JP2009288372A - 液晶装置、および電子機器 - Google Patents

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Abstract

【課題】1つの画素において本来印加すべき電界が乱れ、表示すべき画像を正しく表示することができずに表示品質が低下してしまうという課題が発生することがある。
【解決手段】画素G1では、Y軸方向の隣の画素G3の画素電極115に印加された電圧と画素G1の右側の共通電極135との間に生じた横電界YD2が、遮蔽電極145との間で発生するため、画素G1に対する影響が抑制される。この結果、Y軸方向に隣り合う画素間において、互いに隣の画素電極115によって生ずる電界の影響を抑制し、液晶分子を画素電極115に印加する電圧に応じて正しく回転することができる。この結果、正しく光変調する液晶装置15を提供することができる。
【選択図】図7

Description

本発明は、液晶装置、およびこの液晶装置を備えた電子機器に関する。
液晶を2枚のガラス基板で挟み、一方のガラス基板面において、画素毎に略平行に形成した画素電極と共通電極との電極間に所定の電圧を印加してガラス基板の面内方向に電界を発生させ、液晶の配向方向を制御して画像等を表示するIPS(In Plane Switching)方式の液晶表示装置(以降「IPSパネル」と呼ぶ)がある。IPSパネルは、液晶分子が基板に対して平行な方向に回転するため、斜めから見たとき液晶分子の偏光方向については回転しないことから、コントラストの低下が少なく視野角の広い表示品質の良い液晶表示装置として、広く用いられるようになっている。
加えて近年、さらにIPSパネルの表示品質の向上に関する技術が開示されている。その一つとして、例えば、特許文献1において、コントラストの視野角分布を左右対称にして、左目と右目に映る液晶パネルの映像コントラストを同一にすることで、従来感じていた違和感を抑制する技術が開示されている。
このように、種々の開示技術によって表示品質の向上が図られるIPSパネルは、表示品質の向上とともに画素を微細化して、例えば直視型のハイビジョン対応の高精細パネルや、プロジェクタのライトバルブ(光変調素子)として利用することも行われるようになっている。
特開平10−170924号公報
ところで、IPSパネルでは、隣り合う画素間において、一方の画素電極に印加した電圧が他方の画素の共通電極に対して電界を発生させることが原理的に起こり得る。このとき、発生する電界は、隣り合う画素間に相当の距離が存在する場合は小さくなる。従って、一方の画素電極に印加した電圧が、他方の画素の共通電極に対して発生させる電界は、画素電極に印加する電圧を供給する信号線や、供給された電圧の画素電極への印加を制御する制御信号を供給する走査線によって遮られることもあって、実際に他方の画素の画素電極と共通電極間において生ずる電界に対して影響を及ぼすものではなかった。
しかしながら、このようなIPSパネルにおいて、高精細な画像表示に対する要求に応えるべく、画素のピッチを微細化した場合は、隣り合う画素間の距離が接近するため、一方の画素の画素電極と、他方の画素の共通電極との間の物理的な距離が短くなる。このために、一方の画素電極に印加した電圧が他方の画素の共通電極に対して発生させる電界が大きくなり、他方の画素の画素電極と共通電極間において生ずる電界に対して影響を及ぼすことが生ずる。この結果、1つの画素において本来印加すべき電界が乱れ、表示すべき画像を正しく表示することができずに表示品質が低下してしまうという課題が発生することがある。
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
[適用例1]第1の方向及び当該第1の方向と交差する第2の方向に沿ってマトリクス状に配列された複数の画素を有する液晶装置であって、第1の基板と、前記第1の基板に対向して配置された第2の基板と、前記第1の基板の前記第2の基板側の面のうち、前記第1の方向に隣り合う前記画素の間の領域に、前記第2の方向に沿って形成された第1の遮光層と、前記第2の基板の前記第1の基板側の面のうち前記画素内に形成され、所定方向に延在した電極部を有する第1の電極と、前記第2の基板の前記第1の基板側の面に、前記第1の方向に隣り合う前記画素の間の領域に対応して配置され、少なくとも一部が前記第1の遮光層と平面的に重なるように形成され、前記第1の電極の前記電極部に沿った方向に延在した電極部を有する第2の電極と、前記第2の基板の前記第1の基板側の面のうち、前記第2の方向に隣り合う前記画素の間の領域に、前記第1の方向に沿って形成された電極部を有する第3の電極と、前記第1の基板と前記第2の基板との間に挟持され、前記第1の電極と前記第2の電極との間に生ずる電界により駆動される液晶層と、を備えることを特徴とする。
この液晶装置によれば、隣り合う画素間において、一方の画素における第1の電極と第2の電極との間に発生する電界が、他方の画素における第1の電極によって受ける影響度を、第3の電極によって抑制することができる。従って、隣り合う画素間において、第1の電極と第2の電極間の電界が相互に影響されることが抑制され、その結果、表示品質の低下を抑制することができる。
[適用例2]上記液晶装置であって、前記第1の電極の前記電極部及び前記第2の電極の前記電極部のそれぞれが延在する前記所定方向とは、前記第1の方向および前記第2の方向のそれぞれに交差した方向であることを特徴とする。
こうすれば、左右における視野角を対称にするために、第1の遮光層の方向に対して直交する方向を液晶層における液晶分子の初期的な配向方向とした場合、第2の電極の延在方向が第1の遮光層の方向に対して傾いていることから、液晶分子は、第1の電極と第2の電極との間に生ずる電界に応じて、面内方向において回転方向が反転(リバースツイスト)することなく一様に回転して配向する確率が高くなる。この結果、隣り合う画素間において電界が乱されることなく、且つ、第1の遮光層の方向に対して左右における視野角が対称となるので、視覚的な違和感のない品質の良い液晶装置を提供することができる。
[適用例3]上記液晶装置であって、前記第3の電極は、前記第2の電極と電気的に接続されていることを特徴とする。
こうすれば、総ての画素において、第1の電極は、電気的に接続された第2の電極と第3の電極とによって同じ電位で囲まれることになる。従って、隣り合う画素間において、第1の電極の周囲を同電位で囲むことによって第1の電極間相互の影響が抑制され、その結果、表示品質の低下を抑制することができる。
[適用例4]上記液晶装置であって、前記第1の遮光膜は所定幅で形成されており、前記第2の電極は、該所定幅よりも細い幅を有しているとともに、平面的に該所定幅内に納められて配置形成されていることを特徴とする。
こうすれば、第2の電極は画素内に飛び出すことがないので、画素の領域面積が少なくなることによる照射光の光量の減少を抑制することができる。
[適用例5]上記液晶装置であって、前記第2の基板は、複数の絶縁層が形成され、前記第2の電極および前記第3の電極は、前記第1の電極が形成された絶縁層と同じ絶縁層上に形成されていることを特徴とする。
こうすれば、第1の電極に対して、絶縁層を介することなく第2の電極および第3の電極を形成することができる。従って、第2の基板上に形成する絶縁層の層数の増加を抑制することができるので、絶縁層を透過することによって生ずる照射光の光量の減少を抑制することができる。この結果、表示品質の低下を抑制することができる。
[適用例6]上記液晶装置であって、前記第1の基板の前記第2の基板側の面のうち、前記第2の方向に隣り合う前記画素の間の領域に、前記第1の方向に沿って形成された第2の遮光層を備え、前記第3の電極は、前記第2の遮光層と平面視で少なくとも一部が重なる位置に形成されていることを特徴とする。
こうすれば、第3の電極を第2の遮光層で覆うことができる。従って、隣り合う画素間において、第3の電極によって第1の電極と第2の電極間の電界が相互に影響されることの抑制を効果的に行うべく、第2の電極を導電性の良い金属材料で形成しても、光透過性の低い金属材料部分によって画素の領域面積が小さくなることが回避できる。この結果、液晶装置を透過する光量が低下せず明るさの減少が抑制されるので、表示品質の低下を抑制することができる。
[適用例7]上記液晶装置であって、前記第2の遮光膜は所定幅で形成されており、前記第3の電極は、該所定幅よりも細い幅を有しているとともに、平面的に該所定幅内を通して延在して形成されていることを特徴とする。
こうすれば、第3の電極は画素内に飛び出すことがないので、画素の領域面積が少なくなることによる照射光の光量の減少を抑制することができる。また、第3の電極を導電性のよい金属材料で形成することが可能であり、第1の電極と第2の電極間の電界が相互に影響されることを効果的に抑制することが可能となる。
[適用例8]上記液晶装置であって、前記第1の電極の前記電極部の端部は、前記第2の遮光膜と重なる部位まで延在して形成されていることを特徴とする。
こうすれば、第3の電極への給電部(コンタクトホール)が画素内に飛び出すことがないので、画素の領域面積が少なくなることによる照射光の光量の減少を抑制することができる。
[適用例9]上記液晶装置であって、前記第1の電極、前記第2の電極、および前記第3の電極のうち、少なくとも1つは透明電極であることを特徴とする。
こうすれば、例えば、画素内に第1の電極、第2の電極もしくは第3の電極が存在していても、透明であることから透過する光量の減少は抑制される。この結果、液晶装置を透過する光量は低下せず明るさの減少が抑制されるので、表示品質の低下を抑制することができる。
[適用例10]上記の液晶装置を備えた電子機器。
上記液晶装置は、明るさの減少が少ない表示品質の低下を抑制した液晶装置であることから、この液晶装置を搭載した電子機器であれば、表示品質の良い電子機器を提供することができる。特に、この液晶装置を透過光の光変調素子として備えた電子機器としてのプロジェクタは、明るい画像を投写できるという効果がある。
以下、本発明を実施例に基づいて説明する。なお、以降の説明において用いる図面は、説明のために誇張して図示している場合もあり、必ずしも実際の大きさや長さを示すものでないことは言うまでもない。
図1は、本発明を具現化した一実施例となる液晶装置15を光変調素子(ライトバルブ)として備えた電子機器としてのプロジェクタ10の概略構成を示した構成図である。このプロジェクタ10は、光源11から照射される照射光を、偏光ビームスプリッター12によって、偏光方向が揃えられた光にする。そして、この偏光方向が揃えられた照射光が液晶装置15に設けられた各画素を透過する際に光変調される。そして光変調された照射光は投射レンズ13によって投射され、所定の距離を隔てて設置されたスクリーン(不図示)に液晶装置15に表示された画像が投写される。もとより、プロジェクタ10は、液晶装置15を複数備え、複数の液晶装置に応じた光学系(ミラーやクロスプリズムなど)を形成したものであってもよい。
本実施例では、偏光ビームスプリッター12によって揃えられた照射光の偏光方向を、プロジェクタ10の本体の厚さ方向(図面上下方向)となるY軸方向とする。ここでは説明を省略するが、偏光ビームスプリッターの製造上の理由から、表示画面の縦方向または横方向と偏光方向とを一致させることが多い。そこで、本実施例では偏光方向をY軸方向とした。もとより、Y軸方向と直交するX軸方向としてもよい。
また、液晶装置15に画像が表示されない状態、つまり液晶装置15における各画素に電圧が印加されない初期状態では、スクリーンに何も投写されない黒の状態とすることが好ましいことから、本実施例のプロジェクタ10では、液晶装置15における液晶分子の初期的な配向方向は、照射光の偏光方向であるY軸方向と直交するX軸方向とし、初期的に照射光が透過しない状態としている。
次に、液晶装置15について説明する。図2は、液晶装置15の構成を模式的に示した説明図である。液晶装置15は、基板100と基板50とが、後述する液晶層を封止状態で挟んで重ね合わされた構造を有している。
基板100は、その外周部分に、走査駆動回路120とデータ駆動回路110、および給電端子130とが、ガラスや石英あるいは樹脂などの透明基板上(図面表面側)に形成されたものである。また、走査駆動回路120からは走査線121が、データ駆動回路110からはデータ線111が、図2に示したように配線されている。そして、各画素に対応して走査線121とデータ線111の交点付近にそれぞれ形成された図示しない薄膜トランジスタ(後述する)に対して供給され、走査線121によって供給される電圧によって薄膜トランジスタのオン・オフが制御されるように構成されている。
本実施例では、給電端子130はグランド(GND)に接続され、これに接続された共通配線131によって、各画素に接地電位が供給されているものとする。従って、各画素において、薄膜トランジスタのオンによって、データ線111によって供給される電圧と共通配線131によって供給される電圧(つまり接地電位の電圧)との間の電圧が、画素に対応する液晶層に印加されるように構成されている。
基板50は、画素に対応する領域部分を光透過領域とし、その他の領域部分が遮光領域となるように金属膜などの所定の遮光層が、ガラスや石英または樹脂などの透明基板上(図面裏側)に形成されたものである。従って、画素間においては、Y軸方向には遮光層51が、X軸方向には遮光層52がそれぞれ形成される。そして、基板50と基板100とを重ね合わせたとき、遮光層51はデータ線111と重なり、遮光層52は走査線121、共通配線131および図示しない薄膜トランジスタと重なるように構成されている。
次に、薄膜トランジスタを含め、各画素に対応して形成された配線の様子を、図を参照して詳しく説明する。なお、以降の説明においては、本実施例に対する理解を容易にするため、最終的に配線が総て終了する前の状態を最初に説明し、次に、最終的に配線が総て終了した状態を説明する。
図3は、最終的に総ての配線が終了する前の配線の様子を模式的に示した説明図で、図2において液晶装置15の左上部分に例示した4つの画素について、それらの画素に対応して形成された配線の様子を示したものである。
図示するように、走査線121とデータ線111との交点付近には、データ線111の配線が延伸して形成されたソース電極111aと、チャネル領域が形成されたゲート絶縁層112と、ゲート電極となる走査線121と、ドレイン電極113と、からなる薄膜トランジスタが形成されている。そして、ドレイン電極113は、コンタクトホール114によって、後述する絶縁層上に形成された画素電極115と結線されている。従って、走査線121すなわちゲート電極に供給される電圧によって、薄膜トランジスタがオンすると、データ線111に供給された電圧が薄膜トランジスタを介して画素電極115に印加される。
画素電極115は、画素G1(画素G2,G3,G4においても同様)の領域において、領域の中央付近に形成され、Y軸方向に対してθ度(0<θ<90)時計方向に回転した方向に傾いて延在して形成されている。従って、画素電極115は画素の領域内に形成されることから、透明電極(ITOなど)で形成される。もとより、画素の透過光の光量減少が実用上影響がない場合は、画素電極115は金属材料(アルミニウムなど)で形成されることとしてもよい。なお、画素電極115をY軸方向に対して傾ける理由については後述する。
接地電位の電圧が供給される共通配線131は、コンタクトホール134によって共通電極135と結線されている。共通電極135は、図3に示すように画素電極115に沿った方向、すなわちY軸方向に対してθ度時計方向に傾いた方向に延在して形成され、本実施例では、ほぼ全体が遮光層51と重なるように形成されている。こうすることによって共通電極135における画素の領域内への飛び出し量が抑制されることから、光透過領域となる画素の領域が共通電極135によって小さくなり、照射光の光量が少なくなることによって投写される画像が暗くなることを抑制することができる。従って、共通電極135は金属材料(例えばアルミニウム)で形成することが可能であり、共通電極135の導電性がよくなることから、横電界を効率よく発生することが可能となる。なお、共通電極135が、構造的な制約などによって、遮光層51と重ならない、若しくは一部のみ重なるような場合は、共通電極135は透明電極(例えばITO)で形成することが好ましい。
また、共通電極135は、画素電極115が形成された絶縁層と同一の層に形成されている。これについて、図4を用いて説明する。図4は、液晶装置15についての図3におけるP−P断面を示した模式断面図である。
基板100は、図示するように、透明基板の基板50側の面上に、データ線111、走査線121、共通配線131、および薄膜トランジスタが、互いに電気的な短絡が生じないように必要に応じて形成された絶縁層を介して、積層形成されている。そして、本実施例では、データ線111を覆う絶縁層は光透過性を有する材料で表面が平坦化されて形成され、このデータ線111を覆う同じ絶縁層の平坦面に画素電極115と共通電極135とが形成されている。そして、画素電極115と共通電極135を保護するため、表面が平坦化された保護膜で覆い、その上に液晶分子の初期的な配向を定める配向膜が形成されている。また、透明基板の基板50側と反対側の面には偏光板が備えられている。
もとより、同じ絶縁層の平坦面に画素電極115と共通電極135とが形成されている構成であれば、基板100におけるデータ線111、走査線121、共通配線131、および薄膜トランジスタに関する配線構成は、これに限るものでないことは勿論である。
基板50は、図示するように、透明基板の基板100側の面上に、遮光層が形成されている。そして、平坦化層によって遮光層が覆われ、その平坦化層の表面に配向膜が形成されている。また、透明基板の基板100側と反対側の面には偏光板が備えられている。なお、基板50において、透明基板と平坦化層との間に、少なくとも画素に相当する光透過領域に、所定の色を透過するカラーフィルタ層を形成する場合もある。
このように形成された基板50と基板100との間に、液晶層を密封状態で挟持することによって、液晶装置15が形成される。従って、液晶装置15は、画素電極115と共通電極135との間において、基板100と平行な横方向の電界(以降、単に「横電界」と称す)を発生させ、液晶層の液晶分子を基板100の面内において回転させることが可能となる。なお、本実施例では、この共通電極135には接地電位の電圧を供給することとしたが、接地電位の電圧を含め所定の電圧値を有する共通の電圧値を供給することとしてもよい。
次に、液晶装置15において行われる液晶分子の回転動作について、図5を用いて説明する。図5は、一例として画素G3において横電界に応じて回転する液晶分子EBを示す模式図で、図5(a)は液晶分子EBの通常の回転状態を示し、図5(b)は液晶分子EBの通常と異なる回転状態(つまり反転)を示したものである。なお、ここでは、液晶分子EBは分極方向が配向方向と直交しているネガ型液晶を用いることとして説明する。もとより、液晶分子EBとして分極方向が配向方向と同方向であるポジ型液晶を用いることもできる。
図5(a)に示したように、画素電極115に電圧が印加されない初期状態では、Y軸方向に偏光方向を有する照射光を透過させないようにするために、液晶分子EBの初期的な配向方向を、Y軸方向と直交するX軸方向とする。従って、配向膜のラビング方向はX軸方向となる。また、データ線111から供給される電圧が印加された画素電極115と共通電極135との間に発生する横電界は、共通電極135が画素電極115とほぼ平行に形成されていることから、画素電極115の延在方向に対して直交する方向、つまり白抜き矢印で示したようにX軸方向に対して時計方向にθ度回転した方向に発生する。この結果、液晶分子EBは、図中破線で示したように、総て回転角が小さい方向つまり反時計方向に一様に安定して回転することになる。これが、画素電極115(および共通電極135)をY軸方向に対して傾ける理由である。従って、画素電極115(および共通電極135)を、Y軸方向に対して時計方向でなく、反時計方向にθ度(0<θ<90)回転した方向に傾いて延在して形成することとしても差し支えない。
このとき、液晶分子EBの回転角は画素電極115に印加される電圧によって画素毎に制御される。こうして、照射光を画素毎に光変調することができる。この結果、初期的な配向方向をX軸方向とすることによって、前述したようにコントラストの視野角分布を左右対称にしつつ、画素電極115に印加された電圧に応じて正しく光変調することができる液晶装置15を得ることができる。
ところが、図5(b)に示したように、隣の画素(例えば画素G1)の画素電極115に印加される電圧が原因で、図5(a)に示した横電界以外の横電界、特に、図中白抜き矢印で示したように右肩上がりの方向つまりX軸方向に対して反時計方向に角度K(K>0)回転した方向の横電界が加わった場合、液晶分子EBに加わる横電界の方向が乱されてしまう。そして、例えば、液晶分子EBに加わる横電界が、図中白抜き矢印で示したX軸方向に対して反時計方向に角度K回転した方向の横電界となった場合は、液晶分子EBの回転方向は、図中破線で示したように、回転角が小さい方向つまり時計方向に回転してしまうことになる。あるいは、液晶分子EBが時計方向には回転しないものの、加わった横電界の大きさや方向によって、画素電極115に印加された電圧に応じて発生すべき横電界が乱されてしまうことになる。その結果、画素電極115に印加された電圧に応じて画素毎に正しく光変調することができない液晶装置15となってしまう虞がある。
上述したように、高精細化のため画素間距離を短くした場合、液晶装置15は、実際にこのような正しく光変調できない液晶装置となってしまう虞がある。これを、図6を用いて説明する。図6は、画素G1〜画素G4において、隣り合う画素間に生ずる横電界の発生の様子を示した模式図である。
図示するように、画素間の距離が近づくことによって、例えば、画素G1における画素電極115と画素G3における図面左側の共通電極135との間で、X軸方向に対して0度から90度の範囲で反時計方向に回転した方向の横電界YD1(白抜き矢印)が発生する。また、同じく、画素G3における画素電極115と画素G1における図面右側の共通電極135との間で、X軸方向に対して0度から90度の範囲で反時計方向に回転した方向の横電界YD2(白抜き矢印)が発生する。
この結果、図示するように、例えば画素G1の領域のほぼ中央に位置する液晶分子EB1,EB2、および画素G3の領域のほぼ中央に位置する液晶分子EB7,EB8は、反時計方向に正しく回転するが、画素G1の領域において、画素G3側に位置する液晶分子EB3は横電界YD1によって、同じく画素G3側に位置する液晶分子EB4は横電界YD2によって、時計方向に回転(リバースツイスト)することになる。
同様に、画素G3の領域のほぼ中央に位置する液晶分子EB7,EB8は反時計方向に正しく回転するが、画素G3の領域において、画素G1側に位置する液晶分子EB5は横電界YD1によって、同じく画素G1側に位置する液晶分子EB6は横電界YD2によって、時計方向に回転(リバースツイスト)することになる。
説明は省略するが、このような液晶分子EBが正しく回転しない状態は、画素G2と画素G4との間でも、さらには液晶装置15に形成されたY軸方向に隣り合う総ての画素間においても同様に発生する。従って、画素G2と画素G4について例示するように、特にY軸方向において画素が隣り合う領域R1,R2,R3において互いに隣の画素電極115に印加された電圧の影響を受けて横電界が乱れ、横電界が乱れた部分において液晶分子EBが正しく回転できない状態が発生する虞がある。この結果、正しく光変調できない液晶装置15となってしまうのである。
そこで、本実施例における液晶装置15は、このようなY軸方向に隣り合う画素間において、画素の領域内に発生する横電界の乱れを抑制するようにした。これを、図7を用いて説明する。
図7は、本実施例の液晶装置15に形成された画素について、最終的に配線が総て終了した状態を示す模式図である。なお図7では、図3における画素電極115と共通電極135以外を省略して図示している。図示するように、本実施例の液晶装置15は、Y軸方向に隣り合う画素(例えば、画素G1と画素G3、および画素G2と画素G4など)の領域間に遮蔽電極145を形成する。
このように遮蔽電極145を、Y軸方向に隣り合う画素の領域間に形成することによって、隣の画素電極115からの横電界の影響を抑制することが可能である。すなわち、例えば画素G1については、図6においてY軸方向の隣の画素G3の画素電極115に印加された電圧と画素G1の右側の共通電極135との間に生じた横電界YD2が、遮蔽電極145との間で発生することになるため、画素G1に対する影響が抑制される。また、画素G3については、図6においてY軸方向の隣の画素G1の画素電極115に印加された電圧と画素G3の左側の共通電極135との間に生じた横電界YD1が、遮蔽電極145との間で発生することになるため、画素G3に対する影響が抑制される。この結果、Y軸方向に隣り合う画素間において、互いに隣の画素電極115によって生ずる横電界の影響を抑制し、液晶分子EBを、その液晶分子EBが属する画素の画素電極115に印加する電圧に応じて正しく回転させることができる。
なお、本実施例では、遮蔽電極145の形成位置は、遮光層52と重なる位置に形成する。こうすれば、遮蔽電極145が画素領域内に存在しないため、遮蔽電極145を金属材料(例えばアルミニウム)で形成することが可能であり、遮蔽電極145の導電性が良くなることから横電界YD1や横電界YD2を効果的に抑制することが可能となる。なお、遮蔽電極145が、構造的な制約などによって、遮光層52と重ならない、若しくは一部のみ重なるような場合は、遮蔽電極145は透明電極で形成することが好ましい。
また、本実施例では、遮蔽電極145は、画素電極115および共通電極135が形成された絶縁層(図4参照)と同じ層の面に形成する。こうすれば、隣の画素電極115と共通電極135との間に生ずる横電界が最も大きいと想定される部分に遮蔽電極145が介在することになるので、横電界を効果的に抑制することが可能となる。また、同一層面であることから遮蔽電極145と画素電極115との間、あるいは遮蔽電極145と共通電極135との間に絶縁層を形成する必要がない。従って、形成された絶縁層が光透過領域内に存在することによって画素を透過する光量が減少するという不具合が発生する虞も生じない。さらに、画素電極115と共通電極135と遮蔽電極145とを、1つのマスクを用いた蒸着工程で形成することも可能となり、形成工程が容易となる。
また、本実施例では、遮蔽電極145は接地電位の電圧以外の電圧が印加されるものとする。従って遮蔽電極145は、例えば図8に示した如く配線形成するとよい。すなわち、図示するように、基板100の外周部分において、透明基板上に遮蔽電極145に印加する電圧を供給するための電極端子140を形成する。そしてY軸方向において隣り合う総ての画素の領域間に形成された遮蔽電極145を電極端子140に結線するのである。なお、図8は、図2における基板100を示した模式図であり、走査線121および共通配線131を省略したものである。
実際に電極端子140すなわち遮蔽電極145に印加する電圧は、実験等によって接地電位に対してプラス電位またはマイナス電位を含め最適な電圧値を予め調べて設定しておくことが好ましい。もとより、走査線121による薄膜トランジスタのオンによって液晶分子EBが回転駆動される画素に応じて最適な電圧が異なる場合は、遮蔽電極145に印加する電圧を複数設定し、設定した複数の電圧を、例えば画素電極115へデータ線111から電圧が印加されるタイミングなどで切り替えて、遮蔽電極145に印加するようにしても差し支えない。
なお、請求項記載の第1の方向、第2の方向、第1の基板、第2の基板、第1の遮光層、第2の遮光層、第1の電極、第2の電極、第3の電極について、本実施例では、以下のように相当する。第1の方向はX軸方向が相当し、第2の方向はY軸方向が相当する。第1の基板は基板100が相当し、第2の基板は基板50が相当する。第1の遮光層は遮光層51が、第2の遮光層は遮光層52がそれぞれ相当する。また、第1の電極は画素電極115が、第2の電極は共通電極135が、そして第3の電極は遮蔽電極145がそれぞれ相当する。
上述したように、本実施例による液晶装置15によれば、隣り合う画素間において、相互に画素の領域内の横電界が乱されることを抑制することができるので、データ線111から供給された電圧によって、画素毎に照射光を正しく光変調することが可能となる。この結果、表示品質の低下を抑制することができる。
以上、本発明の実施の形態について実施例により説明したが、本発明はこうした実施例に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において様々な形態で実施し得ることは勿論である。以下、変形例をあげて説明する。
(第1変形例)
上記実施例では、Y軸方向に隣り合う画素間に形成した遮蔽電極145は、共通電極135と電気的な接続を行わない独立した電極としたが、これに限らず、共通電極135と電気的に接続された電極としてもよい。本変形例を図9に示した。図示するように、各画素における画素電極115は、共通電極135および遮蔽電極145とによって周囲が接地電位で隙間無く囲まれることになる。従って、隣の画素電極115によって生ずる横電界は、殆ど総て遮断されることになる。
また、共通電極135と遮蔽電極145との間に隙間が形成されないので、これらをマスク蒸着で形成する場合、共通電極135と遮蔽電極145との間の短絡問題が生じない。従って、遮蔽電極145と画素電極115との間の隙間を確保するように蒸着制御すればよく、これらの電極の形成に伴う負荷が軽減される。
なお、本変形例において、例えば図10に示したように、遮蔽電極145を、少なくとも共通電極135の一方の端部と電気的に接続するように形成することとしてもよい。こうすれば、共通電極135および遮蔽電極145とによって、画素電極115を接地電位でほぼ隙間無く囲むことができるので、隣の画素電極115によって生ずる横電界を、ほぼ総て遮断することができる。
(第2変形例)
上記実施例では、ラビング方向をX軸方向とし、画素電極115および共通電極135の延在方向をY軸方向に対して傾けることによって、液晶分子EBが総て反時計方向に一様に回転させ、照射光を画素毎に光変調させることとしたが、必ずしもこれに限るものでないことは勿論である。例えば、画素電極115および共通電極135をY軸方向に沿った方向とし、ラビング方向をX軸方向に対して傾けることとしてもよい。
本変形例を図11に示した。図11は、共通電極135と遮蔽電極145とを電気的に接続した例を示した模式図で、各画素電極115および共通電極135はY軸方向と一致した方向に形成されている。そしてラビング方向をX軸方向に対して反時計方向に角度θ回転した方向としたものである。こうすることによって、上述した説明から容易に理解できるように、画素G1〜画素G4において液晶分子EBは一定方向に安定して回転することができる。この結果、隣の画素電極115から共通電極135に対して発生する横電界の影響を抑制しつつ、照射光を正しく光変調する液晶装置15を提供することができる。
なお本変形例において、上記実施例と同様、遮蔽電極145と共通電極135とを電気的に接続しないこととしてもよい。こうすれば、前述するように、隣の画素による横電界の乱れを抑制するために遮蔽電極145に印加する電圧を最適な電圧値に設定することができる。
(第3変形例)
上記実施例では、液晶装置15を、プロジェクタ10において光変調素子として用いることとして説明したが、必ずしもこれに限るものでないことは勿論である。例えば、液晶装置15を直視型の表示装置として用いることとしてもよい。この場合は、液晶装置15の裏面に蛍光管などを用いたバックライトを一体化して形成することが好ましい。このような液晶装置15は、上述するように高精細な画像を正しく表示できることから、この液晶装置15をテレビやデジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、携帯電話、コンピュータなどの電子機器に直視型の表示装置として備えることとしてもよい。こうすれば、表示品質の良い画像を提供する電子機器が実現できる。
本発明の一実施例となる液晶装置を備えたプロジェクタの概略構成図。 液晶装置の構成を模式的に示した説明図。 画素について最終的に総ての配線が終了する前の配線の様子を示す模式図。 液晶装置についての断面を示す模式断面図。 画素において電界に応じて回転する液晶分子を示す模式図で、(a)は通常の回転状態を示す模式図、(b)は通常と異なる反転状態を示す模式図。 隣り合う画素間に生ずる電界の発生の様子を示した模式図。 画素について最終的に配線が総て終了した状態を示す模式図。 遮蔽電極の配線形成の様子を示す模式図。 第1変形例で遮蔽電極と接地電極とを電気的に接続した状態を示す模式図。 第1変形例で遮蔽電極と接地電極とを電気的に接続した別の状態を示す模式図。 第2変形例で画素電極と接地電極と遮蔽電極の配線状態を示す模式図。
符号の説明
10…プロジェクタ、11…光源、12…偏光ビームスプリッター、13…投射レンズ、15…液晶装置、50…基板、51…遮光層、52…遮光層、100…基板、110…データ駆動回路、111…データ線、111a…ソース電極、112…ゲート絶縁層、113…ドレイン電極、114…コンタクトホール、115…画素電極、120…走査駆動回路、121…走査線、130…給電端子、131…共通配線、134…コンタクトホール、135…共通電極、140…電極端子、145…遮蔽電極。

Claims (10)

  1. 第1の方向及び当該第1の方向と交差する第2の方向に沿ってマトリクス状に配列された複数の画素を有する液晶装置であって、
    第1の基板と、
    前記第1の基板に対向して配置された第2の基板と、
    前記第1の基板の前記第2の基板側の面のうち、前記第1の方向に隣り合う前記画素の間の領域に、前記第2の方向に沿って形成された第1の遮光層と、
    前記第2の基板の前記第1の基板側の面のうち前記画素内に形成され、所定方向に延在した電極部を有する第1の電極と、
    前記第2の基板の前記第1の基板側の面に、前記第1の方向に隣り合う前記画素の間の領域に対応して配置され、少なくとも一部が前記第1の遮光層と平面的に重なるように形成され、前記第1の電極の前記電極部に沿った方向に延在した電極部を有する第2の電極と、
    前記第2の基板の前記第1の基板側の面のうち、前記第2の方向に隣り合う前記画素の間の領域に、前記第1の方向に沿って形成された電極部を有する第3の電極と、
    前記第1の基板と前記第2の基板との間に挟持され、前記第1の電極と前記第2の電極との間に生ずる電界により駆動される液晶層と、
    を備えることを特徴とする液晶装置。
  2. 請求項1に記載の液晶装置であって、
    前記第1の電極の前記電極部及び前記第2の電極の前記電極部のそれぞれが延在する前記所定方向とは、前記第1の方向および前記第2の方向のそれぞれに交差した方向であることを特徴とする液晶装置。
  3. 請求項1または2に記載の液晶装置であって、
    前記第3の電極は、前記第2の電極と電気的に接続されていることを特徴とする液晶装置。
  4. 請求項1ないし3のいずれか一項に記載の液晶装置であって、
    前記第1の遮光膜は所定幅で形成されており、前記第2の電極は、該所定幅よりも細い幅を有しているとともに、平面的に該所定幅内に納められて配置形成されていることを特徴とする液晶装置。
  5. 請求項1ないし4のいずれか一項に記載の液晶装置であって、
    前記第2の基板は、複数の絶縁層が形成され、
    前記第2の電極および前記第3の電極は、前記第1の電極が形成された絶縁層と同じ絶縁層上に形成されていることを特徴とする液晶装置。
  6. 請求項1ないし5のいずれか一項に記載の液晶装置であって、
    前記第1の基板の前記第2の基板側の面のうち、前記第2の方向に隣り合う前記画素の間の領域に、前記第1の方向に沿って形成された第2の遮光層を備え、
    前記第3の電極は、前記第2の遮光層と平面視で少なくとも一部が重なる位置に形成されていることを特徴とする液晶装置。
  7. 請求項1ないし6のいずれか一項に記載の液晶装置であって、
    前記第2の遮光膜は所定幅で形成されており、前記第3の電極は、該所定幅よりも細い幅を有しているとともに、平面的に該所定幅内を通して延在して形成されていることを特徴とする液晶装置。
  8. 請求項6または7に記載の液晶装置であって、
    前記第1の電極の前記電極部の端部は、前記第2の遮光膜と重なる部位まで延在して形成されていることを特徴とする液晶装置。
  9. 請求項1ないし8のいずれか一項に記載の液晶装置であって、
    前記第1の電極、前記第2の電極、および前記第3の電極のうち、少なくとも1つは透明電極であることを特徴とする液晶装置。
  10. 請求項1ないし9のいずれか一項に記載の液晶装置を備えた電子機器。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015121583A (ja) * 2013-12-20 2015-07-02 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示パネル

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5164930B2 (ja) 2009-06-05 2013-03-21 株式会社ジャパンディスプレイウェスト タッチパネル、表示パネル、および表示装置
JP6729658B2 (ja) * 2018-10-16 2020-07-22 セイコーエプソン株式会社 液晶装置および電子機器

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0973101A (ja) * 1995-09-06 1997-03-18 Hitachi Ltd 液晶表示装置およびその製造方法
JPH11119237A (ja) * 1997-10-16 1999-04-30 Mitsubishi Electric Corp 面内スイッチング型液晶表示装置
JP2000010107A (ja) * 1998-06-19 2000-01-14 Nec Corp アクティブマトリクス液晶表示装置
US20020159015A1 (en) * 1997-09-08 2002-10-31 Seo Seong Moh In-plane switching mode liquid crystal display device
JP2006276622A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Seiko Epson Corp 液晶装置およびその製造方法、投射型表示装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL194848C (nl) * 1992-06-01 2003-04-03 Samsung Electronics Co Ltd Vloeibaar-kristalindicatorinrichting.
JPH095739A (ja) * 1995-06-22 1997-01-10 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 導光シ−ト及びその製造方法、及び前記導光シ−トを用いたバックライト及び前記バックライトを用いた液晶表示装置
JP2885206B2 (ja) 1996-12-10 1999-04-19 日本電気株式会社 液晶表示装置
JP3495256B2 (ja) 1998-06-23 2004-02-09 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション 液晶表示装置
TWI318333B (en) * 2004-03-26 2009-12-11 Fujifilm Corp Photosensitive composition, photosensitive transfer material, light shielding layer for display device, color filter, liquid crystal display element, substrate having light shielding layer and process for producing the same
JP2009288373A (ja) * 2008-05-28 2009-12-10 Seiko Epson Corp 液晶装置、および電子機器

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0973101A (ja) * 1995-09-06 1997-03-18 Hitachi Ltd 液晶表示装置およびその製造方法
US20020159015A1 (en) * 1997-09-08 2002-10-31 Seo Seong Moh In-plane switching mode liquid crystal display device
JPH11119237A (ja) * 1997-10-16 1999-04-30 Mitsubishi Electric Corp 面内スイッチング型液晶表示装置
JP2000010107A (ja) * 1998-06-19 2000-01-14 Nec Corp アクティブマトリクス液晶表示装置
JP2006276622A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Seiko Epson Corp 液晶装置およびその製造方法、投射型表示装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015121583A (ja) * 2013-12-20 2015-07-02 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示パネル
US9829734B2 (en) 2013-12-20 2017-11-28 Japan Display Inc. Liquid crystal display panel

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