JP6792792B2 - ガラス割れ検知方法、ガラス割れ検知装置、ガラス板の研磨方法、ガラス板の研磨装置、及びガラス板の製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、ガラス割れ検知方法、ガラス割れ検知装置、ガラス板の研磨方法、ガラス板の研磨装置、及びガラス板の製造方法に関する。
ガラス板の製造工程では、切断、面取り、孔明け、研磨、搬送、洗浄等の様々な処理がガラス板に施される。例えば、LCD(Liquid Crystal Display)やOLED(Organic Light-Emitting Diode)等のフラットパネルディスプレイ(FPD:Flat Panel Display)用に使用されるガラス板は、その表面の微小な凹凸やうねりが画像に影響を与える要因となるため、ガラス板の表面の一部または全体を研磨装置によって研磨する場合がある。
このような研磨を行うために、ガラス板を保持して搬送する移動研磨ヘッドと、この研磨ヘッドの下方に配置された複数の研磨定盤を備えた研磨装置が知られている。この研磨装置によれば、移動研磨ヘッドによってガラス板を搬送し、複数の研磨定盤でガラス板を順次研磨する。
ところで、研磨装置によるガラス板の研磨中には、ガラス板が割れてしまうことがまれにある。そのような場合、ガラス板が割れた状態で研磨加工を継続すると、割れたガラス片によって研磨パッドが損傷する。さらに、生産工程で複数のガラス板を順次研磨していく連続した研磨の際に、後続のガラス板に悪影響を与えるという不具合が生じる。このため、ガラス板の割れを早期に検出し、研磨装置を迅速に停止することが望まれている。
特許文献1には、加工音を利用して、研磨加工中のガラス板の割れを検出する割れ検出装置が開示されている。ガラス割れ検出装置は、研磨加工中に発生している加工音をマイクロホンによって集音するとともに、集音した加工音から所定の周波数(3kHz以上)の音波をフィルタによって抽出し、この抽出した音波について現在の音波レベルと、現在から過去所定時間内における定常音波レベルとを比較することにより、ガラス板の割れを判定している。
特許文献2には、弾性波を利用して、研磨加工中のガラス板の割れを検出する研磨装置が開示されている。研磨装置は、ガラス板からの弾性波を、ガラス板と研磨パッドとを支持するテーブル等に取り付けられたAE(Acoustic Emission)センサによって検出し、AEセンサからの出力信号に基づいて研磨中の異常を検知している。
特開2006−035343号公報 国際公開第2010/067732号
特許文献1に記載の割れ検出装置では、ガラス板が粉々に割れた状態での音でしか検出することができず、割れ発生の初期段階(クラック等の微小割れ、欠け)の音は検出することが難しい。また、周辺の音声周波数成分のノイズの影響を受けやすい。
ガラス板が細片となって割れると、前述の如く研磨パッドに損傷を与えるとともに、それを除去するための清掃作業に数時間かかる。そのため、復帰作業に要する時間、生産工程における研磨作業が中断するので、稼働率が下がるという欠点がある。
特許文献2に記載の研磨装置では、ガラス板からの弾性波を、テーブル、プレート等さまざまの部材を介して、AEセンサで検出するため、弾性波がAEセンサに伝達する前に減衰される場合がある。そのため、割れ発生の初期段階に生じるレベルの低い弾性波をAEセンサにより検知することは難しい。
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、ガラス板の割れ発生を初期段階で発見することができるガラス割れ検知方法、ガラス割れ検知装置、ガラス板の研磨方法、ガラス板の研磨装置、及びガラス板の製造方法を提供することを目的とする。
本発明の一態様によると、ガラス割れ検知方法は、ガラス板を液体に接触させ、かつ前記液体にAEセンサを接触させた状態で、前記AEセンサからのAE信号を検知する検知工程と、前記AE信号が所定の閾値を超えることにより前記ガラス板の割れを判断する判断工程と、を含む。
本発明の別の態様によると、ガラス割れ検知装置は、ガラス板に液体を供給する液体供給部と、前記液体に接触する位置に配置されるAEセンサと、前記AEセンサから入力されるAE信号を処理する信号処理部とを有し、前記信号処理部は、前記AE信号が所定の閾値を超えることにより前記ガラス板の割れを判断する。
本発明の別の態様によると、ガラス板の研磨方法は、研磨パッドとガラス板との間に研磨液を供給しながら研磨パッドによって前記ガラス板の表面を研磨するガラス板の研磨方法であって、前記研磨液を前記液体として適用する上述のガラス割れ検知方法による割れ検知工程を含む。
本発明の別の態様によると、ガラス板の研磨装置は、ガラス板に研磨液を供給する液体供給部と、前記ガラス板の表面を研磨する研磨パッドと、を有するガラス板の研磨装置であって、前記研磨液を前記液体として適用する上述のガラス割れ検知装置を備える。
本発明の別の態様によると、ガラス板の製造方法は、溶融ガラスから板状のガラスに成形する工程と、前記板状のガラスを切断しガラス板に切り出す工程と、上述のガラス割れ検知方法による割れ検知工程とを含む。
本発明のガラス割れ検知方法、ガラス割れ検知装置、ガラス板の研磨方法、ガラス板の研磨装置、及びガラス板の製造方法によれば、初期段階のガラス板の割れを検知することができる。
ガラス割れ検知装置の構成図である。 (A)ノイズによるAE信号の波形であり、(B)ガラス割れ起因の弾性波によるAE信号の波形である。 AEセンサの斜視図である。 枚葉式の研磨装置の構成図である。 連続式の研磨装置の構成図である。 連続式の研磨装置の平面図である。
以下、添付図面にしたがって本発明の実施の形態について説明する。本発明は以下の実施の形態により説明される。但し、本発明の範囲を逸脱すること無く、多くの手法により変更を行うことができ、説明された実施形態以外の他の実施形態を利用することができる。したがって、本発明の範囲内における全ての変更が特許請求の範囲に含まれる。ここで、図中、同一の記号で示される部分は、基本的に、同様の機能を有する同様の要素である。
(ガラス割れ検知装置、及び検知方法)
図1は、ガラス割れ検知装置の概略構成図である。ガラス割れ検知装置1は、ガラス板Gに液体Lを供給する液体供給部2と、液体Lに接触する位置に配置されるAEセンサ4と、AEセンサ4から入力されるAE信号を処理する信号処理部6とを、少なくとも備えている。
液体供給部2は、ガラス板Gに液体Lを供給することができれば、特に限定されない。液体供給部2として、例えば、ノズル等を適用することができる。
AEセンサ4は、ガラス板Gから発生する弾性波を検知することができるセンサを意味し、弾性波を検知することができれば、特に限定されない。AEセンサ4は、例えば、圧電素子を有し、その圧電素子により弾性波を検知することができる。
AE信号とは、AEセンサ4から出力され、信号処理部6に入力される電気信号を意味する。AE信号は、AEセンサ4からの電気信号、増幅された及び/又はフィルタリングされた電気信号を含む。
なお、AE(Acoustic Emission:音響放出)とは、固体が変形あるいは破壊する時に発生する音を弾性波として放出する現象を意味する。
AEセンサ4は、液体Lに接触する位置に配置される。液体Lに接触する位置とは、ガラス板GとAEセンサ4とが液体Lを介して接触し、ガラス板GとAEセンサ4とが接触していない状態を意味する。
本実施形態では、ガラス板Gから発生する弾性波を、液体Lを介してAEセンサ4により検知することを特徴としている。従来、AEセンサは、固体中を伝わる弾性波を計測するものであって、AEセンサを直接被測定物に密着させて測定する必要があった。本実施形態では、図1に示されるように、ガラス板GとAEセンサ4との間の弾性波の経路が液体Lのみで形成されているので、ガラス板GとAEセンサとの間に気体が介在せず、密着した状態と同様の状態とすることができ、AEセンサ4で受信される弾性波の減衰を抑制することができる。つまり、ガラス板Gの割れ発生に起因する初期段階のレベルの低い弾性波が減衰されない。したがって、AEセンサ4によりガラス板Gの割れに起因する初期段階のレベルの低い弾性波を検知することが可能となる。さらにガラス板Gが液体に接触していればガラス板Gが移動しても弾性波の検知が可能である。本願明細書では、ガラス板Gの割れは、ガラス板Gに発生するクラック等の微小割れ、欠け、及び割れを含んでいる。
弾性波の経路を形成することができれば、液体Lとして、ガラス板の製造工程で使用される、研磨液、洗浄液、水等を使用することが好ましい。
本実施形態では、AEセンサ4と信号処理部6とは、PLC(Power Line Communication)ケーブル10により電気的に接続され、AE信号が高速通信方式を利用して信号処理部6に入力される。また、本実施形態において、AEセンサ4と信号処理部6とを接続するPLCケーブル10に、プリアンプ12と、ディスクリミネータ14とが、好ましくは、この順で設けられる。
プリアンプ12は、AEセンサ4からの微弱なAE信号を増幅することができるので、PLCケーブル10に設けることが好ましい。プリアンプ12をPLCケーブル10に設ける場合について説明するが、これに限定されず、プリアンプ内蔵のAEセンサを使用することもできる。これにより、部品点数を減らすことが可能になる。
また、ディスクリミネータ14は、信号処理部6に入力される前にAE信号を弁別し、割れの検知に必要な周波数範囲にフィルタリングすることができるフィルタであり、ディスクリミネータ14はPLCケーブル10に設けられることが好ましい。
AEセンサ4として、ガラス板Gの初期段階の割れを良好に検出するために、共振周波数が140kHz以上150kHz以下の周波数帯の弾性波を検出できるAEセンサを使用することが好ましい。共振周波数は、検出すべき周波数帯域の略中央付近に設定されることが好ましい。
AEセンサ4から信号処理部6に入力されるAE信号の周波数帯域は、例えば、ディスクリミネータ14により100kHz以上200kHz以下の範囲に設定されていることが好ましい。より好ましくは120kHz以上180kHz以下の範囲である。
ガラス板Gの製造工程の周辺には、切断装置、面取り装置、孔明け装置、研磨装置、搬送装置、洗浄装置等様々な装置が設置されている。これらの装置からの機械的振動に起因する100kHz未満の周波数の弾性波を排除することが必要な場合がある。また、電気的ノイズに起因する200kHzを超える周波数の弾性波を排除することが必要となる場合がある。
本実施形態では、AEセンサ4から信号処理部6に入力される周波数帯域の下限値を100kHzとしたので、機械的振動の弾性波に起因する誤検出を防止できる。また、上限値を200kHzとしたので、電気的ノイズの弾性波に起因する誤検出を防止できる。このように、対象とする周波数帯域を選択し、所定のフィルタを設定することによって、周囲のノイズ成分との弁別をすることが好ましい。
また、本実施形態のガラス割れ検知装置1は、テーブル16と、テーブル16の上に配置されたテーブルパッド18と、を備えている。このテーブルパッド18の上にガラス板Gが載置される。テーブル16は、ガラス板Gを載置することができれば、特に限定されない。テーブル16のガラス板Gを載置する面は平坦面であることが好ましい。テーブルパッド18は、例えば発泡ウレタンで作製され、ガラス板Gを固定するために用いられる。
AEセンサ4からのAE信号が信号処理部6に入力される。信号処理部6は、各種の演算を行う演算部、各種プログラム、及びデータ等が格納された記憶部等(不図示)を備える。ガラス割れ検知装置1においては、ガラス板Gから発生する弾性波は、液体Lを介してAEセンサ4によって検知される。AEセンサ4からAE信号が信号処理部6に入力される。
信号処理部6は、ガラス板Gの割れが発生したと認められる閾値(例えば、電圧)を予め設定でき、その閾値を記憶部に記憶できる。信号処理部6の演算部は、入力されたAE信号と設定された所定の閾値とを比較することができる。信号処理部6は、所定の閾値を超えたAE信号を検知することにより、ガラス板Gの割れを判断することができる。
次に、本実施形態のガラス割れ検知装置1によるガラス割れ検知方法について説明する。
テーブル16上のテーブルパッド18の上にガラス板Gが配置される。ガラス板Gがテーブルパッド18により、ガラス板Gの2つの主面の何れかの一方の面が吸着保持される。液体供給部2からガラス板Gに向けて液体Lが供給され、ガラス板Gと液体Lとが接触する状態になる。所定量の液体Lをガラス板Gに供給することにより、液体Lの液面が上昇し、液体LとAEセンサ4とが接触する状態となる。したがって、ガラス板GとAEセンサ4とが液体Lを介して接触される。
なお、AEセンサ4をガラス板Gの上方に配置した場合、ガラス板GとAEセンサ4との距離は0.5mm以上5mm以下であることが好ましい。この範囲であれば、ガラス板Gからの弾性波を感度良くAEセンサ4により検知することができる。また、距離を1mm以上とすることによりガラス板GとAEセンサ4とが接触することを回避することができるので好ましい。また、距離を2mm以下とすることにより、液体Lの過剰な使用を回避できるので好ましい。
なお、AEセンサ4をガラス板Gの側方に配置してもよい。AEセンサ4を側方に配置することにより、ガラス板Gの表面に対して加工などの処理を行う場合、その処理装置とAEセンサ4との干渉を避けやすくなる。この場合、ガラス板GとAEセンサ4との距離は0.5mm以上150mm以下であることが好ましい。150mm以下であれば、ガラス板Gからの弾性波をAEセンサ4により検知することができる。好ましくは120mm以下である。
ガラス板Gに対して、例えば、ガラス板Gの製造に必要な処理(切断、面取り、孔明け、研磨、搬送、洗浄等)が施される。検知工程では、ガラス板Gから発生する弾性波が液体Lを介してAEセンサ4によって検知される。AEセンサ4からのAE信号は信号処理部6に入力される。ガラス板Gの処理に際して、ガラス板Gに割れが生じた場合、ガラス板Gに弾性波が発生する。
この弾性波は、ガラス板Gの割れ起点、ガラス板G全面、及び液体Lを経由してAEセンサ4に伝達される。その際、本実施形態では、弾性波の伝達経路には、液体Lしか介在しないので、弾性波はほとんど減衰されない。したがって、弾性波のレベルが低い場合でも、弾性波を感度良くAEセンサ4で検知することが可能になる。AEセンサ4によってガラス板Gの割れ発生の初期段階に発生するレベルの低い弾性波を検知することができる。
ガラス板Gから発生する弾性波を検知したAEセンサ4は、AE信号を出力する。本実施形態ではAEセンサ4からのAE信号が、プリアンプ12、及びディスクリミネータ14を経て、PLCケーブル10を介して、信号処理部6に入力される。
信号処理部6の記憶部には、上述した閾値が記憶されている。信号処理部6の演算部は、常時入力されるAE信号と所定の閾値とを比較する。判断工程では、信号処理部6は、AEセンサ4からのAE信号が所定の閾値を超えることにより、ガラス板Gの割れを判断する。
信号処理部6はAE信号が所定の閾値を超えたか否かでガラス板Gの割れを判断する。閾値は環境に合わせて適宜設定される。所定の閾値の設定方法として、以下の方法を例示することができる。例えば、実験値または経験値に基づいて得られた値を、所定の閾値として信号処理部6に記憶させることができる。
また、自動閾値調整機能により算出された値を所定の閾値として信号処理部6に記憶させることができる。信号処理部6の演算部に自動閾値調整機能を組み入れることができる。自動閾値調整機能は、例えば、入力されるAE信号と時間とを信号処理部6の記憶部に記憶し、入力されるAE信号と時間とに基づいて、所定時間内におけるAE信号の平均値を算出し、AE信号の平均値の1.5倍となる値を閾値に設定することができる。レベルの低い弾性波を検知したい場合には、AE信号の平均値の1.2倍となる値を閾値としてもよく、検知する信号により任意に設定することができる。AE信号の平均値を算出するための時間は、任意に設定することができる。
本実施形態では、AEセンサ4によりレベルの低い弾性波を検知することができる。したがって、信号処理部6に設定される所定の閾値を低くすることができる。一方、AEセンサ4はガラス割れに起因しないと考えられる弾性波や外乱等による振動(以下:ノイズ)をも検知する場合がある。信号処理部6に設定される所定の閾値を低くすると、ガラス割れに起因する弾性波とノイズとを区別することが困難となる場合がある。
発明者はガラス割れに起因する弾性波とノイズとを鋭意検討したところ、図2に示されるように、AEセンサ4から信号処理部6に入力されAE信号の波形が、ガラス割れに起因する弾性波とノイズとでは異なることを見出した。
図2はAE信号の波形のグラフであり、縦軸は電圧を示しており、横軸は時間を示している。図2(A)はノイズによるAE信号の波形を示し、図2(B)はガラス割れに起因する弾性波によるAE信号の波形を示している。図2(A)に示されるノイズによるAE信号の波形と、図2(B)に示されるガラス割れに起因する弾性波によるAE信号の波形と、を比較すると、AE信号発生からAE信号収束までの継続時間が異なる。ガラス割れに起因する弾性波によるAE信号の継続時間t2が、ノイズによる継続時間t1よりも長いことが理解できる。
この継続時間の長さの違いを利用することにより、ガラス割れに起因する弾性波とノイズとを区別することが可能となる。ガラス割れに起因する弾性波によるAE信号の継続時間t2が長いので、所定の閾値を超えるAE信号が連続的に信号処理部6に入力される。一方、ノイズによるAE信号の継続時間t1は短いため、所定の閾値を超えるAE信号が、ガラス割れに起因する弾性波と比較して単発的に信号処理部6に入力される。したがって、信号処理部6は、AE信号が連続して所定の閾値を超えた場合に割れに起因する弾性波と判断でき、AE信号が単発的に所定の閾値を超えただけではノイズと判断する。したがって、ガラス割れに起因する弾性波とノイズとを区別することができる。信号処理部6において、感度良く、ガラス割れに起因する弾性波を検知でき、結果、初期段階のガラス割れを判断できる。
信号処理部6において、AE信号がどの程度の時間連続して閾値を超えた場合に割れと判断するかを設定することができ、AE信号を連続して計測する時間を信号処理部6の記憶部に記憶させることができる。例えば、信号処理部6に、150msec連続して所定の閾値を超えた際に割れと判断させることができる。図2に示されるように、150msecであれば、例えば、所定の閾値を1.000(V)とした場合、ノイズによるAE信号は一時的に所定の閾値を上回るが、150msec経たないうちに閾値を下回り、一方、ガラス割れに起因する弾性波によるAE信号は150msec以上の間、所定の閾値を超えていることが、理解できる。
閾値と時間とを適宜設定することにより、ガラス割れに起因する弾性波とノイズとを容易に区別することができる。ここで単発的と連続的とは、単発的が連続的に比較して時間が短いことを意味し、単発的は一回のみを意味するものではない。
また、上述においては、AE信号を連続して所定の閾値(電圧)を超えた場合に割れと判断したが、検知したいガラス板Gの割れの状態によって適宜設定できるため、これに限定されない。例えば、AE信号を所定時間毎(例えば、30msec)に計測し、所定の閾値(例えば、電圧)を超えるAE信号の発生数をカウントする。予め、連続する発生数の閾値(例えば、5回)を設定する。所定の閾値(電圧)を超えるAE信号の連続発生数が、連続発生数の閾値(例えば、5回)を超えた場合に、割れと判断することもできる。AE信号に対する所定の閾値(電圧)と連続発生数に対する閾値とを適宜設定することにより、ガラス割れに起因する弾性波とノイズとを容易に区別することができる。
ガラス板Gの割れの初期段階では、上述したようにレベルの低い弾性波が連続的に発生する。一方で、ガラス板Gの割れの程度が大きく、例えば、砕けるような場合、レベルの高い弾性波が単発的に発生する場合がある。このような単発的に発生するレベルの高い弾性波を検知することが必要である状況も有り得る。
そのような場合に対応するため、ガラス板Gに割れが発生したと認められる閾値として、低いレベルの第1閾値と、高いレベルの第2閾値とを設定することが好ましい。
第1閾値を超え、第2閾値を超えないAE信号が信号処理部6に入力された際に、信号処理部6はAE信号を連続的に検知した場合に割れと判断する。一方、第2閾値を超えたAE信号が信号処理部6に入力された際に、信号処理部6はAE信号を単発的に検知した場合であっても割れと判断することが好ましい。低いレベルの第1閾値と、高いレベルの第2閾値を設定することにより、ガラス板Gの割れの程度に応じて、ガラス板Gの割れを判断することが可能となる。
次に、ガラス割れ検知装置1に使用されるAEセンサ4の好ましい態様について説明する。図3はAEセンサ4の斜視図である。AEセンサ4は、弾性波を検知する受信板4Aと、受信板4Aに取り付けられた圧電素子(不図示)と、圧電素子を囲う導電性のケーシング4Bと、圧電素子とPLCケーブル10とを電気的に接続する、ケーシング4Bに設けられコネクタ4Cとを、含んでいる。
AEセンサ4と液体Lとを接触させた際、ケーシング4Bと液体Lとの導通により、ノイズが生じる可能性がある。電気的なノイズを防止するため、AEセンサ4と液体Lとを電気的に絶縁することが好ましい。本実施形態では、図3に示されるように、絶縁性のプレート20(例えば、セラミックプレート)を受信板4Aに取り付けることができる。受信板4Aと絶縁性プレート20とをシリコングリスや瞬間接着剤などを用いて密着させる。このように密着させることにより、受信板4Aと絶縁性プレート20の間に気体が介在せず、AE信号の減衰を減少させることができる。ケーシング4Bを絶縁性の樹脂製チューブ22(例えば、シリコンチューブ)で覆うことができ、また、コネクタ4Cを絶縁性の樹脂製チューブ24(例えば、シリコンチューブ)で覆うことができる。AEセンサ4の受信板4Aの反対面にも絶縁性のプレート26を取り付けることができる。絶縁性のプレート20、26と樹脂製チューブ24とを絶縁性のシール材(シリコン樹脂)でシールすることができる。
AEセンサ4と液体Lとを電気的に絶縁することにより、電気的なノイズの発生を抑制することができるので、好ましい。
(ガラス板の研磨装置、及び研磨方法)
次に、ガラス割れを検知することができるガラス板の研磨装置、及び研磨方法について説明する。
図4は、枚葉式のガラス板の研磨装置の構成図である。研磨装置30は、例えば、矩形状に製造されたガラス板G{例えば、一辺が2000×2200mm〜2200×2600mm、厚み0.7mm、FPD用途の無アルカリガラス系材料からなるフロート法で製造された研磨前のガラス板(例えば、AN100)}を液晶ディスプレイ用ガラス板に必要な平坦度に達するまでガラス板の表面を研磨する研磨装置である。
ガラス板Gの研磨面と反対面が、テーブル16の上に配置されテーブルパッド18に吸着保持される。研磨パッド32は、ガラス板Gの研磨面に対向するように研磨ヘッド34の下面に取り付けられている。研磨ヘッド34の上面は回転軸36に固定されている。
回転軸36には回転昇降装置38が連結されている。回転昇降装置38は、研磨装置30全体を統括制御する制御部40によって、テーブル16によるガラス板Gの搬送タイミングに同期して回転及び昇降動作が制御される。
研磨ヘッド34及び回転軸36には、貫通孔により形成された液体供給部である研磨液供給部42が設けられている。研磨液供給部42から研磨液44をガラス板Gに供給することができる。研磨液44として、例えば、酸化セリウム水溶液等の研磨スラリを使用することができる。また、回転昇降装置38により、研磨パッド32と研磨ヘッド34とを自転させ、かつ公転させることができる。
本実施形態の研磨装置30は、AEセンサ4と、AEセンサ4に電気的に接続される信号処理部6とを備えている。なお、信号処理部6は、機能の一部として制御部40に含まれている。このAEセンサ4は、研磨液44に接触する位置に配置される。なお、テーブル16側に研磨パッドを設け、ヘッド側に吸着パッドを設けガラス板Gを吸着させて、図4とは上下逆の形態としてもよい。
次に、本実施形態の研磨装置30による、好ましいガラス板の研磨方法について説明する。
テーブル16上のテーブルパッド18の上にガラス板Gが配置される。ガラス板Gがテーブルパッド18により、ガラス板Gの研磨面と反対の面が吸着保持される。
研磨液供給部42からガラス板Gに向けて研磨液44が供給され、ガラス板Gと研磨液44とが接触する状態になる。所定量の研磨液44をガラス板Gに供給することにより、研磨液44の液面が上昇し、研磨液44とAEセンサ4とが接触する状態となる。したがって、ガラス板GとAEセンサ4とが研磨液44を介して接触される。
研磨液44を供給しながら、回転昇降装置38により、例えば、研磨パッド32及び研磨ヘッド34を自転させ、かつ公転させ、研磨パッド32によりガラス板Gの表面(研磨面)が研磨される。回転昇降装置38は、研磨装置30全体を統括制御する制御部40によって、ガラス板Gの研磨に好適な回転数及び下降動作(押圧力)が制御される。
AEセンサ4は、ガラス板Gからの弾性波を、研磨液44を介して検知している。ガラス板Gを研磨している際に、ガラス板Gの割れが生じた場合、ガラス板Gに弾性波が発生する。
この弾性波は、ガラス板Gの割れ起点、ガラス板G全面、及び研磨液44を経由してAEセンサ4に伝達される。その際、本実施形態では、弾性波の伝達経路には、研磨液44しか介在しないので、弾性波はほとんど減衰されない。したがって、ガラス割れに起因する弾性波のレベルが低い場合でも、弾性波を感度良くAEセンサ4で検知することが可能になる。AEセンサ4からのAE信号が、制御部40の信号処理部6に入力される。信号処理部6は、AEセンサ4からのAE信号が所定の閾値を超えることにより、ガラス板Gの割れを判断する。AEセンサ4によって研磨時に発生するガラス板Gの割れ発生の初期段階に発生するレベルの低い弾性波を検知することができるので、初期段階のガラス板Gの割れを判断することができる。
次に、連続式のガラス板の研磨装置について説明する。図5は、連続式の研磨装置の構成図であり、図6は、連続式の研磨装置の平面図である。なお、図6の平面図においては、全てのテーブル16の上にガラス板Gが載置されている。図4と同様の構成には同一符号を付して説明を省略する場合がある。
図5及び6に示されるように、研磨装置50は、例えば、矩形状に製造されたガラス板G{例えば、一辺が2000×2200mm〜2200×2600mm、厚み0.7mm、FPD用途の無アルカリガラス系材料からなるフロート法で製造された研磨前のガラス板(例えば、AN100)}を、テーブル16上のテーブルパッド18に載置し、そのテーブル16を連続搬送しながら、その搬送路に沿って配置された複数台の研磨パッド32、32…によって、テーブル16の上のガラス板Gの研磨面を連続的に研磨する。連続的研磨により、研磨装置50は、ガラス板Gの研磨対象面の微小な凹凸やうねりを研磨除去し、液晶ディスプレイ用ガラス板で要求される平坦度を満足したガラス板を製造する。
テーブル16は、不図示の搬送装置によって矢印の示す水平方向にレール(不図示)に沿って連続搬送することができる。テーブル16の搬送中に搬送路に対向する位置に、複数の研磨パッド32が、ガラス板Gの研磨面に対向するように複数の研磨ヘッド34の下面に各々取り付けられている。各々の研磨パッド32によってガラス板Gの研磨面を、液晶ディスプレイ用ガラス板で要求される平坦度に研磨することができる。
各々の研磨ヘッド34及び回転軸36には、貫通孔により形成された液体供給部である研磨液供給部42が設けられている。研磨液供給部42から研磨液44をガラス板Gに供給することができる。研磨液44として、例えば、酸化セリウム水溶液等の研磨スラリを使用することができる。また、回転昇降装置38により、各々の研磨パッド32と研磨ヘッド34とを自転させ、かつ公転させることができる。
本実施形態の研磨装置50は、複数のAEセンサ4と、AEセンサ4に電気的に接続される信号処理部6とを備えている。なお、信号処理部6は、機能の一部として制御部40に含まれている。AEセンサ4は、研磨液44に接触する位置に配置される。
本実施形態では、図5及び6に示されるように、複数のAEセンサ4が、各々の研磨ヘッド34に対応する位置に配置されている。つまり、一つの研磨ヘッド34と一つのAEセンサ4とが一つの組を構成している。AEセンサ4は、研磨ヘッド34を通過する際に研磨パッド32により研磨されるガラス板Gの弾性波を検知する。
AEセンサ4からのAE信号が、制御部40の信号処理部6に入力される。信号処理部6は、AEセンサ4からのAE信号が所定の閾値を超えることにより、ガラス板Gの割れを判断する。AEセンサ4によって研磨時に発生するガラス板Gの割れ発生の初期段階に発生するレベルの低い弾性波を検知することができるので、信号処理部6により初期段階のガラス板Gの割れを判断することができる。
ガラス板Gの研磨工程の一のステージにおいて、ガラス板Gの割れが判断された場合には、警報を出して研磨装置50を停止させる。ガラス板Gの割れが判断されない場合には、連続的にガラス板Gを載置したテーブル16が、水平方向に次のステージに搬送される。研磨工程の次のステージにおいて、研磨ヘッド34に取り付けられた研磨パッド32により、ガラス板Gが研磨される。ガラス板Gが研磨される際、AEセンサ4は研磨液44に接触される。AEセンサ4は研磨液44を介してガラス板Gから弾性波を検知する。AEセンサ4からのAE信号が制御部40の信号処理部6に入力される。信号処理部6により、AEセンサ4からのAE信号が所定の閾値を超えることにより、ガラス板Gの割れを判断することができる。
本実施形態では一つの研磨ヘッド34と一つのAEセンサ4とが一つの組を構成しているので、連続式の研磨装置50において、どのステージにおいてガラス板Gの割れが発生したかを検知することができる。
但し、研磨ヘッド34とAEセンサ4の数は、必ず一致する必要はなく、二つの研磨ヘッド34と一つのAEセンサ4とが一つの組を構成する場合でよい。また、AEセンサ4からのAE信号の所定の閾値は、各ステージのセンサ毎に設定でき、センサ毎に別の閾値を設定してもよい。
次に、AEセンサ4の好ましい配置について図6を参照して説明する。図6に示されるように、AEセンサ4は、平面視において研磨ヘッド34を通過するガラス板Gと重なる位置に配置されることが好ましい。ガラス板GとAEセンサ4との距離を近づけることができるので、ガラス板Gから発生する弾性波を減衰されることなく検知することができる。
さらに、AEセンサ4はガラス板Gの幅方向の中央に配置されることが好ましい。AEセンサ4を幅方向の中央に配置することにより、ガラス板Gのどの部分で割れが発生しても、その弾性波を検知することが可能となる。ガラス板Gの幅方向とは、平面視において、ガラス板Gの搬送方向に直交する方向を意味する。
本実施形態の枚葉式及び連続式のガラス板の研磨装置、及び研磨方法に、上述したガラス割れ検知装置、及び検知方法の技術を、全て適用することが可能である。
さらに、信号処理部6がガラス割れを判断した場合に、警告を発する警告発生部を制御部40に設けることが好ましい。さらに、制御部40によって研磨を停止させることが好ましい。信号処理部6によりガラス板Gの割れの初期段階を判断することができるため、ガラス板Gが粉々に破砕する前にガラス板Gの割れを判断し、研磨装置30、50を停止することができる。研磨パッド32の被害や清掃作業等に起因する中断時間を最小限に抑えることができる。
(ガラス板の製造方法)
上述したガラス割れ検知方法による割れ検知工程を、溶融ガラスから板状のガラスに成形する工程と、板状のガラスを切断してガラス板を切り出す工程と、を少なくとも含むガラス板の製造方法に適用することができる。ガラス板の製造方法は、切断工程以外に、面取り工程、孔明け工程、研磨工程、搬送工程、洗浄工程を有することができる。これらの工程において液体を使用することにより、ガラス板の割れに起因する弾性波を検知でき、初期段階のガラス板の割れを判断することができる。
特に、切断工程、面取り工程、孔明け工程、研磨工程のように、工具とガラス板Gとが接触する工程において、ガラス板Gに割れが発生しやすい状況にある。したがって、上述の割れ検知工程を切断工程、面取り工程、孔明け工程、研磨工程に設けることが好ましい。中でも、研磨工程に割れ検知工程を設けることが、特に好ましい。
1…ガラス割れ検知装置、2…液体供給部、4…AEセンサ、6…信号処理部、10…PLCケーブル、12…プリアンプ、14…ディスクリミネータ、16…テーブル、18…テーブルパッド、20…プレート、22…樹脂製チューブ、24…樹脂製チューブ、26…プレート、30、50…研磨装置、32…研磨パッド、34…研磨ヘッド、36…回転軸、38…回転昇降装置、40…制御部、42…研磨液供給部、44…研磨液、G…ガラス板、L…液体





Claims (10)

  1. ガラス板を液体に接触させ、かつ前記液体にAEセンサを接触させた状態で、前記AEセンサからのAE信号を検知する検知工程と、
    前記AE信号が所定の閾値を超えることにより前記ガラス板の割れを判断する判断工程であって、
    前記所定の閾値は第1閾値と、前記第1閾値より高いレベルの第2閾値とを含み、
    前記AE信号が150msec連続して前記第1閾値を超え、前記第2閾値を超えない場合および前記AE信号が前記第2閾値を超えた場合のそれぞれの場合において割れと判断する判断工程と、
    を含むガラス割れ検知方法。
  2. 前記検知工程は、100kHz以上200kHz以下の範囲の周波数帯域の前記AE信号を検知する、請求項1に記載のガラス割れ検知方法。
  3. 前記AEセンサが前記液体に対して電気的に絶縁されている、請求項1または2に記載のガラス割れ検知方法。
  4. ガラス板に液体を供給する液体供給部と、
    前記液体に接触する位置に配置されるAEセンサと、
    前記AEセンサから入力されるAE信号を処理する信号処理部であって、
    前記信号処理部は、前記AE信号が所定の閾値を超えることにより前記ガラス板の割れを判断する信号処理部であって、
    前記所定の閾値は第1閾値と、前記第1閾値より高いレベルの第2閾値とを含み、
    前記AE信号が150msec連続して前記第1閾値を超え、前記第2閾値を超えない場合および前記AE信号が前記第2閾値を超えた場合のそれぞれの場合において割れと判断する信号処理部と、
    を有するガラス割れ検知装置。
  5. 前記AE信号を100kHz以上200kHz以下の範囲の周波数帯域にフィルタリングするフィルタを有する、請求項に記載のガラス割れ検知装置。
  6. 前記AEセンサが前記液体に対して電気的に絶縁されている、請求項4または5に記載のガラス割れ検知装置。
  7. 研磨パッドとガラス板との間に研磨液を供給しながら研磨パッドによって前記ガラス板の表面を研磨するガラス板の研磨方法であって、
    前記研磨液を前記液体として適用する請求項1からの何れか一項に記載のガラス割れ検知方法による割れ検知工程を含む、ガラス板の研磨方法。
  8. ガラス板に研磨液を供給する液体供給部と、
    前記ガラス板の表面を研磨する研磨パッドと、を有するガラス板の研磨装置であって、
    前記研磨液を前記液体として適用する請求項4または5に記載のガラス割れ検知装置を備えるガラス板の研磨装置。
  9. 溶融ガラスから板状のガラスに成形する工程と、
    前記板状のガラスを切断してガラス板を切り出す工程と、
    請求項1からの何れか一項に記載のガラス割れ検知方法による割れ
    検知工程と
    を含むガラス板の製造方法。
  10. 前記ガラス板の表面を研磨する研磨工程をさらに有し、前記割れ検知工程が前記研磨工程に設けられた請求項に記載のガラス板の製造方法。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7157410B2 (ja) * 2018-02-21 2022-10-20 国立大学法人大阪大学 半導体検査装置及び半導体検査方法
JP7306054B2 (ja) * 2019-05-17 2023-07-11 Agc株式会社 異常検知装置及び異常検知方法
CN113579989B (zh) * 2021-08-13 2024-01-26 西安奕斯伟材料科技股份有限公司 滑片检测装置和抛光系统
CN114062919B (zh) * 2021-11-18 2022-08-02 广东电网有限责任公司广州供电局 真空灭弧室的破裂监测方法、装置、系统和可读存储介质

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2764048B2 (ja) * 1990-03-16 1998-06-11 栃木県 流体伝播ae検出法及びその装置
JP2000121615A (ja) * 1998-10-14 2000-04-28 Sharp Corp 電子部品の製造方法及びその製造装置
US6709314B2 (en) * 2001-11-07 2004-03-23 Applied Materials Inc. Chemical mechanical polishing endpoinat detection
JP3883910B2 (ja) * 2002-06-26 2007-02-21 株式会社アルバック ワーク処理装置
JP4176542B2 (ja) 2003-04-25 2008-11-05 Tdk株式会社 可変利得回路及びこれに用いる制御信号生成回路
JP4569749B2 (ja) * 2004-07-23 2010-10-27 旭硝子株式会社 ガラス板の割れ検出方法及びその装置並びにガラス板の研磨方法及びその装置
KR101601346B1 (ko) * 2008-12-12 2016-03-08 아사히 가라스 가부시키가이샤 연마 장치 및 연마 방법, 및 유리판의 제조 방법
JP2013082055A (ja) * 2011-09-30 2013-05-09 Asahi Glass Co Ltd ガラス板研磨装置の監視方法及び監視システム
KR20130035943A (ko) * 2011-09-30 2013-04-09 아사히 가라스 가부시키가이샤 유리판 연마 장치의 감시 방법 및 감시 시스템
CN104308736A (zh) * 2014-08-27 2015-01-28 上海华力微电子有限公司 研磨头膜片的缺陷检测方法

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