JP2010032638A - 液晶表示装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】表示品位が良好であって、アクティブエリアの面積を縮小することなく見栄えの良好な非矩形状のアクティブエリアを備えた液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】 配線部Wを備えたアレイ基板200と、
画像を表示するアクティブエリア120の周辺に配置された周辺遮光層500を備えた対向基板300と、
アレイ基板200と対向基板300との間に保持された液晶層400と、を備え、
アクティブエリアは、非矩形状に形成され、
アクティブエリアを構成する複数の画素PXのそれぞれは、互いに異なる色を表示する複数のサブピクセルSPXを有し、
画素PXのうち、周辺遮光層500と重なる周縁画素PXPにおいては、周縁画素PXPを構成するサブピクセルSPXのそれぞれの表示面積が略同一であることを特徴とする。
【選択図】 図3

Description

この発明は、液晶表示装置に係り、特に、円形状や楕円形状などの非矩形状のアクティブエリアを備えた晶表示装置に関する。
平面表示装置として代表的な液晶表示装置は、軽量、薄型、低消費電力などの特徴を生かして、パーソナルコンピュータやテレビなどのOA機器などの表示装置として種分野で利用されている。近年では、液晶表示装置は、携帯電話などの携帯端末機器や、カーナビゲーション装置、ゲーム機などの表示装置として利用されるだけでなく、自動車等の計器板(インパネ)などにも利用されている。
このため、画像を表示するアクティブエリアの形状は、従前の矩形状に留まらず、円形状や楕円形状などといった用途に応じた種々の形状への対応が望まれている。
例えば、特許文献1によれば、実質的に楕円形または円形形状に形成された表示エリアを備えた液晶表示装置が提案されている。特に、この特許文献1においては、省スペース化を図るために、縦長矩形状をなしたアレイ基板及びカラーフィルタ基板のそれぞれの隅部が表示エリア近くまでカットされている。
特開2006−276359号公報
カラー表示タイプの液晶表示装置においては、画素は、例えば、赤色サブピクセル、緑色サブピクセル、及び、青色サブピクセルを有している。画素を構成するサブピクセルの一部がハウジングなどによって遮光された場合、画素の色バランスが崩れ、所望の色とは異なる色に表示されるおそれがある。例えば、赤色サブピクセルの一部のみが遮光された場合、画素全体における赤色の透過率または反射率が低下し、所望の色表示ができなくなる。
このような色ずれを抑制するために、サブピクセルの一部が遮光された画素全体をブラックマトリクスなどの遮光層によって遮光してしまう方法もあるが、その分、アクティブエリアが狭くなってしまう。また、アクティブエリアのエッジがドットパターンによって形成されるため、楕円形状や円形状のアクティブエリアにおけるエッジの滑らかさが不足し、見栄えが悪いといった課題もある。
この発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、表示品位が良好であって、アクティブエリアの面積を縮小することなく見栄えの良好な非矩形状のアクティブエリアを備えた液晶表示装置を提供することにある。
この発明の態様による液晶表示装置は、
配線部を備えた第1基板と、
画像を表示するアクティブエリアの周辺に配置された周辺遮光層を備えた第2基板と、
第1基板と第2基板との間に保持された液晶層と、を備え、
アクティブエリアは、非矩形状に形成され、
アクティブエリアを構成する複数の画素のそれぞれは、互いに異なる色を表示する複数のサブピクセルを有し、
画素のうち、周辺遮光層と重なる周縁画素においては、周縁画素を構成するサブピクセルのそれぞれの表示面積が略同一であることを特徴とする。
この発明によれば、表示品位が良好であって、アクティブエリアの面積を縮小することなく見栄えの良好な非矩形状のアクティブエリアを備えた液晶表示装置を提供することができる。
すなわち、非矩形状のアクティブエリアを構成する画素のうち、周辺遮光層と重なる周縁画素は、互いに異なる色を表示する複数のサブピクセルのそれぞれの表示面積が略同一である。このため、周縁画素における色バランスを維持することができ、所望の色表示が可能となる。したがって、良好な表示品位を得ることが可能となる。
また、周縁画素がアクティブエリアの画像表示に寄与するため、アクティブエリアの面積を縮小することなく、非矩形状のアクティブエリアのエッジが滑らかとなり、見栄えを改善することが可能となる。特に、エッジが曲線状であっても滑らかに表示形成することが可能となり、見栄えの良好な種々の形状のアクティブエリアを用途に応じて実現可能である。
以下、この発明の一実施の形態に係る液晶表示装置、特に非矩形状のアクティブエリアを備えた液晶表示装置について図面を参照して説明する。
図1及び図2に示すように、液晶表示装置は、液晶表示パネル100を備えている。この液晶表示パネル100は、一対の基板すなわちアレイ基板(第1基板)200及び対向基板(第2基板)300と、アレイ基板200と対向基板300との間に保持された液晶層400と、によって構成されている。このような液晶表示パネル100は、画像を表示する非矩形状のアクティブエリア120を備えている。
ここに示した例では、液晶表示パネル100は、略円形状のアクティブエリア120を備えている。すなわち、この液晶表示パネル100は略円形状であって、液晶表示パネル100を構成するアレイ基板200及び対向基板300も共に略円形状に形成されている。
これらのアレイ基板200と対向基板300とは、シール材110によって貼り合わせられ、これらの間に液晶層400を保持するための所定のセルギャップを形成する。液晶層400は、アレイ基板200と対向基板300との間のセルギャップに封入された液晶組成物によって形成されている。アクティブエリア120は、シール材110によって囲まれた内側に備えられている。
このアクティブエリア120は、複数の画素PXによって構成されている。特に、この実施の形態において説明する液晶表示装置は、カラー表示タイプであって、画素PXは、互いに異なる色を表示する複数のサブピクセルSPXによって構成されている。例えば、画素PXは、赤色サブピクセルPXR、緑色サブピクセルPXG、青色サブピクセルPXBによって構成されている。
アレイ基板200は、ガラスなどの光透過性を有する略円形状の絶縁基板210を用いて形成される。すなわち、アレイ基板200は、アクティブエリア120において、画素PXの行方向に沿って延在する複数のゲート線Y(1、2、3、…、m)、画素PXの列方向に沿って延在する複数のソース線X(1、2、3、…、n)、画素PXにおけるソース線Xとゲート線Yとの交差部に配置されたスイッチング素子220、画素PXのそれぞれに配置されスイッチング素子220に接続された画素電極230などを備えて構成されている。
ゲート線Yは、絶縁基板210の上に配置されている。ソース線Xは、ゲート絶縁膜240を介してゲート線Yと交差するように配置されている。これらのゲート線Y及びソース線Xは、モリブデン、タングステン、アルミニウムなどの導電材料によって形成されている。
アクティブエリア120に配置されたゲート線Yのそれぞれは、アレイ基板上の外周部130に引き出され、信号源であるゲートドライバYDに接続されている。また、ソース線Xのそれぞれも同様に、外周部130に引き出され、信号源であるソースドライバXDに接続されている。
スイッチング素子220は、例えば薄膜トランジスタ(TFT)によって構成されている。
スイッチング素子220のゲート電極222は、ゲート線Yなどとともに絶縁基板210の上に配置され、ゲート線Yに接続されている(あるいは、ゲート電極222は、ゲート線Yと一体的に形成されている)。これらのゲート線Y及びゲート電極222は、ゲート絶縁膜240によって覆われている。このゲート絶縁膜240は、例えば、窒化シリコン(Si3)などによって形成されている。
スイッチング素子220の半導体層242は、ゲート電極222と対向するようにゲート絶縁膜240の上に配置されている。この半導体層242は、例えばアモルファスシリコンやポリシリコンなどによって形成されている。
スイッチング素子220のソース電極225及びドレイン電極227は、ソース線Xなどとともにゲート絶縁膜240の上に配置され、それぞれの一部が半導体層242にコンタクトしている。
ソース電極225は、ソース線Xに接続されている(あるいは、ソース225は、ソース線Xと一体的に形成されている)。ドレイン電極227は、画素電極230に接続されている。これらのソース線X、ソース電極225及びドレイン電極227は、パッシベーション膜244によって覆われている。このパッシベーション膜244は、例えば、窒化シリコン(Si3)などによって形成されている。
画素電極230は、パッシベーション膜244の上において画素PXに対応して配置されている。この画素電極230は、パッシベーション膜244に形成されたコンタクトホールを介してスイッチング素子220のドレイン電極227と電気的に接続されている。
バックライト光を選択的に透過して画像を表示する透過型の液晶表示パネルにおいては、画素電極230は、例えば、インジウム・ティン・オキサイド(ITO)やインジウム・ジンク・オキサイド(IZO)などの光透過性を有する導電材料によって形成されている。また、外光を選択的に反射して画像を表示する反射型液晶表示パネルにおいては、画素電極230は、例えば、アルミニウム(Al)やモリブデン(Mo)などの光反射性を有する導電材料によって形成されている。
このようなアレイ基板200の表面は、液晶層400に含まれる液晶分子の配向を制御するための配向膜250によって覆われている。
対向基板300は、ガラスなどの光透過性を有する略円形状の絶縁基板310を用いて形成される。すなわち、対向基板300は、アクティブエリア120において、ゲート線Yやソース線Xなどの他にスイッチング素子220を含む配線部Wと対向するブラックマトリクスBM、サブピクセルに対応して配置されたカラーフィルタ層320などを備えている。
ブラックマトリクスBMは、絶縁基板310の上に配置されている。このブラックマトリクスBMは、例えば黒色に着色された樹脂によって形成されている。
カラーフィルタ層320は、ブラックマトリクスBMによって囲まれた領域に配置されている。このカラーフィルタ層320は、赤色(R)、緑色(G)、及び青色(B)にそれぞれ着色された着色樹脂によって形成されている。
すなわち、赤色の主波長の光を透過するように着色された赤色カラーフィルタ層320Rは赤色サブピクセルPXRに配置されている。緑色の主波長の光を透過するように着色された緑色カラーフィルタ層320Gは緑色サブピクセルPXGに配置されている。青色の主波長の光を透過するように着色された青色カラーフィルタ層320Bは青色サブピクセルPXBに配置されている。なお、このようなカラーフィルタ層320(R、G、B)は、アレイ基板側に配置されていても良い。
また、対向基板300は、アクティブエリア120の周辺に配置された周辺遮光層500を備えている。この周辺遮光層500は、たとえば黒色に着色された樹脂によって形成されている。このような周辺遮光層500は、ブラックマトリクスBMと同一材料により同一工程で形成可能である。
画素電極230との間の電位差により液晶層400に電圧を印加するためのコモン電極330は、アレイ基板200に備えられても良いし、対向基板300に備えられても良い。このようなコモン電極330は、ITOなどの光透過性を有する導電材料によって形成されている。
図2に示した例では、縦電界(基板の主面にほぼ垂直な電界)を主として利用する縦電界モードに対応し、コモン電極330は、液晶層5を介して複数の画素電極8に対向するように対向基板300に備えられている。なお、横電界(基板の主面にほぼ平行な電界)を主として利用する横電界モードでは、コモン電極330は、画素電極230とは電気的に絶縁され且つ画素電極230に対向するようにアレイ基板200に備えられる。
このような対向基板300の表面は、液晶層400に含まれる液晶分子の配向を制御するための配向膜350によって覆われている。
反射型の液晶表示パネル100に対しては、対向基板300の外面に光学素子360が設けられている。また、透過型の液晶表示パネル100に対しては、アレイ基板200及び対向基板300の外面に、それぞれ光学素子260及び360が設けられている。これらの光学素子260及び360は、液晶層400の特性に合わせて偏光方向を設定した偏光板などを含んでいる。
上述したような構成の液晶表示パネル100において、ほぼ円形状のアクティブエリア120を構成する画素PXのうち、周辺遮光層500と重なる周縁画素PXPにおいては、サブピクセルSPXのそれぞれの表示面積が略同一である。つまり、周縁画素PXPを構成する赤色サブピクセルPXR、緑色サブピクセルPXG、及び、青色サブピクセルPXBは、いずれも略同一の表示面積を有するように構成されている。当然のことながら、周辺遮光層500に重ならない画素PXについても、全てのサブピクセルSPXの表示面積が略同一である。
ここで、サブピクセルSPXの表示面積とは、配線部Wで区画された領域、あるいはブラックマトリクスBMで区画された領域のうちの実質的に表示に寄与する領域の面積に相当し、透過型の液晶表示パネルについてはバックライト光を透過可能な面積に相当し、反射型の液晶表示パネルについては外光を反射可能な面積に相当する。
このような本構成によれば、周縁画素PXPにおいても、他の画素PXと同様の色バランスを維持することができる。つまり、一部のサブピクセルSPXのみに周辺遮光層500が重なったとしても、同一周縁画素PXPを構成する全てのサブピクセルSPXが略同一の表示面積であるため、所望の色表示が可能となる。したがって、周縁画素PXPを含むアクティブエリア120の全体において良好な表示品位を得ることが可能となる。
また、周縁画素PXPがアクティブエリア120の画像表示に寄与するため、周辺遮光層500に重なる周縁画素全体を遮光した場合と比較して、アクティブエリア120の面積が縮小することはなく、周縁画素PXPによって形成されるアクティブエリア120のエッジが滑らかとなり、見栄えを改善することが可能となる。
特に、実質的に円形状や楕円形状などのアクティブエリア120を形成する場合には、エッジが曲線状となるが、このような場合であってもエッジを滑らかに表示形成することが可能となる。これにより、見栄えの良好な種々の形状のアクティブエリア120を用途に応じて実現可能である。
以下に、より具体的な実施形態について説明する。
≪第1実施形態≫
この第1実施形態においては、周縁画素PXPを構成する少なくとも1つのサブピクセルSPXは、その一部を遮光する遮光体を有している。
例えば、周縁画素PXPにおいて、赤色サブピクセルPXRの一部のみに周辺遮光層500が重なっている場合、赤色サブピクセルPXRの表示面積が他のサブピクセルPXG及びPXBと比較して小さくなってしまう。このような表示面積の差を解消するために、図3に示すように、緑色サブピクセルPXG及び青色サブピクセルPXBには、赤色サブピクセルPXRの表示面積と略同一となるように遮光体600が配置されている。
周辺遮光層500と重ならない画素PXにおいて、すべてのサブピクセルSPXの表示面積が同一である場合、これと同一構成の周縁画素PXPにおいては、全てのサブピクセルSPXにおいて、周辺遮光層500及び遮光体600によって遮光された面積が略同一である。つまり、ここに示した例では、赤色サブピクセルPXRにおいて周辺遮光層500によって遮光された面積は、緑色サブピクセルPXG及び青色サブピクセルPXBにおいて遮光体600によって遮光された面積と略同一である。
また、周縁画素PXPにおいて、赤色サブピクセルPXRの一部及び緑色サブピクセルPXGの一部に周辺遮光層500が重なっている場合には、赤色サブピクセルPXR及び緑色サブピクセルPXGの表示面積が青色サブピクセルPXBと比較して小さくなってしまう。ここでは、特に、周辺遮光層500によって遮光される面積が緑色サブピクセルPXGよりも赤色サブピクセルPXRが大きい場合を考える。
このような表示面積の差を解消するためには、図4に示すように、緑色サブピクセルPXG及び青色サブピクセルPXBには、それぞれ遮光体600が配置されている。このとき、緑色サブピクセルPXGを遮光する遮光体600の面積は、青色サブピクセルPXBを遮光する遮光体の面積よりも小さい。
周辺遮光層500と重ならない画素PXにおいて、すべてのサブピクセルSPXの表示面積が同一である場合、これと同一構成の周縁画素PXPにおいては、全てのサブピクセルSPXにおいて、周辺遮光層500及び遮光体600によって遮光された面積が略同一である。つまり、ここに示した例では、赤色サブピクセルPXRにおいて周辺遮光層500によって遮光された面積、緑色サブピクセルPXGにおいて周辺遮光層500及び遮光体600によって遮光された面積、及び、青色サブピクセルPXBにおいて遮光体600によって遮光された面積は、略同一である。
上述したような第1実施形態によれば、周縁画素PXPが表示に寄与するとともに、周縁画素PXPにおける色バランスを最適な状態に維持することが可能となる。したがって、表示品位が良好であって、アクティブエリア120の面積を縮小することなく見栄えの良好な非矩形状のアクティブエリア120を備えた液晶表示装置を提供できる。
ところで、上述した遮光体600は、アレイ基板200に配置されても良いし、対向基板300に配置されても良い。
例えば、遮光体600がアレイ基板200に配置される場合、遮光体600は、配線部Wと同一材料によって形成可能である。図5に示した例では、遮光体600は、ゲート線Yなどと同一材料によって形成され、ゲート線Yなどと同一工程で形成可能である。このようなゲート線Yなどの配線部Wは、上述したように光透過性を有していない導電材料によって形成されており、遮光体として機能する。遮光体600としては、サブピクセルSPX内で島状に配置しても良いし、配線部Wの幅を局所的に拡大して形成しても良い。
また、遮光体600が対向基板300に配置される場合、図6に示すように、遮光体600は、周辺遮光層500と同一材料によって形成可能である。遮光体600としては、サブピクセルSPX内で島状に配置しても良いし、ブラックマトリクスBMの幅を局所的に拡大して形成しても良い。
なお、遮光体600がアレイ基板200に配置される場合には、遮光体600は画素電極230よりも絶縁基板210側に配置されることから、透過型の液晶表示パネルに好適である。
また、遮光体600が対向基板300に配置される場合には、画素電極230を形成する導電材料の光透過性を考慮する必要がないことから、透過型及び反射型のいずれの液晶表示パネルにも好適である。
≪第2実施形態≫
この第2実施形態においては、アクティブエリア120を構成する画素PXは、いずれもそれぞれの一部を遮光する遮光体を有している。
例えば、図7に示すように、周辺遮光層500と重ならない画素PXにおいては、赤色サブピクセルPXR、緑色サブピクセルPXG、及び、青色サブピクセルPXBのサブピクセルSPXには、表示面積が略同一となるように遮光体600が配置されている。ここでは、例えば、サブピクセルSPXの画素面積は同一であり、サブピクセルSPXの遮光体600は、表示面積が画素面積の50%となるように配置されている。
つまり、この第2実施形態においては、アクティブエリア120の全画素PXについて、遮光体600を配置して略同一の表示面積を積極的に遮光し、通常レイアウトした場合よりも予め表示面積を低減しておく。
図8に示すように、周縁画素PXPにおいても、赤色サブピクセルPXR、緑色サブピクセルPXG、及び、青色サブピクセルPXBのサブピクセルSPXには、それぞれの一部を遮光するように遮光体600が配置されている。
特に、図8に示すように、周縁画素PXPにおいて、赤色サブピクセルPXRの一部のみに周辺遮光層500が重なっている場合には、遮光体600が同一面積を遮光するように配置されると、赤色サブピクセルPXRの表示面積が他のサブピクセルPXG及びPXBと比較して小さくなってしまう。
このため、このような表示面積の差を解消するために、赤色サブピクセルPXRには遮光体600が配置されるものの、赤色サブピクセルPXRの遮光体600は、緑色サブピクセルPXG及び青色サブピクセルPXBの表示面積と略同一となるように配置されている。
つまり、赤色サブピクセルPXRに配置された遮光体600によって遮光された面積は、緑色サブピクセルPXG及び青色サブピクセルPXBに配置された遮光体600によって遮光された面積よりも小さい。換言すると、赤色サブピクセルPXRにおいて、周辺遮光層500及び遮光体600によって遮光された面積は、緑色サブピクセルPXG及び青色サブピクセルPXBにおいて遮光体600によって遮光された面積と略同一である。
また、周縁画素PXPにおいて、赤色サブピクセルPXRの一部及び緑色サブピクセルPXGの一部に周辺遮光層500が重なっている場合には、赤色サブピクセルPXR及び緑色サブピクセルPXGの表示面積が青色サブピクセルPXBと比較して小さくなってしまう。ここでは、特に、周辺遮光層500によって遮光される面積が緑色サブピクセルPXGよりも赤色サブピクセルPXRが大きい場合を考える。
このような表示面積の差を解消するためには、図9に示すように、赤色サブピクセルPXR及び緑色サブピクセルPXGにはそれぞれ遮光体600が配置されるものの、遮光体600は、サブピクセルSPXの表示面積と略同一となるように配置されている。
つまり、赤色サブピクセルPXRに配置された遮光体600によって遮光された面積は、緑色サブピクセルPXGに配置された遮光体600によって遮光された面積よりも小さい。また、緑色サブピクセルPXGに配置された遮光体600によって遮光された面積は、青色サブピクセルPXBに配置された遮光体600によって遮光された面積よりも小さい。換言すると、赤色サブピクセルPXR及び緑色サブピクセルPXGにおいて、周辺遮光層500及び遮光体600によって遮光された面積は、青色サブピクセルPXBにおいて遮光体600によって遮光された面積と略同一である。
上述したような第2実施形態によれば、第1実施形態と同様の効果が得られ、表示品位が良好であって、アクティブエリア120の面積を縮小することなく見栄えの良好な非矩形状のアクティブエリア120を備えた液晶表示装置を提供できる。
ところで、この第2実施形態において適用した遮光体600についても、上述したように、アレイ基板200に配置されても良いし、対向基板300に配置されても良い。つまり、遮光体600は、配線部Wと同一材料によって形成しても良いし、周辺遮光層500と同一材料によって形成しても良い。
なお、この発明は、実施形態そのままに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合わせてもよい。
図1は、この発明の一実施の形態に係る液晶表示装置の液晶表示パネルの構成を概略的に示す図である。 図2は、図1に示した液晶表示パネルの構成を概略的に示す断面図である。 図3は、第1実施形態に係る液晶表示装置における周縁画素の構成を概略的に示す図である。 図4は、第1実施形態に係る液晶表示装置における他の周縁画素の構成を概略的に示す図である。 図5は、本実施形態において周縁画素に適用される遮光体の構造を概略的に示す断面図である。 図6は、本実施形態において周縁画素に適用される遮光体の他の構造を概略的に示す断面図である。 図7は、第2実施形態に係る液晶表示装置においてアクティブエリアの画素の構成を概略的に示す図である。 図8は、第2実施形態に係る液晶表示装置における周縁画素の構成を概略的に示す図である。 図9は、第2実施形態に係る液晶表示装置における他の周縁画素の構成を概略的に示す図である。
符号の説明
100…液晶表示パネル
200…アレイ基板 300…対向基板 400…液晶層
120…アクティブエリア PX…画素 PXP…周縁画素 SPX…サブピクセル
W…配線部 Y…ゲート線 X…ソース線 BM…ブラックマトリクス
220…スイッチング素子 230…画素電極
320…カラーフィルタ層 330…対向電極
500…周辺遮光層 600…遮光体

Claims (10)

  1. 配線部を備えた第1基板と、
    画像を表示するアクティブエリアの周辺に配置された周辺遮光層を備えた第2基板と、
    第1基板と第2基板との間に保持された液晶層と、を備え、
    アクティブエリアは、非矩形状に形成され、
    アクティブエリアを構成する複数の画素のそれぞれは、互いに異なる色を表示する複数のサブピクセルを有し、
    画素のうち、周辺遮光層と重なる周縁画素においては、周縁画素を構成するサブピクセルのそれぞれの表示面積が略同一であることを特徴とする液晶表示装置。
  2. アクティブエリアは、実質的に円形状又は楕円形状に形成されたことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
  3. 周縁画素を構成する少なくとも1つのサブピクセルは、その一部を遮光する遮光体を有することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
  4. 画素のそれぞれは第1サブピクセル及び第2サブピクセルを有し、
    周縁画素において、第1サブピクセルにはその一部に周辺遮光層が重なり、第2サブピクセルには第1サブピクセルの表示面積と略同一となるように遮光体が配置されたことを特徴とする請求項3に記載の液晶表示装置。
  5. 第1サブピクセル及び第2サブピクセルにおいて、周辺遮光層及び遮光体によって遮光された面積が略同一であることを特徴とする請求項4に記載の液晶表示装置。
  6. 画素のそれぞれは第1サブピクセル及び第2サブピクセルを有し、
    周縁画素を構成する第1サブピクセル及び第2サブピクセルは、それぞれの一部を遮光する遮光体を有することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
  7. 周縁画素において、第1サブピクセルには、その一部に周辺遮光層が重なるとともに第2サブピクセルの表示面積と略同一となるように遮光体が配置されたことを特徴とする請求項6に記載の液晶表示装置。
  8. 第1サブピクセルに配置された遮光体によって遮光された面積は、第2サブピクセルに配置された遮光体によって遮光された面積より小さいことを特徴とする請求項7に記載の液晶表示装置。
  9. 遮光体は、第1基板に配置され、配線部と同一材料によって形成されたことを特徴とする請求項3に記載の液晶表示装置。
  10. 遮光体は、第2基板に配置され、周辺遮光層と同一材料によって形成されたことを特徴とする請求項3に記載の液晶表示装置。
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