JP2000183132A - 搬送物の除電機能を備えた真空吸着搬送装置及び搬送方法 - Google Patents
搬送物の除電機能を備えた真空吸着搬送装置及び搬送方法Info
- Publication number
- JP2000183132A JP2000183132A JP35492298A JP35492298A JP2000183132A JP 2000183132 A JP2000183132 A JP 2000183132A JP 35492298 A JP35492298 A JP 35492298A JP 35492298 A JP35492298 A JP 35492298A JP 2000183132 A JP2000183132 A JP 2000183132A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- vacuum suction
- suction pad
- breaking air
- supply system
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【課題】 搬送物の除電機能を備えた真空吸着搬送装置
及び搬送方法を提供する。 【解決手段】 真空吸着搬送装置は、搬送物ＷＰを真空
吸着する真空吸着パッド１０を備える。真空吸着パッド
１０へ真空破壊エアーを供給するための真空破壊エアー
供給系４２、４４、４６に、イオナイザ４８を装備し
て、真空破壊エアーをイオン化する。真空吸着パッド１
０が搬送物ＷＰを解放する際に、その搬送物ＷＰにイオ
ン化した真空破壊エアーを吹き付けることで、搬送物Ｗ
Ｐの帯電を中和して除電する。
及び搬送方法を提供する。 【解決手段】 真空吸着搬送装置は、搬送物ＷＰを真空
吸着する真空吸着パッド１０を備える。真空吸着パッド
１０へ真空破壊エアーを供給するための真空破壊エアー
供給系４２、４４、４６に、イオナイザ４８を装備し
て、真空破壊エアーをイオン化する。真空吸着パッド１
０が搬送物ＷＰを解放する際に、その搬送物ＷＰにイオ
ン化した真空破壊エアーを吹き付けることで、搬送物Ｗ
Ｐの帯電を中和して除電する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、搬送物の除電機能
を備えた真空吸着搬送装置及び搬送方法に関する。
を備えた真空吸着搬送装置及び搬送方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の製造工程
では、ＬＣＤのガラス基板をトレイからステージへ、ス
テージからステージへ、またはステージからトレイへ搬
送するために真空吸着搬送装置が多く使用されており、
更には、トレイまたはステージと搬送ベルトとの間でガ
ラス基板を受け渡すためにも、しばしば真空吸着搬送装
置が使用されている。
では、ＬＣＤのガラス基板をトレイからステージへ、ス
テージからステージへ、またはステージからトレイへ搬
送するために真空吸着搬送装置が多く使用されており、
更には、トレイまたはステージと搬送ベルトとの間でガ
ラス基板を受け渡すためにも、しばしば真空吸着搬送装
置が使用されている。
【０００３】典型的な真空吸着搬送装置は、搬送物を真
空吸着する真空吸着パッドと、真空吸着パッドを移動制
御する移動制御機構と、真空吸着パッドへ真空を供給す
るための真空供給系と、真空吸着パッドへ真空破壊エア
ーを供給するための真空破壊エアー供給系とを備えてい
る。
空吸着する真空吸着パッドと、真空吸着パッドを移動制
御する移動制御機構と、真空吸着パッドへ真空を供給す
るための真空供給系と、真空吸着パッドへ真空破壊エア
ーを供給するための真空破壊エアー供給系とを備えてい
る。
【０００４】真空吸着パッドがガラス基板を吸着してト
レイ、ステージ、または搬送ベルトから持ち上げる際に
は、そのガラス基板がトレイ、ステージ、または搬送ベ
ルトの表面から離れる瞬間に剥離帯電が発生してガラス
基板が帯電することがある。トレイやステージ、それに
搬送ベルトの材質には、剥離帯電が発生しにくいものが
選択されているが、それでも尚、剥離帯電を完全になく
すことは不可能である。ＬＣＤの製造中にガラス基板が
帯電すると、ガラス基板上に形成された素子の絶縁破壊
やガラス基板への塵埃付着等の不都合が発生するため、
帯電した場合には早いうちに除電する必要がある。
レイ、ステージ、または搬送ベルトから持ち上げる際に
は、そのガラス基板がトレイ、ステージ、または搬送ベ
ルトの表面から離れる瞬間に剥離帯電が発生してガラス
基板が帯電することがある。トレイやステージ、それに
搬送ベルトの材質には、剥離帯電が発生しにくいものが
選択されているが、それでも尚、剥離帯電を完全になく
すことは不可能である。ＬＣＤの製造中にガラス基板が
帯電すると、ガラス基板上に形成された素子の絶縁破壊
やガラス基板への塵埃付着等の不都合が発生するため、
帯電した場合には早いうちに除電する必要がある。
【０００５】従来の除電装置として、ステージ上、搬送
ベルト上、それにトレイ支持装置上に装備したエアー吹
き付け装置から、そのステージ、搬送ベルト、ないしト
レイに載置されたガラス基板に、イオン化したエアーを
吹き付けるようにしたものがある。エアー中に含まれる
正負イオンのうち、ガラス基板の帯電極性に対して逆極
性のイオンがそのガラス基板に吸着され、それによっ
て、帯電していた電荷が中和されて除電が達成される。
ガラス基板の帯電極性は多くの場合正極性であるため、
エアー中の負イオン濃度を正イオン濃度より高くしてお
くことによって、より好適な結果が得られることが多
い。
ベルト上、それにトレイ支持装置上に装備したエアー吹
き付け装置から、そのステージ、搬送ベルト、ないしト
レイに載置されたガラス基板に、イオン化したエアーを
吹き付けるようにしたものがある。エアー中に含まれる
正負イオンのうち、ガラス基板の帯電極性に対して逆極
性のイオンがそのガラス基板に吸着され、それによっ
て、帯電していた電荷が中和されて除電が達成される。
ガラス基板の帯電極性は多くの場合正極性であるため、
エアー中の負イオン濃度を正イオン濃度より高くしてお
くことによって、より好適な結果が得られることが多
い。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】この種の除電装置に
は、これまでに様々な改良が加えられており、良好な除
電性能を有するものが数多く存在している。しかしなが
ら、ステージ、搬送ベルト、ないしトレイ支持装置の各
々に個別に除電装置を装備しなければならないため、Ｌ
ＣＤを製造するクリーンルーム内部の空間のうち、それ
ら除電装置によって占められる空間が小さくない上に、
全体としての設備コストもかなりかかるという問題があ
った。本発明は前記事情に鑑み案出されたものであっ
て、本発明の目的は、搬送物の除電機能を備えた真空吸
着搬送装置を提供することで、前記問題を解決すること
にある。本発明の更なる目的は、搬送物の除電を行うよ
うにした搬送方法を提供することで、前記問題を解決す
ることにある。
は、これまでに様々な改良が加えられており、良好な除
電性能を有するものが数多く存在している。しかしなが
ら、ステージ、搬送ベルト、ないしトレイ支持装置の各
々に個別に除電装置を装備しなければならないため、Ｌ
ＣＤを製造するクリーンルーム内部の空間のうち、それ
ら除電装置によって占められる空間が小さくない上に、
全体としての設備コストもかなりかかるという問題があ
った。本発明は前記事情に鑑み案出されたものであっ
て、本発明の目的は、搬送物の除電機能を備えた真空吸
着搬送装置を提供することで、前記問題を解決すること
にある。本発明の更なる目的は、搬送物の除電を行うよ
うにした搬送方法を提供することで、前記問題を解決す
ることにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
本発明は、搬送物を真空吸着する真空吸着パッドと、前
記真空吸着パッドを移動制御する移動制御機構と、前記
真空吸着パッドへ真空を供給するための真空供給系と、
前記真空吸着パッドへ真空破壊エアーを供給するための
真空破壊エアー供給系とを備えた真空吸着搬送装置にお
いて、前記真空破壊エアー供給系に、真空破壊エアーを
イオン化するイオン化手段を装備し、前記真空吸着パッ
ドを、搬送物にイオン化した真空破壊エアーを吹き付け
得るように構成したことを特徴とする。この真空吸着搬
送装置によれば、真空吸着パッドが搬送物を吸着して持
ち上げる際に発生する剥離帯電による搬送物の帯電を、
真空吸着パッドがその搬送物を解放する際に除電するこ
とができ、真空吸着搬送装置から搬送物を受取るステー
ジ、トレイ支持装置、搬送ベルト等に個別に除電装置を
設けずに済む。また本発明は、搬送物を真空吸着する真
空吸着パッドと、前記真空吸着パッドを移動制御する移
動制御機構と、前記真空吸着パッドへ真空を供給するた
めの真空供給系と、前記真空吸着パッドへ真空破壊エア
ーを供給するための真空破壊エアー供給系とを備えた真
空吸着搬送装置を用いて搬送物を搬送する方法におい
て、前記真空破壊エアー供給系が前記真空パッドへ供給
する真空破壊エアーをイオン化するステップと、前記真
空吸着パッドが搬送物を解放する際に、搬送物にイオン
化した真空破壊エアーを吹き付けることで、搬送物の除
電を行うステップとを含んでいることを特徴とする。こ
の搬送方法によれば、上述の真空吸着搬送装置と同様
に、真空吸着パッドが搬送物を吸着して持ち上げる際に
発生する剥離帯電による搬送物の帯電を、真空吸着パッ
ドがその搬送物を解放する際に除電することができ、真
空吸着搬送装置から搬送物を受取るステージ、トレイ支
持装置、搬送ベルト等に個別に除電装置を設けずに済
む。
本発明は、搬送物を真空吸着する真空吸着パッドと、前
記真空吸着パッドを移動制御する移動制御機構と、前記
真空吸着パッドへ真空を供給するための真空供給系と、
前記真空吸着パッドへ真空破壊エアーを供給するための
真空破壊エアー供給系とを備えた真空吸着搬送装置にお
いて、前記真空破壊エアー供給系に、真空破壊エアーを
イオン化するイオン化手段を装備し、前記真空吸着パッ
ドを、搬送物にイオン化した真空破壊エアーを吹き付け
得るように構成したことを特徴とする。この真空吸着搬
送装置によれば、真空吸着パッドが搬送物を吸着して持
ち上げる際に発生する剥離帯電による搬送物の帯電を、
真空吸着パッドがその搬送物を解放する際に除電するこ
とができ、真空吸着搬送装置から搬送物を受取るステー
ジ、トレイ支持装置、搬送ベルト等に個別に除電装置を
設けずに済む。また本発明は、搬送物を真空吸着する真
空吸着パッドと、前記真空吸着パッドを移動制御する移
動制御機構と、前記真空吸着パッドへ真空を供給するた
めの真空供給系と、前記真空吸着パッドへ真空破壊エア
ーを供給するための真空破壊エアー供給系とを備えた真
空吸着搬送装置を用いて搬送物を搬送する方法におい
て、前記真空破壊エアー供給系が前記真空パッドへ供給
する真空破壊エアーをイオン化するステップと、前記真
空吸着パッドが搬送物を解放する際に、搬送物にイオン
化した真空破壊エアーを吹き付けることで、搬送物の除
電を行うステップとを含んでいることを特徴とする。こ
の搬送方法によれば、上述の真空吸着搬送装置と同様
に、真空吸着パッドが搬送物を吸着して持ち上げる際に
発生する剥離帯電による搬送物の帯電を、真空吸着パッ
ドがその搬送物を解放する際に除電することができ、真
空吸着搬送装置から搬送物を受取るステージ、トレイ支
持装置、搬送ベルト等に個別に除電装置を設けずに済
む。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図１は本発明の実施の形態
にかかる真空吸着搬送装置の要部を示した説明図、図２
は図１の真空吸着搬送装置を装備した液晶ディスプレイ
製造設備の概略平面図である。
施の形態について説明する。図１は本発明の実施の形態
にかかる真空吸着搬送装置の要部を示した説明図、図２
は図１の真空吸着搬送装置を装備した液晶ディスプレイ
製造設備の概略平面図である。
【０００９】図１及び図２に示した本発明の実施の形態
にかかる真空吸着搬送装置は、搬送物ＷＰを真空吸着す
る真空吸着パッド１０と、真空吸着パッド１０を移動制
御する移動制御機構１２と、真空吸着パッド１０へ真空
を供給するための真空供給系１４と、真空吸着パッド１
０へ真空破壊エアーを供給するための真空破壊エアー供
給系１６とを備えている。真空破壊エアーとは、吸着さ
れた搬送物ＷＰを吸着パッド１０から解放するために、
真空吸着パッド１０と搬送物ＷＰとの間に吸着に際して
形成された真空状態を破壊する（消滅させる）ことを目
的として、真空吸着パッド１０に導入する空気のことで
ある。
にかかる真空吸着搬送装置は、搬送物ＷＰを真空吸着す
る真空吸着パッド１０と、真空吸着パッド１０を移動制
御する移動制御機構１２と、真空吸着パッド１０へ真空
を供給するための真空供給系１４と、真空吸着パッド１
０へ真空破壊エアーを供給するための真空破壊エアー供
給系１６とを備えている。真空破壊エアーとは、吸着さ
れた搬送物ＷＰを吸着パッド１０から解放するために、
真空吸着パッド１０と搬送物ＷＰとの間に吸着に際して
形成された真空状態を破壊する（消滅させる）ことを目
的として、真空吸着パッド１０に導入する空気のことで
ある。
【００１０】図２に示すように、移動制御機構１２は、
床に固定されＸ方向に水平に延在するＸ方向案内レール
１８と、このＸ方向案内レール１８に支持されＹ方向に
水平に延在するＹ方向案内レール２０と、このＹ方向案
内レール２０に支持された搬送ヘッド２２と、不図示の
制御装置とで構成されている。搬送ヘッド２２はＹ方向
案内レール２０上をＹ方向に移動可能であり、Ｙ方向案
内レール２０はＸ方向案内レール１８上をＸ方向に移動
可能である。不図示の制御装置がそれらの移動を制御す
ることによって、搬送ヘッド２２はＸＹ方向に移動制御
される。真空吸着パッド１０は、搬送ヘッド２２上に、
Ｚ方向（垂直方向）移動可能に支持されており、真空吸
着パッド１０のＺ方向の移動も、不図示の制御装置によ
って制御される。
床に固定されＸ方向に水平に延在するＸ方向案内レール
１８と、このＸ方向案内レール１８に支持されＹ方向に
水平に延在するＹ方向案内レール２０と、このＹ方向案
内レール２０に支持された搬送ヘッド２２と、不図示の
制御装置とで構成されている。搬送ヘッド２２はＹ方向
案内レール２０上をＹ方向に移動可能であり、Ｙ方向案
内レール２０はＸ方向案内レール１８上をＸ方向に移動
可能である。不図示の制御装置がそれらの移動を制御す
ることによって、搬送ヘッド２２はＸＹ方向に移動制御
される。真空吸着パッド１０は、搬送ヘッド２２上に、
Ｚ方向（垂直方向）移動可能に支持されており、真空吸
着パッド１０のＺ方向の移動も、不図示の制御装置によ
って制御される。
【００１１】前工程を完了した液晶ディスプレイ（ＬＣ
Ｄ）のガラス基板は、トレイに載置されて、トレイ支持
装置である第１トレイ・ストッカー２４へ搬入される。
従って第１トレイ・ストッカー２４上のガラス基板は受
入品である。それら受入品を真空吸着搬送装置が１つず
つ作業ステージ２６へ搬送する。作業ステージ２６で加
工された加工品は、再び真空吸着搬送装置によって、今
度は検査ステージ２８へ搬送され、そこで検査される。
検査に合格した合格品は、第２トレイ・ストッカー３０
に支持されたトレイ上に搬送され、一方、不良品は、第
３トレイ・ストッカー３２に支持されたトレイ上に搬送
される。これらの搬送も真空吸着搬送装置によって行わ
れる。
Ｄ）のガラス基板は、トレイに載置されて、トレイ支持
装置である第１トレイ・ストッカー２４へ搬入される。
従って第１トレイ・ストッカー２４上のガラス基板は受
入品である。それら受入品を真空吸着搬送装置が１つず
つ作業ステージ２６へ搬送する。作業ステージ２６で加
工された加工品は、再び真空吸着搬送装置によって、今
度は検査ステージ２８へ搬送され、そこで検査される。
検査に合格した合格品は、第２トレイ・ストッカー３０
に支持されたトレイ上に搬送され、一方、不良品は、第
３トレイ・ストッカー３２に支持されたトレイ上に搬送
される。これらの搬送も真空吸着搬送装置によって行わ
れる。
【００１２】図１に示すように、真空吸着パッド１０の
連通ポート１０ａに、制御装置４０によって制御される
３位置のソレノイド切換弁３４が接続されている。この
切換弁３４は、真空供給系１４の要素でもあり、また真
空破壊エアー供給系１６の要素でもある。即ち、真空供
給系１４は、切換弁３４と、真空ポンプ３６と、それら
を接続する管路３８とで構成されており、真空ポンプ３
６も制御装置４０によって制御されている。また、真空
破壊エアー供給系１６は、切換弁３４と、空気圧源４２
と、フィルタ４４と、圧力調整器（レギュレータ）４６
と、それらを接続する管路とで構成されている。
連通ポート１０ａに、制御装置４０によって制御される
３位置のソレノイド切換弁３４が接続されている。この
切換弁３４は、真空供給系１４の要素でもあり、また真
空破壊エアー供給系１６の要素でもある。即ち、真空供
給系１４は、切換弁３４と、真空ポンプ３６と、それら
を接続する管路３８とで構成されており、真空ポンプ３
６も制御装置４０によって制御されている。また、真空
破壊エアー供給系１６は、切換弁３４と、空気圧源４２
と、フィルタ４４と、圧力調整器（レギュレータ）４６
と、それらを接続する管路とで構成されている。
【００１３】本発明にかかる真空吸着搬送装置は、帯電
した搬送物を除電するための、搬送物の除電機能を備え
たものである。この機能を得るために、真空破壊エアー
供給系１６に、真空破壊エアーをイオン化するイオン化
手段を装備している。このイオン化手段は、真空破壊エ
アーの流路中に介設したイオナイザ４８と、このイオナ
イザ４８を制御して真空破壊エアー中の正負イオン濃度
を調節するイオナイザ制御手段とを含むものである。
した搬送物を除電するための、搬送物の除電機能を備え
たものである。この機能を得るために、真空破壊エアー
供給系１６に、真空破壊エアーをイオン化するイオン化
手段を装備している。このイオン化手段は、真空破壊エ
アーの流路中に介設したイオナイザ４８と、このイオナ
イザ４８を制御して真空破壊エアー中の正負イオン濃度
を調節するイオナイザ制御手段とを含むものである。
【００１４】イオナイザ４８は、真空破壊エアーが流通
するハウジングの内部に放電針５０と対極５２とを配設
したコロナ放電方式のものであり、それら放電針５０と
対極５２との間に、交流電源５４と直流電源５６とが直
列に接続されている。交流電源５４はコロナ放電を発生
させるための交流高電圧を供給するものであり、その電
圧は制御装置４０によって制御される。直流電源５６は
直流バイアス電圧を供給するものであり、その電圧は同
じく制御装置４０によって制御される。
するハウジングの内部に放電針５０と対極５２とを配設
したコロナ放電方式のものであり、それら放電針５０と
対極５２との間に、交流電源５４と直流電源５６とが直
列に接続されている。交流電源５４はコロナ放電を発生
させるための交流高電圧を供給するものであり、その電
圧は制御装置４０によって制御される。直流電源５６は
直流バイアス電圧を供給するものであり、その電圧は同
じく制御装置４０によって制御される。
【００１５】交流電源５４の電圧を上昇させると、真空
破壊エアーがイオン化されて発生する正負イオンの総量
が増大し、直流電源５６の電圧を変化させると、発生す
る正イオンと負イオンの比が変化する。従って制御装置
４０とそれら電源５４、５６とで、前述のイオナイザ制
御手段が構成されている。
破壊エアーがイオン化されて発生する正負イオンの総量
が増大し、直流電源５６の電圧を変化させると、発生す
る正イオンと負イオンの比が変化する。従って制御装置
４０とそれら電源５４、５６とで、前述のイオナイザ制
御手段が構成されている。
【００１６】図２に参照番号５８で示したのは、真空吸
着パッド１０から搬送物ＷＰを受取るための絶縁支持さ
れた導電性の受取台であり、この受取台５８は必要に応
じてステージ等に設けられるものである。受取台５８と
グラウンドとの間に、電圧検出装置６０が接続されてい
る。電圧検出装置６０は、真空吸着パッド１０から受取
台５８へ搬送物ＷＰが受け渡される直前に受取台５８を
グラウンドに接続してその電位を接地電位とし、その後
に受取台５８とグラウンドとの間を絶縁する。真空吸着
パッド１０から受け渡された搬送物ＷＰが帯電していた
ならば、受取台５８の電位が変化し、その電位の変化を
電圧検出装置６０が検出する。この電位の変化は、搬送
物ＷＰの帯電量に比例するため、電圧検出装置６０は、
真空吸着パッド１０から該受取台５８へ受け渡された搬
送物ＷＰの帯電量を評価する帯電量評価手段として機能
する。
着パッド１０から搬送物ＷＰを受取るための絶縁支持さ
れた導電性の受取台であり、この受取台５８は必要に応
じてステージ等に設けられるものである。受取台５８と
グラウンドとの間に、電圧検出装置６０が接続されてい
る。電圧検出装置６０は、真空吸着パッド１０から受取
台５８へ搬送物ＷＰが受け渡される直前に受取台５８を
グラウンドに接続してその電位を接地電位とし、その後
に受取台５８とグラウンドとの間を絶縁する。真空吸着
パッド１０から受け渡された搬送物ＷＰが帯電していた
ならば、受取台５８の電位が変化し、その電位の変化を
電圧検出装置６０が検出する。この電位の変化は、搬送
物ＷＰの帯電量に比例するため、電圧検出装置６０は、
真空吸着パッド１０から該受取台５８へ受け渡された搬
送物ＷＰの帯電量を評価する帯電量評価手段として機能
する。
【００１７】電圧検出装置６０の出力は制御手段４０に
入力しており、制御手段４０は、電圧検出装置６０が出
力する搬送物ＷＰの帯電量の評価値に応じて電源５４、
５６の電圧を制御することで、イオナイザ４８を制御
し、真空破壊エアー中の正負イオン濃度を搬送物ＷＰの
帯電除去に最適な濃度に調節することができる。
入力しており、制御手段４０は、電圧検出装置６０が出
力する搬送物ＷＰの帯電量の評価値に応じて電源５４、
５６の電圧を制御することで、イオナイザ４８を制御
し、真空破壊エアー中の正負イオン濃度を搬送物ＷＰの
帯電除去に最適な濃度に調節することができる。
【００１８】真空吸着搬送装置が物品を搬送する際に
は、先ず、移動制御機構が真空吸着パッド１０を移動制
御して、トレイないしステージ上に載置されている搬送
すべき物品（即ち、搬送物ＷＰ）の上方へ、真空吸着パ
ッド１０を移動させる。このとき切換弁３４は、真空供
給系と真空破壊エアー供給系のいずれをも、真空吸着パ
ッド１０から遮断している。
は、先ず、移動制御機構が真空吸着パッド１０を移動制
御して、トレイないしステージ上に載置されている搬送
すべき物品（即ち、搬送物ＷＰ）の上方へ、真空吸着パ
ッド１０を移動させる。このとき切換弁３４は、真空供
給系と真空破壊エアー供給系のいずれをも、真空吸着パ
ッド１０から遮断している。
【００１９】続いて真空吸着パッド１０を、その搬送物
ＷＰの上面に接触するまで下降させ、切換弁３４を切り
換えて真空供給系を真空吸着パッド１０に連通させる。
これによって、その搬送物ＷＰが真空吸着パッド１０に
吸着される。
ＷＰの上面に接触するまで下降させ、切換弁３４を切り
換えて真空供給系を真空吸着パッド１０に連通させる。
これによって、その搬送物ＷＰが真空吸着パッド１０に
吸着される。
【００２０】続いて、真空吸着パッド１０を上昇させる
ことで、搬送物ＷＰをトレイないしステージから持ち上
げる。このとき、剥離帯電によって搬送物ＷＰが帯電す
ることがある。更に、真空吸着パッド１０を搬送先の位
置まで移動させ、切換弁３４を切り換えて真空破壊エア
ー供給系を真空吸着パッド１０に連通させる。これによ
って、真空吸着パッド１０と搬送物ＷＰの上面との間に
形成されていた真空が破壊され、搬送物ＷＰが真空吸着
パッド１０から解放されて、搬送先のトレイないしステ
ージ上へ受け渡される。
ことで、搬送物ＷＰをトレイないしステージから持ち上
げる。このとき、剥離帯電によって搬送物ＷＰが帯電す
ることがある。更に、真空吸着パッド１０を搬送先の位
置まで移動させ、切換弁３４を切り換えて真空破壊エア
ー供給系を真空吸着パッド１０に連通させる。これによ
って、真空吸着パッド１０と搬送物ＷＰの上面との間に
形成されていた真空が破壊され、搬送物ＷＰが真空吸着
パッド１０から解放されて、搬送先のトレイないしステ
ージ上へ受け渡される。
【００２１】この受け渡しに際して、イオナイザ４８に
よってイオン化された真空破壊エアーを、除電に必要な
時間に亘って搬送物ＷＰに吹き付けることで、帯電して
いた搬送物ＷＰの電荷を中和して除電を達成する。この
除電を好適に行えるように、真空吸着パッド１０は、搬
送物ＷＰにイオン化した真空破壊エアーを好適に吹き付
け得るように構成してあり、より具体的には、この真空
吸着パッド１０の連通ポート１０ａから噴出する真空破
壊エアーの噴流（ブロー）が、搬送物ＷＰの上面に広く
行き渡るような形状及び構造にしてある。
よってイオン化された真空破壊エアーを、除電に必要な
時間に亘って搬送物ＷＰに吹き付けることで、帯電して
いた搬送物ＷＰの電荷を中和して除電を達成する。この
除電を好適に行えるように、真空吸着パッド１０は、搬
送物ＷＰにイオン化した真空破壊エアーを好適に吹き付
け得るように構成してあり、より具体的には、この真空
吸着パッド１０の連通ポート１０ａから噴出する真空破
壊エアーの噴流（ブロー）が、搬送物ＷＰの上面に広く
行き渡るような形状及び構造にしてある。
【００２２】既述の如く、イオン化した真空破壊エアー
を搬送物ＷＰに吹き付ける時間は、搬送物ＷＰの除電を
達成するのに必要な長さであって、この吹き付け時間の
長さは、制御装置４０が切換弁３４を制御することによ
って制御される。更に、この吹き付け時間の長さは、真
空破壊エアー中の正負イオン濃度にも関連するものであ
り、その正負イオン濃度を決定する電源５４、５６の電
圧値及び電圧の印加タイミングも制御装置４０によって
制御される。
を搬送物ＷＰに吹き付ける時間は、搬送物ＷＰの除電を
達成するのに必要な長さであって、この吹き付け時間の
長さは、制御装置４０が切換弁３４を制御することによ
って制御される。更に、この吹き付け時間の長さは、真
空破壊エアー中の正負イオン濃度にも関連するものであ
り、その正負イオン濃度を決定する電源５４、５６の電
圧値及び電圧の印加タイミングも制御装置４０によって
制御される。
【００２３】それら電圧値及び時間値を除電に最適なも
のとするためには、例えば、実際に搬送及び計測を行っ
て得られたデータを公知の種々の最適値導出方法に従っ
て処理することで、予めそれらの最適値を求め、そして
求めた最適値を制御装置４０に制御パラメータとして与
えるようにしてもよく、或いは、先に説明した受取台５
８及び電圧検出装置６０のように、搬送物ＷＰの帯電量
を評価する帯電量評価手段から得られるデータに基づい
て制御装置４０が制御を行うようにしてもよい。更に
は、真空吸着パッド１０から受け渡された搬送物ＷＰ
が、イオン化した真空破壊エアーの吹き付けによって除
電されて行くときの帯電状態の変化をリアルタイムで検
出する装置を用いて、除電が完了したときに吹き付けを
終了するような制御を行うようにしてもよい。
のとするためには、例えば、実際に搬送及び計測を行っ
て得られたデータを公知の種々の最適値導出方法に従っ
て処理することで、予めそれらの最適値を求め、そして
求めた最適値を制御装置４０に制御パラメータとして与
えるようにしてもよく、或いは、先に説明した受取台５
８及び電圧検出装置６０のように、搬送物ＷＰの帯電量
を評価する帯電量評価手段から得られるデータに基づい
て制御装置４０が制御を行うようにしてもよい。更に
は、真空吸着パッド１０から受け渡された搬送物ＷＰ
が、イオン化した真空破壊エアーの吹き付けによって除
電されて行くときの帯電状態の変化をリアルタイムで検
出する装置を用いて、除電が完了したときに吹き付けを
終了するような制御を行うようにしてもよい。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、搬送物を
真空吸着する真空吸着パッドと、前記真空吸着パッドを
移動制御する移動制御機構と、前記真空吸着パッドへ真
空を供給するための真空供給系と、前記真空吸着パッド
へ真空破壊エアーを供給するための真空破壊エアー供給
系とを備えた真空吸着搬送装置において、前記真空破壊
エアー供給系に、真空破壊エアーをイオン化するイオン
化手段を装備し、前記真空吸着パッドを、搬送物にイオ
ン化した真空破壊エアーを吹き付け得るように構成し
た。また本発明は、搬送物を真空吸着する真空吸着パッ
ドと、前記真空吸着パッドを移動制御する移動制御機構
と、前記真空吸着パッドへ真空を供給するための真空供
給系と、前記真空吸着パッドへ真空破壊エアーを供給す
るための真空破壊エアー供給系とを備えた真空吸着搬送
装置を用いて搬送物を搬送する方法において、前記真空
破壊エアー供給系が前記真空パッドへ供給する真空破壊
エアーをイオン化するステップと、前記真空吸着パッド
が搬送物を解放する際に、搬送物にイオン化した真空破
壊エアーを吹き付けることで、搬送物の除電を行うステ
ップとを含んでいる搬送方法とした。そのため、真空吸
着パッドが搬送物を吸着して持ち上げる際に発生する剥
離帯電による搬送物の帯電を、真空吸着パッドがその搬
送物を解放する際に除電することができ、真空吸着搬送
装置から搬送物を受取るステージ、トレイ支持装置、搬
送ベルト等に個別に除電装置を設けずに済むことから、
真空吸着搬送装置を必要とする設備の全体としてのコス
トを低減することができる。
真空吸着する真空吸着パッドと、前記真空吸着パッドを
移動制御する移動制御機構と、前記真空吸着パッドへ真
空を供給するための真空供給系と、前記真空吸着パッド
へ真空破壊エアーを供給するための真空破壊エアー供給
系とを備えた真空吸着搬送装置において、前記真空破壊
エアー供給系に、真空破壊エアーをイオン化するイオン
化手段を装備し、前記真空吸着パッドを、搬送物にイオ
ン化した真空破壊エアーを吹き付け得るように構成し
た。また本発明は、搬送物を真空吸着する真空吸着パッ
ドと、前記真空吸着パッドを移動制御する移動制御機構
と、前記真空吸着パッドへ真空を供給するための真空供
給系と、前記真空吸着パッドへ真空破壊エアーを供給す
るための真空破壊エアー供給系とを備えた真空吸着搬送
装置を用いて搬送物を搬送する方法において、前記真空
破壊エアー供給系が前記真空パッドへ供給する真空破壊
エアーをイオン化するステップと、前記真空吸着パッド
が搬送物を解放する際に、搬送物にイオン化した真空破
壊エアーを吹き付けることで、搬送物の除電を行うステ
ップとを含んでいる搬送方法とした。そのため、真空吸
着パッドが搬送物を吸着して持ち上げる際に発生する剥
離帯電による搬送物の帯電を、真空吸着パッドがその搬
送物を解放する際に除電することができ、真空吸着搬送
装置から搬送物を受取るステージ、トレイ支持装置、搬
送ベルト等に個別に除電装置を設けずに済むことから、
真空吸着搬送装置を必要とする設備の全体としてのコス
トを低減することができる。
【図１】本発明の実施の形態にかかる真空吸着搬送装置
の要部を示した説明図である。
の要部を示した説明図である。
【図２】図１の真空吸着搬送装置を装備した液晶ディス
プレイ製造設備の概略平面図である。
プレイ製造設備の概略平面図である。
１０……真空吸着パッド、１２……移動制御機構、１４
……真空供給系、１６……真空破壊エアー供給系、３４
……切換弁、４０……制御装置、４８……イオナイザ、
ＷＰ……搬送物。
……真空供給系、１６……真空破壊エアー供給系、３４
……切換弁、４０……制御装置、４８……イオナイザ、
ＷＰ……搬送物。
Claims (6)
- 【請求項１】 搬送物を真空吸着する真空吸着パッド
と、前記真空吸着パッドを移動制御する移動制御機構
と、前記真空吸着パッドへ真空を供給するための真空供
給系と、前記真空吸着パッドへ真空破壊エアーを供給す
るための真空破壊エアー供給系とを備えた真空吸着搬送
装置において、 前記真空破壊エアー供給系に、真空破壊エアーをイオン
化するイオン化手段を装備し、 前記真空吸着パッドを、搬送物にイオン化した真空破壊
エアーを吹き付け得るように構成した、 ことを特徴とする真空吸着搬送装置。 - 【請求項２】 前記イオン化手段が、真空破壊エアーの
流路中に介設したイオナイザと、該イオナイザを制御し
て真空破壊エアー中の正負イオン濃度を調節するイオナ
イザ制御手段とを含んでいることを特徴とする請求項１
記載の真空吸着搬送装置。 - 【請求項３】 前記真空吸着パッドから搬送物を受取る
ための絶縁支持された導電性の受取台と、該受取台とグ
ラウンドとに接続され前記真空吸着パッドから該受取台
へ受け渡された搬送物の帯電量を評価する帯電量評価手
段とを更に備え、前記イオナイザ制御手段が、前記帯電
量評価手段が出力する搬送物の帯電量の評価値に応じて
前記イオナイザを制御することで、真空破壊エアー中の
正負イオン濃度を搬送物の帯電除去に最適な濃度に調節
するようにしたことを特徴とする請求項２記載の真空吸
着搬送装置。 - 【請求項４】 搬送物を真空吸着する真空吸着パッド
と、前記真空吸着パッドを移動制御する移動制御機構
と、前記真空吸着パッドへ真空を供給するための真空供
給系と、前記真空吸着パッドへ真空破壊エアーを供給す
るための真空破壊エアー供給系とを備えた真空吸着搬送
装置を用いて搬送物を搬送する方法において、 前記真空破壊エアー供給系が前記真空パッドへ供給する
真空破壊エアーをイオン化するステップと、 前記真空吸着パッドが搬送物を解放する際に、搬送物に
イオン化した真空破壊エアーを吹き付けることで、搬送
物の除電を行うステップと、 を含んでいることを特徴とする搬送方法。 - 【請求項５】 真空破壊エアー中の正負イオン濃度を調
節するイオン濃度調節ステップを更に含んでいることを
特徴とする請求項４記載の搬送方法。 - 【請求項６】 前記真空吸着パッドから解放された搬送
物の帯電量を評価するステップを更に含んでおり、前記
イオン濃度調節ステップにおいて、搬送物の帯電量の評
価値に応じて真空破壊エアー中の正負イオン濃度を搬送
物の帯電除去に最適な濃度に調節することを特徴とする
請求項５記載の搬送方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35492298A JP2000183132A (ja) | 1998-12-14 | 1998-12-14 | 搬送物の除電機能を備えた真空吸着搬送装置及び搬送方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35492298A JP2000183132A (ja) | 1998-12-14 | 1998-12-14 | 搬送物の除電機能を備えた真空吸着搬送装置及び搬送方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000183132A true JP2000183132A (ja) | 2000-06-30 |
Family
ID=18440816
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35492298A Pending JP2000183132A (ja) | 1998-12-14 | 1998-12-14 | 搬送物の除電機能を備えた真空吸着搬送装置及び搬送方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000183132A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004299814A (ja) * | 2003-03-28 | 2004-10-28 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 除電された絶縁体基板の製造方法及び製造装置 |
| JP2012129386A (ja) * | 2010-12-16 | 2012-07-05 | Mitsubishi Electric Corp | ウエハ搬送用アームとウエハ搬送装置 |
| JP2013065734A (ja) * | 2011-09-19 | 2013-04-11 | Hitachi High-Tech Instruments Co Ltd | ダイボンダ |
| JP7438626B2 (ja) | 2020-03-31 | 2024-02-27 | 株式会社ディスコ | 搬送機構及びシート拡張装置 |
-
1998
- 1998-12-14 JP JP35492298A patent/JP2000183132A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004299814A (ja) * | 2003-03-28 | 2004-10-28 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 除電された絶縁体基板の製造方法及び製造装置 |
| JP2012129386A (ja) * | 2010-12-16 | 2012-07-05 | Mitsubishi Electric Corp | ウエハ搬送用アームとウエハ搬送装置 |
| JP2013065734A (ja) * | 2011-09-19 | 2013-04-11 | Hitachi High-Tech Instruments Co Ltd | ダイボンダ |
| JP7438626B2 (ja) | 2020-03-31 | 2024-02-27 | 株式会社ディスコ | 搬送機構及びシート拡張装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4896112B2 (ja) | 基板搬送装置 | |
| TWI727055B (zh) | 晶圓的吸附確認方法、脫離確認方法及減壓處理裝置 | |
| JP2581066B2 (ja) | ウエ−ハ搬送方法及び装置 | |
| KR101436449B1 (ko) | 워크의 외관 검사 장치 및 워크의 외관 검사 방법 | |
| JP4412675B2 (ja) | 除電搬送装置および搬送時の除電方法 | |
| CN108735624B (zh) | 晶片的搬出方法 | |
| CN100377297C (zh) | 衬底处理装置 | |
| KR100560599B1 (ko) | 파티클 제거장치 | |
| JP4273270B2 (ja) | 静電浮上搬送装置および静電浮上搬送装置付ロボット | |
| JP2024010115A (ja) | メンテナンス装置、真空処理システム及びメンテナンス方法 | |
| JP2004299814A (ja) | 除電された絶縁体基板の製造方法及び製造装置 | |
| JP2000183132A (ja) | 搬送物の除電機能を備えた真空吸着搬送装置及び搬送方法 | |
| JP7208733B2 (ja) | 搬送システム | |
| US20120313308A1 (en) | Component Supporting Device | |
| KR20170016276A (ko) | 기판 부상 반송 장치 | |
| JP2002353086A (ja) | 半導体製造装置及び半導体製造方法 | |
| JP2001021899A (ja) | 液晶表示パネル用基板からのスペーサー除去方法とその装置、および液晶表示パネルの製造方法 | |
| JP4197238B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| US6873515B2 (en) | Method for preventing electrostatic discharge in a clean room | |
| CN101933120B (zh) | 环境气氛净化装置 | |
| JP4946837B2 (ja) | 基板洗浄装置及び洗浄方法 | |
| WO2012056985A1 (ja) | 基板移載装置およびこれを備えた基板処理システム | |
| JP4579206B2 (ja) | 離脱状態判断方法及び真空処理装置 | |
| CN113167564B (zh) | 静电电容传感器 | |
| US20010041449A1 (en) | Method and apparatus for plasma etching |