JP6758111B2 - 基板搬送装置、電子部品実装機、生産ライン - Google Patents

基板搬送装置、電子部品実装機、生産ライン Download PDF

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Description

本発明は、基板を搬送する基板搬送装置、当該基板搬送装置を備える電子部品実装機、当該基板搬送装置を備える生産ラインに関する。
特許文献1に開示されている電子部品実装装置の基板搬送ユニットの上側には、イオナイザが配置されている。搬送される基板に帯電した電荷量が多い場合、基板搬送ユニットは、イオナイザ通過時の基板の搬送速度を遅くする。このため、基板の電荷量が多い場合であっても、充分に基板を除電することができる。
特開2006−86338号公報
しかしながら、同文献の電子部品実装機によると、充分に基板を除電するために、基板の搬送速度を遅くする必要がある。このため、基板の生産性が低下する。そこで、本発明は、基板を除電可能であって生産性が低下しにくい基板搬送装置、電子部品実装機、生産ラインを提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明の基板搬送装置は、上流側から下流側に向かって基板を搬送すると共に、除電区間を有する搬送路と、前記除電区間において、前記基板を除電するイオナイザと、前記除電区間において、搬送中の前記基板に対向可能に配置される導体板と、を備え、前記基板と前記導体板との間の距離を電極間距離として、前記基板が前記除電区間を通過する際、前記導体板は固定されており、前記電極間距離は、前記上流側から前記下流側に向かって拡大するように、設定されていることを特徴とする。なお、配線パターン、はんだ部、電子部品などの部材が基板に配置されている場合、「基板」は、当該部材を含む概念である。また、「電極間距離は、上流側から下流側に向かって拡大するように、設定されている」とは、除電区間の少なくとも一部において、電極間距離が、上流側から下流側に向かって拡大するように、設定されていることを意味する。
また、上記課題を解決するため、本発明の電子部品実装機は、上記基板搬送装置を備えることを特徴とする。また、上記課題を解決するため、本発明の生産ラインは、上記基板搬送装置を備えることを特徴とする。
基板と導体板とを各々電極とみなす場合、基板と導体板との間には、コンデンサが形成される。なお、誘電体は、基板と導体板との間の介在物(例えば空気など)である。真空の誘電率をε0、誘電体の比誘電率をεγ、電極面積をS、電極間距離をdとして、当該コンデンサの静電容量Cは、以下の式(1)から導出される。
C=ε0・εγ・S/d ・・・式(1)
また、コンデンサの電荷(基板に帯電した電荷)をQとして、電極間の電位差Vは、以下の式(2)から導出される。
V=Q/C={(Q/(ε0・εγ・S)}・d ・・・式(2)
ここで、ε0、εγ、Sは、各々定数である。また、電荷Qは一定である。このため、{(Q/(ε0・εγ・S)}をまとめて定数Kとすると、式(2)から式(3)が成立する。
V=K・d ・・・式(3)
式(3)から、電極間距離dを拡大することにより、電位差V(導体板を基準とした場合の基板の見かけの電位V)を上げることができる。基板の電位が高い(詳しくは、電位の絶対値が大きい)ほど、イオナイザから供給される、逆極性のイオンが引きつけられやすい。このため、基板の電位が高いほど、除電速度(基板に帯電した電荷を中和する速度)が速い。一方、基板の電位が低い(詳しくは、電位の絶対値が小さい)ほど、除電が飽和しやすい。このため、基板の電位が低いほど、除電速度が遅い。仮に、導体板が配置されていない場合、除電区間の上流側に対して下流側は、除電が進行する分だけ、基板の電位が低くなる。このため、上流側よりも下流側の方が、除電速度は遅くなる。
この点、本発明の基板搬送装置によると、除電区間において、電極間距離(基板と導体板との間の距離)が、上流側から下流側に向かって拡大するように、設定されている。このため、除電区間において、上流側から下流側に向かって除電速度が遅くなるのに応じて、基板の見かけの電位を調整することができる。したがって、イオナイザによる基板の除電速度を速くすることができる。このように、本発明の基板搬送装置によると、基板の除電速度を速くすることができる。このため、基板が除電区間の通過に要する時間、つまり基板の除電時間を、短縮することができる。したがって、基板の生産性が低下しにくい。
また、本発明の電子部品実装機によると、電子部品実装前および電子部品実装後のうち、少なくとも一方の基板を、除電することができる。また、本発明の生産ラインによると、生産ラインの所望の位置で、基板を除電することができる。
第一実施形態の生産ラインの模式図である。 第一実施形態の電子部品実装機の模式図である。 第二実施形態の電子部品実装機の模式図である。 第三実施形態の電子部品実装機の除電区間の模式図である。 第四実施形態の電子部品実装機の模式図である。
以下、本発明の基板搬送装置、電子部品実装機、生産ラインの実施の形態について説明する。
<第一実施形態>
[生産ラインの構成]
まず、本実施形態の生産ラインの構成について説明する。図1に、本実施形態の生産ラインの模式図を示す。図1に示すように、生産ライン9は、左側(搬送方向上流側)から右側(搬送方向下流側)に向かって、はんだ印刷機90と、はんだ印刷検査機91と、複数の電子部品実装機1と、リフロー炉92と、基板外観検査機93と、を備えている。
図2に、本実施形態の電子部品実装機の模式図を示す。なお、複数の電子部品実装機1の構成は同様である。図2に示すように、電子部品実装機1は、制御装置3と、装着ヘッド4と、基板搬送装置5と、を備えている。
装着ヘッド4は、ヘッド本体40と、吸着ノズル41と、を備えている。ヘッド本体40は、ロボット(図略)により、前後左右方向(水平方向)に移動可能である。吸着ノズル41は、ヘッド本体40に対して、下側に突出可能である。吸着ノズル41は、電子部品Pを、基板Bに装着可能である。なお、基板Bには、図示しない配線パターン、はんだ部、電子部品Pが配置されている。
基板搬送装置5は、搬送路50と、イオナイザ51と、導体板52と、前後一対の側壁53と、を備えている。搬送路50は、前後一対の側壁53の上縁に沿って、左右方向に延在している。搬送路50は、ベルトコンベアである。搬送路50は、モータ500により、回転駆動される。搬送路50は、左側から右側に向かって基板Bを搬送可能である。搬送路50は、除電区間Lを備えている。除電区間Lの始点L0は、基板Bに電子部品Pを装着する、装着位置E1の下流側に配置されている。除電区間Lの終点L1は、電子部品実装機1から基板Bを払い出す、搬出位置E2に配置されている。
イオナイザ51は、除電区間Lを搬送中の基板Bに帯電した電荷を、イオンにより中和可能である。つまり、基板Bを除電可能である。イオナイザ51は、複数のノズル510と、イオン発生装置511と、を備えている。イオン発生装置511は、図示しない交流電源と、放電針と、を備えている。イオン発生装置511は、放電針に交流電圧を印加してコロナ放電させることにより、イオン(プラスイオン、マイナスイオン)を発生させることができる。複数のノズル510は、除電区間Lの上側(基板Bの表側)および下側(基板Bの裏側)に、上下二段に配置されている。複数のノズル510は、イオン発生装置511に連通している。複数のノズル510は、除電区間Lを搬送中の基板Bの上下両面(表裏両面)に、イオン(中和ガス)を吹き付ける。
導体板52は、金属製(導体製)であって、平板状を呈している。導体板52は、前後一対の側壁53の間に介装、固定されている。導体板52は、電気的に接地されている。導体板52は、除電区間Lの下側に配置されている。導体板52は、除電区間Lの左右方向(搬送路50の延在方向)全長に亘って配置されている。導体板52は、除電区間Lを搬送中の基板Bに、下側(搬送路50の延在方向に対して直交する方向)から対向可能である。導体板52は、左右方向に対して、左側から右側に向かって下降するように、傾斜角度θで傾斜している。このため、除電区間Lにおいて、基板Bと導体板52との間の上下方向距離は、左側から右側に向かって拡大している。ここで、基板Bと導体板52とを各々電極とみなす場合、基板Bと導体板52との間には、コンデンサが形成される。基板Bと導体板52との間の上下方向距離は、電極間距離dに相当する。なお、上下二段の複数のノズル510のうち、下段の複数のノズル510は、導体板52を貫通して配置されている。
制御装置3は、入出力インターフェイス30と、演算部31と、記憶部32と、を備えている。入出力インターフェイス30は、モータ500、イオン発生装置511、装着ヘッド4に、電気的に接続されている。
[基板の除電方法]
次に、本実施形態の生産ラインが実行する基板の除電方法について説明する。図1、図2に示すように、生産ライン9を搬送される基板Bの配線パターンには、はんだ印刷機90において、はんだ部が印刷される。また、はんだ部には、複数の電子部品実装機1において、段階的に電子部品Pが装着される。はんだ印刷機90においては、基板Bからマスクを剥がす際に、基板Bが帯電する場合がある。また、電子部品実装機1においては、基板Bに電子部品Pを装着する際に、基板Bが帯電する場合がある。このため、基板外観検査機93において、検査用のニードルピンが電子部品Pに接触する際、ESD(electrostatic discharge)により、電子部品Pに意図しない電流が流れてしまう。そこで、本実施形態の生産ライン9の除電区間Lにおいては、基板Bの除電が行われる。なお、除電区間Lは、右端(搬送方向下流端)の電子部品実装機1の基板搬送装置5に設定されている。
制御装置3は、基板Bの除電を自動的に行っている。基板Bに対する電子部品Pの装着が終わると、図2に示す制御装置3は、モータ500を介して、搬送路50を動かす。基板Bは、装着位置E1から搬出され、除電区間Lを通過する。なお、イオナイザ51の複数のノズル510からは、常時、イオン(中和ガス)が噴射されている。このため、基板Bが除電区間Lの始点L0に到着すると、自動的に除電が開始される。除電区間Lにおいて、基板Bは、複数のノズル510間を通過する。通過の際、基板Bの上下両面には、複数のノズル510からイオンが吹き付けられる。除電区間Lを通過する際の、基板Bの搬送速度は一定である。また、除電区間Lを通過する際の基板Bの搬送速度は、図2に示す搬入位置E0から装着位置E1までの基板Bの搬送速度と等速である。
前述したように、導体板52は、左右方向に対して、左側から右側に向かって下降するように、傾斜角度θで傾斜している。このため、電極間距離dは、左側から右側に向かって拡大している。前出の式(3)に示すように、電極間距離dが大きいと、基板Bの電位Vが高くなる。一方、基板Bの電位Vが高くなると、イオナイザ51による基板Bの除電速度が速くなる。このため、基板Bの電位Vは下降しやすくなる。したがって、除電区間Lの始点L0付近においては、基板Bに、主に、電極間距離dの拡大による電位上昇作用(以下、単に「電位上昇作用」と称する)が働く。このため、基板Bの電位Vは上昇する。その後は、基板Bが除電区間Lを移動するのに従って、電位上昇作用と、除電速度の増速による電位下降作用(以下、単に「電位下降作用」と称する)と、が互いに相殺するように基板Bに働く。このため、基板Bの電位Vは、双方の作用の大小関係により、上昇、または下降する。あるいは、電位Vは一定になる。このようにして、基板Bの除電が完了する。その後、制御装置3は、モータ500を介して搬送路50を動かすことにより、除電後の基板Bを、図1に示すリフロー炉92に払い出す。
[作用効果]
次に、本実施形態の基板搬送装置、電子部品実装機、生産ラインの作用効果について説明する。本実施形態の基板搬送装置5、電子部品実装機1、生産ライン9(以下、「基板搬送装置5等」と称す)によると、除電区間Lにおいて、電極間距離dが、左側から右側に向かって拡大するように、設定されている。このため、除電区間Lにおいて、左側から右側に向かって除電速度が遅くなるのに応じて、基板Bの見かけの電位Vを調整することができる。したがって、イオナイザ51による基板Bの除電速度を速くすることができる。このように、本実施形態の基板搬送装置5等によると、基板Bの除電速度を速くすることができる。このため、基板Bの除電時間を短縮することができる。
また、除電区間Lを通過する時だけ、敢えて、基板Bの搬送速度を遅くする必要がない。したがって、除電区間Lを通過する際の基板Bの搬送速度を、図2に示す搬入位置E0から装着位置E1までの基板Bの搬送速度と、等速にすることができる。よって、生産ライン9において複数の基板Bを連続的に大量生産する場合、除電区間Lで基板Bの滞留が発生しにくい。すなわち、基板Bの生産性が低下しにくい。
また、本実施形態の基板搬送装置5等によると、導体板52の傾斜角度θにより基板Bの電位V、除電速度を調整可能である。このため、除電区間Lを通過する際に、基板Bの搬送速度を、途中で変化させる必要がない。したがって、除電区間Lを通過する際の基板Bの搬送速度を、除電区間Lの全長に亘って、等速にすることができる。よって、基板Bの生産性が低下しにくい。
また、仮に、導体板52が左右方向に延在している場合(傾斜角度θが0°の場合)、基板Bの電位V、除電速度を調整するためには、別途、基板Bが除電区間Lを通過する際に導体板52を昇降するための、駆動機構(例えば、ボールねじ機構)が必要になる。このため、基板搬送装置5等の構造が複雑化してしまう。この点、本実施形態の基板搬送装置5等によると、固定された導体板52により基板Bの電位V、除電速度を調整可能である。すなわち、基板Bが除電区間Lを通過する際に、導体板52を昇降させる必要がない。このため、基板搬送装置5等の構造が簡単である。
また、本実施形態の電子部品実装機1によると、電子部品実装後の基板Bを除電することができる。また、本実施形態の生産ライン9によると、生産ライン9の所望の位置で、基板Bを除電することができる。
また、本実施形態の生産ライン9によると、図1に示す右端の電子部品実装機1において、基板Bは除電済みである。このため、基板外観検査機93において、検査用のニードルピンが電子部品Pに接触しても、ESDによる不具合が電子部品Pに発生しにくい。
また、図2に示すように、複数のノズル510は、基板Bの上下方向両側に配置されている。このため、基板Bの上下両面に、中和用のイオン(中和ガス)を吹き付けることができる。したがって、迅速かつ確実に、基板Bに帯電した電荷を中和することができる。
<第二実施形態>
本実施形態の基板搬送装置等と第一実施形態の基板搬送装置等との相違点は、基板搬送装置が角度調整部を備えている点である。ここでは、相違点についてのみ説明する。図3に、本実施形態の電子部品実装機の模式図を示す。なお、図2と対応する部位については、同じ符号で示す。図3に示すように、電子部品実装機1の基板搬送装置5は、角度調整部(揺動軸520、モータ521)を備えている。このため、制御装置3が、モータ521を介して揺動軸520を揺動させることにより、導体板52の傾斜角度θを、自動的に変更することができる。記憶部32には、予め、基板Bの種類毎に傾斜角度θが格納されている。制御装置3は、段取り替えの際に、これから生産される基板Bの種類に応じて、傾斜角度θを自動的に切り替える。
本実施形態の基板搬送装置等は、構成が共通する部分に関しては、第一実施形態の基板搬送装置等と同様の作用効果を有している。また、本実施形態の基板搬送装置等によると、複数種類の基板Bにおいて、単一の導体板52を共用化することができる。
<第三実施形態>
本実施形態の基板搬送装置等と第一実施形態の基板搬送装置等との相違点は、導体板の傾斜角度が一定ではない点である。ここでは、相違点についてのみ説明する。図4に、本実施形態の電子部品実装機の除電区間の模式図を示す。なお、左縦軸は導体板52の各部の高さを、右縦軸は基板Bの電位Vを、横軸は左右方向の位置を、各々示す。また、図2と対応する部位については、同じ符号で示す。また、説明の便宜上、イオナイザを省略して示す。図4に示すように、除電区間Lには、左側(上流側)から右側(下流側)に向かって、第一下降区間S1(始点L0〜点La)と、第二下降区間S2(点La〜点Lb)と、第一保持区間S3(点Lb〜点Lc)と、第三下降区間S4(点Lc〜点Ld)と、第二保持区間S5(点Ld〜終点L1)と、が設定されている。導体板52は、除電区間Lの左右方向全長に亘って配置されている。前側(搬送路50の延在方向に対して直交する方向であって水平方向)から見て、導体板52は、互いに傾斜角度θの異なる複数の直線(平板)が連なって構成されている。すなわち、前側から見て、導体板52は、折れ線状を呈している。
[第一下降区間S1]
第一下降区間S1において、導体板52の左端(始点L0)は、高さH0に設定されている。一方、導体板52の右端(点La)は、高さH1に設定されている。このため、左側から右側に向かって、電極間距離dは拡大している。第一下降区間S1は、距離が短い。このため、基板Bには、主に、電位上昇作用が働く。したがって、基板Bの電位Vは、管理上限値V0まで上昇する。なお、管理上限値V0とは、「電位Vがこの値を上回ると、ESDによる不具合が電子部品Pに発生しやすくなる値」である。
[第二下降区間S2]
第二下降区間S2において、導体板52の左端(点La)は、高さH1に設定されている。一方、導体板52の右端(点Lb)は、高さH2に設定されている。このため、左側から右側に向かって、電極間距離dは拡大している。第二下降区間S2は、第一下降区間S1よりも、距離が長い。このため、基板Bには、電位上昇作用と電位下降作用とが働く。基板Bの電位Vは、管理上限値V0を上回らない電位であって、管理上限値V0に近い電位に保持される。
[第一保持区間S3]
第一保持区間S3において、導体板52の左端(点Lb)および右端(点Lc)は、高さH2に設定されている。このため、第一保持区間S3全長に亘って、電極間距離dは一定である。したがって、基板Bには、主に、電位下降作用が働く。よって、基板Bの電位Vは、管理下限値V1まで下降する。なお、管理下限値V1とは、「終点L1において電位Vがこの値以下であれば、除電完了と判断される値」である。
[第三下降区間S4]
第三下降区間S4において、導体板52の左端(点Lc)は、高さH2に設定されている。一方、導体板52の右端(点Ld)は、高さH3に設定されている。このため、左側から右側に向かって、電極間距離dは拡大している。第三下降区間S4は、第一下降区間S1同様に、距離が短い。このため、基板Bには、主に、電位上昇作用が働く。したがって、基板Bの電位Vは、電位V2まで上昇する。
[第二保持区間S5]
第二保持区間S5において、導体板52の左端(点Ld)および右端(終点L1)は、高さH3に設定されている。このため、第二保持区間S5全長に亘って、電極間距離dは一定である。したがって、基板Bには、主に、電位下降作用が働く。よって、基板Bの電位Vは、管理下限値V1まで下降する。このようにして、基板Bの除電が完了する。
本実施形態の基板搬送装置等は、構成が共通する部分に関しては、第一実施形態の基板搬送装置等と同様の作用効果を有している。また、第二下降区間S2においては、導体板52の傾斜角度θが、電位Vが管理上限値V0を上回らないように、設定されている。このため、ESDによる不具合が電子部品に発生しにくい。
また、第一保持区間S3の右側(下流側)には、第三下降区間S4が設定されている。このため、基板Bの電位Vが管理下限値V1まで下がりきったところで、電極間距離dを拡大し、基板Bの電位Vを上げることができる。したがって、最後まで基板Bに残留していた電荷を、中和することができる。よって、基板Bを、充分に除電することができる。
また、第二保持区間S5においては、基板Bの電位Vが管理下限値V1まで下がりきったところで、基板Bを払い出している。このため、充分に除電された基板Bを、後工程(リフロー炉)に払い出すことができる。
<第四実施形態>
本実施形態の基板搬送装置等と第一実施形態の基板搬送装置等との相違点は、除電区間の左側に電位保持区間が設定されている点である。ここでは、相違点についてのみ説明する。図5に、本実施形態の電子部品実装機の模式図を示す。なお、図2と対応する部位については、同じ符号で示す。図5に示すように、搬送路50の除電区間Lの左側(上流側)であって、装着位置E1の右側(下流側)には、電位保持区間Mが設定されている。導体板52は、電位保持区間Mまで延在している。一方、イオナイザ51は、電位保持区間Mまで延在していない。電位保持区間Mにおいて、導体板52は、左右方向(水平方向)に延在している。このため、電位保持区間Mにおいて、電極間距離dは一定である。
本実施形態の基板搬送装置等は、構成が共通する部分に関しては、第一実施形態の基板搬送装置等と同様の作用効果を有している。また、本実施形態の基板搬送装置等によると、電位保持区間Mにおいて、導体板52が配置されていない場合と比較して、基板Bの電位Vを低く保持することができる。このため、ESDによる不具合が電子部品Pに発生しにくい。このように、電位保持区間Mを設定すると、基板Bを保護することができる。
<その他>
以上、本発明の基板搬送装置、電子部品実装機、生産ラインの実施の形態について説明した。しかしながら、実施の形態は上記形態に特に限定されるものではない。当業者が行いうる種々の変形的形態、改良的形態で実施することも可能である。
例えば、除電区間Lにおける導体板52の傾斜角度θの設定方法は特に限定しない。傾斜角度θは、図4に示す管理上限値V0、管理下限値V1から設定してもよい。例えば、傾斜角度θは、電位Vが管理上限値V0を超過しないように、かつ終点L1において電位Vが管理下限値V1以下になるように、設定してもよい。
また、除電区間Lにおける導体板52の傾斜角度θは特に限定しない。また、前側(搬送路50の延在方向に対して直交する方向であって水平方向)から見た場合の、導体板52の形状は、特に限定しない。例えば、導体板52の形状は、直線状(平板状)、折れ線状(折れ板状)、曲線状(曲板状)などであってもよい。また、導体板52の形状が曲線状の場合、曲率中心は、導体板52の上側にあっても下側にあってもよい。また、互いに傾斜角度θの異なる複数の直線や曲線が連なって(勿論、直線と曲線とが連なっていてもよい)、導体板52を構成していてもよい。また、導体板52は、除電区間Lの左右方向全長に亘って配置されていなくてもよい。導体板52は、除電区間Lの左右方向全長のうち、少なくとも一部に配置されていればよい。また、単一の除電区間Lに、複数の導体板52が断続的に配置されていてもよい。
また、図1に示す生産ライン9における、電位保持区間Mの設定場所、設定数、設定長は、特に限定しない。例えば、電位保持区間Mを、除電区間Lの右側に設定してもよい。また、電位保持区間Mに、搬入位置E0や装着位置E1が含まれていてもよい。また、電位保持区間Mは、除電区間Lやイオナイザ51とは無関係に、搬送路50に設定することができる。この場合であっても、電位保持区間Mを設定することにより、ESDによる不具合から、基板Bを保護することができる。
また、電位保持区間Mにおける導体板52の傾斜角度θは、特に限定しない。例えば、電極間距離dが左側から右側に向かって縮小するように、傾斜角度θを設定すると、左側から右側に向かって電位Vを下降させることができる。また、図5に示すように傾斜角度θを0°に設定すると、左側から右側に向かって所定の電位Vを維持することができる。
図2に示すイオナイザ51は、基板Bの極性が判っている場合は、直流方式でもよい。複数のノズル510は、上段だけ、または下段だけに配置してもよい。図1に示す生産ライン9における、除電区間Lの設定場所、設定数、設定長は、特に限定しない。例えば、除電区間Lを、基板外観検査機93の処理部(実際に基板の外観の検査を行う部分)の上流側に設定してもよい。また、リフロー炉92と基板外観検査機93との間に基板搬送体(例えばコンベア装置)を配置し、当該基板搬送体に除電区間Lを設定してもよい。
図4に示す第一下降区間S1、第二下降区間S2、第一保持区間S3、第三下降区間S4、第二保持区間S5の距離、導体板52の傾斜角度θ、管理上限値V0、管理下限値V1、電位V2などは、特に限定しない。図2に示す除電区間Lを通過する際の基板Bの搬送速度は、搬入位置E0から装着位置E1までの基板Bの搬送速度よりも、速くてもよい。図2に示す導体板52を、基板Bの上側に配置してもよい。この場合は、左側(上流側)から右側(下流側)に向かって上昇するように、導体板52に傾斜角度θを設定すればよい。すなわち、導体板52は、除電区間Lにおいて、搬送中の基板Bと、上下方向(搬送路50の延在方向に対して直交する方向)に対向可能であればよい。
1:電子部品実装機、3:制御装置、30:入出力インターフェイス、31:演算部、32:記憶部、4:装着ヘッド、40:ヘッド本体、41:吸着ノズル、5:基板搬送装置、50:搬送路、500:モータ、51:イオナイザ、510:ノズル、511:イオン発生装置、52:導体板、520:揺動軸、521:モータ、53:側壁、9:生産ライン、90:はんだ印刷機、91:はんだ印刷検査機、92:リフロー炉、93:基板外観検査機、B:基板、E0:搬入位置、E1:装着位置、E2:搬出位置、H〜H3:高さ、L:除電区間、L0:始点、L1:終点、M:電位保持区間、P:電子部品、S1:第一下降区間、S2:第二下降区間、S3:第一保持区間、S4:第三下降区間、S5:第二保持区間、V:電位、V0:管理上限値、V1:管理下限値、d:電極間距離、θ:傾斜角度

Claims (5)

  1. 上流側から下流側に向かって基板を搬送すると共に、除電区間を有する搬送路と、
    前記除電区間において、前記基板を除電するイオナイザと、
    前記除電区間において、搬送中の前記基板に対向可能に配置され、電気的に接地された導体板と、
    を備え、
    前記基板と前記導体板との間の距離を電極間距離として、
    前記基板が前記除電区間を通過する際、前記導体板は固定されており、前記電極間距離は、前記上流側から前記下流側に向かって拡大するように、設定されている基板搬送装置。
  2. 前記搬送路に対する前記導体板の傾斜角度を調整する角度調整部を備える請求項1に記載の基板搬送装置。
  3. 前記イオナイザは、前記基板の表裏方向両側に配置され、前記基板の表裏両面に中和ガスを吹き付ける複数のノズルを有する請求項1または請求項2に記載の基板搬送装置。
  4. 請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の基板搬送装置を備える電子部品実装機。
  5. 請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の基板搬送装置を備える生産ライン。
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