JP6741893B1 - ハーフトーンマスクの欠陥修正方法、ハーフトーンマスクの製造方法及びハーフトーンマスク - Google Patents
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Abstract
Description
ハーフトーンマスクの半透過部の欠陥修正対象領域に修正膜を成膜することにより、半透過部に生じた欠陥を修正するハーフトーンマスクの欠陥修正方法であって、
欠陥修正対象領域に、透過率が半透過部の透過率と等しくなるように、主膜を成膜する主膜成膜工程と、
主膜の成膜によっても欠陥修正対象領域に残る高透過部に、透過率が半透過部の透過率と等しくなるように、補填膜を成膜する補填膜成膜工程とを備える
ハーフトーンマスクの欠陥修正方法である。
主膜成膜工程は、欠陥修正対象領域と一致する形状に、主膜を成膜する、又は、欠陥修正対象領域の境界の少なくとも一部と主膜の外縁の少なくとも一部との間に隙間を生じて、主膜を成膜するものであり、
補填膜成膜工程は、欠陥修正対象領域の境界から主膜の外縁部までの幅で欠陥修正対象領域の境界及び主膜の外縁部に沿って生じる高透過部に、補填膜を成膜するものである
との構成を採用することができる。
主膜成膜工程は、
半透過部の透過率よりも高い透過率を有するベース層を成膜するベース層成膜工程と、
透過率が半透過部の透過率と等しくなるように、ベース層の上に1層又は複数層の透過率調整層を成膜する透過率調整層成膜工程とを備える
との構成を採用することができる。
ベース層成膜工程は、欠陥修正対象領域の境界とベース層の外縁との間に隙間が形成されるように、ベース層を成膜する、又は、欠陥修正対象領域の境界にベース層の外縁が接するように、ベース層を成膜するものである
との構成を採用することができる。
補填膜成膜工程は、透過率が半透過部の透過率と等しくなるように、1層又は複数層の透過率調整層を成膜する透過率調整層成膜工程を備える
との構成を採用することができる。
主膜成膜工程に先立ち、欠陥を包含する所定形状の欠陥修正対象領域を設定し、欠陥修正対象領域内に存在する既存の半透過膜を除去するトリミング工程を備える
との構成を採用することができる。
欠陥が所定サイズを超える場合、欠陥修正対象領域を複数に分割して欠陥修正を行う
との構成を採用することができる。
原料ガスの雰囲気中で、欠陥修正対象領域内にレーザ光を照射することにより、修正膜を成膜する
との構成を採用することができる。
透明基板の上に、遮光部、透過部及び半透過部を形成する工程と、
半透過部に生じた欠陥を修正する欠陥修正工程とを備え、
欠陥修正工程として、上記のいずれかの欠陥修正方法を適用する
ハーフトーンマスクの製造方法である。
透明基板の上に、遮光部、透過部及び半透過部を備え、半透過部に修正膜を備えるハーフトーンマスクであって、
修正膜は、
透過率が半透過部の透過率と等しくなるように成膜される主膜と、
主膜だけでは半透過部の透過率と等しくならない高透過部に、透過率が半透過部の透過率と等しくなるように成膜される補填膜とを備える
ハーフトーンマスクである。
まず、欠陥修正を行うための欠陥修正装置について説明する。図1(a)に示すように、欠陥修正装置は、レーザCVD法を用いて修正膜(CVD膜)を成膜する装置である。欠陥修正装置は、主として、レーザ光学系20と、レーザ光学系30と、光学系40と、ガス供給系50と、位置制御系60とを備える。
本実施形態に係る欠陥修正方法は、(i)ハーフトーンマスクの半透過部の欠陥修正対象領域に、透過率が半透過部の透過率と等しくなるように、主膜を成膜する主膜成膜工程と、(ii)主膜の成膜によっても欠陥修正対象領域に残る高透過部に、透過率が半透過部の透過率と等しくなるように、補填膜を成膜する補填膜成膜工程とを備える。本実施形態に係る欠陥修正方法は、欠陥の大きさによって、欠陥修正方法1、欠陥修正方法2及び欠陥修正方法3の大きく3つの方法に分けられる。
欠陥修正方法1は、欠陥のサイズSが20μm以下の場合に用いられる。欠陥修正方法1は、図2に示すように、概略的には、(i)ハーフトーンマスク11の半透過部3に生じた欠陥4を包含する欠陥修正対象領域5を設定し、欠陥修正対象領域5内に存在する既存の半透過膜3を除去するトリミング工程と、(ii)欠陥修正対象領域5に、透過率が半透過部3の透過率と等しくなるように、かつ、欠陥修正対象領域5と一致する形状に、主膜8を成膜する、又は、欠陥修正対象領域5の境界の少なくとも一部と主膜8の外縁の少なくとも一部との間に隙間を生じて、主膜8を成膜する主膜成膜工程と、(iii)欠陥修正対象領域5の境界から主膜8の外縁部までの幅で欠陥修正対象領域5の境界及び主膜8の外縁部に沿って生じる高透過部に、透過率が半透過部3の透過率と等しくなるように、補填膜9を成膜する補填膜成膜工程とを備える。また、主膜成膜工程は、(ii−i)半透過部3の透過率よりも高い透過率を有するベース層6を成膜するベース層成膜工程と、(ii−ii)透過率が半透過部3の透過率と等しくなるように、ベース層6の上に1層又は複数層の透過率調整層7を成膜する透過率調整層成膜工程とを備える。また、補填膜成膜工程は、(iii−i)透過率が半透過部3の透過率と等しくなるように、1層又は複数層の透過率調整層9を成膜する透過率調整層成膜工程を備える。
欠陥修正方法2は、欠陥のサイズSが20μmを超える場合に用いられる。物理的には、欠陥修正方法1を用いて1回で済ますことは可能である。しかし、そうなると、成膜すべき主膜8のサイズが大きくなり、主膜8(特にベース層6)の面内分布の均一性が崩れ、修正膜10の透過率の均一性は損なわれて、修正膜10の品質、ひいては、ハーフトーンマスクの品質が低下する。このため、欠陥修正を分割して行うというのが欠陥修正方法2である。欠陥修正自体の方法としては、欠陥修正方法2も欠陥修正方法1も同じである。欠陥修正方法2は、工程の順序の違いにより、欠陥修正方法2−1から欠陥修正方法2−5までの大きく5つの方法がある。以下、それぞれについて、異なる点を主として説明する。
欠陥修正方法2−1は、図6及び図7に示すように、第1工程から第8工程までを備える。第9工程は、欠陥修正方法1の第5工程と同様で、任意の工程である。
欠陥修正方法2−2は、図8及び図9に示すように、第1工程から第7工程までを備える。第8工程は、欠陥修正方法1の第5工程と同様で、任意の工程である。
欠陥修正方法2−3は、図10及び図11に示すように、第1工程から第6工程までを備える。第7工程は、欠陥修正方法1の第5工程と同様で、任意の工程である。
欠陥修正方法2−4は、図12に示すように、第1工程から第4工程までを備える。第5工程は、欠陥修正方法1の第5工程と同様で、任意の工程である。
欠陥修正方法2−5は、図13及び図14に示すように、第1工程から第8工程までを備える。第9工程は、欠陥修正方法1の第5工程と同様で、任意の工程である。
欠陥修正方法3は、欠陥のサイズSが2μm以下の場合に用いられる。欠陥修正方法3は、図15に示すように、概略的には、(i)トリミング工程を備えず、(ii)欠陥修正対象領域5(欠陥4そのまま)に部分的に、透過率が半透過部3の透過率と等しくなるように、主膜8を成膜する主膜成膜工程と、(iii)主膜8が埋まっていない箇所に生じる高透過部に、透過率が半透過部3の透過率と等しくなるように、補填膜9を成膜する補填膜成膜工程とを備える。
Claims (12)
- ハーフトーンマスクの半透過部の欠陥修正対象領域に修正膜を成膜することにより、半透過部に生じた欠陥を修正するハーフトーンマスクの欠陥修正方法であって、
欠陥修正対象領域に、透過率が半透過部の透過率と等しくなるように、主膜を成膜する主膜成膜工程と、
主膜の成膜によっても欠陥修正対象領域に残る高透過部に、透過率が半透過部の透過率と等しくなるように、補填膜を成膜する補填膜成膜工程とを備える
ハーフトーンマスクの欠陥修正方法。 - 主膜成膜工程は、欠陥修正対象領域と一致する形状に、主膜を成膜する、又は、欠陥修正対象領域の境界の少なくとも一部と主膜の外縁の少なくとも一部との間に隙間を生じて、主膜を成膜するものであり、
補填膜成膜工程は、欠陥修正対象領域の境界から主膜の外縁部までの幅で欠陥修正対象領域の境界及び主膜の外縁部に沿って生じる高透過部に、補填膜を成膜するものである
請求項1に記載のハーフトーンマスクの欠陥修正方法。 - 主膜成膜工程は、
半透過部の透過率よりも高い透過率を有するベース層を成膜するベース層成膜工程と、
透過率が半透過部の透過率と等しくなるように、ベース層の上に1層又は複数層の透過率調整層を成膜する透過率調整層成膜工程とを備える
請求項1又は請求項2に記載のハーフトーンマスクの欠陥修正方法。 - ベース層成膜工程は、欠陥修正対象領域の境界とベース層の外縁との間に隙間が形成されるように、ベース層を成膜する、又は、欠陥修正対象領域の境界にベース層の外縁が接するように、ベース層を成膜するものである
請求項3に記載のハーフトーンマスクの欠陥修正方法。 - 補填膜成膜工程は、透過率が半透過部の透過率と等しくなるように、1層又は複数層の透過率調整層を成膜する透過率調整層成膜工程を備える
請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載のハーフトーンマスクの欠陥修正方法。 - 主膜成膜工程に先立ち、欠陥を包含する所定形状の欠陥修正対象領域を設定し、欠陥修正対象領域内に存在する既存の半透過膜を除去するトリミング工程を備える
請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載のハーフトーンマスクの欠陥修正方法。 - 欠陥が所定サイズを超える場合、欠陥修正対象領域を複数に分割して欠陥修正を行う
請求項1ないし請求項6のいずれか1項に記載のハーフトーンマスクの欠陥修正方法。 - 原料ガスの雰囲気中で、欠陥修正対象領域内にレーザ光を照射することにより、修正膜を成膜する
請求項1ないし請求項7のいずれか1項に記載のハーフトーンマスクの欠陥修正方法。 - 透明基板の上に、遮光部、透過部及び半透過部を形成する工程と、
半透過部に生じた欠陥を修正する欠陥修正工程とを備え、
欠陥修正工程として、請求項1ないし請求項8のいずれか1項に記載の欠陥修正方法を適用する
ハーフトーンマスクの製造方法。 - 透明基板の上に、遮光部、透過部及び半透過部を備え、半透過部に修正膜を備えるハーフトーンマスクであって、
修正膜は、
透過率が半透過部の透過率と等しくなるように成膜される主膜と、
主膜だけでは半透過部の透過率と等しくならない高透過部に、透過率が半透過部の透過率と等しくなるように成膜される補填膜とを備える
ハーフトーンマスク。 - 主膜は、
半透過部の透過率よりも高い透過率を有するベース層と、
ベース層の上に、透過率が半透過部の透過率と等しくなるように成膜される1層又は複数層の透過率調整層とを備える
請求項10に記載のハーフトーンマスク。 - 補填膜は、透過率が半透過部の透過率と等しくなるように成膜される1層又は複数層の透過率調整層を備える
請求項10又は請求項11に記載のハーフトーンマスク。
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