JP6764383B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
繰り返し処理中においては、サイクルを構成する各プロセスに対して最適となるように磁場発生コイルを流れる電流の電流値などの装置パラメータが制御される。しかし、ステップ間には、各装置パラメータを変化させるための過渡応答時間があり、この時間は目的の処理を行なえていない無駄な時間である。繰り返し回数が増えると、ステップ間で装置パラメータを変化させる無駄な時間が繰り返し回数に比例して大きくなり、処理のスループットおよび形状制御性が低下する。
そこで、ガスパルス法において、ステップの処理時間を短くし、繰り返し回数を増やす場合には、制御パラメータを変更する際の各パラメータの過渡応答時間を短くすることが有効である。
第1の電源から第1の磁場形成用コイルに流れる電流における応答の時定数または第2の電源から第2の磁場形成用コイルに流れる電流における応答の時定数を制御する応答時定数変更装置を更に備え、
前記磁場形成手段は、前記処理室内に磁場を形成する前記第1の磁場形成用コイルに電流を流す第1の電源と前記処理室内に磁場を形成する前記第2の磁場形成用コイルに電流を流す第2の電源とを具備し、
前記第1の磁場形成用コイルにおける、磁場変更によってプラズマ生成領域の位置を変更する効果の大きさは、前記第2の磁場形成用コイルにおける、磁場変更によってプラズマ生成領域の位置を変更する効果の大きさより大きく、
前記第1の電源から第1の磁場形成用コイルに流れる電流における応答の時定数は、前記第2の電源から第2の磁場形成用コイルに流れる電流における応答の時定数より小さいことを特徴とする。
また、本発明による代表的なプラズマ処理装置は、試料がプラズマ処理される処理室と、マイクロ波の高周波電力を供給する高周波電源と、前記マイクロ波との相互作用によりプラズマを生成するための磁場を形成する磁場形成手段とを備えるプラズマ処理装置において、
第1の磁場形成用コイルに流れる電流の大きさの変化量が第2の磁場形成用コイルに流れる電流の大きさの変化量よりも大きくなるように第1の電源および第2の電源を制御する制御装置をさらに備え、
前記磁場形成手段は、前記処理室内に磁場を形成する前記第1の磁場形成用コイルに電流を流す前記第1の電源と前記処理室内に磁場を形成する前記第2の磁場形成用コイルに電流を流す前記第2の電源とを具備し、
前記第1の電源から前記第1の磁場形成用コイルに流れる電流における応答の時定数は、前記第2の電源から前記第2の磁場形成用コイルに流れる電流における応答の時定数より小さいことを特徴とする。
また、本発明による代表的なプラズマ処理装置は、試料がプラズマ処理される処理室と、マイクロ波の高周波電力を供給する高周波電源と、前記マイクロ波との相互作用によりプラズマを生成するための磁場を形成する磁場形成手段とを備えるプラズマ処理装置において、
前記磁場形成手段は、前記処理室内に磁場を形成する第1の磁場形成用コイルに電流を流す第1の電源と前記処理室内に磁場を形成する第2の磁場形成用コイルに電流を流す第2の電源と前記第2の磁場形成用コイルの上方に配置され前記処理室内に磁場を形成する第3の磁場形成用コイルとを具備し、
前記第1の磁場形成用コイルは、前記第2の磁場形成用コイルの下方に配置され、
前記第1の磁場形成用コイルにおける、磁場変更によってプラズマ生成領域の位置を変更する効果の大きさは、前記第2の磁場形成用コイルにおける、磁場変更によってプラズマ生成領域の位置を変更する効果の大きさより大きく、
前記第1の電源から前記第1の磁場形成用コイルに流れる電流における応答の時定数は、前記第2の電源から前記第2の磁場形成用コイルに流れる電流における応答の時定数より小さいことを特徴とする。
以下、図面を参照して、第1の実施形態におけるプラズマ処理装置1およびプラズマ処理方法について説明する。
第1の実施形態におけるプラズマ処理装置1の概要について説明する。プラズマ処理装置1は、電磁波を供給する電磁波供給装置10と、磁場形成手段111と、ガスを供給するガス供給装置105と、試料がプラズマ処理される処理室104とを含む。
第1の実施形態におけるプラズマ処理装置1について、より詳細に説明する。
図1に記載の例では、プラズマ処理装置1は、真空容器101を含む。真空容器101は、処理室104と真空排気口106とを含む。処理室104は、真空排気口106および真空排気口に取り付けられる配管を介して、真空排気装置(図1には図示されず)に接続される。真空排気装置の運転により、処理室104内の圧力が制御される。
シャワープレート102は、真空容器101内に配置され、処理室104内に、エッチングガス等の処理ガスを導入するために用いられる。すなわち、シャワープレート102の一方側の空間が処理室104であり、シャワープレート102の他方側の空間には、上述のガス供給管105pからガスが供給される。図1に記載の例では、シャワープレート102は、複数のガス噴出口を備える。
誘電体窓103は、真空容器101内に配置される。図1に記載の例では、誘電体窓103は、真空容器101内の空間を、処理室104と空洞共振器108とに分割する。すなわち、誘電体窓103と真空容器101の一部とによって、減圧可能な処理室104が規定され、誘電体窓103と真空容器101の他の一部とによって空洞共振器108が規定されている。
ガス供給装置105は、ガス供給管105pを介して、プラズマエッチング処理等の処理を行うためのガス(例えば、酸素、塩素等)を供給する。図1に記載の例では、ガス供給管105pの一端は、誘電体窓103とシャワープレート102との間の空間に連通している。
電磁波供給装置10は、プラズマを生成するための電磁波を処理室104に供給する。電磁波供給装置10は、電磁波を放射する導波管107(またはアンテナ)を含む。図1に記載の例では、誘電体窓103の上方には電磁波を放射する導波管107が設けられているが、誘電体窓103の上方に、電磁波を放射するアンテナが設けられてもよい。
空洞共振器108は、導波管107から伝播してきた電磁波によって空洞共振器108内に特定のモードの定在波を形成する。電磁波の周波数は特に限定されない。例えば、電磁波は、2.45GHzのマイクロ波である。
磁場形成手段111は、電磁波供給装置10から供給されるマイクロ波との相互作用によりプラズマを生成するための磁場を形成する。磁場形成手段111は、複数の磁場形成用コイル(111a、111b)を備える。図1に記載の例では、処理室104の外部に、第1の磁場形成用コイル111aおよび第2の磁場形成用コイル111bが配置されている。図1に記載の例では、処理室104を囲むように第1の磁場形成用コイル111aが配置され、処理室104の上方に第2の磁場形成用コイル111bが配置されている。しかし、第1の磁場形成用コイル111aおよび第2の磁場形成用コイル111bの配置は、図1に記載の例に限定されない。
シャワープレート102に対向した処理室104下部には、試料(例えば、半導体処理基板113)の載置台を兼ねる試料台114が配置されている。試料台114には、高周波整合器115(インピーダンス整合器)を介して、高周波電源116が接続される。高周波電源116から試料台114に高周波電力を供給することにより、一般的にセルフバイアスとよばれる負の電圧が試料台114上に発生し、セルフバイアスによってプラズマ中のイオンが加速され、イオンが半導体処理基板113に垂直に入射される。その結果、試料(半導体処理基板113)がエッチング処理される。
第1電流制御電源112a、第2電流制御電源112bには、制御装置120が接続されており、制御装置120は、実行される処理工程にあわせて、第1電流制御電源112a、第2電流制御電源112bを制御する。
以下、第1の実施形態において、電源112が過電圧状態になるのを防止する方法について説明する。
第1の実施形態では、磁場変更の感度が強い磁場形成用コイルに対応する電源の応答時定数が、磁場変更の感度が弱い磁場形成用コイルに対応する電源の応答時定数よりも小さくなるように設定される。例えば、第1の磁場形成用コイル111aによる磁場変更の感度が、第2の磁場形成用コイル111bによる磁場変更の感度よりも強い場合、第1の磁場形成用コイル111aに対応する第1電流制御電源112aの応答時定数が、第2の磁場形成用コイル111bに対応する第2電流制御電源112bの応答時定数より小さくなるように設定される。ここで、「磁場変更の感度」とは、磁場変更が、試料(例えば、半導体処理基板113)の処理に与える影響の大きさ、より具体的には、例えば、プラズマ生成領域の位置を変える効果の大きさを意味する。
図6を参照して、第1の実施形態におけるプラズマ処理方法の一例について説明する。図6は、第1の実施形態におけるプラズマ処理方法の一例を示すフローチャートである。
図7および図8を参照して、第2の実施形態におけるプラズマ処理装置1’について説明する。図7は、第2の実施形態におけるプラズマ処理装置1’の一例であって、磁場形成用コイルを3つ備えたプラズマ処理装置の構成を模式的に示す概略縦断面図である。図8は、第3電流制御電源112cに第3の応答時定数変更装置が接続された様子を示す模式図である。
10 :電磁波供給装置
101 :真空容器
102 :シャワープレート
103 :誘電体窓
104 :処理室
105 :ガス供給装置
105p :ガス供給管
106 :真空排気口
107 :導波管
108 :空洞共振器
109 :高周波電源
110 :電磁波整合器
111 :磁場形成手段
111a :第1の磁場形成用コイル
111b :第2の磁場形成用コイル
111c :第3の磁場形成用コイル
112 :電源
112a :第1電流制御電源
112b :第2電流制御電源
112c :第3電流制御電源
113 :半導体処理基板
114 :試料台
115 :高周波整合器
116 :高周波電源
120 :制御装置
130 :ローパスフィルター
130a :第1ローパスフィルター
130b :第2ローパスフィルター
130c :第3ローパスフィルター
Claims (5)
- 試料がプラズマ処理される処理室と、マイクロ波の高周波電力を供給する高周波電源と、前記マイクロ波との相互作用によりプラズマを生成するための磁場を形成する磁場形成手段とを備えるプラズマ処理装置において、
第1の電源から第1の磁場形成用コイルに流れる電流における応答の時定数または第2の電源から第2の磁場形成用コイルに流れる電流における応答の時定数を制御する応答時定数変更装置を更に備え、
前記磁場形成手段は、前記処理室内に磁場を形成する前記第1の磁場形成用コイルに電流を流す第1の電源と前記処理室内に磁場を形成する前記第2の磁場形成用コイルに電流を流す第2の電源とを具備し、
前記第1の磁場形成用コイルにおける、磁場変更によってプラズマ生成領域の位置を変更する効果の大きさは、前記第2の磁場形成用コイルにおける、磁場変更によってプラズマ生成領域の位置を変更する効果の大きさより大きく、
前記第1の電源から第1の磁場形成用コイルに流れる電流における応答の時定数は、前記第2の電源から第2の磁場形成用コイルに流れる電流における応答の時定数より小さいことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 試料がプラズマ処理される処理室と、マイクロ波の高周波電力を供給する高周波電源と、前記マイクロ波との相互作用によりプラズマを生成するための磁場を形成する磁場形成手段とを備えるプラズマ処理装置において、
第1の磁場形成用コイルに流れる電流の大きさの変化量が第2の磁場形成用コイルに流れる電流の大きさの変化量よりも大きくなるように第1の電源および第2の電源を制御する制御装置をさらに備え、
前記磁場形成手段は、前記処理室内に磁場を形成する前記第1の磁場形成用コイルに電流を流す前記第1の電源と前記処理室内に磁場を形成する前記第2の磁場形成用コイルに電流を流す前記第2の電源とを具備し、
前記第1の電源から前記第1の磁場形成用コイルに流れる電流における応答の時定数は、前記第2の電源から前記第2の磁場形成用コイルに流れる電流における応答の時定数より小さいことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 試料がプラズマ処理される処理室と、マイクロ波の高周波電力を供給する高周波電源と、前記マイクロ波との相互作用によりプラズマを生成するための磁場を形成する磁場形成手段とを備えるプラズマ処理装置において、
前記磁場形成手段は、前記処理室内に磁場を形成する第1の磁場形成用コイルに電流を流す第1の電源と前記処理室内に磁場を形成する第2の磁場形成用コイルに電流を流す第2の電源と前記第2の磁場形成用コイルの上方に配置され前記処理室内に磁場を形成する第3の磁場形成用コイルとを具備し、
前記第1の磁場形成用コイルは、前記第2の磁場形成用コイルの下方に配置され、
前記第1の磁場形成用コイルにおける、磁場変更によってプラズマ生成領域の位置を変更する効果の大きさは、前記第2の磁場形成用コイルにおける、磁場変更によってプラズマ生成領域の位置を変更する効果の大きさより大きく、
前記第1の電源から前記第1の磁場形成用コイルに流れる電流における応答の時定数は、前記第2の電源から前記第2の磁場形成用コイルに流れる電流における応答の時定数より小さいことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1ないし請求項3のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置において、
前記第1の電源から前記第1の磁場形成用コイルに流れる電流における応答の時定数は、前記第2の電源から前記第2の磁場形成用コイルに流れる電流における応答の時定数の1/2以下であることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1に記載のプラズマ処理装置において、
前記応答時定数変更装置は、ローパスフィルターを具備することを特徴とするプラズマ処理装置。
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