JP6801783B2 - 電子部品およびそれを備えるモジュール - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 133
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 128
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 110
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 4
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 claims description 3
- 238000010897 surface acoustic wave method Methods 0.000 description 111
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 9
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 9
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 8
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 7
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 7
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 6
- 244000126211 Hericium coralloides Species 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-pyrazole-3-carboxylic acid Chemical compound CC1=CC(C(O)=O)=NN1 WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910013641 LiNbO 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 and for example Substances 0.000 description 1
- 210000001520 comb Anatomy 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000006355 external stress Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
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- H03H9/10—Mounting in enclosures
- H03H9/1064—Mounting in enclosures for surface acoustic wave [SAW] devices
- H03H9/1092—Mounting in enclosures for surface acoustic wave [SAW] devices the enclosure being defined by a cover cap mounted on an element forming part of the surface acoustic wave [SAW] device on the side of the IDT's
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L23/04—Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls
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- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02535—Details of surface acoustic wave devices
- H03H9/02818—Means for compensation or elimination of undesirable effects
- H03H9/02897—Means for compensation or elimination of undesirable effects of strain or mechanical damage, e.g. strain due to bending influence
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- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02535—Details of surface acoustic wave devices
- H03H9/02818—Means for compensation or elimination of undesirable effects
- H03H9/02937—Means for compensation or elimination of undesirable effects of chemical damage, e.g. corrosion
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- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
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- H03H9/02984—Protection measures against damaging
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- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/05—Holders; Supports
- H03H9/058—Holders; Supports for surface acoustic wave devices
- H03H9/059—Holders; Supports for surface acoustic wave devices consisting of mounting pads or bumps
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- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/05—Holders; Supports
- H03H9/10—Mounting in enclosures
- H03H9/1064—Mounting in enclosures for surface acoustic wave [SAW] devices
- H03H9/1071—Mounting in enclosures for surface acoustic wave [SAW] devices the enclosure being defined by a frame built on a substrate and a cap, the frame having no mechanical contact with the SAW device
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- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/25—Constructional features of resonators using surface acoustic waves
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- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/46—Filters
- H03H9/64—Filters using surface acoustic waves
- H03H9/6423—Means for obtaining a particular transfer characteristic
- H03H9/6433—Coupled resonator filters
- H03H9/6483—Ladder SAW filters
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- Physics & Mathematics (AREA)
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Description
好ましくは、カバー層は、圧電性基板と反対側に凸に湾曲している部分を有している。
本実施の形態1に係る電子部品100は、たとえば、携帯電話機など通信機におけるRF回路に適用されるものである。電子部品100は、音波によって動作する部品であり、たとえば、弾性表面波(SAW:Saw Acoustic Wave)部品、およびバルク弾性波(BAW:Bulk Acoustic Wave)部品、MEMS部品などが含まれる。本実施の形態では、電子部品100の一形態として、弾性表面波フィルタを例示する。以下、電子部品100を「弾性表面波フィルタ100」とも称する。
次に、図6を参照して、本実施の形態1の変形例に係る弾性表面波フィルタ100を説明する。
図7を参照して、本発明の実施の形態2に係る電子部品100を説明する。
図8を参照して、本発明の実施の形態3に係る電子部品100を説明する。
図9および図10を参照して、本発明の実施の形態4に係る電子部品100を説明する。
図11および図12を参照して、本実施の形態5に係る電子部品100を説明する。
Claims (14)
- 圧電性基板と、
前記圧電性基板上に配置される機能素子と、
前記機能素子を囲むように配置される支持層と、
前記支持層上に位置し、前記圧電性基板に対向して配置されるカバー層と、
前記支持層および前記カバー層を封止する保護層とを備え、
前記圧電性基板、前記支持層および前記カバー層により前記機能素子が収容される中空部が形成され、
前記支持層は、少なくとも前記圧電性基板の外周部に配置されることにより、前記圧電性基板の前記外周部よりも内側に前記中空部を形成し、
前記保護層は、前記中空部の上部に位置する第1の部分と、前記支持層の上部に位置する第2の部分とを有し、
前記第2の部分は、前記圧電性基板の表面と前記保護層の表面との間の、前記圧電性基板の厚み方向における距離が、前記第1の部分に隣接する位置において最大となり、かつ、前記圧電性基板の幅方向における端部に隣接する位置において最小となるように形成され、
前記保護層の前記圧電性基板の幅方向における端部は、前記圧電性基板の表面と前記保護層の表面との間の、前記圧電性基板の厚み方向における距離が、前記第2の部分の最小値以下であり、かつ、前記第2の部分から離れるに従って短くなるように形成される、電子部品。 - 前記第2の部分は、前記圧電性基板の表面と前記保護層の表面との間の、前記圧電性基板の厚み方向における距離が、前記圧電性基板の幅方向における端部に向かうにつれて短くなるように形成される、請求項1に記載の電子部品。
- 前記第1の部分における、前記圧電性基板の表面と前記保護層の表面との間の、前記厚み方向における最大距離は、前記第2の部分における、前記圧電性基板の表面と前記保護層の表面との間の、前記厚み方向における最大距離よりも大きい、請求項1または2に記載の電子部品。
- 前記保護層において、前記第1の部分の表面は、前記圧電性基板と反対側に凸の曲面状となっている、請求項1または2に記載の電子部品。
- 前記第1の部分における、前記カバー層の表面と前記保護層の表面との間の、前記厚み方向における最大距離をt1とし、前記第2の部分における、前記カバー層の表面と前記保護層の表面との間の、前記厚み方向における最大距離をt2とし、前記中空部における、前記カバー層の前記中空部に臨む面と前記機能素子の表面との間の、前記厚み方向における最小距離をXとすると、
前記最大距離t1、前記最大距離t2および前記最小距離Xは、(t1−t2)<Xの関係式を満たす、請求項1から4のいずれか1項に記載の電子部品。 - 前記保護層において、前記第1の部分の表面は平坦な形状を有している、請求項1または2に記載の電子部品。
- 前記カバー層は、前記圧電性基板と反対側に凸に湾曲している部分を有している、請求項1から4のいずれか1項に記載の電子部品。
- 前記保護層は、前記圧電性基板の幅方向における端部において、
前記圧電性基板と反対側に凸形状の第1の曲面部分と、
前記第1の曲面部分と前記圧電性基板の幅方向における端面との間に位置し、前記圧電性基板側に凹形状の第2の曲面部分とを有する、請求項1から7のいずれか1項に記載の電子部品。 - 前記支持層の幅方向における端面は、前記保護層の幅方向における端面よりも外側に位置する、請求項1から8のいずれか1項に記載の電子部品。
- 前記圧電性基板上に配置され、前記機能素子に接続される配線と、
前記カバー層上に形成され、前記支持層および前記カバー層の側面に沿って前記圧電性基板まで延び、前記配線に接続される接続電極とをさらに備える、請求項1から9のいずれか1項に記載の電子部品。 - 前記圧電性基板上に配置され、前記機能素子に接続される配線と、
前記支持層および前記カバー層を貫通して前記配線に接続される貫通電極をさらに備える、請求項1から9のいずれか1項に記載の電子部品。 - 前記保護層の前記第1の部分と前記カバー層との間に配置される配線電極をさらに備える、請求項1から11のいずれか1項に記載の電子部品。
- 前記保護層は、前記圧電性基板の幅方向における端部において、前記圧電性基板と反対側に凸の曲面を有する、請求項1から12のいずれか1項に記載の電子部品。
- 少なくとも表面に配線が形成された回路基板と、
前記回路基板上にフリップチップ実装される、請求項1から13のいずれか1項に記載の電子部品とを備える、モジュール。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017104823 | 2017-05-26 | ||
JP2017104823 | 2017-05-26 | ||
PCT/JP2018/018080 WO2018216486A1 (ja) | 2017-05-26 | 2018-05-10 | 電子部品およびそれを備えるモジュール |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2018216486A1 JPWO2018216486A1 (ja) | 2020-03-12 |
JP6801783B2 true JP6801783B2 (ja) | 2020-12-16 |
Family
ID=64395672
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019519561A Active JP6801783B2 (ja) | 2017-05-26 | 2018-05-10 | 電子部品およびそれを備えるモジュール |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US10931258B2 (ja) |
JP (1) | JP6801783B2 (ja) |
CN (1) | CN110663178B (ja) |
WO (1) | WO2018216486A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110663178B (zh) * | 2017-05-26 | 2023-01-17 | 株式会社村田制作所 | 电子部件以及具备该电子部件的模块 |
CN111052606B (zh) * | 2017-08-31 | 2023-04-14 | 株式会社村田制作所 | 弹性波装置以及具备该弹性波装置的弹性波模块 |
US20210159882A1 (en) * | 2019-11-27 | 2021-05-27 | Wisol Co., Ltd. | Surface acoustic wave wafer-level package |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4510982B2 (ja) * | 2000-02-29 | 2010-07-28 | 京セラ株式会社 | 弾性表面波装置 |
JP2003007501A (ja) * | 2001-06-20 | 2003-01-10 | Taiyo Yuden Co Ltd | 表面実装部品 |
JP4141340B2 (ja) * | 2003-07-16 | 2008-08-27 | 三洋電機株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP2006345075A (ja) | 2005-06-07 | 2006-12-21 | Hitachi Media Electoronics Co Ltd | 表面弾性波デバイスおよびその製造方法 |
WO2009157587A1 (ja) * | 2008-06-27 | 2009-12-30 | 京セラ株式会社 | 弾性波装置 |
JP5532685B2 (ja) * | 2009-06-01 | 2014-06-25 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
JP2012151698A (ja) * | 2011-01-19 | 2012-08-09 | Taiyo Yuden Co Ltd | 弾性波デバイス |
JP2012182604A (ja) * | 2011-03-01 | 2012-09-20 | Panasonic Corp | 弾性波フィルタ部品 |
KR101825499B1 (ko) * | 2013-08-13 | 2018-02-05 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파 장치 |
WO2015199132A1 (ja) * | 2014-06-27 | 2015-12-30 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置及びその製造方法 |
DE112016001443B4 (de) * | 2015-03-27 | 2023-10-19 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Elektronische Komponente |
JP6365435B2 (ja) * | 2015-06-24 | 2018-08-01 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
CN105655365B (zh) * | 2016-03-14 | 2020-03-24 | 苏州晶方半导体科技股份有限公司 | 半导体芯片封装结构及其封装方法 |
CN110100387B (zh) * | 2016-12-16 | 2023-06-06 | 株式会社村田制作所 | 弹性波装置、高频前端电路以及通信装置 |
CN110663178B (zh) * | 2017-05-26 | 2023-01-17 | 株式会社村田制作所 | 电子部件以及具备该电子部件的模块 |
-
2018
- 2018-05-10 CN CN201880034437.3A patent/CN110663178B/zh active Active
- 2018-05-10 WO PCT/JP2018/018080 patent/WO2018216486A1/ja active Application Filing
- 2018-05-10 JP JP2019519561A patent/JP6801783B2/ja active Active
-
2019
- 2019-10-31 US US16/669,553 patent/US10931258B2/en active Active
-
2021
- 2021-02-05 US US17/168,329 patent/US11791797B2/en active Active
-
2023
- 2023-05-31 US US18/204,001 patent/US20230308077A1/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20210184650A1 (en) | 2021-06-17 |
CN110663178A (zh) | 2020-01-07 |
US20230308077A1 (en) | 2023-09-28 |
US20200067481A1 (en) | 2020-02-27 |
US11791797B2 (en) | 2023-10-17 |
JPWO2018216486A1 (ja) | 2020-03-12 |
WO2018216486A1 (ja) | 2018-11-29 |
CN110663178B (zh) | 2023-01-17 |
US10931258B2 (en) | 2021-02-23 |
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Date | Code | Title | Description |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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