JP2009025639A - 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】アレイ基板と対向基板との間に液晶層を保持した構成の液晶表示パネルを備え、アレイ基板は、スイッチング素子Wに接続された画素電極EPと、画素電極EPと層間絶縁膜を介して対向する対向電極ETと、を備えている。画素電極EPは、行方向Hに対して鋭角に交差するとともに列方向Vに並んだ複数のスリットSLを有している。スリットSLは、略平行四辺形状に形成され、内角が鋭角となるコーナ部C1及びC2に、エッジL1及びL2の外方に向かって窪んだ円弧状の凹部CCを有することを特徴とする。
【選択図】 図2
Description
このような横電界駆動モードの液晶表示装置は、アレイ基板において層間絶縁膜を介して対向する画素電極と対向電極とを備え、アレイ基板の主面に対してほぼ平行な横電界を形成して液晶分子をスイッチングする。また、アレイ基板及び対向基板のそれぞれの外面には、互いに偏向軸方向が直交するように配置された偏光板が配置されている。このような偏光板の配置により、例えば電圧無印加時に黒色画面を表示し、映像信号に対応した電圧を画素電極に印加することにより徐々に透過率(変調率)が増加して白色画面を表示する。このような液晶表示装置では、液晶分子が基板主面とほぼ平行な平面内で回転するため、透過光の入射方向に対して偏光状態が大きく影響しないので、視野角依存性は小さく、広い視野角特性を有するといった特徴がある。
第1基板と第2基板との間に液晶層を保持した構成の液晶表示パネルを備え、
前記第1基板は、
各画素の行方向に延在した走査線と、
各画素の列方向に延在した信号線と、
画素毎に配置されたスイッチング素子と、
行方向に対して鋭角に交差するとともに列方向に並んだ複数のスリットを有し、前記スイッチング素子に接続された画素電極と、
前記画素電極と層間絶縁膜を介して対向する対向電極と、
前記液晶層と接触する配向膜と、を備え、
前記スリットは、略平行四辺形状に形成され、内角が鋭角となるコーナ部に、エッジの外方に向かって窪んだ円弧状の凹部を有することを特徴とする。
横電界駆動モードの液晶表示装置の製造方法であって、対向電極と層間絶縁膜を介して対向する画素電極の形成工程において、
層間絶縁膜上に導電層を成膜し、
前記導電層上にレジストを成膜し、
前記レジストを、画素電極に対応したパターンを有するフォトマスクを介して露光し、
前記レジストを現像し、
前記レジストから露出した前記導電層を除去する工程を含み、
前記レジストを露光する工程で適用されるフォトマスクは、行方向に対して鋭角に交差するとともに列方向に並んだ複数の平行四辺形状のスリットに対応したパターンを有するとともに、スリットの内角が鋭角となるコーナ部に重なる部分においてエッジの外方に向かって突出する補正パターンを有し、
前記画素電極のスリットは、エッジの外方に向かって窪んだ円弧状の凹部を有するように形成されたことを特徴とする。
PX…画素
H…行方向 V…列方向
Y…走査線 X…信号線 W…スイッチング素子
EP…画素電極 IL…層間絶縁膜 ET…対向電極
SC…半導体層 WG…ゲート電極 WS…ソース電極 WD…ドレイン電極
COM…コモン配線
SL…スリット L1…エッジ L2…エッジ S1…エッジ S2…エッジ
C1…コーナ部 C2…コーナ部 CC…凹部
PM…フォトマスク P1…スリットパターン P2…補正パターン
20…絶縁基板 22…配向膜
30…絶縁基板 32…ブラックマトリクス 34…カラーフィルタ層 36…配向膜
Claims (6)
- 第1基板と第2基板との間に液晶層を保持した構成の液晶表示パネルを備え、
前記第1基板は、
各画素の行方向に延在した走査線と、
各画素の列方向に延在した信号線と、
画素毎に配置されたスイッチング素子と、
行方向に対して鋭角に交差するとともに列方向に並んだ複数のスリットを有し、前記スイッチング素子に接続された画素電極と、
前記画素電極と層間絶縁膜を介して対向する対向電極と、
前記液晶層と接触する配向膜と、を備え、
前記スリットは、略平行四辺形状に形成され、内角が鋭角となるコーナ部に、エッジの外方に向かって窪んだ円弧状の凹部を有することを特徴とする液晶表示装置。 - 前記配向膜のラビング方向は、前記行方向と平行であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記凹部は、前記スリットのエッジから1.0μm〜2.0μmの範囲で窪んでいることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 横電界駆動モードの液晶表示装置の製造方法であって、対向電極と層間絶縁膜を介して対向する画素電極の形成工程において、
層間絶縁膜上に導電層を成膜し、
前記導電層上にレジストを成膜し、
前記レジストを、画素電極に対応したパターンを有するフォトマスクを介して露光し、
前記レジストを現像し、
前記レジストから露出した前記導電層を除去する工程を含み、
前記レジストを露光する工程で適用されるフォトマスクは、行方向に対して鋭角に交差するとともに列方向に並んだ複数の平行四辺形状のスリットに対応したパターンを有するとともに、スリットの内角が鋭角となるコーナ部に重なる部分においてエッジの外方に向かって突出する補正パターンを有し、
前記画素電極のスリットは、エッジの外方に向かって窪んだ円弧状の凹部を有するように形成されたことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 前記補正パターンは、一辺が2.5〜3.5μmの概略コーナ部と相似形であることを特徴とする請求項4に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記補正パターンは、前記スリットのエッジから1.0μm〜2.0μmの範囲で突出していることを特徴とする請求項4に記載の液晶表示装置の製造方法。
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