JP6747136B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
特許文献1には、ウエハをウエハキャリアから引き出すための装置フロントエンドモジュール(EFEM)と、細長経路に沿ってウエハを移動させるリニアロボットと、リニアロボットの両側に2つずつ設けられた真空処理を行うための処理クラスタと、を備えたシステムが記載されている。処理クラスタは、第1、第2の処理チャンバ及びリニアロボットの間でウエハの搬送を行うクラスタロボットを備えている。また特許文献1には、リニアロボットは、大気圧で動作してもよいこと、ウエハシャトルにより構成することができること、が記載されている。
複数の基板を収納した搬送容器を載置する容器載置部とこの容器載置部に載置された搬送容器に対して基板の受け渡しを行う受け渡し機構とを備えたEFEM(Equipment Front End Module)と、
前記EFEMから見て奥側に向かって直線状に伸びる移動路に沿って移動自在に設けられた移動部と、
平面で見て前記移動路に臨むように設けられ、互いに上下に配置された複数段の処理ユニットと、
前記移動部に昇降機構を介して昇降自在に設けられ、複数の基板が棚状に載置できるように、複数の基板の左右の周縁部を夫々保持するために左右に設けられた保持部の組を上下に間隔を開けて複数配列された基板載置部と、を備え、
前記処理ユニットは、基板を処理するための処理モジュールと、前記処理モジュール及び前記基板載置部の間で基板の受け渡しを行うための基板搬送機構と、を備え、
前記基板載置部は、前記受け渡し機構により基板の受け渡しが行われる位置と前記複数段の処理ユニットの各々の基板搬送機構により基板の受け渡しが行われる位置との間で移動自在に構成されていると共に、当該基板載置部の前後方向が前記受け渡し機構及び基板搬送機構の各進退方向と揃うように鉛直軸周りに回転自在に構成され、
前記基板載置部の回転中心は、当該基板載置部の左右方向の中心であって、当該基板載置部の前後方向の中心よりも後方側に変位していることを特徴とする。
他の発明の基板処理装置は、
複数の基板を収納した搬送容器を載置する容器載置部とこの容器載置部に載置された搬送容器に対して基板の受け渡しを行う受け渡し機構とを備えたEFEM(Equipment Front End Module)と、
前記EFEMから見て奥側に向かって直線状に伸びる移動路に沿って移動自在に設けられた移動部と、
平面で見て前記移動路に臨むように設けられ、互いに上下に配置された複数段の処理ユニットと、
前記移動部に昇降機構を介して昇降自在に設けられ、複数の基板が棚状に載置できるように構成された基板載置部と、を備え、
前記複数段の処理ユニットは、前記移動路の左右両側に設けられ、
前記処理ユニットは、基板を処理するための処理モジュールと、前記処理モジュール及び前記基板載置部の間で基板の受け渡しを行うための基板搬送機構と、を備え、
前記基板載置部は、前記受け渡し機構により基板の受け渡しが行われる位置と前記複数段の処理ユニットの各々の基板搬送機構により基板の受け渡しが行われる位置との間で移動自在に構成され、
前記基板載置部は、前記受け渡し機構の進退方向と前記基板搬送機構の進退方向のいずれからも基板の受け渡しができるように各々構成された複数段の載置台を備え、
前記複数段の載置台は、前記移動路の一方側に設けられた処理ユニットの基板搬送機構に対して基板の受け渡しが行われる一方側の位置と前記移動路の他方側に設けられた処理ユニットの基板搬送機構に対して基板の受け渡しが行われる他方側の位置との間で左右方向に移動可能に設けられたことを特徴とする。
更に他の発明の基板処理装置は、
複数の基板を収納した搬送容器を載置する容器載置部とこの容器載置部に載置された搬送容器に対して基板の受け渡しを行う受け渡し機構とを備えたEFEM(Equipment Front End Module)と、
前記EFEMから見て奥側に向かって直線状に伸びる移動路に沿って移動自在に設けられた移動部と、
平面で見て前記移動路に臨むように設けられ、互いに上下に配置された複数段の処理ユニットと、
前記移動部に昇降機構を介して昇降自在に設けられ、複数の基板が棚状に載置できるように構成された基板載置部と、を備え、
前記処理ユニットは、基板を処理するための処理モジュールと、前記処理モジュール及び前記基板載置部の間で基板の受け渡しを行うための基板搬送機構と、を備え、
前記基板載置部は、前記受け渡し機構により基板の受け渡しが行われる位置と前記複数段の処理ユニットの各々の基板搬送機構により基板の受け渡しが行われる位置との間で移動自在に構成され、
前記基板載置部は、前記受け渡し機構の進退方向と前記基板搬送機構の進退方向のいずれからも基板の受け渡しができるように各々構成された複数段の載置台を備え、
前記複数段の載置台は、複数段の処理ユニットの各処理ユニット毎に、処理済みの基板を載置するための載置台と処理後の基板を載置するための載置台とを上下に配置して一体となって昇降する載置台の組を備え、
複数段の処理ユニットの各々に対応する前記載置台の組は、互いに独立して昇降するように構成されていることを特徴とする。
EFEM101は、例えばFOUPであるキャリアCが例えば左右方向(X方向)に4個載置されるように構成された容器載置部であるロードポート11を備えている。図2では、キャリアCの底部を位置決めした状態で支持する支持部10が示されている。ロードポート11の奥側には、キャリアCに対してウエハの受け渡しを行う受け渡し機構12が配置された搬送室13が設けられている。この搬送室13は、常圧雰囲気例えば大気雰囲気に設定され、搬送室13におけるキャリアCに臨む壁部には、ウエハ取り出し口である開口部を開閉する開閉ドア14が設けられている。
図3及び図4に示すように、搬送室13におけるロードポート11に対して背面となる壁部16には、受け渡し機構12がウエハWを保持した状態で通過するための受け渡し口である開口部17が形成されている。この開口部17は、当該開口部17を通じた後述のウエハWの受け渡しが行われないときには、EFEM101と処理ブロック102との雰囲気を区画するために図示しないシャッターにより閉じるようにしてもよい。
支柱部22をY方向に移動させるための具体的な機構としては、例えばYガイド21の両端部に対応する位置に夫々駆動源により駆動される駆動プーリと従動プーリとを設けてこれらの間にベルトを掛け、当該ベルトに支柱部22を固定して構成されるベルト搬送機構などを適用することができる。
これら2グループの各処理ユニットUは、ロードロックモジュール4と、このロードロックモジュール4を介して基板載置部3との間でウエハWの受け渡しが行われる第1の処理モジュール5A及び第2の処理モジュール5Bと、を備えている。各処理ユニットUは、同一の構造として構成されており、例えば床面に固定された支柱などを含む構造体(図示せず)に支持されている。
基板載置部3は、Y方向に移動可能な移動部である支柱部22に昇降自在に設けられた昇降部である昇降台23に回転機構24を介して設けられている。昇降台23を昇降させる昇降機構について、図5では昇降台23をZ方向(上下方向)にガイドするための案内路であるZガイド20を示しているが、具体的には、周知のベルト搬送機構やボールネジ機構などが用いられる。
回転機構24は、鉛直軸周りに回転可能な回転軸25と回転軸25を回転させる回転駆動部26とを備え、回転軸25の頂部に箱体31の底面が固定されている。従って基板載置部3は、Y方向自在、昇降自在、鉛直軸周りに回転自在に構成されているということになる。
なお、基板搬送機構43の基板保持部分(ピック)が2つある場合、保持部32の1枚分の空きは設ける必要はない。
即ち、基板載置部3がEFEM101側から受け取る未処理のウエハWの枚数は、成膜処理に必要な時間や運用方法などに応じて、最も高いスループットが得られる枚数に設定することができる。この点において、本実施形態で用いられる基板載置部3は、搬送アームによる搬送や公知のウエハシャトルに対して優位な構造である。
例えば基板載置部3の上段側にウエハWの空きスペースを形成した状態で6枚の(未処理の)ウエハWが搭載されると、支柱部22がEFEM101から見て手前側の処理ユニットUに対応する位置まで移動すると共に、基板載置部3が最上段の処理ユニットUに対応する高さ位置まで上昇する。そして基板載置部3が例えば左側に回転して、前面がYガイド21の左側の処理ユニットUのロードロック室42の搬送口41と向き合う。
これ以降のウエハの受け渡しについて、図6を参照しながら説明する。図6中ウエハW1〜W6は未処理ウエハを示している。ロードロック室42のゲートバルブG1が開かれ、先ず処理済みウエハPW1が基板搬送機構43により、基板載置部3においてウエハWが保持されている領域の上部の空き領域R1に搬送される(図6(a))。続いて基板搬送機構43が縮退してから、基板載置部3内の6枚の未処理ウエハW1〜W6のうち最上段のウエハW1の高さ位置が基板搬送機構43のアクセス位置に対応するように基板載置部3が上昇し、当該最上段のウエハW1が基板搬送機構43によりロードロック室42内に搬入される(図6(b))。図6において、ウエハW1が抜き取られた後の空き領域をR2で示している。
なお、一連の基板載置部3の位置制御を含むシーケンスは、搬送シーケンスを構成する制御部100内のプログラムにより実行される。
図7及び図8は、本発明の基板処理装置の第2の実施形態に用いられる基板載置部3を示している。この基板載置部3は、支柱部22の前面側に設けられたZガイド20に案内されながら昇降する板状の昇降基体61が設けられている。昇降基体61は左右に縦長部分を備えると共にこれらの縦長部分同士を横長部分で連結した形状に形成されている。そして昇降基体61の左右の縦長部分の各々に例えば4段の載置台62A、62Bが水平に手前側に向かって、つまりにEFEM101側に向かって飛び出すように設けられている。
次いで昇降基体61が2段目の処理ユニットUに対応する位置まで下降する。そして左側の2段目の処理ユニットUのロードロック室42内の基板搬送機構43と右側の2段目の処理ユニットUのロードロック室42内の基板搬送機構43とにより、夫々左右の載置台62A、62Bに対して例えば同時にウエハWの受け渡しが同様にして行われる。更に3段目の処理ユニットUと基板載置部3との間においても同様の受け渡しが行われ、基板載置部3は、左右の載置台62A、62Bに夫々処理済みウエハWを搭載した状態で、EFEM101の背面の開口部17に臨む位置に戻る。
第2の実施形態のように、基板載置部3として左右に夫々複数段の載置台62A、62Bを設ける構成とすれば、第1の実施形態のように回転機構を用いなくとも、ロードロック室42内の基板搬送機構43が短いストロークでウエハWの受け渡しをできる利点がある。
この例においても基板搬送機構43のストロークが短くて済むが、X移動体73を構成する縦長の部材を左右の処理ユニットUの中間位置に固定する構成であってもよい。この構成であっても、基板搬送機構43のストロークが対応できる場合には、適用できる。
処理モジュール5A、5Bにおける真空処理としては、成膜処理に限らず、アニール処理、エッチング処理などであってもよいし、第1及び第2の処理モジュール5A、5Bにて並行してウエハWに対して同じ真空処理を行ってもよい。あるいは第1及び第2の処理モジュール5A、5Bにて互いに異なる処理を連続して行う運用であってもよい。
102 処理ブロック
C キャリア
U 処理ユニット
12 受け渡し機構
13 搬送室
17 開口部
20 Zガイド
21 Yガイド
22 支柱部
23 昇降台
24 回転機構
3 基板載置部
31 箱体
32 保持部
4 ロードロックモジュール
41 搬送口
42 ロードロック室
43 基板搬送機構
5A、5B 処理モジュール
61 昇降基体
62A、62B 載置台
63 保持ピン
71 昇降基体
72 Xガイド
73 X移動体
74 載置台
81、82、83 載置台ユニット
91、92、93 Zガイド
Claims (8)
- 複数の基板を収納した搬送容器を載置する容器載置部とこの容器載置部に載置された搬送容器に対して基板の受け渡しを行う受け渡し機構とを備えたEFEM(Equipment Front End Module)と、
前記EFEMから見て奥側に向かって直線状に伸びる移動路に沿って移動自在に設けられた移動部と、
平面で見て前記移動路に臨むように設けられ、互いに上下に配置された複数段の処理ユニットと、
前記移動部に昇降機構を介して昇降自在に設けられ、複数の基板が棚状に載置できるように、複数の基板の左右の周縁部を夫々保持するために左右に設けられた保持部の組を上下に間隔を開けて複数配列された基板載置部と、を備え、
前記処理ユニットは、基板を処理するための処理モジュールと、前記処理モジュール及び前記基板載置部の間で基板の受け渡しを行うための基板搬送機構と、を備え、
前記基板載置部は、前記受け渡し機構により基板の受け渡しが行われる位置と前記複数段の処理ユニットの各々の基板搬送機構により基板の受け渡しが行われる位置との間で移動自在に構成されていると共に、当該基板載置部の前後方向が前記受け渡し機構及び基板搬送機構の各進退方向と揃うように鉛直軸周りに回転自在に構成され、
前記基板載置部の回転中心は、当該基板載置部の左右方向の中心であって、当該基板載置部の前後方向の中心よりも後方側に変位していることを特徴とする基板処理装置。 - 複数の基板を収納した搬送容器を載置する容器載置部とこの容器載置部に載置された搬送容器に対して基板の受け渡しを行う受け渡し機構とを備えたEFEM(Equipment Front End Module)と、
前記EFEMから見て奥側に向かって直線状に伸びる移動路に沿って移動自在に設けられた移動部と、
平面で見て前記移動路に臨むように設けられ、互いに上下に配置された複数段の処理ユニットと、
前記移動部に昇降機構を介して昇降自在に設けられ、複数の基板が棚状に載置できるように構成された基板載置部と、を備え、
前記複数段の処理ユニットは、前記移動路の左右両側に設けられ、
前記処理ユニットは、基板を処理するための処理モジュールと、前記処理モジュール及び前記基板載置部の間で基板の受け渡しを行うための基板搬送機構と、を備え、
前記基板載置部は、前記受け渡し機構により基板の受け渡しが行われる位置と前記複数段の処理ユニットの各々の基板搬送機構により基板の受け渡しが行われる位置との間で移動自在に構成され、
前記基板載置部は、前記受け渡し機構の進退方向と前記基板搬送機構の進退方向のいずれからも基板の受け渡しができるように各々構成された複数段の載置台を備え、
前記複数段の載置台は、前記移動路の一方側に設けられた処理ユニットの基板搬送機構に対して基板の受け渡しが行われる一方側の位置と前記移動路の他方側に設けられた処理ユニットの基板搬送機構に対して基板の受け渡しが行われる他方側の位置との間で左右方向に移動可能に設けられたことを特徴とする基板処理装置。 - 複数の基板を収納した搬送容器を載置する容器載置部とこの容器載置部に載置された搬送容器に対して基板の受け渡しを行う受け渡し機構とを備えたEFEM(Equipment Front End Module)と、
前記EFEMから見て奥側に向かって直線状に伸びる移動路に沿って移動自在に設けられた移動部と、
平面で見て前記移動路に臨むように設けられ、互いに上下に配置された複数段の処理ユニットと、
前記移動部に昇降機構を介して昇降自在に設けられ、複数の基板が棚状に載置できるように構成された基板載置部と、を備え、
前記処理ユニットは、基板を処理するための処理モジュールと、前記処理モジュール及び前記基板載置部の間で基板の受け渡しを行うための基板搬送機構と、を備え、
前記基板載置部は、前記受け渡し機構により基板の受け渡しが行われる位置と前記複数段の処理ユニットの各々の基板搬送機構により基板の受け渡しが行われる位置との間で移動自在に構成され、
前記基板載置部は、前記受け渡し機構の進退方向と前記基板搬送機構の進退方向のいずれからも基板の受け渡しができるように各々構成された複数段の載置台を備え、
前記複数段の載置台は、複数段の処理ユニットの各処理ユニット毎に、処理済みの基板を載置するための載置台と処理後の基板を載置するための載置台とを上下に配置して一体となって昇降する載置台の組を備え、
複数段の処理ユニットの各々に対応する前記載置台の組は、互いに独立して昇降するように構成されていることを特徴とする基板処理装置。 - 前記複数段の処理ユニットが前記移動路の左右両側に設けられていることを特徴とする請求項1または3記載の基板処理装置。
- 前記複数段の処理ユニットが前記移動路の左右両側に設けられ、
前記移動路の一方側に設けられた複数段の処理ユニットに各々対応して設けられた一方側の複数の載置台の組と、前記移動路の他方側に設けられた複数段の処理ユニットに各々対応して設けられた他方側の複数の載置台の組と、が平面で見て左右に並んで設けられたことを特徴とする請求項3記載の基板処理装置。 - 前記複数段の処理ユニットが前記移動路に沿って複数設けられていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記処理ユニットは、互いに横に並んで配置された第1の処理モジュール及び第2の処理モジュール、を備えたことを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記処理ユニットは、前記基板搬送機構が配置されたロードロック室と、真空処理を行うための処理モジュールと、を備えていることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか一項に記載の基板処理装置。
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