JP6800107B2 - シロキサン化合物及びその製造方法 - Google Patents
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Description
更に本発明は、上記シロキサン化合物の製造方法を提供する。
(製造方法1)
第1の製造方法として、上記式(1)で示される化合物は、下記式(4)で表されるシロキサン化合物と
下記式(5−A)または(5−B)で表される不飽和基含有化合物とを反応させて得られる。
下記式(7)で表されるハロゲン化シラン化合物と
を反応させて得ることができる。
第2の製造方法として、上記式(1)で示される化合物は、下記式(8)で表されるシロキサン化合物と
下記式(9)で表される不飽和基含有化合物とを反応させて得られる。
下記式(11)で表されるハロゲン化シラン化合物と
を反応させて得ることができる。
a.核磁気共鳴分析(NMR)
1H−NMR分析によりシロキサン化合物の構造確認を行った。測定は、JEOL製のECS500を用い、測定溶媒として重クロロホルムを使用した。
i.装置とパラメータ
装置:Agilent製GC system 7890A型。検出器:水素炎イオン化検出器(FID)。カラム:J&W HP−5MS(0.25mm*30m*0.25μm)。キャリアガス:ヘリウム。一定流量:1.0mL/分。サンプル注入量:1.0μL。スプリット比:50:1。注入口温度:250℃。検出器温度:300℃。
ii.温度プログラム
開始温度50℃。開始時間:2分間。勾配:10℃/分;終了時温度:300℃(保持時間:10分間)。
iii.サンプル調製
サンプル溶液を希釈することなくGC用バイアル瓶に直接入れた。
ジムロート、温度計、2つの滴下漏斗を付けた1Lの四口ナスフラスコに、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン400.0gを添加し、内温が30℃を超えないようにクロロジメチルシラン320.0g、脱イオン水80.0gを滴下漏斗から滴下した。滴下終了後、反応液を室温で1時間撹拌し、ガスクロマトグラフィー(GC)で出発物質の消失を確認して反応終了とした。反応終了後、有機層を分液漏斗に移して水道水で3回洗浄した。有機層を分離し、溶媒及び未反応の原料を内温50℃で減圧留去した後、減圧蒸留を行うことで以下の式(12)で表されるシロキサン化合物を得た。収量530.2g。
3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランを3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランに変えた以外は合成例1を繰り返し、以下の式(13)で表されるシロキサン化合物を得た。収量558.0g。
ジムロート、温度計、滴下漏斗を付けた200mLの三口ナスフラスコに、エチルビニルエーテル35.0g、トルエン35.0g、塩化白金酸重曹中和物・ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含有量0.5wt%)0.04gを添加し、上記合成例1で得たシロキサン化合物(12)50.0gを滴下漏斗から滴下した。滴下終了後、反応液を40℃で5時間撹拌し、ガスクロマトグラフィー(GC)で出発物質の消失を確認して反応終了とした。反応終了後、有機層を分液漏斗に移してメタノール水(メタノール:水=2:1)で3回洗浄した。有機層を分離し、溶媒及び未反応の原料を内温50℃で減圧留去し、以下の式(14)で表されるシロキサン化合物を得た。収量65.3g。以下に1H−NMRデータを示す。
0.0ppm(15H)、0.5ppm(2H)、0.7ppm(4H)、1.1ppm(6H)、1.6ppm(2H)、2.0ppm(3H)、3.5−3.6ppm(8H)、4.2ppm(2H)、5.6ppm(1H)、6.1ppm(1H)。
エチルビニルエーテルをイソプロピルビニルエーテルに変えた以外は参考例1を繰り返して、以下の式(15)で表されるシロキサン化合物を得た。収量66.0g。以下に1H−NMRデータを示す。
0.0ppm(15H)、0.5ppm(2H)、0.6ppm(4H)、1.1ppm(12H)、1.6ppm(2H)、2.0ppm(3H)、3.5ppm(6H)、4.2ppm(2H)、5.6ppm(1H)、6.1ppm(1H)。
エチルビニルエーテルを3−メトキシエチルアリルエーテルに変えた以外は参考例1を繰り返して、以下の式(17)で表されるシロキサン化合物を得た。収量65.8g。以下に1H−NMRデータを示す。
0.0ppm(15H)、0.5ppm(6H)、1.6ppm(6H)、2.0ppm(3H)、3.4−3.6ppm(18H)、4.2ppm(2H)、5.6ppm(1H)、6.1ppm(1H)。
エチルビニルエーテルをメトキシ末端アリルポリエーテル(平均分子量240)に変えた以外は参考例1を繰り返して、以下の式(18)で表されるシロキサン化合物を得た。収量72.5g。以下に1H−NMRデータを示す。
0.0ppm(15H)、0.5ppm(6H)、1.6ppm(6H)、2.0ppm(3H)、3.4−3.6ppm(50H)、4.2ppm(2H)、5.6ppm(1H)、6.1ppm(1H)。
エチルビニルエーテルをメトキシ末端アリルポリエーテル(平均分子量550)に変えた以外は参考例1を繰り返して、以下の式(19)で表されるシロキサン化合物を得た。収量75.3g。以下に1H−NMRデータを示す。
0.0ppm(15H)、0.5ppm(6H)、1.6ppm(6H)、2.0ppm(3H)、3.4−3.6ppm(106H)、4.2ppm(2H)、5.6ppm(1H)、6.1ppm(1H)。
エチルビニルエーテルをN−ビニルピロリドンに変えた以外は参考例1を繰り返して、以下の式(20)で表されるシロキサン化合物を得た。収量54.6g。以下に1H−NMRデータを示す。
0.0ppm(15H)、0.5ppm(2H)、1.1ppm(4H)、1.6ppm(2H)、2.0ppm(3H)、2.1−2.3ppm(8H)、3.3−3.4ppm(8H)、4.2ppm(2H)、5.6ppm(1H)、6.1ppm(1H)。
シロキサン化合物(12)を上記合成例2で得たシロキサン化合物(13)に変えた以外は参考例1を繰り返して、以下の式(21)で表されるシロキサン化合物を得た。収量70.4g。以下に1H−NMRデータを示す。
0.0ppm(12H)、0.5ppm(2H)、0.7ppm(6H)、1.1ppm(9H)、1.6ppm(2H)、2.0ppm(3H)、3.5−3.6ppm(12H)、4.2ppm(2H)、5.6ppm(1H)、6.1ppm(1H)。
ジムロート、温度計、2つの滴下漏斗を付けた1Lの四口ナスフラスコに、メチルジメトキシシラン100.0gを添加し、内温が30℃を超えないようにクロロ(2−エトキシエチル)ジメチルシラン700.0g、脱イオン水100.0gを滴下漏斗から滴下した。滴下終了後、反応液を室温で1時間撹拌し、ガスクロマトグラフィー(GC)で出発物質の消失を確認して反応終了とした。反応終了後、有機層を分液漏斗に移して水道水で2回洗浄した。有機層を分離し、溶媒及び未反応の原料を内温50℃で減圧留去した後、減圧蒸留を行うことで以下の式(22)で表されるシロキサン化合物を得た。収量460.6g。
クロロ(2−エトキシエチル)ジメチルシランをクロロ(3−(2−メトキシエトキシ)プロピル)ジメチルシランに変えた以外は合成例1と同様に行い、以下の式(23)で表されるシロキサン化合物を得た。収量453.0g。
メチルジメトキシシランをトリメトキシシランに変えた以外は合成例1と同様に行い、以下の式(24)で表されるシロキサン化合物を得た。収量487.1g。
ジムロート、温度計、滴下漏斗を付けた200mLの三口ナスフラスコに、2−アリロキシエチルメタクリレート50.0g、トルエン50.0g、塩化白金酸重曹中和物・ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含有量0.5wt%)0.04gを添加し、上記合成例3で得たシロキサン化合物(22)50.0gを滴下漏斗から滴下した。滴下終了後、反応液を50℃で5時間撹拌し、ガスクロマトグラフィー(GC)で出発物質の消失を確認して反応終了とした。反応終了後、有機層にn−ヘキサンを100.0g添加し、有機層を分液漏斗に移してメタノール水(メタノール:水=3:1)で3回洗浄した。有機層を分離し、溶媒及び未反応の原料を内温50℃で減圧留去し、以下の式(25)で表されるシロキサン化合物を得た。収量89.5g。以下に1H−NMRデータを示す。
0.0ppm(15H)、0.5ppm(2H)、0.7ppm(4H)、1.1ppm(6H)、1.6ppm(2H)、2.0ppm(3H)、3.4ppm(2H)、3.5−3.6ppm(10H)、4.2ppm(2H)、5.6ppm(1H)、6.1ppm(1H)。
2−アリロキシエチルメタクリレートを3−アリロキシ−2−ヒドロキシプロピルメタクリレートに変えた以外は参考例8を繰り返して、以下の式(26)で表されるシロキサン化合物を得た。収量60.6g。以下に1H−NMRデータを示す。
0.0ppm(15H)、0.5ppm(2H)、0.7ppm(4H)、1.1ppm(6H)、1.6ppm(2H)、2.0ppm(3H)、3.4−3.6ppm(12H)、4.0ppm(1H)、4.2ppm(2H)、5.6ppm(1H)、6.1ppm(1H)。
2−アリロキシエチルメタクリレートをN−アリルアクリルアミドに変えた以外は参考例8を繰り返して、以下の式(27)で表されるシロキサン化合物を得た。収量50.2g。以下に1H−NMRデータを示す。
0.0ppm(15H)、0.6ppm(2H)、0.7ppm(4H)、1.1ppm(6H)、1.6ppm(2H)、2.0ppm(3H)、3.3ppm(2H)、3.5−3.6ppm(8H)、5.6ppm(1H)、5.7ppm(1H)、6.1ppm(1H)、6.3ppm(1H)。
シロキサン化合物(22)を上記合成例4で得たシロキサン化合物(23)に変えた以外は参考例8を繰り返して、以下の式(28)で表されるシロキサン化合物を得た。収量53.2g。以下に1H−NMRデータを示す。
0.0ppm(15H)、0.5ppm(6H)、1.6ppm(6H)、2.0ppm(3H)、3.4−3.7ppm(22H)、4.2ppm(2H)、5.6ppm(1H)、6.1ppm(1H)。
シロキサン化合物(22)を上記合成例5で得たシロキサン化合物(24)に変えた以外は参考例9を繰り返して、以下の式(29)で表されるシロキサン化合物を得た。収量58.3g。以下に1H−NMRデータを示す。
0.0ppm(12H)、0.5ppm(2H)、0.7ppm(6H)、1.1ppm(9H)、1.6ppm(2H)、2.0ppm(3H)、3.4−3.6ppm(16H)、4.0ppm(1H)、4.2ppm(2H)、5.6ppm(1H)、6.1ppm(1H)。
エチルビニルエーテルを1−ペンテンに変えた以外は参考例7と同様に行い、以下の式(30)で表されるシロキサン化合物を得た。収量73.5g。
比較例2では、ソフトコンタクトレンズ用モノマーとして広く用いられている以下構造を有する化合物を使用した。
上記で得たシロキサン化合物の各々について、下記試験を行った。
20mLスクリュー管に、シロキサン化合物0.1g、2−プロパノール(3.90g)、酢酸(0.24g)、蒸留水(0.90g)、及び重合禁止剤として2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール(2mg)を入れてよく混合し、密閉した。該スクリュー管を80℃下に168時間置いた。混合直後(0時間)の混合溶液及び168時間置いた後の混合溶液を夫々ガスクロマトグラフィー測定に付した。ガスクロマトグラフィーの測定条件は上記した通りである。
混合直後(0時間)のシロキサン化合物のピーク面積(100%)に対する、168時間後のシロキサン化合物のピーク面積割合(%)を算出した。結果を表1に示す。尚、ガスクロマトグラフィー測定により得られたピーク面積は含まれる成分量に比例する。数値が高いほど加水分解による重量減少が少なく、耐加水分解性に優れることを意味する。
親水性モノマーとの相溶性は,眼科用デバイスの製造において広く用いられるN−ビニルピロリドン(NVP)を用いて評価した。シロキサン化合物とNVPを同質量比で混合し,25℃の条件下で10分間撹拌を行った。撹拌後,25℃の条件下で5時間静置させ,その外観を目視により観察し、以下の指標に基づき評価した。
〇:均一かつ透明 ×:白濁
結果を下記表1に示す。
Claims (21)
- nが0または1である、請求項2記載の化合物。
- mが3であり、nが1である、請求項3記載の化合物。
- mが3であり、nが0である、請求項3記載の化合物。
- aは1又は2である、請求項1〜5のいずれか1項記載の化合物。
- aは1又は2であり、R 5が水素原子である、請求項6記載の化合物。
- R2及びR3が、いずれもメチル基である請求項1〜7のいずれか1項記載の化合物。
- Mが、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有する基である、請求項1〜8のいずれか1項記載の化合物。
- Mが、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリルアミド基、又はメタクリルアミド基である、請求項9記載の化合物。
- 請求項1〜10のいずれか1項記載の化合物のラジカル重合性基Mの付加重合から導かれる繰返し単位を含む重合体。
- 請求項1〜10のいずれか1項記載の化合物のラジカル重合性基Mと、これと重合性の基を有する他の化合物との重合から導かれる繰返し単位を含む共重合体。
- 請求項12記載の共重合体からなる眼科デバイス。
- 下記式(1)で表される化合物の製造方法において、
下記式(4)で表されるシロキサン化合物と
下記式(5−B)で表される不飽和基含有化合物
とを反応させて、上記式(1)で表される化合物を得る工程を含む、前記製造方法。 - 下記式(1)で表される化合物の製造方法において、
下記式(8)で表されるシロキサン化合物と
下記式(9)で表される不飽和基含有化合物
とを反応させて、上記式(1)で表される化合物を得る工程を含む、前記製造方法。 - nは0〜1の整数である、請求項16記載の製造方法。
- aは1又は2である、請求項14〜17のいずれか1項記載の製造方法。
- R2又はR3が、いずれもメチル基である、請求項14〜18のいずれか1項記載の製造方法。
- Mが、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有する基である、請求項14〜19のいずれか1項記載の製造方法。
- Mが、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリルアミド基又はメタクリルアミド基である、請求項20記載の製造方法。
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