面視において、前記保護電極の端部及び前記反射電極の端部は、前記遮光層に重畳し、前記第１スペーサは、前記反射電極と重畳する領域と、前記保護電極と重畳する領域と、を有し、
    前記第１スペーサと前記反射電極とが重畳する領域の面積は、前記第１スペーサと前記保護電極とが重畳する領域の面積よりも小さく、前記第１露出領域の面積よりも大きい、液晶表示装置。
15. 第１副画素と、前記第２遮光部を挟んで前記第１副画素と隣り合う第２副画素と、前記第１遮光部を挟んで前記第１副画素と隣り合う第３副画素と、前記第１遮光部を挟んで前記第２副画素と隣り合う第４副画素と、を有する単位画素が前記第１基板に設けられており、
    前記第１副画素の面積は、前記第３副画素の面積よりも小さく、
    前記第２副画素の面積は、前記第４副画素の面積よりも小さく、
    前記第３副画素は、青画素であり、
    前記第４副画素は、白画素であり、
    前記第１遮光部の前記第２方向の幅は、前記第２遮光部の前記第１方向の幅よりも大きい、請求項１４に記載の液晶表示装置。

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