JP6741785B2 - 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板、画像表示装置および有機エレクトロルミネッセンス表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板、画像表示装置および有機エレクトロルミネッセンス表示装置に関する。

逆波長分散性を示す重合性化合物は、広い波長範囲での正確な光線波長の変換が可能になること、および、高い屈折率を有するために位相差フィルムを薄膜化できること、などの特徴を有しているため、盛んに研究されている。
また、逆波長分散性を示す重合性化合物としては、一般にＴ型の分子設計指針が取られており、分子長軸の波長を短波長化し、分子中央に位置する短軸の波長を長波長化することが要求されている。
そのため、分子中央に位置する短軸の骨格（以下、「逆波長分散発現部」ともいう。）と、分子長軸との連結には、吸収波長のないシクロアルキレン骨格を利用することが知られている（例えば、特許文献１〜５参照）。

特開２００８−２７３９２５号公報 特開２０１０−０３１２２３号公報 国際公開第２０１４／０１０３２５号 特開２０１６−０８１０３５号公報 国際公開第２０１６／１１４３４６号

本発明者らは、特許文献１〜５に記載された重合性化合物を含有する重合性液晶組成物について検討したところ、重合性化合物の種類および添加剤の配合条件によっては、形成される光学異方性膜の耐光性が劣ることを明らかとした。

そこで、本発明は、耐光性に優れた光学フィルムを作製できる重合性液晶組成物、ならびに、それを用いた光学異方性膜、光学フィルム、偏光板、画像表示装置および有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題について鋭意検討した結果、逆波長分散性を示す重合性液晶化合物とともに、芳香族ポリエーテル系化合物を用いることで、形成される光学異方性膜の耐光性が良好となることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成できることを見出した。

［１］
逆波長分散性の重合性液晶化合物と、芳香族ポリエーテル系化合物と、を含有する、重合性液晶組成物。
［２］
上記芳香族ポリエーテル系化合物が、後述する式（Ａ）および後述する式（Ｂ）からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を含む、［１］に記載の重合性液晶組成物。
後述する式（Ａ）中、Ｒ^１ＡおよびＲ^２Ａはそれぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｒ^３Ａ、Ｒ^４Ａ、Ｒ^５ＡおよびＲ^６Ａはそれぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表す。Ｒ^１ＡとＲ^２Ａ、Ｒ^２ＡとＲ^３Ａ、Ｒ^３ＡとＲ^４Ａ、Ｒ^４ＡとＲ^５Ａ、Ｒ^５ＡとＲ^６Ａ、または、Ｒ^６ＡとＲ^１Ａが結合して環を形成してもよい。
後述する式（Ｂ）中、Ｒ^１ＢおよびＲ^４Ｂはそれぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｒ^２Ｂ、Ｒ^３Ｂ、Ｒ^５ＢおよびＲ^６Ｂはそれぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表す。Ｒ^１ＢとＲ^２Ｂ、Ｒ^２ＢとＲ^３Ｂ、Ｒ^３ＢとＲ^４Ｂ、Ｒ^４ＢとＲ^５Ｂ、Ｒ^５ＢとＲ^６Ｂ、または、Ｒ^６ＢとＲ^１Ｂが結合して環を形成してもよい。
［３］
後述する式（Ａ）で表される化合物が、後述する式（Ｃ）または後述する式（Ｄ）で表される化合物である、［２］に記載の重合性液晶組成物。
後述する式（Ｃ）中、Ｒ^１Ｃ、Ｒ^２Ｃ、Ｒ^６ＣおよびＲ^７Ｃはそれぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｒ^３Ｃ、Ｒ^５Ｃ、Ｒ^８ＣおよびＲ^１１Ｃはそれぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表し、Ｒ^４Ｃ、Ｒ^９ＣおよびＲ^１０Ｃはそれぞれ独立に水素原子または１価の有機基を表す。
後述する式（Ｄ）中、Ｒ^１Ｄは炭素数１〜３のアルキレン基を表し、Ｒ^２Ｄ、Ｒ^３Ｄ、Ｒ^４ＤおよびＲ^５Ｄはそれぞれ独立に、水素原子または１価の置換基を表す。Ｒ^２ＤとＲ^３Ｄ、または、Ｒ^３ＤとＲ^４Ｄが結合して環を形成してもよい。
［４］
後述する式（Ｂ）で表される化合物が、後述する式（Ｅ）または後述する式（Ｆ）で表される化合物である、［２］または［３］に記載の重合性液晶組成物。
後述する式（Ｅ）中、Ｒ^１Ｅ、Ｒ^２Ｅ、Ｒ^３Ｅ、Ｒ^４Ｅ、Ｒ^５ＥおよびＲ^６Ｅはそれぞれ独立に水素原子または１価の有機基を表し、Ｒ^７Ｅ、Ｒ^９ＥおよびＲ^１０Ｅはそれぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表し、Ｒ^８Ｅは１価の有機基を表す。Ｒ^１ＥとＲ^２Ｅ、または、Ｒ^３ＥとＲ^４Ｅは互いに結合して環を形成してもよい。
後述する式（Ｆ）中、Ｒ^１ＦおよびＲ^４Ｆはそれぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｒ^２Ｆ、Ｒ^３Ｆ、Ｒ^５ＦおよびＲ^６Ｆはそれぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表す。
［５］
後述する重合性液晶化合物が、下記式（Ｉ）で表される液晶化合物である、［１］〜［４］のいずれか１つに記載の重合性液晶組成物。
Ｌ^１−ＳＰ^１−Ａ^１−Ｄ^３−Ｇ^１−Ｄ^１−Ａｒ−Ｄ^２−Ｇ^２−Ｄ^４−Ａ^２−ＳＰ^２−Ｌ^２ ・・・（Ｉ）
上記式（Ｉ）中、Ｄ^１、Ｄ^２、Ｄ^３およびＤ^４は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＲ^３Ｒ^４−、−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＮＲ^１−ＣＲ^２Ｒ^３−、または、−ＣＯ−ＮＲ^１−を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、上記脂環式炭化水素基を構成する−ＣＨ_２−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＨ−で置換されていてもよい。
Ａ^１およびＡ^２は、それぞれ独立に、炭素数６以上の芳香環、または、炭素数６以上のシクロアルキレン環を表す。
ＳＰ^１およびＳＰ^２は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する−ＣＨ_２−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（Ｑ）−、もしくは、−ＣＯ−に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｌ^１およびＬ^２の少なくとも一方は重合性基を表す。ただし、Ａｒが、下記式（Ａｒ−３）で表される芳香環である場合は、Ｌ^１およびＬ^２ならびに下記式（Ａｒ−３）中のＬ^３およびＬ^４の少なくとも１つが重合性基を表す。
Ａｒは、後述する式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す。
ここで、後述する式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−５）中、＊１は、Ｄ^１との結合位置を表し、＊２は、Ｄ^２との結合位置を表す。
また、Ｑ^１は、ＮまたはＣＨを表す。
また、Ｑ^２は、−Ｓ−、−Ｏ−、または、−Ｎ（Ｒ^５）−を表し、Ｒ^５は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
また、Ｙ^１は、置換基を有してもよい、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３〜１２の芳香族複素環基を表す。
また、Ｚ^１、Ｚ^２およびＺ^３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ^６Ｒ^７、または、−ＳＲ^８を表し、Ｒ^６〜Ｒ^８は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｚ^１およびＺ^２は、互いに結合して芳香環を形成してもよい。
また、Ａ^３およびＡ^４は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ^９）−、−Ｓ−、および、−ＣＯ−からなる群から選択される基を表し、Ｒ^９は、水素原子または置換基を表す。
また、Ｘは、水素原子または置換基が結合していてもよい第１４〜１６族の非金属原子を表す。
また、Ｄ^５およびＤ^６は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＲ^３Ｒ^４−、−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＮＲ^１−ＣＲ^２Ｒ^３−、または、−ＣＯ−ＮＲ^１−を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１〜４のアルキル基を表す。
また、ＳＰ^３およびＳＰ^４は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する−ＣＨ_２−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（Ｑ）−、もしくは、−ＣＯ−に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
また、Ｌ^３およびＬ^４は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｌ^３およびＬ^４ならびに上記式（Ｉ）中のＬ^１およびＬ^２の少なくとも１つが重合性基を表す。
また、Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
また、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
また、ＡｘおよびＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
また、Ｑ^３は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
［６］
上記式（Ｉ）におけるＡｒの形成に使用される化合物のｐＫａが、５．８〜１０．０である、［５］に記載の重合性液晶組成物。
［７］
上記芳香族ポリエーテル系化合物の含有量が、上記重合性液晶化合物１００質量部に対して０．１〜５０質量部である、［１］〜［６］のいずれか１つに記載の重合性液晶組成物。
［８］
［１］〜［７］のいずれか１つに記載の重合性液晶組成物を重合して得られる、光学異方性膜。
［９］
［８］に記載の光学異方性膜を有する、光学フィルム。
［１０］
上記光学異方性膜が、ポジティブＡプレートまたはポジティブＣプレートである、［９］に記載の光学フィルム。
［１１］
上記光学異方性膜を２層以上有し、少なくとも１層がポジティブＡプレートであり、少なくとも他の１層がポジティブＣプレートである、［９］または［１０］に記載の光学フィルム。
［１２］
［９］〜［１１］のいずれかに記載の光学フィルムと、偏光子とを有する、偏光板。
［１３］
［９］〜［１１］のいずれかに記載の光学フィルム、または、［１２］に記載の偏光板を有する、画像表示装置。
［１４］
有機エレクトロルミネッセンス表示パネルと、上記有機エレクトロルミネッセンス表示パネル上に配置された円偏光板と、を含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
上記円偏光板が、偏光子と、上記［１１］に記載の光学フィルムとを含む、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。

本発明によれば、耐光性に優れた光学異方性膜を作製できる重合性液晶組成物、ならびに、それを用いた光学異方性膜、光学フィルム、偏光板、画像表示装置および有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供することができる。

図１Ａは、本発明の光学フィルムの一例を示す模式的な断面図である。 図１Ｂは、本発明の光学フィルムの一例を示す模式的な断面図である。 図１Ｃは、本発明の光学フィルムの一例を示す模式的な断面図である。

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、表記される２価の基（例えば、−ＣＯ−Ｏ−）の結合方向は特に制限されず、例えば、後述する式（Ｉ）中のＤ^１が−ＣＯ−Ｏ−である場合、Ａｒ側に結合している位置を＊１、Ｇ^１側に結合している位置を＊２とすると、Ｄ^１は、＊１−ＣＯ−Ｏ−＊２であってもよく、＊１−Ｏ−ＣＯ−＊２であってもよい。

［重合性液晶組成物］
本発明の重合性液晶組成物は、逆波長分散性（以下、「逆分散」と略す場合がある。）の重合性液晶化合物と、芳香族ポリエーテル系化合物と、を含有する。
本発明の重合性液晶組成物によれば、耐光性に優れた光学異方性膜を作製できる。この理由の詳細は未だ明らかになっていないが、以下の理由によるものと推測される。

酸素の存在下で光学フィルムに光が照射された場合、芳香族ポリエーテル系化合物から電子が生じる。ここで、芳香族ポリエーテル系化合物のＨＯＭＯ（最高被占軌道：Highest Occupied Molecular Orbital）のエネルギー準位は、重合性液晶化合物のＨＯＭＯのエネルギー準位よりも高い。そのため、芳香族ポリエーテル系化合物から生じた電子が、重合性液晶化合物から生じる電子の身代わりになって、一重項酸素のＬＵＭＯ（最低空軌道：Lowest Unoccupied Molecular Orbital）に移動すると推測される。その結果、重合性液晶化合物の分解が抑制されて、光学異方性膜の耐光性が向上すると推測される。
特に、このような効果は、重合性液晶化合物のコア部を形成するために使用される化合物（例えば、式（Ｉ）におけるＡｒの形成に使用される化合物）として、ｐＫａの低い化合物（好ましくは、ｐＫａが１０以下）を用いることで、より顕著に発揮される。すなわち、重合性液晶化合物のコア部を形成するために使用される化合物のｐＫａが低いことで、重合性液晶化合物のＨＯＭＯが低下する。その結果、一重項酸素のＬＵＭＯとのエネルギー差が生じ、重合性液晶化合物自身が光堅牢化する。

〔重合性液晶化合物〕
本発明の重合性液晶組成物は、逆波長分散性の重合性液晶化合物を含有する。
ここで、本明細書において「逆波長分散性」の重合性液晶化合物とは、これを用いて作製された位相差フィルムの特定波長（可視光範囲）における面内のレターデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅ値が同等または高くなるものをいう。
また、本明細書において「重合性液晶化合物」とは、重合性基を有する液晶化合物のことをいう。なお、重合性液晶化合物が有する重合性基の種類は特に制限されず、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、スチリル基、および、アリル基などが挙げられる。

上記重合性液晶化合物の種類は特に制限されないが、その形状から、棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（円盤状液晶化合物）に分類できる。さらにそれぞれ低分子タイプと高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶化合物を用いることもできる。２種以上の棒状液晶化合物、２種以上の円盤状液晶化合物、または、棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物との混合物を用いてもよい。
これらの中でも、棒状液晶化合物を用いることが好ましい。棒状液晶化合物をホモジニアス（水平）配向させることで、形成される位相差フィルムをポジティブＡプレートとして機能させることが容易になるという利点があるためである。

上記重合性液晶化合物は、上記のように逆波長分散性のフィルムを形成できるものであれば特に限定されず、例えば、特開２００８−２９７２１０号公報に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物（特に、段落番号［００３４］〜［００３９］に記載の化合物）、特開２０１０−８４０３２号公報に記載の一般式（１）で表される化合物（特に、段落番号［００６７］〜［００７３］に記載の化合物）、および、後述する式（Ｉ）で表される液晶化合物等を用いることができる。

本発明においては、上記重合性液晶化合物は、逆波長分散性により優れるという観点から、下記式（Ｉ）で表される液晶化合物であることが好ましい。
Ｌ^１−ＳＰ^１−Ａ^１−Ｄ^３−Ｇ^１−Ｄ^１−Ａｒ−Ｄ^２−Ｇ^２−Ｄ^４−Ａ^２−ＳＰ^２−Ｌ^２ ・・・（Ｉ）

上記式（Ｉ）中、Ｄ^１、Ｄ^２、Ｄ^３およびＤ^４は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＲ^３Ｒ^４−、−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＮＲ^１−ＣＲ^２Ｒ^３−、または、−ＣＯ−ＮＲ^１−を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１〜４のアルキル基を表す。
また、上記式（Ｉ）中、Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、脂環式炭化水素基を構成する−ＣＨ_２−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＨ−で置換されていてもよい。
また、上記式（Ｉ）中、Ａ^１およびＡ^２は、それぞれ独立に、炭素数６以上の芳香環、または、炭素数６以上のシクロアルキレン環を表す。
また、上記式（Ｉ）中、ＳＰ^１およびＳＰ^２は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する−ＣＨ_２−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（Ｑ）−、もしくは、−ＣＯ−に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
また、上記式（Ｉ）中、Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｌ^１およびＬ^２の少なくとも一方は重合性基を表す。ただし、Ａｒが、下記式（Ａｒ−３）で表される芳香環である場合は、Ｌ^１およびＬ^２ならびに下記式（Ａｒ−３）中のＬ^３およびＬ^４の少なくとも１つが重合性基を表す。

上記式（Ｉ）中、Ｇ^１およびＧ^２が示す炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基としては、５員環又は６員環であることが好ましい。また、脂環式炭化水素基は、飽和でも不飽和でもよいが飽和脂環式炭化水素基が好ましい。Ｇ^１およびＧ^２で表される２価の脂環式炭化水素基としては、例えば、特開２０１２−２１０６８号公報の段落００７８の記載を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。

上記式（Ｉ）中、Ａ^１およびＡ^２が示す炭素数６以上の芳香環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナンスロリン環等などの芳香族炭化水素環；フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環等の芳香族複素環；が挙げられる。なかでも、ベンゼン環（例えば、１，４−フェニル基など）が好ましい。
また、上記式（Ｉ）中、Ａ^１およびＡ^２が示す炭素数６以上のシクロアルキレン環としては、例えば、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環などが挙げられ、なかでも、シクロヘキサン環（例えば、シクロヘキサン−１，４−ジイル基など）が好ましい。

上記式（Ｉ）中、ＳＰ^１およびＳＰ^２が示す炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等が好適に挙げられる。

上記式（Ｉ）中、Ｌ^１およびＬ^２の少なくとも一方が示す重合性基は、特に限定されないが、ラジカル重合またはカチオン重合可能な重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、一般に知られているラジカル重合性基を用いることができ、好適なものとして、アクリロイル基またはメタクリロイル基を挙げることができる。この場合、重合速度はアクリロイル基が一般的に速いことが知られており、生産性向上の観点からアクリロイル基が好ましいが、メタクリロイル基も高複屈折性液晶の重合性基として同様に使用することができる。
カチオン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合性を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基などを挙げることができる。中でも、脂環式エーテル基、または、ビニルオキシ基が好適であり、エポキシ基、オキセタニル基、または、ビニルオキシ基が特に好ましい。
特に好ましい重合性基の例としては下記が挙げられる。

一方、上記式（Ｉ）中、Ａｒは、下記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す。なお、下記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−５）中、＊１はＤ^１との結合位置を表し、＊２はＤ^２との結合位置を表す。

ここで、上記式（Ａｒ−１）中、Ｑ^１は、ＮまたはＣＨを表し、Ｑ^２は、−Ｓ−、−Ｏ−、または、−Ｎ（Ｒ^５）−を表し、Ｒ^５は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｙ^１は、置換基を有してもよい、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３〜１２の芳香族複素環基を表す。
Ｒ^５が示す炭素数１〜６のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、および、ｎ−ヘキシル基などが挙げられる。
Ｙ^１が示す炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、ナフチル基などのアリール基が挙げられる。
Ｙ^１が示す炭素数３〜１２の芳香族複素環基としては、例えば、チエニル基、チアゾリル基、フリル基、ピリジル基などのヘテロアリール基が挙げられる。
また、Ｙ^１が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。
アルキル基としては、例えば、炭素数１〜１８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基等）がより好ましく、炭素数１〜４のアルキル基であることが更に好ましく、メチル基またはエチル基であるのが特に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１〜１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基、メトキシエトキシ基等）がより好ましく、炭素数１〜４のアルコキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基またはエトキシ基であるのが特に好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。

また、上記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−５）中、Ｚ^１、Ｚ^２およびＺ^３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ^６Ｒ^７、または、−ＳＲ^８を表し、Ｒ^６〜Ｒ^８は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｚ^１およびＺ^２は、互いに結合して芳香環を形成してもよい。
炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１〜１５のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基がより好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基（１，１−ジメチルプロピル基）、ｔｅｒｔ−ブチル基、１，１−ジメチル−３，３−ジメチル−ブチル基が更に好ましく、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基が特に好ましい。
炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、メチルシクロヘキシル基、エチルシクロヘキシル基等の単環式飽和炭化水素基；シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロデセニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロオクタジエニル基、シクロデカジエン等の単環式不飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デシル基、トリシクロ［３．３．１．１^３，７］デシル基、テトラシクロ［６．２．１．１^３，６．０^２，７］ドデシル基、アダマンチル基等の多環式飽和炭化水素基；等が挙げられる。
炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基としては、具体的には、例えば、フェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられ、炭素数６〜１２のアリール基（特にフェニル基）が好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子であるのが好ましい。
一方、Ｒ^６〜Ｒ^８が示す炭素数１〜６のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、および、ｎ−ヘキシル基などが挙げられる。

また、上記式（Ａｒ−２）および（Ａｒ−３）中、Ａ^３およびＡ^４は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ^９）−、−Ｓ−、および、−ＣＯ−からなる群から選択される基を表し、Ｒ^９は、水素原子または置換基を表す。
Ｒ^９が示す置換基としては、上記式（Ａｒ−１）中のＹ^１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。

また、上記式（Ａｒ−２）中、Ｘは、水素原子または置換基が結合していてもよい第１４〜１６族の非金属原子を表す。
また、Ｘが示す第１４〜１６族の非金属原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、置換基を有する窒素原子、置換基を有する炭素原子が挙げられ、置換基としては、具体的には、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アルキル置換アルコキシ基、環状アルキル基、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基など）、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、アルキルカルボニル基、スルホ基、水酸基等が挙げられる。

また、上記式（Ａｒ−３）中、Ｄ^５およびＤ^６は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＲ^３Ｒ^４−、−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＮＲ^１−ＣＲ^２Ｒ^３−、または、−ＣＯ−ＮＲ^１−を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１〜４のアルキル基を表す。

また、上記式（Ａｒ−３）中、ＳＰ^３およびＳＰ^４は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する−ＣＨ_２−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（Ｑ）−、もしくは、−ＣＯ−に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。置換基としては、上記式（Ａｒ−１）中のＹ^１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。

また、上記式（Ａｒ−３）中、Ｌ^３およびＬ^４は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｌ^３およびＬ^４ならびに上記式（Ｉ）中のＬ^１およびＬ^２の少なくとも１つが重合性基を表す。

また、上記式（Ａｒ−４）〜（Ａｒ−５）中、Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
また、上記式（Ａｒ−４）〜（Ａｒ−５）中、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
ここで、ＡｘおよびＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
また、Ｑ^３は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
ＡｘおよびＡｙとしては、特許文献３（国際公開第２０１４／０１０３２５号）の［００３９］〜［００９５］段落に記載されたものが挙げられる。
また、Ｑ^３が示す炭素数１〜６のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、および、ｎ−ヘキシル基などが挙げられ、置換基としては、上記式（Ａｒ−１）中のＹ^１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。

上記式（Ｉ）で表される液晶化合物の好ましい例を以下に示すが、これらの液晶化合物に限定されるものではない。なお、下記式中の１，４−シクロヘキシレン基は、いずれもトランス−１，４−シクロヘキシレン基である。

なお、上記式中、「＊」は結合位置を表す。

なお、上記式ＩＩ−２−８およびＩＩ−２−９中のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。

上記式（Ｉ）におけるＡｒの形成に使用される化合物のｐＫａは、８．０〜１０．０が好ましく、８．１〜９．５がより好ましく、８．２〜９．０がさらに好ましい。Ａｒの形成に使用される化合物のｐＫａが上記範囲内にあることで、重合性液晶化合物と芳香族ポリエーテル系化合物との相性が良くなる。これにより、光学異方性膜の耐久性および耐光性がより向上する。
本発明においてＡｒの形成に使用される化合物のｐＫａとは、第１酸解離定数（ｐＫａ１）のことを指す。上記式（Ｉ）におけるＡｒ部分は、重合性液晶化合物のコア部とも呼ばれ、コア部を形成するために使用される化合物のｐＫａが５．８〜１０．０の範囲にあると、逆波長分散性の重合性液晶化合物が容易に得られる。
ここで、ｐＫａとは、水溶液中でのｐＫａを意味し、例えば、化学便覧（ＩＩ）（改訂４版、１９９３年、日本化学会編、丸善株式会社）に記載のものであり、この値が低いほど酸強度が大きいことを示している。水溶液中でのｐＫａは、具体的には、無限希釈水溶液を用い、２５℃での酸解離定数を測定することにより実測することができ、また、下記ソフトウェアパッケージ１を用いて、ハメットの置換基定数及び公知文献値のデータベースに基づいた値を、計算により求めることもできる。本明細書中に記載したｐＫａの値は、全て、このソフトウェアパッケージを用いて計算により求めた値（計算ｐＫａ）を示している。
＜ソフトウェアパッケージ１＞
Advanced Chemistry Development (ACD/Labs) Software V8.14 for Solaris (1994-2007 ACD/Labs)。

上記式（Ｉ）におけるＡｒの形成に使用される化合物としては、具体的には、以下のフェノール構造を含む化合物が挙げられる。

本発明の重合性液晶組成物は、上述した逆波長分散性の重合性液晶化合物以外に、順波長分散性（以下、「順分散」と略す場合がある。）の液晶性化合物を含有していてもよい。
ここで、本明細書において「順波長分散性」の液晶性化合物とは、これを用いて作製された位相差フィルムの特定波長（可視光範囲）における面内のレターデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅ値が小さくなるものをいう。
本発明においては、上記順波長分散性を示す液晶性化合物を含有する場合の含有量は特に限定されないが、上述した逆波長分散性の重合性液晶化合物および上記順波長分散性を示す液晶性化合物の合計１００質量部において、１〜４０質量部であるのが好ましく、１０〜３０質量部であるのがより好ましい。

〔芳香族ポリエーテル系化合物〕
本発明において芳香族ポリエーテル系化合物とは、１つの芳香族環中の２つ以上の水素原子がエーテル性酸素原子によって置換された骨格を有する化合物を意味する。芳香族環としては、ベンゼン環、芳香族複素環（例えば、チオフェン環、ピロール環等）が挙げられる。
芳香族ポリエーテル系化合物は、１分子中に複数の芳香族環を有していてもよい。この場合、複数の芳香族環のそれぞれについて、２つ以上の水素原子がエーテル性酸素原子によって置換されていてもよい。

芳香族ポリエーテル系化合物は、光学異方性膜の耐光性がより向上するという観点から、下記式（Ａ）および後述する式（Ｂ）からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を含むことが好ましい。

＜式（Ａ）で表される化合物＞
まず、式（Ａ）表される化合物について説明する。

式（Ａ）中、Ｒ^１ＡおよびＲ^２Ａはそれぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｒ^３Ａ、Ｒ^４Ａ、Ｒ^５ＡおよびＲ^６Ａはそれぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表す。Ｒ^１ＡとＲ^２Ａ、Ｒ^２ＡとＲ^３Ａ、Ｒ^３ＡとＲ^４Ａ、Ｒ^４ＡとＲ^５Ａ、Ｒ^５ＡとＲ^６Ａ、または、Ｒ^６ＡとＲ^１Ａが結合して環を形成してもよい。
なお、式（Ａ）に示されているＲ^１ＡおよびＲ^２Ａと結合する酸素原子は、エーテル性酸素原子を表す。
Ｒ^１ＡおよびＲ^２Ａが表す１価の有機基としては、アルキル基（直鎖、分岐状および環状のいずれであってもよい。炭素数１〜２０が好ましい。）、アルケニル基（炭素数１〜２０が好ましい。）、アリール基（単環でもあってもよいし、縮合環あってもよい。炭素数６〜２０が好ましい。）、複素環基（例えば、テトラヒドロピラニル基、ピリミジル基）、−Ｓｉ（Ｒ^７Ａ）_３（Ｒ^７Ａはそれぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。ただし、少なくとも１つのＲ^７Ａはアルキル基である。）、式（Ａ）で表される化合物から水素原子を１つ取り除いた１価の基、式（Ｂ）で表される化合物から水素原子を１つ取り除いた１価の基、および、これらの基を組み合わせた基が挙げられる。
また、Ｒ^１ＡおよびＲ^２Ａが表す１価の有機基は、−Ｏ−を含んでいてもよい。ただし、−Ｏ−は、式（Ａ）で示されたエーテル性酸素原子と直接結合されない。
Ｒ^１ＡおよびＲ^２Ａが表す１価の有機基は、（Ｒ^８Ａ）_２ＮＣ（＝Ｏ）−で表される基、ウレア（Ｒ^８Ａ−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−）、または、ヒドロキシ基等の置換基を有していてもよい。Ｒ^８Ａはそれぞれ独立に、水素原子、アリール基またはアルキル基を表す。Ｒ^８Ａがアリール基またはアルキル基である場合、これらの基はさらに、置換基を有していてもよい。

Ｒ^３Ａ、Ｒ^４Ａ、Ｒ^５ＡおよびＲ^６Ａにおける１価の置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基（直鎖、分岐状および環状のいずれであってもよい。炭素数１〜２０が好ましい。）、アルケニル基（炭素数１〜２０が好ましい。）、アリール基（単環でもあってもよいし、縮合環あってもよい。炭素数６〜２０が好ましい。）、複素環基（例えば、テトラヒドロピラニル基、ピリミジル基）、（Ｒ^９Ａ）_２ＮＣ（＝Ｏ）−で表される基、ウレア（Ｒ^９Ａ−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−）、式（Ａ）で表される化合物から水素原子を１つ取り除いた１価の基、式（Ｂ）で表される化合物から水素原子を１つ取り除いた１価の基、および、これらの２つ以上を組み合わせた基が挙げられる。Ｒ^９Ａはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。なお、Ｒ^９Ａにおけるアルキル基またはアリール基は、Ｒ^１０ＡＳＯ_２−（Ｒ^１０Ａはアルキル基を表す。）で表される置換基を有してもよい。
Ｒ^３Ａ、Ｒ^４Ａ、Ｒ^５ＡまたはＲ^６Ａがアルキル基、アルケニル基、アリール基、式（Ａ）で表される化合物から水素原子を１つ取り除いた１価の基、または、式（Ｂ）で表される化合物から水素原子を１つ取り除いた１価の基である場合、これらの基は−Ｏ−で表される結合を含んでいてもよい。

Ｒ^１ＡとＲ^２Ａが結合して環（ヘテロ環）を形成する場合、環を構成する炭素原子は、３〜５が好ましい。形成された環は、アルキル基などの置換基を有していてもよい。
Ｒ^２ＡとＲ^３Ａ、または、Ｒ^６ＡとＲ^１Ａが結合して環（ヘテロ環）を形成する場合、環を構成する炭素原子の数は４〜６が好ましい。形成された環は、アルキル基などの置換基を有していてもよい。
Ｒ^３ＡとＲ^４Ａ、Ｒ^４ＡとＲ^５Ａ、または、Ｒ^５ＡとＲ^６Ａが結合して環（炭化水素環またはヘテロ環）を形成する場合、環を構成する炭素原子の数は５〜７が好ましい。形成された環は、アルキル基およびアルコキシ基などの置換基を有していてもよい。また、形成された環の置換基同士が結合してさらに環を形成してもよく、この場合、Ｒ^３ＡとＲ^４Ａ、Ｒ^４ＡとＲ^５Ａ、または、Ｒ^５ＡとＲ^６Ａが結合して形成された環と、置換基同士が結合して形成された環とが、スピロ環または縮合環を構成していてもよい。

上記式（Ａ）で表される化合物の好適態様の一例としては、下記式（Ｃ）または下記式（Ｄ）で表される化合物が挙げられる。

（式（Ｃ）で表される化合物）
式（Ｃ）で表される化合物について説明する。

式（Ｃ）中、Ｒ^１Ｃ、Ｒ^２Ｃ、Ｒ^６ＣおよびＲ^７Ｃはそれぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｒ^３Ｃ、Ｒ^５Ｃ、Ｒ^８ＣおよびＲ^１１Ｃはそれぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表し、Ｒ^４Ｃ、Ｒ^９ＣおよびＲ^１０Ｃはそれぞれ独立に水素原子または１価の有機基を表す。
なお、式（Ｃ）に示されているＲ^１Ｃ、Ｒ^２Ｃ、Ｒ^６ＣおよびＲ^７Ｃと結合する酸素原子は、エーテル性酸素原子を表す。
Ｒ^１Ｃ、Ｒ^２Ｃ、Ｒ^６ＣおよびＲ^7Ｃが表す１価の有機基の具体例は、Ｒ^１ＡおよびＲ^２Ａが表す１価の有機基と同様である。
Ｒ^３Ｃ、Ｒ^５Ｃ、Ｒ^８ＣおよびＲ^１１Ｃが表す１価の置換基の具体例は、Ｒ^３Ａ、Ｒ^４Ａ、Ｒ^５ＡおよびＲ^６Ａにおける１価の置換基と同様である。
Ｒ^４Ｃ、Ｒ^９ＣおよびＲ^１０Ｃが表す１価の有機基としては、アルキル基（直鎖、分岐状および環状のいずれであってもよい。炭素数１〜２０が好ましい。）、アルケニル基（炭素数１〜２０が好ましい。）、および、アリール基（単環でもあってもよいし、縮合環あってもよい。炭素数６〜２０が好ましい。）が挙げられ、これらの基は、ハロゲン原子またはアルコキシ基などの置換基を有していてもよい。

（式（Ｄ）で表される化合物）
式（Ｄ）で表される化合物について説明する。

式（Ｄ）中、Ｒ^１Ｄは炭素数１〜３のアルキレン基を表し、Ｒ^２Ｄ、Ｒ^３Ｄ、Ｒ^４ＤおよびＲ^５Ｄはそれぞれ独立に、水素原子または１価の置換基を表す。また、Ｒ^２ＤとＲ^３Ｄ、または、Ｒ^３ＤとＲ^４Ｄが結合して環を形成してもよい。
なお、式（Ｄ）に示されているＲ^１Ｄと結合する酸素原子は、エーテル性酸素原子を表す。
Ｒ^１Ｄが表す炭素数１〜３のアルキレン基は、ハロゲン原子、アルキル基（直鎖、分岐状および環状のいずれであってもよい。炭素数１〜２０が好ましい。）、アリール基（単環でもあってもよいし、縮合環あってもよい。炭素数６〜２０が好ましい。）、アルコキシ基、アリールオキシ基、＝Ｓで表される基、および、＝Ｏで表される基からなる群より選択される少なくとも１種の置換基で置換されていてもよい。Ｒ^１Ｄにおける置換基の具体例は、特公昭６２−１０４２０号公報における一般式（Ｉ）のＺの置換基と同様である。
Ｒ^１Ｄは、無置換のアルキレン基、または、アルキル基またはアリール基で置換されたアルキレン基が好ましい。

Ｒ^２Ｄ、Ｒ^３Ｄ、Ｒ^４ＤおよびＲ^５Ｄが表す１価の置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基（単環でもあってもよいし、縮合環あってもよい。）、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アシル基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ジアシルアミノ基、カルボキシ基、スルホ基、および、ヒドロキシ基が挙げられ、これらの置換基はさらに置換されていてもよい。各基の具体例は、特公昭６２−１０４２０号公報における一般式（Ｉ）のＲ_１、Ｒ_２、Ｒ_３およびＲ_４と同様である。
Ｒ^２Ｄ、Ｒ^３Ｄ、Ｒ^４ＤおよびＲ^５Ｄとしては、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基が好ましい。

Ｒ^２ＤとＲ^３Ｄ、または、Ｒ^３ＤとＲ^４Ｄが結合して環を形成する場合、この環としては、炭化水素環およびヘテロ環が挙げられる。
Ｒ^２ＤとＲ^３Ｄ、または、Ｒ^３ＤとＲ^４Ｄが結合して形成し得る炭化水素環としては、インダン環、スピロインダン環、ナフタレン環、および、テトラヒドロナフタレン環が挙げられる。これらの炭化水素環は、特公昭６２−１０４２０号公報における一般式（Ｉ）のＲ_１とＲ_２、Ｒ_２とＲ_３が閉環して形成される炭化水素環の置換基として例示された基によって、置換されてもよい。
Ｒ^２ＤとＲ^３Ｄ、または、Ｒ^３ＤとＲ^４Ｄが結合して形成し得るヘテロ環としては、クロマン環、クマラン環、スピロクロマン環、および、スピロクマラン環が挙げられる。これらのヘテロ環は、特公昭６２−１０４２０号公報における一般式（Ｉ）のＲ_１とＲ_２、Ｒ_２とＲ_３が閉環して形成されるヘテロ環の置換基として例示された基によって、置換されてもよい。
Ｒ^２ＤとＲ^３Ｄ、および、Ｒ^３ＤとＲ^４Ｄのうち、Ｒ^３ＤとＲ^４Ｄが結合して環を形成することが好ましい。

式（Ｄ）で表される化合物は、下記式（Ｄ−１）で表される骨格を有する化合物であってもよい。下記式（Ｄ−１）で表される骨格を有する化合物は、式（Ｄ）におけるＲ^３ＤとＲ^４Ｄが結合してスピロインダン環を形成し、このスピロインダン環に下記式（ｄ１）で表される化合物が置換した構造を備える。
下記式（ｄ１）および式（Ｄ−１）におけるＲ^６Ｄの定義は、式（Ｄ）におけるＲ^１Ｄと同様であり、式（Ｄ−１）におけるＲ^１Ｄは、式（Ｄ）におけるＲ^１Ｄを表す。

式（Ｄ）で表される化合物は、下記式（Ｄ−２）で表される骨格または下記式（Ｄ−３）で表される骨格を有する化合物であってもよい。
下記式（Ｄ−２）で表される骨格を有する化合物は、式（Ｄ）におけるＲ^３ＤとＲ^４Ｄが結合してスピロクロマン環を形成し、このスピロクロマン環に上記式（ｄ１）で表される化合物が置換した構造を備える。
下記式（Ｄ−３）で表される骨格を有する化合物は、式（Ｄ）におけるＲ^３ＤとＲ^４Ｄが結合してスピロクマラン環を形成し、このスピロクマラン環に上記式（ｄ１）で表される化合物が置換した構造を備える。
式（Ｄ−２）および式（Ｄ−３）におけるＲ^６Ｄの定義は、式（Ｄ）におけるＲ^１Ｄと同様であり、式（Ｄ−２）および式（Ｄ−３）におけるＲ^１Ｄは、式（Ｄ）におけるＲ^１Ｄを表す。

式（Ａ）、式（Ｃ）および式（Ｄ）で表される化合物の具体例を以下に示す。

＜式（Ｂ）で表される化合物＞
次に式（Ｂ）で表される化合物について説明する。

式（Ｂ）中、Ｒ^１ＢおよびＲ^４Ｂはそれぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｒ^２Ｂ、Ｒ^３Ｂ、Ｒ^５ＢおよびＲ^６Ｂはそれぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表す。Ｒ^１ＢとＲ^２Ｂ、Ｒ^２ＢとＲ^３Ｂ、Ｒ^３ＢとＲ^４Ｂ、Ｒ^４ＢとＲ^５Ｂ、Ｒ^５ＢとＲ^６Ｂ、または、Ｒ^６ＢとＲ^１Ｂが結合して環を形成してもよい。
なお、式（Ｂ）に示されているＲ^１ＢおよびＲ^４Ｂと結合する酸素原子は、エーテル性酸素原子を表す。
Ｒ^１ＢおよびＲ^４Ｂが表す１価の有機基の具体例は、Ｒ^１ＡおよびＲ^２Ａが表す１価の有機基と同様である。
Ｒ^２Ｂ、Ｒ^３Ｂ、Ｒ^５ＢおよびＲ^６Ｂが表す１価の置換基の具体例は、Ｒ^３Ａ、Ｒ^４Ａ、Ｒ^５ＡおよびＲ^６Ａにおける１価の置換基と同様である。
Ｒ^１ＢとＲ^２Ｂ、Ｒ^３ＢとＲ^４Ｂ、Ｒ^４ＢとＲ^５Ｂ、または、Ｒ^６ＢとＲ^１Ｂが結合して環（ヘテロ環）を形成する場合、環を構成する炭素原子の数は４〜６が好ましい。形成された環は、アルキル基およびアルコキシ基などの置換基を有していてもよい。また、形成された環の置換基同士が結合してさらに環を形成してもよく、この場合、Ｒ^１ＢとＲ^２Ｂ、Ｒ^３ＢとＲ^４Ｂ、Ｒ^４ＢとＲ^５Ｂ、または、Ｒ^６ＢとＲ^１Ｂが結合して形成された環と、置換基同士が結合して形成された環とが、スピロ環または縮合環を構成していてもよい。
Ｒ^２ＢとＲ^３Ｂ、または、Ｒ^５ＢとＲ^６Ｂが結合して環（炭化水素環またはヘテロ環）を形成する場合、環を構成する炭素原子の数は５〜７が好ましい。また、形成された環は、アルキル基などの置換基を有していてもよい。

上記式（Ｂ）で表される化合物の好適態様の一例としては、下記式（Ｅ）または下記式（Ｆ）で表される化合物が挙げられる。

（式（Ｅ）で表される化合物）
式（Ｅ）で表される化合物について説明する。

式（Ｅ）中、Ｒ^１Ｅ、Ｒ^２Ｅ、Ｒ^３Ｅ、Ｒ^４Ｅ、Ｒ^５ＥおよびＲ^６Ｅはそれぞれ独立に水素原子または１価の有機基を表し、Ｒ^７Ｅ、Ｒ^９ＥおよびＲ^１０Ｅはそれぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表し、Ｒ^８Ｅは１価の有機基を表す。Ｒ^１ＥとＲ^２Ｅ、または、Ｒ^３ＥとＲ^４Ｅは互いに結合して環を形成してもよい。
なお、式（Ｅ）に示されているベンゼン環と結合する酸素原子は、エーテル性酸素原子を表す。
Ｒ^１Ｅ、Ｒ^２Ｅ、Ｒ^３Ｅ、Ｒ^４Ｅ、Ｒ^５ＥおよびＲ^６Ｅが表す１価の有機基は、アルキル基（直鎖、分岐状および環状のいずれであってもよい。炭素数１〜２０が好ましい。）、アルケニル基（炭素数１〜２０が好ましい。）、アルコキシ基（直鎖、分岐状および環状のいずれであってもよい。炭素数１〜２０が好ましい。）、アリール基（単環でもあってもよいし、縮合環あってもよい。炭素数６〜２０が好ましい。）、およびこれらを組み合わせた基が挙げられ、これらの基は、ハロゲン原子などの置換基を有していてもよい。
Ｒ^７Ｅ、Ｒ^９ＥおよびＲ^１０Ｅが表す１価の置換基の具体例は、Ｒ^３Ａ、Ｒ^４Ａ、Ｒ^５ＡおよびＲ^６Ａにおける１価の置換基と同様である。
Ｒ^８Ｅが表す１価の有機基は、Ｒ^１ＡおよびＲ^２Ａが表す１価の有機基と同様である。

Ｒ^１ＥとＲ^２Ｅ、または、Ｒ^３ＥとＲ^４Ｅが結合して環（炭化水素環またはヘテロ環）を形成する場合、環を構成する炭素原子の数は４〜６が好ましい。形成された環は、アルキル基およびアルコキシ基などの置換基を有していてもよい。また、形成された環の置換基同士が結合してさらに環を形成してもよく、この場合、Ｒ^１ＥとＲ^２Ｅ、または、Ｒ^３ＥとＲ^４Ｅが結合して形成された環と、置換基同士が結合して形成された環とが、縮合環を構成していてもよい。

式（Ｅ）で表される化合物のうちＲ^１ＥとＲ^２Ｅが結合して環を形成した化合物としては、下記式（Ｅ−１）で表される骨格を有する化合物が挙げられる。
下記式（Ｅ−１）で表される骨格を有する化合物は、スピロクロマン環構造を有する化合物である。式（Ｅ−１）におけるＲ^８Ｅは、式（Ｅ）におけるＲ^８Ｅを表す。

（式（Ｆ）で表される化合物）
式（Ｆ）で表される化合物について説明する。

式（Ｆ）中、Ｒ^１ＦおよびＲ^４Ｆはそれぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｒ^２Ｆ、Ｒ^３Ｆ、Ｒ^５ＦおよびＲ^６Ｆはそれぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表す。
Ｒ^１ＦおよびＲ^４Ｆが表す１価の有機基は、Ｒ^１ＡおよびＲ^２Ａが表す１価の有機基と同様である。
Ｒ^２Ｆ、Ｒ^３Ｆ、Ｒ^５ＦおよびＲ^６Ｆが表す１価の置換基は、Ｒ^３Ａ、Ｒ^４Ａ、Ｒ^５ＡおよびＲ^６Ａにおける１価の置換基と同様である。

式（Ｂ）、（Ｅ）および（Ｆ）で表される化合物の具体例を以下に示す。

芳香族ポリエーテル系化合物の含有量は、本発明の重合性液晶組成物に含まれる上記重合性液晶化合物１００質量部に対して、０．１〜５０質量部が好ましく、０．５〜３０質量部がより好ましく、１〜２０質量部がさらに好ましく、５〜２０質量部が特に好ましい。芳香族ポリエーテル系化合物の含有量が上記範囲内にあることで、光学異方性膜の耐光性がより向上する。
芳香族ポリエーテル系化合物は、１種単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。芳香族ポリエーテル系化合物を２種以上併用する場合には、その合計量を上記範囲内にすることが好ましい。

〔重合開始剤〕
本発明の重合性液晶組成物は、重合開始剤を含有していることが好ましい。
使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であるのが好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３−４０７９９号公報、特公平５−２９２３４号公報、特開平１０−９５７８８号公報、特開平１０−２９９９７号公報記載）等が挙げられる。

光重合開始剤の具体的な例としては、ＢＡＳＦ社から市販されているイルガキュア（Irgacure）シリーズ（例えば、イルガキュア６５１、イルガキュア７５４、イルガキュア１８４、イルガキュア２９５９、イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア３７９、イルガキュア８１９、および、イルガキュアＯＸＥ−０１など）、ダロキュア（Darocure)シリーズ（例えば、ダロキュアＴＰＯ、および、ダロキュア１１７３など）、クオンタキュア（Quantacure）ＰＤＯ、ランベルティ(Lamberti）社から市販されているエザキュア（Ezacure）シリーズ（例えば、エザキュアＴＺＭ、エザキュアＴＺＴ、および、エザキュアＫＴＯ４６など）等が挙げられる。

重合開始剤を含有する場合において、重合開始剤の含有量は、本発明の重合性液晶組成物に含まれる上記重合性液晶化合物１００質量部に対して、０．５〜１０質量部が好ましく、１〜１０質量部がより好ましい。
重合開始剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。重合開始剤を２種以上併用する場合には、その合計量を上記範囲内にすることが好ましい。

〔溶媒〕
本発明の重合性液晶組成物は、光学異方性膜を形成する作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
溶媒としては、具体的には、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、水、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

〔その他の成分〕
本発明の重合性液晶組成物は、上記以外の他の成分を含有してもよく、例えば、酸化防止剤（例えば、フェノール系酸化防止剤など）、上記以外の液晶化合物、空気界面配向剤（レベリング剤）、界面活性剤、チルト角制御剤、配向助剤、可塑剤、および、架橋剤などが挙げられる。

［光学異方性膜］
本発明の光学異方性膜は、上記重合性液晶組成物を重合して得られる光学異方性膜である。
本発明においては、光学異方性膜の形成方法としては、例えば、上述した重合性液晶化合物、芳香族ポリエーテル系化合物、重合開始剤、および、溶媒などを含有する重合性液晶組成物を用いて、所望の配向状態とした後に、重合により固定化する方法などが挙げられる。
ここで、重合条件は特に限定されないが、光照射による重合においては、紫外線を用いることが好ましい。照射量は、１０ｍＪ／ｃｍ²〜５０Ｊ／ｃｍ²であることが好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ²〜５Ｊ／ｃｍ²であることがより好ましく、３０ｍＪ／ｃｍ²〜３Ｊ／ｃｍ²であることが更に好ましく、５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ²であることが特に好ましい。また、重合反応を促進するため、加熱条件下で実施してもよい。
なお、本発明においては、光学異方性膜は、後述する本発明の光学フィルムにおける任意の支持体上や、後述する本発明の偏光板における偏光子上に形成することができる。

［光学フィルム］
本発明の光学フィルムは、本発明の光学異方性膜を有する光学フィルムである。
図１Ａ、図１Ｂおよび図１Ｃ（以下、これらの図面を特に区別を要しない場合は「図１」と略す。）は、それぞれ本発明の光学フィルムの一例を示す模式的な断面図である。
なお、図１は模式図であり、各層の厚みの関係や位置関係などは必ずしも実際のものとは一致せず、図１に示す支持体、配向膜およびハードコート層は、いずれも任意の構成部材である。
図１に示す光学フィルム１０は、支持体１６と、配向膜１４と、光学異方性膜１２とをこの順で有する。
また、光学フィルム１０は、図１Ｂに示すように、支持体１６の配向膜１４が設けられた側とは反対側にハードコート層１８を有していてもよく、図１Ｃに示すように、光学異方性膜１２の配向膜１４が設けられた側とは反対側にハードコート層１８を有していてもよい。
以下、本発明の光学フィルムに用いられる種々の部材について詳細に説明する。

〔光学異方性膜〕
本発明の光学フィルムが有する光学異方性膜は、上述した本発明の光学異方性膜である。
本発明の光学フィルムにおいては、上記光学異方性膜の厚みについては特に限定されないが、０．１〜１０μｍであるのが好ましく、０．５〜５μｍであるのがより好ましい。

本発明の光学フィルムにおいては、光学設計上の観点から、上述した本発明の光学異方性膜が、ポジティブＡプレートまたはポジティブＣプレートであることが好ましい。

ここで、Ａプレートは、ポジティブＡプレート（正のＡプレート）とネガティブＡプレート（負のＡプレート）との２種があり、フィルム面内の遅相軸方向（面内での屈折率が最大となる方向）の屈折率をｎｘ、面内の遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚとしたとき、ポジティブＡプレートは式（Ａ１）の関係を満たすものであり、ネガティブＡプレートは式（Ａ２）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＡプレートはＲｔｈが正の値を示し、ネガティブＡプレートはＲｔｈが負の値を示す。
式（Ａ１） ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ
式（Ａ２） ｎｙ＜ｎｘ≒ｎｚ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｙ−ｎｚ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、−１０〜１０ｎｍ、好ましくは−５〜５ｎｍの場合も「ｎｙ≒ｎｚ」に含まれ、（ｎｘ−ｎｚ）×ｄが、−１０〜１０ｎｍ、好ましくは−５〜５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｚ」に含まれる。
また、Ｃプレートは、ポジティブＣプレート（正のＣプレート）とネガティブＣプレート（負のＣプレート）との２種があり、ポジティブＣプレートは式（Ｃ１）の関係を満たすものであり、ネガティブＣプレートは式（Ｃ２）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＣプレートはＲｔｈが負の値を示し、ネガティブＣプレートはＲｔｈが正の値を示す。
式（Ｃ１） ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ
式（Ｃ２） ｎｚ＜ｎｘ≒ｎｙ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、０〜１０ｎｍ、好ましくは０〜５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｙ」に含まれる。

本発明の光学フィルムにおいては、光学設計上の観点から、上述した本発明の光学異方性膜を２層以上有し、少なくとも１層がポジティブＡプレートであり、少なくとも他の１層がポジティブＣプレートであることが好ましい。

〔支持体〕
本発明の光学フィルムは、上述したように、光学異方性膜を形成するための基材として支持体を有していてもよい。
このような支持体は、透明であるのが好ましく、具体的には、光透過率が８０％以上であるのが好ましい。

このような支持体としては、例えば、ガラス基板やポリマーフィルムが挙げられ、ポリマーフィルムの材料としては、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、ラクトン環含有重合体等のアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；、塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。
また、後述する偏光子がこのような支持体を兼ねる態様であってもよい。

本発明においては、上記支持体の厚みについては特に限定されないが、５〜６０μｍであるのが好ましく、５〜３０μｍであるのがより好ましい。

〔配向膜〕
本発明の光学フィルムは、上述した任意の支持体を有する場合、支持体と光学異方性膜との間に、配向膜を有しているのが好ましい。なお、上述した支持体が配向膜を兼ねる態様であってもよい。

配向膜は、一般的にはポリマーを主成分とする。配向膜用ポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。
本発明において利用されるポリマー材料は、ポリビニルアルコール又はポリイミド、及びその誘導体が好ましい。特に変性又は未変性のポリビニルアルコールが好ましい。
本発明に使用可能な配向膜については、例えば、国際公開第０１／８８５７４号の４３頁２４行〜４９頁８行に記載された配向膜；特許第３９０７７３５号公報の段落［００７１］〜［００９５］に記載の変性ポリビニルアルコール；特開２０１２−１５５３０８号公報に記載された液晶配向剤により形成される液晶配向膜;等が挙げられる。

本発明においては、配向膜の形成時に配向膜表面に接触しないことで面状悪化を防ぐことが可能となる理由から、配向膜としては光配向膜を利用することも好ましい。
光配向膜としては特に限定はされないが、国際公開第２００５／０９６０４１号の段落［００２４］〜［００４３］に記載されたポリアミド化合物やポリイミド化合物などのポリマー材料；特開２０１２−１５５３０８号公報に記載された光配向性基を有する液晶配向剤により形成される液晶配向膜；Ｒｏｌｉｃ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製の商品名ＬＰＰ−ＪＰ２６５ＣＰなどを用いることができる。

また、本発明においては、上記配向膜の厚さは特に限定されないが、支持体に存在しうる表面凹凸を緩和して均一な膜厚の光学異方性膜を形成するという観点から、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０１〜１μｍであることがより好ましく、０．０１〜０．５μｍであることがさらに好ましい。

〔ハードコート層〕
本発明の光学フィルムは、フィルムの物理的強度を付与するために、ハードコート層を有しているのが好ましい。具体的には、支持体の配向膜が設けられた側とは反対側にハードコート層を有していてもよく（図１Ｂ参照）、光学異方性膜の配向膜が設けられた側とは反対側にハードコート層を有していてもよい（図１Ｃ参照）。
ハードコート層としては特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１９０］〜［０１９６］に記載のものを使用することができる。

〔他の光学異方性膜〕
本発明の光学フィルムは、本発明の光学異方性膜とは別に、他の光学異方性膜を有していてもよい。
すなわち、本発明の光学フィルムは、本発明の光学異方性膜と他の光学異方性膜との積層構造を有していてもよい。
このような他の光学異方性膜は、例えば、上述した重合性液晶化合物を用いて得られる光学異方性膜などが挙げられ、特に限定されない。
ここで、一般的に、液晶化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶化合物を用いることもできるが、棒状液晶化合物またはディスコティック液晶化合物（円盤状液晶化合物）を用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶化合物、２種以上の円盤状液晶化合物、または棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物との混合物を用いてもよい。上述の液晶化合物の固定化のために、重合性基を有する棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物を用いて形成することがより好ましく、液晶化合物が１分子中に重合性基を２以上有することがさらに好ましい。液晶化合物が二種類以上の混合物の場合には、少なくとも１種類の液晶化合物が１分子中に２以上の重合性基を有していることが好ましい。
棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報の請求項１や特開２００５−２８９９８０号公報の段落［００２６］〜［００９８］に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００２０］〜［００６７］や特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。

〔紫外線吸収剤〕
本発明の光学フィルムは、外光（特に紫外線）の影響を考慮して、紫外線吸収剤を含むことが好ましく、支持体に紫外線吸収剤を含むことがより好ましい。

紫外線吸収剤としては、紫外線吸収性を発現できるもので、公知のものがいずれも使用できる。そのような紫外線吸収剤のうち、紫外線吸収性が高く、電子画像表示装置で用いられる紫外線吸収能（紫外線カット能）を得るためにベンゾトリアゾール系又はヒドロキシフェニルトリアジン系の紫外線吸収剤が好ましい。また、紫外線の吸収幅を広くするために、最大吸収波長の異なる紫外線吸収剤を２種以上併用することができる。

［偏光板］
本発明の偏光板は、上述した本発明の光学フィルムと、偏光子とを有するものである。

〔偏光子〕
本発明の偏光板が有する偏光子は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であれば特に限定されず、従来公知の吸収型偏光子および反射型偏光子を利用することができる。
吸収型偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、およびポリエン系偏光子などが用いられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子には、塗布型偏光子と延伸型偏光子があり、いずれも適用できるが、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸して作製される偏光子が好ましい。
また、基材上にポリビニルアルコール層を形成した積層フィルムの状態で延伸および染色を施すことで偏光子を得る方法として、特許第５０４８１２０号公報、特許第５１４３９１８号公報、特許第４６９１２０５号公報、特許第４７５１４８１号公報、特許第４７５１４８６号公報を挙げることができ、これらの偏光子に関する公知の技術も好ましく利用することができる。
反射型偏光子としては、複屈折の異なる薄膜を積層した偏光子、ワイヤーグリッド型偏光子、選択反射域を有するコレステリック液晶と１／４波長板とを組み合わせた偏光子などが用いられる。
なかでも、密着性がより優れる点で、ポリビニルアルコール系樹脂（−ＣＨ_２−ＣＨＯＨ−を繰り返し単位として含むポリマー。特に、ポリビニルアルコールおよびエチレン−ビニルアルコール共重合体からなる群から選択される少なくとも１つ）を含む偏光子であることが好ましい。

本発明においては、偏光子の厚みは特に限定されないが、３μｍ〜６０μｍであるのが好ましく、５μｍ〜３０μｍであるのがより好ましく、５μｍ〜１５μｍであるのが更に好ましい。

〔粘着剤層〕
本発明の偏光板は、本発明の光学フィルムにおける光学異方性膜と、偏光子との間に、粘着剤層が配置されていてもよい。
光学異方性膜と偏光子との積層のために用いられる粘着剤層としては、例えば、動的粘弾性測定装置で測定した貯蔵弾性率Ｇ’と損失弾性率Ｇ”との比（ｔａｎδ＝Ｇ”／Ｇ’）が０．００１〜１．５である物質のことを表し、いわゆる、粘着剤やクリープしやすい物質等が含まれる。本発明に用いることのできる粘着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール系粘着剤が挙げられるが、これに限定されない。

［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、本発明の光学フィルムまたは本発明の偏光板を有する、画像表示装置である。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
これらのうち、液晶セル、有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。

〔液晶表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置は、上述した本発明の偏光板と、液晶セルとを有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる偏光板のうち、フロント側の偏光板として本発明の偏光板を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光板として本発明の偏光板を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。

＜液晶セル＞
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、又はＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）であることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０〜１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、及びＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６−２１５３２６号公報、及び特表２００８−５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０−５４９８２号公報、特開平１１−２０２３２３号公報、特開平９−２９２５２２号公報、特開平１１−１３３４０８号公報、特開平１１−３０５２１７号公報、特開平１０−３０７２９１号公報などに開示されている。

〔有機ＥＬ表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、本発明の偏光板と、λ／４機能を有する板（以下、「λ／４板」ともいう。）と、有機ＥＬ表示パネルとをこの順で有する態様が好適に挙げられる。
ここで、「λ／４機能を有する板」とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板をいい、例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性膜を設けた位相差フィルム等が挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。

本発明の画像表示装置は、有機ＥＬ表示パネルと、有機ＥＬ表示パネル上に配置された円偏光板と、を含む有機ＥＬ表示装置であることが好ましい。
特に、本発明においては、円偏光板が、偏光子と、上述した本発明の光学フィルムとを含む態様であることがより好ましく、偏光子と、上述した本発明の光学異方性膜を２層以上有し、少なくとも１層がポジティブＡプレートであり、少なくとも他の１層がポジティブＣプレートである光学フィルムとを含む態様であることが更に好ましい。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

〔重合性液晶化合物〕
重合性液晶組成物の調製にあたって、以下の重合性液晶化合物１〜７を準備した。

＜重合性液晶化合物１（逆分散液晶１）の合成＞
以下のスキームに従い、下記式Ａ〜Ｃで表される化合物（以下、それぞれ化合物Ａ〜Ｃと略す。）を合成した。

（化合物Ａの合成）
化合物Ａの合成は、“Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”（２００４）；６９（６）；ｐ．２１６４−２１７７．に記載の方法で行った。

（化合物Ｂの合成）
化合物Ａ３０．０ｇ（０．０９１６ｍｏｌ）、メルドラム酸１９．８ｇ（０．１３７ｍｏｌ）、および、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）２００ｍＬを混合し、５５℃で２時間撹拌した。
その後、室温まで冷却し、混合物に水２００ｍＬを加え、析出した結晶をろ過した。
得られた結晶を、水とＮＭＰとを１対１で混合した混合溶液で洗浄することで、化合物Ｂを２８．４ｇ（０．０８７０ｍｏｌ）得た（収率９５％）。

（化合物Ｃ）
化合物Ｂ５１．５ｇ（０．１５８ｍｏｌ）、および、ＴＨＦ３１５ｍＬを混合し、氷冷下で２Ｍの水酸化ナトリウム水溶液３９５ｍＬ（０．７８９ｍｏｌ）を滴下した。
次いで、室温まで昇温し、２時間攪拌した後、３Ｎ塩酸水２６３ｍＬ（０．７８９ｍｏｌ）を氷冷下で滴下した。
次いで、水３００ｍＬ、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）１８０ｍＬを加え、析出した固体をろ過した。
得られた固体をアセトニトリルで攪拌し、懸濁した後、ろ過することで、化合物Ｃを２５ｇ（０．０８６８ｍｏｌ）得た（収率５５％）。

次いで、下記スキームに従い、下記式Ｄで表される化合物Ｄを合成した。

（化合物Ｄの合成）
化合物Ｃ５０ｇ（０．１７５ｍｏｌ）、ＢＨＴ（１．９ｇ，８．７４ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ３００ｍＬ、および、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）１５０ｍＬを混合し、氷冷下で塩化チオニル８７．３ｇ（０．７３４ｍｏｌ）を滴下した。
次いで、氷冷下で２時間攪拌した後、４−ヒドロキシブチルアクリル酸エステル１２６ｇ（０．８７４ｍｏｌ）を滴下した。
次いで、室温まで昇温し、２時間攪拌した後、５％食塩水４００ｍＬ、酢酸エチル１００ｍＬ、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２００ｍＬを加えて抽出した。
有機層を１０％食塩水２００ｍＬで２回洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた粗体をアセトニトリルで攪拌し、懸濁し、濾過することで、化合物Ｄを５７ｇ（０．１０７ｍｏｌ）得た（収率６１％）。

（逆分散液晶１の合成）
下記スキームに従い、下記式Ｅで表される化合物Ｅ２２．１ｇ（０．０９２８ｍｏｌ）のトルエン４０ｍｌ溶液に塩化チオニル１２．７ｇ（０．１０７ｍｍｏｌ）を加え、触媒量のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを加えた。そのまま６５℃まで昇温し、２時間攪拌後、溶媒を留去した。
次いで、化合物Ｄ２５ｇ（０．０４６４ｍｏｌ）、ＢＨＴ（０．５１ｇ、２．３２ｍｍｏｌ）、および、ＴＨＦ（１２５ｍＬ）を添加し、氷冷下でトリエチルアミン１０．３ｇ（０．１０２ｍｏｌ）を滴下した。
次いで、室温まで昇温し、２時間攪拌した後、１Ｍ塩酸水１００ｍｌ、酢酸エチル４０ｍｌを加え抽出した。
有機層を１０％食塩水で洗浄した後、有機層にメタノール４００ｍｌを加え、析出した固体をろ過することで、下記式１で表される逆分散液晶１を３８ｇ（０．０３８９ｍｏｌ）得た（収率８４％）。

＜重合性液晶化合物２（逆分散液晶２）の合成＞
特開２０１１−２０７７６５号公報の［０４６２］〜［０４７７］段落に記載された方法に従い、下記式２で表される逆分散液晶２を合成した。

＜重合性液晶化合物３（逆分散液晶３）の合成＞
国際公開第２０１４／０１０３２５号の［０２０５］〜［０２１７］段落に記載された方法に従い、下記式３で表される逆分散液晶３を合成した。

＜重合性液晶化合物４（順分散液晶１）の合成＞
参考文献１（Makromol.Chem. 190, 59頁（1991年））に記載の方法にしたがって、下記式で表される順分散液晶１を合成した。

＜重合性液晶化合物５（逆分散液晶４）の合成＞
下記式Ｆで表される側鎖カルボン酸Ｆと、下記式Ｇで表されるフェノールＧとを合成し、以下のルートで、下記式５で表される逆分散液晶４を合成した。

（側鎖カルボン酸Ｆの合成）
特開２０１６−８１０３５号公報に記載された化合物（Ｉ−４Ｃ）に倣って、逆分散液晶４の側鎖カルボン酸Ｆを合成した。
得られた側鎖カルボン酸Ｆの^１Ｈ−ＮＭＲ（Nuclear Magnetic Resonance）を以下に示す。
^１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：
［Ｍａｊｏｒ Ｉｓｏｍｅｒ］
１．２７（ｄ，３Ｈ），１．４５−１．７３（ｍ，４Ｈ），２．１０−２．３２（ｍ，４Ｈ），２．３２−２．４５（ｍ，１Ｈ），２．４８−２．７０（ｍ，１Ｈ），２．６２（ｓ，４Ｈ），２．９３（ｔ，２Ｈ），４．１５（ｄｄ，１Ｈ），４．２５（ｄｄ，１Ｈ），４．２９（ｔ，２Ｈ），５．２０（ｍ，１Ｈ），５．８５（ｄｄ，１Ｈ），６．１３（ｄｄ，１Ｈ），６．４２（ｄｄ，１Ｈ），６．９５−７．０６（ｍ，２Ｈ），７．１６−７．２５（ｍ，２Ｈ）
［Ｍｉｎｏｒ Ｉｓｏｍｅｒ］
１．２９（ｄ，３Ｈ），１．４５−１．７３（ｍ，４Ｈ），２．１０−２．３２（ｍ，４Ｈ），２．３２−２．４５（ｍ，１Ｈ），２．４８−２．７０（ｍ，１Ｈ），２．６２（ｓ，４Ｈ），２．９３（ｔ，２Ｈ），４．１３（ｄｄ，１Ｈ），４．２２（ｄｄ，１Ｈ），４．２９（ｔ，２Ｈ），５．２０（ｍ，１Ｈ），５．８４（ｄｄ，１Ｈ），６．１１（ｄｄ，１Ｈ），６．４１（ｄｄ，１Ｈ），６．９５−７．０６（ｍ，２Ｈ），７．１６−７．２５（ｍ，２Ｈ）

（フェノールＧの合成）
フェノールＧの合成は、Justus Liebigs Annalen der Chemie, 726, 103-109 (1969) に記載の方法を参考に行うことができる。
窒素気流下、８６％含率の水酸化カリウム２１．７９ｇ（３３４ｍｍｏｌ）をイソプロピルアルコール７０ｍｌおよび水８５ｍｌに溶解した。この溶液に、氷冷攪拌下、内温５℃以下で、マロノニトリル１１．０３ｇ（１６７ｍｍｏｌ）をイソプロピルアルコール１２ｍｌに溶解した溶液を添加した。
次いで、内温１０℃以下で二硫化炭素１３．３５ｇ（１７５ｍｍｏｌ）を滴下した後、氷冷下で３０分間攪拌を行った。この反応液に、１，４−ベンゾキノン３６．４６ｇ（３３８ｍｍｏｌ）、酢酸２１．９６ｍｌ（３８４ｍｍｏｌ）およびアセトン２００ｍｌの混合溶液を、内温を２℃以下に保ちながらゆっくりと滴下した。同温度で３０分攪拌した後、２５℃に昇温し、水３６５ｍｌを添加した。
次いで、析出した結晶をろ取し、水８３５ｍｌ、続いて、水／アセトン（９０ｍｌ／９０ｍｌ）混合溶液で洗浄して、粗体を得た。
次いで、窒素気流下、粗体とＴＨＦ１００ｍｌとを混合撹拌し、４０℃に昇温した後に、水１５０ｍｌを４０℃で滴下した。
その後、５℃まで冷却して結晶を析出させ、５℃で１時間撹拌した。析出した結晶をろ取し、ＴＨＦ／水（４０ｍｌ／１２０ｍｌ）の混合溶液で掛け洗いした後に、６０℃で減圧乾燥することで、淡黄色固体としてフェノールＧを３１．３ｇ（収率７５％）得た。
得られたフェノールＧの^１Ｈ−ＮＭＲを以下に示す。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）δ（ｐｐｍ）：６．８０（ｓ，２Ｈ），１０．５１（ｓ，２Ｈ）

（逆分散液晶４の合成）
特開２０１６−８１０３５号公報に記載された化合物（Ｉ−４）に倣って、逆分散液晶４を合成した。
得られた逆分散液晶４の^１Ｈ−ＮＭＲを以下に示す。
^１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：
［Ｍａｊｏｒ Ｉｓｏｍｅｒ］
１．２７（ｄ，６Ｈ），１．５６−１．７９（ｍ，８Ｈ），２．２２−２．４０（ｍ，８Ｈ），２．５５−２．７５（ｍ，４Ｈ），２．６２（ｓ，８Ｈ），２．９４（ｔ，４Ｈ），４．１５（ｄｄ，２Ｈ），４．２５（ｄｄ，２Ｈ），４．２８（ｔ，４Ｈ），５．２０（ｍ，２Ｈ），５．８６（ｄｄ，２Ｈ），６．１３（ｄｄ，２Ｈ），６．４３（ｄｄ，２Ｈ），６．９９−７．０６（ｍ，４Ｈ），７．２０−７．２５（ｍ，４Ｈ），７．３２（ｓ，２Ｈ）
［Ｍｉｎｏｒ Ｉｓｏｍｅｒ］
１．２９（ｄ，６Ｈ），１．５６−１．７９（ｍ，８Ｈ），２．２２−２．４０（ｍ，８Ｈ），２．５５−２．７５（ｍ，４Ｈ），２．６２（ｓ，８Ｈ），２．９４（ｔ，４Ｈ），４．１２（ｄｄ，２Ｈ），４．２２（ｄｄ，２Ｈ），４．２８（ｔ，４Ｈ），５．２０（ｍ，２Ｈ），５．８４（ｄｄ，２Ｈ），６．１１（ｄｄ，２Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．９９−７．０６（ｍ，４Ｈ），７．２０−７．２５（ｍ，４Ｈ），７．３２（ｓ，２Ｈ）

＜重合性液晶化合物６（逆分散液晶５）の合成＞
下記式Ｆで表される側鎖カルボン酸Ｆと、下記式Ｈで表されるフェノールＨとを合成し、以下のルートで、下記式６で表される逆分散液晶５を合成した。

（フェノールＨの合成）
窒素気流下、８６％含率の水酸化カリウム１９．５７ｇ（３００ｍｍｏｌ）をイソプロピルアルコール６０ｍｌおよび水７５ｍｌに溶解した。この溶液に、氷冷攪拌下、内温５℃以下でマロノニトリル９．９１ｇ（１５０ｍｍｏｌ）をイソプロピルアルコール１０．５ｍｌに溶解した溶液を添加した。
次いで、内温１０℃以下で二硫化炭素１１．４２ｇ（１５０ｍｍｏｌ）を滴下した後、氷冷下で３０分間攪拌を行った。続いて、酢酸２．５７ｍｌ（４５ｍｍｏｌ）を添加して反応液ｐＨを６に調整した。この反応液に、ｐ−トルキノン３６．２６ｇ（２９８ｍｍｏｌ）、酢酸１６．９８ｍｌ（２９８ｍｍｏｌ）およびアセトン１５０ｍｌの混合溶液を、内温を５℃以下に保ちながらゆっくりと滴下した。同温度で３０分攪拌した後、５０℃に昇温し、水３９５ｍｌを添加した。
３０分撹拌した後に、１５℃に降温し、析出した結晶をろ取し、水７９０ｍｌで洗浄して、粗体を得た。
次いで、窒素気流下、粗体とアセトニトリル１５５ｍｌ、水１５５ｍｌを混合し、室温にて１時間撹拌した後に、５℃まで冷却してさらに３０分撹拌した。析出した結晶をろ取し、氷冷しておいたアセトニトリル／水（５０ｍｌ／６０ｍｌ）の混合溶液で掛け洗いした後に、６０℃で減圧乾燥することで、黄色固体としてフェノールＨを３２．６ｇ（収率８３％）得た。
得られたフェノールＨの^１Ｈ−ＮＭＲを以下に示す。
^１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＤＭＳＯ−ｄ_６）δ（ｐｐｍ）：２．１９（ｓ，３Ｈ），６．７１（ｓ，１Ｈ），９．６０（ｂｒ ｓ，１Ｈ），１０．５５（ｂｒ ｓ，１Ｈ）

（逆分散液晶５の合成）
特開２０１６−８１０３５号公報に記載された化合物（ＩＶ−４）に倣って、逆分散液晶５を合成した。
得られた逆分散液晶５の^１Ｈ−ＮＭＲを以下に示す。
^１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：
［Ｍａｊｏｒ Ｉｓｏｍｅｒ］
１．２７（ｄ，６Ｈ），１．５６−１．７９（ｍ，８Ｈ），２．２２（ｓ，３Ｈ），２．２２−２．４０（ｍ，８Ｈ），２．５５−２．７５（ｍ，４Ｈ），２．６２（ｓ，８Ｈ），２．９４（ｔ，４Ｈ），４．１５（ｄｄ，２Ｈ），４．２５（ｄｄ，２Ｈ），４．２８（ｔ，４Ｈ），５．２０（ｍ，２Ｈ），５．８６（ｄｄ，２Ｈ），６．１３（ｄｄ，２Ｈ），６．４３（ｄｄ，２Ｈ），６．９９−７．０６（ｍ，４Ｈ），７．２０−７．２５（ｍ，４Ｈ），７．２５（ｓ，１Ｈ）
［Ｍｉｎｏｒ Ｉｓｏｍｅｒ］
１．２９（ｄ，６Ｈ），１．５６−１．７９（ｍ，８Ｈ），２．２２（ｓ，３Ｈ），２．２２−２．４０（ｍ，８Ｈ），２．５５−２．７５（ｍ，４Ｈ），２．６２（ｓ，８Ｈ），２．９４（ｔ，４Ｈ），４．１２（ｄｄ，２Ｈ），４．２２（ｄｄ，２Ｈ），４．２８（ｔ，４Ｈ），５．２０（ｍ，２Ｈ），５．８４（ｄｄ，２Ｈ），６．１１（ｄｄ，２Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．９９−７．０６（ｍ，４Ｈ），７．２０−７．２５（ｍ，４Ｈ），７．２５（ｓ，１Ｈ）

＜重合性液晶化合物７（順分散液晶２）の合成＞
特許第６０８６８８４号に記載された方法に従って、下記式で表される順分散液晶２を合成した。

＜ｐＫａの測定＞
各重合性液晶化合物のコア部の形成に使用される化合物（例えば、重合性液晶化合物１においては、化合物Ｄである。）のｐＫａ（第１酸解離定数）を、上述したソフトウェアパッケージ１を用いて計算により求めた。ｐＫａを表１に示す。

〔添加剤〕
重合性液晶組成物の調製にあたって、以下の各種添加剤を準備した。

＜芳香族ポリエーテル系化合物１の合成＞
芳香族ポリエーテル系化合物１は、下記式（Ｃ−Ｉ）で表される芳香族ジエーテル系化合物（芳香族ジエーテル１）であり、特公昭６２−４５５４５号公報の合成例１に記載の方法を参考にして合成した。

＜芳香族ポリエーテル系化合物２の合成＞
芳香族ポリエーテル系化合物２は、下記式（Ｅ−Ｉ）で表される芳香族ジエーテル系化合物（芳香族ジエーテル２）であり、以下の方法により合成した。
ジメチルアセトアミド溶媒２０ｍＬを３００ｍＬフラスコに入れ、ＤＬ−α―トコフェロール（４．３１ｇ、１０ｍｍｏｌ）、ハロゲン化合物（式（ＨＡ−１）で表される化合物。３．３７ｇ、１１ｍｍｏｌ）、および、塩基として２８％ナトリウムメトキサイド（２．１２ｇ、１１ｍｍｏｌ）を加えて、内温８０℃で３時間撹拌した。その後に水を添加して、酢酸エチルにて分液、硫酸マグネシウムで乾燥した後に濃縮することで化合物（Ｅ−Ｉ）５．５ｇを得た。

＜芳香族ポリエーテル系化合物３の合成＞
芳香族ポリエーテル系化合物３は、下記式（Ｄ−Ｉ）で表される芳香族ジエーテル系化合物（芳香族ジエーテル３）であり、特公昭６２−１０４２０号公報に記載の（２７）で表される化合物と類似の構造を備えており、以下のルートで合成した。

〔その他の添加剤〕
＜アミン系化合物１の合成＞
アミン系化合物１は、下記式で表されるアミン系化合物であり、国際公開第２００５／５１９１５号公報に記載の方法を参考にして合成した。

＜ヒンダードアミン系化合物＞
・ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ ＮＯＲ ２０２０ＦＤＬ（商品名、ＢＡＳＦ社製）
・ＴＩＮＵＶＩＮ ７６５（商品名、ＢＡＳＦ社製）
・ＴＩＮＵＶＩＮ ７７０ＤＦ（商品名、ＢＡＳＦ社製）

＜ヒンダードフェノール系化合物＞
・Ｉｒｇａｎｏｘ １０３５ＦＦ（商品名、ＢＡＳＦ社製）

〔重合開始剤〕
重合開始剤として、下記式で表される化合物（特開２０１１−１５８６５５号公報に記載の例示化合物（Ａ−１））を準備した。

〔空気界面配向剤（レベリング剤）〕
空気界面配向剤として、下記式で表される化合物（特開２０１６−５３７０９号公報に記載のレベリング剤Ｔ−１）を準備した。

〔溶媒〕
溶媒として、クロロホルムを準備した。

［実施例１〜１９、比較例１〜２２］
〔重合性液晶組成物の調製〕
重合性液晶化合物、重合開始剤、空気界面配向剤および添加剤を溶媒（クロロホルム）に溶解させて、実施例および比較例の各重合性液晶組成物を調製した。使用した成分の種類および配合量は、下記表１に示す通りとした。なお、実施例１９は、下記表１に示す通り、重合性液晶化合物として、逆分散液晶４、逆分散液晶５および順分散液晶１を併用しているが、これらの添加量は、質量比でこの順に４２：４２：１６である。また、下記表１中、「添加量比」とは、重合性液晶組成物中における重合性液晶化合物１００質量部に対する添加剤の含有量(質量部）を意味する。
また、実施例および比較例の各重合性液晶組成物の組成から、添加剤のみを除いた基準用の各重合性液晶組成物を準備した。

〔耐光性試験〕
＜サンプルの作製＞
スピンコート法（重合性液晶組成物の塗布量：８０μＬ、回転数：１５００ｒｐｍ）によって、２．５×３．０ｃｍにカットしたガラス基板（コーニング社製 イーグルＸＧ）上に重合性液晶組成物を塗布して、乾燥させることで、ガラス基板上に塗布膜を作製した。
次いで、塗布膜をホットプレート上で１６０℃に加温しながら、紫外線照射装置（日本文化精工株式会社社製）によって照射量５００ｍＪにて硬化膜を作製した。

＜耐光性試験前の硬化膜の吸光度測定＞
紫外可視測定機（商品名「ＵＶ−３１５０」、島津社製）を用いて、硬化膜の吸収極大波長における吸光度Ａ（耐光性試験前の硬化膜の吸光度）を測定した。具体的には、重合性液晶組成物の塗布を行っていない上記ガラス基板を用いてベースライン補正を行った後、硬化膜の吸収極大波長における吸光度Ａを測定した。

＜耐光性試験後の硬化膜の吸光度測定＞
まず、重合性液晶組成物の硬化膜が照射面となるように、ガラス基板をキセノン照射機（スガ試験機株式会社製 ＳＸ７５）にセットして、＃２７５フィルターを用いて、光源からサンプルを２９０ｍｍ離して１５０Ｗ／ｍ^２の条件にて２時間照射した。このようにして、耐光性試験後の硬化膜を得た。
次いで、紫外可視測定機（商品名「ＵＶ−３１５０」、島津社製）を用いて、耐光性試験後の硬化膜の吸収極大波長における吸光度Ｂ（耐光性試験後の硬化膜の吸光度）を測定した。

＜耐光性の評価＞
基準用の各重合性液晶組成物（添加剤を含有しないもの）の硬化膜を用いて、上述した吸光度Ａおよび吸光度Ｂを測定し、下記式により耐光性残存率Ｘ（％）を算出した。
同様に、実施例および比較例の各重合性液晶組成物の硬化膜を用いて、上述した吸光度Ａおよび吸光度Ｂを測定し、下記式により耐光性残存率Ｙ（％）を算出した。
耐光性残存率（％）＝（吸光度Ｂ／吸光度Ａ）×１００
このようにして得られた耐光性残存率Ｘおよび耐光性残存率Ｙの値から、下記式により耐光性改善率を算出し、以下の評価基準により耐光性の評価を行った。
耐光性改善率（％）＝耐光性残存率Ｙ−耐光性残存率Ｘ
Ａ： 耐光性改善率が１０％以上
Ｂ： 耐光性残存率が５％超１０％未満
Ｃ： 耐光性改善率が０％超５％以下
Ｄ： 耐光性改善率が０％以下

＜評価結果＞
以上の評価試験の結果を下記表１に示す。

表１の評価結果に示すように、添加剤として芳香族ポリエーテル系化合物を含有する重合性液晶組成物を用いると、耐光性に優れた膜を形成できることが示された（実施例）。
これに対して、添加剤として芳香族ポリエーテル系化合物を含有しない重合性液晶組成物を用いると、得られる膜の耐光性が劣ることが示された（比較例１〜２１）。
また、順波長分散性の重合性液晶化合物を用いると、芳香族ポリエーテル系化合物を添加しても、得られる膜の耐光性が劣ることが示された（比較例２２）。

〔光配向膜用組成物の調製〕
後述する方法により、重合体、低分子化合物、架橋剤および架橋触媒を合成または準備した。

＜重合体の合成＞
撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン１００．０質量部、メチルイソブチルケトン５００質量部、および、トリエチルアミン１０．０質量部を仕込み、室温で混合した。次いで、脱イオン水１００質量部を滴下漏斗より３０分かけて滴下した後、還流下で混合しつつ、８０℃で６時間反応させた。反応終了後、有機相を取り出し、０．２質量％硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで洗浄した後、減圧下で溶媒および水を留去することにより、エポキシ含有ポリオルガノシロキサンを粘調な透明液体として得た。
このエポキシ含有ポリオルガノシロキサンについて、^１Ｈ−ＮＭＲ分析を行ったところ、化学シフト（δ）＝３．２ｐｐｍ付近にオキシラニル基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このエポキシ含有ポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Ｍｗは２，２００、エポキシ当量は１８６ｇ／モルであった。
次に、１００ｍＬの三口フラスコに、上記で得たエポキシ含有ポリオルガノシロキサン１０．５質量部、アクリル基含有カルボン酸（東亞合成株式会社製、商品名「アロニックスＭ−５３００」、アクリル酸ω−カルボキシポリカプロラクトン（重合度ｎ≒２））０．４質量部、酢酸ブチル２０質量部、特開２０１５−２６０５０号公報の合成例１の方法で得られた桂皮酸誘導体０．５質量部、テトラヒドロ焦性粘液酸（和光純薬工業株式会社製）０．５質量部、および、テトラブチルアンモニウムブロミド０．３質量部を仕込み、９０℃で１２時間撹拌した。反応終了後、反応溶液と等量（質量）の酢酸ブチルで希釈し、３回水洗した。この溶液を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を２回繰り返し、最終的に、光配向性基を有するポリオルガノシロキサン（重合体）を含む溶液を得た。この重合体の重量平均分子量Ｍｗは１０，０００であった。

＜低分子化合物＞
下記式Ｂで表される低分子化合物（ノムコートＴＡＢ，日清オリイオ社製）を用いた。

＜架橋剤＞
架橋剤として、多官能エポキシ化合物（エポリードＧＴ４０１，ダイセル社製）を用いた。

＜架橋触媒＞
架橋促進を目的とし、架橋触媒として熱酸発生剤（サンエイドＳＩ−６０、三新化学工業株式会社）を用いた。

＜光配向膜用組成物の調製＞
酢酸ブチル１００質量部に対して、上述した重合体４．６質量部、上述した低分子化合物０．８質量部、上述した架橋剤０．８質量部、および、上述した架橋触媒０．８質量部を添加し、攪拌した後、孔径１μｍのフィルターでろ過することにより、固形分濃度７．５質量％の液晶配向剤を調製した。なお、得られた液晶配向剤では、重合体などの成分は添加した量どおりに溶媒に十分に溶解していた。

［実施例２０〜２３および比較例２３］
〔光学異方性膜形成用塗布液の調製〕
下記組成の光学異方性膜形成用塗布液１〜５を調製した。

――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性膜形成用塗布液１
――――――――――――――――――――――――――――――――
・逆分散液晶１ ９５．００質量部
・芳香族ジエーテル１ ５．００質量部
・下記重合開始剤Ａ−１ ０．０５質量部
・下記レベリング剤Ｔ−１ ０．２０質量部
・シクロペンタノン ４２４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

重合開始剤Ａ−１

レベリング剤Ｔ−１

――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性膜形成用塗布液２
――――――――――――――――――――――――――――――――
・逆分散液晶２ ９５．００質量部
・芳香族ジエーテル１ ５．００質量部
・上記重合開始剤Ａ−１ ０．０５質量部
・上記レベリング剤Ｔ−１ ０．２０質量部
・シクロペンタノン ４２４．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性膜形成用塗布液３
――――――――――――――――――――――――――――――――
・逆分散液晶３ ９５．００質量部
・芳香族ジエーテル１ ５．００質量部
・上記重合開始剤Ａ−１ ０．０５質量部
・上記レベリング剤Ｔ−１ ０．２０質量部
・シクロペンタノン ４２４．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性膜形成用塗布液４
――――――――――――――――――――――――――――――――
・逆分散液晶４ ４０．００質量部
・逆分散液晶５ ４０．００質量部
・順分散液晶２ １５．００質量部
・芳香族ジエーテル１ ５．００質量部
・上記重合開始剤Ａ−１ ０．５０質量部
・上記レベリング剤Ｔ−１ ０．２０質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製） ２．００質量部
・ＮＫエステルＡ−２００（新中村化学工業社製） １．００質量部
・メチルエチルケトン ４２４．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性膜形成用塗布液５
――――――――――――――――――――――――――――――――
・順分散液晶１ ９５．００質量部
・芳香族ジエーテル１ ５．００質量部
・上記重合開始剤Ａ−１ ０．５０質量部
・上記レベリング剤Ｔ−１ ０．２０質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製） ２．００質量部
・ＮＫエステルＡ−２００（新中村化学工業社製） １．００質量部
・メチルエチルケトン ４２４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

〔セルロースアシレートフィルム１の作製〕
＜コア層セルロースアシレートドープの作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ
――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
特開２０１５−２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ １２質量部
下記の化合物Ｆ ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
メタノール（第２溶剤） ６４質量部
────────────────────────────────

化合物Ｆ

＜外層セルロースアシレートドープの作製＞
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
メタノール（第２溶剤） １１質量部
上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
────────────────────────────────

＜セルロースアシレートフィルム１の作製＞
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み４０μｍのセルロースアシレートフィルム１を作製した。
得られたセルロースアシレートフィルム１のコア層は厚みが３６μｍであり、コア層の両側に配置された外層はそれぞれ厚みが２μｍであった。
また、得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レターデーションは０ｎｍであった。

〔光学フィルムの作製〕
作製したセルロースアシレートフィルム１の片側の面に、先に調製した光配向膜用組成物をバーコーターで塗布した。
塗布後、１２０℃のホットプレート上で１分間乾燥して溶剤を除去し、厚さ０．３μｍの光異性化組成物層を形成した。
得られた光異性化組成物層を偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜を形成した。
次いで、光配向膜上に、先に調製した光学異方性膜形成用塗布液１〜５をバーコーターで塗布し、組成物層を形成した。
形成した組成物層をホットプレート上でいったん１１０℃まで加熱した後、６０℃に冷却させて配向を安定化させた。
その後、６０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ２．３μｍの光学異方性膜（ポジティブＡプレート１〜５）を形成し、光学フィルム１〜５を作製した。
得られた光学フィルムの面内レターデーションは１４０ｎｍであった。

〔耐光性の評価〕
光学異方性膜（ポジティブＡプレート）の硬化膜が照射面となるように、ガラス基板をキセノン照射機（スガ試験機株式会社製 ＳＸ７５）にセットして、＃２７５フィルターを用いて、光源からサンプルを２９０ｍｍ離して１５０Ｗ／ｍ^２の条件にて２時間照射した。このようにして、耐光性試験後の硬化膜を得、残存レターデーションを測定した。
上述の試験前の初期レターデーション（１４０ｎｍ）および残存レターデーションから、下記式により耐光性残存率Ｘ（％）を算出した。
同様に、実施例および比較例の各重合性液晶組成物の硬化膜を用いて、下記式により耐光性残存率Ｙ（％）を算出した。
耐光性残存率（％）＝（残存レターデーション／初期レターデーション）×１００
このようにして得られた耐光性残存率Ｘおよび耐光性残存率Ｙの値から、下記式により耐光性改善率を算出し、以下の評価基準により耐光性の評価を行った。結果を下記表２に示す。
耐光性改善率（％）＝耐光性残存率Ｙ−耐光性残存率Ｘ
Ａ： 耐光性改善率が１０％以上
Ｂ： 耐光性残存率が５％超１０％未満
Ｃ： 耐光性改善率が０％超５％以下
Ｄ： 耐光性改善率が０％以下

＜評価結果＞
以上の評価試験の結果を下記表２に示す。

［実施例２４］
〔ポジティブＣプレート１の作製〕
仮支持体として、市販されているトリアセチルセルロースフィルム「Ｚ−ＴＡＣ」（富士フイルム社製）〔以下、「セルロースアシレートフィルム２」と略す。〕を用いた。
セルロースアシレートフィルム２を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ^２で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ^２塗布した。
次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム２を作製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
アルカリ溶液
――――――――――――――――――――――――――――――――
水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
含フッ素界面活性剤ＳＦ−１
（Ｃ_１４Ｈ_２９Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_２０Ｈ） １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
────────────────────────────────

上記アルカリ鹸化処理されたセルロースアシレートフィルム２を用い、下記の組成の配向膜形成用塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜形成用塗布液
――――――――――――――――――――――――――――――――
ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ１０３） ２．４質量部
イソプロピルアルコール １．６質量部
メタノール ３６質量部
水 ６０質量部
────────────────────────────────

上記で作成した配向膜を有するセルロースアシレートフィルム２上に、下記光学異方性膜形成用塗布液Ｎを塗布し、６０℃６０秒間熟成させた後に、空気下にて７０ｍＷ／ｃｍ^２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍJ／ｃｍ^２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより、重合性棒状液晶化合物を垂直配向させ、ポジティブＣプレート１を作製した。波長５５０ｎｍにおいてＲｔｈが−６０ｎｍであった。

――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性膜形成用塗布液Ｎ
――――――――――――――――――――――――――――――――
逆分散液晶１ １００質量部
芳香族ジエーテル１ ５質量部
下記垂直配向剤（Ｓ０１） １質量部
下記垂直配向剤（Ｓ０２） ０．５質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ８質量部
イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製） ３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） １質量部
下記化合物Ｂ０３ ０．４質量部
メチルエチルケトン １７０質量部
シクロヘキサノン ３０質量部
────────────────────────────────

（上記化合物Ｂ０３の式中、ａ＝９０であり、ｂ＝１０である。）

［実施例２５］
光学異方性膜形成用塗布液Ｎに代えて、下記光学異方性膜形成用塗布液Ｍを用いた以外は、実施例２４と同様の方法で、ポジティブＣプレート２を作製した。波長５５０ｎｍにおいてＲｔｈが−６０ｎｍであった。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性膜形成用塗布液Ｍ
――――――――――――――――――――――――――――――――
逆分散液晶２ １００質量部
芳香族ジエーテル１ ５質量部
垂直配向剤（Ｓ０１） １質量部
垂直配向剤（Ｓ０２） ０．５質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ８質量部
イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製） ３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） １質量部
化合物Ｂ０３ ０．４質量部
メチルエチルケトン １７０質量部
シクロヘキサノン ３０質量部
─────────────────────────────────

［実施例２６］
光学異方性膜形成用塗布液Ｎに代えて、下記光学異方性膜形成用塗布液Ｌを用いた以外は、実施例２４と同様の方法で、ポジティブＣプレート３を作製した。波長５５０ｎｍにおいてＲｔｈが−６０ｎｍであった。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性膜形成用塗布液Ｌ
――――――――――――――――――――――――――――――――
逆分散液晶３ １００質量部
芳香族ジエーテル１ ５質量部
垂直配向剤（Ｓ０１） １質量部
垂直配向剤（Ｓ０２） ０．５質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ８質量部
イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製） ３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） １質量部
化合物Ｂ０３ ０．４質量部
メチルエチルケトン １７０質量部
シクロヘキサノン ３０質量部
─────────────────────────────────

［実施例２７］
光学異方性膜形成用塗布液Ｎに代えて、下記光学異方性膜形成用塗布液Ｏを用いた以外は、実施例２４と同様の方法で、ポジティブＣプレート４を作製した。波長５５０ｎｍにおいてＲｔｈが−６０ｎｍであった。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性膜形成用塗布液Ｏ
――――――――――――――――――――――――――――――――
逆分散液晶４ ８０質量部
逆分散液晶５ ２０質量部
芳香族ジエーテル１ ５質量部
垂直配向剤（Ｓ０１） １質量部
垂直配向剤（Ｓ０２） ０．５質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ８質量部
イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製） ３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） １質量部
化合物Ｂ０３ ０．４質量部
メチルエチルケトン １７０質量部
シクロヘキサノン ３０質量部
─────────────────────────────────

［比較例２４］
光学異方性膜形成用塗布液Ｎに代えて、下記光学異方性膜形成用塗布液Ｐを用いた以外は、実施例２４と同様の方法で、ポジティブＣプレート５を作製した。波長５５０ｎｍにおいてＲｔｈが−６０ｎｍであった。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性膜形成用塗布液Ｐ
――――――――――――――――――――――――――――――――
順分散液晶２ １００質量部
芳香族ジエーテル１ ５質量部
垂直配向剤（Ｓ０１） １質量部
垂直配向剤（Ｓ０２） ０．５質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ８質量部
イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製） ３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） １質量部
化合物Ｂ０３ ０．４質量部
メチルエチルケトン １７０質量部
シクロヘキサノン ３０質量部
─────────────────────────────────

〔耐光性の評価〕
ポジティブＣプレートの硬化膜が照射面となるように、ガラス基板をキセノン照射機（スガ試験機株式会社製 ＳＸ７５）にセットして、＃２７５フィルターを用いて、光源からサンプルを２９０ｍｍ離して１５０Ｗ／ｍ^２の条件にて２時間照射した。このようにして、耐光性試験後の硬化膜を得、残存Ｒｔｈを測定した。
上述の試験前の初期Ｒｔｈ（６０ｎｍ）および残存Ｒｔｈから、下記式により耐光性残存率Ｘ（％）を算出した。
同様に、実施例および比較例の各重合性液晶組成物の硬化膜を用いて、下記式により耐光性残存率Ｙ（％）を算出した。
耐光性残存率（％）＝（残存Ｒｔｈ／初期Ｒｔｈ）×１００
このようにして得られた耐光性残存率Ｘおよび耐光性残存率Ｙの値から、下記式により耐光性改善率を算出し、以下の評価基準により耐光性の評価を行った。結果を下記表３に示す。
耐光性改善率（％）＝耐光性残存率Ｙ−耐光性残存率Ｘ
Ａ： 耐光性改善率が１０％以上
Ｂ： 耐光性残存率が５％超１０％未満
Ｃ： 耐光性改善率が０％超５％以下
Ｄ： 耐光性改善率が０％以下

＜評価結果＞
以上の評価試験の結果を下記表３に示す。

［実施例２８］
〔有機ＥＬ表示装置用反射防止板（円偏光板）の作製〕
＜円偏光板の作製＞
実施例２０の光学フィルム１の光学異方性膜（ポジティブＡプレート１）側に、粘着剤を介して実施例２４のポジティブＣプレート１を転写し、セルロースアシレートフィルム２は除去した。また、光学フィルム１のセルロースアシレートフィルム１側に粘着剤を介して偏光子を貼り合わせて円偏光板を作製した。
なお、円偏光板の作製に用いた実施例２０の光学フィルム１（ポジティブＡプレート１）、および、実施例２４のポジティブＣプレート１は、いずれも上述した耐光性の評価を行った後のサンプルを用いた。

［実施例２９］
実施例２０の光学フィルム１に代えて、実施例２１の光学フィルム２を用い、ポジティブＣプレート１に代えて、実施例２５のポジティブＣプレート２を用いた以外は、実施例２８と同様の方法で、円偏光板を作製した。

［実施例３０］
実施例２０の光学フィルム１に代えて、実施例２２の光学フィルム３を用い、ポジティブＣプレート１に代えて、実施例２６のポジティブＣプレート３を用いた以外は、実施例２８と同様の方法で、円偏光板を作製した。

［実施例３１］
実施例２０の光学フィルム１に代えて、実施例２３の光学フィルム４を用い、ポジティブＣプレート１に代えて、実施例２７のポジティブＣプレート４を用いた以外は、実施例２８と同様の方法で、円偏光板を作製した。

［比較例２５］
実施例２０の光学フィルム１に代えて、比較例２３の光学フィルム５を用い、ポジティブＣプレート１に代えて、比較例２４のポジティブＣプレート５を用いた以外は、実施例２８と同様の方法で、円偏光板を作製した。

〔有機ＥＬパネルへの実装および評価〕
有機ＥＬパネル搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ ＳＩＩを分解し、円偏光板を剥離して、上記で作製した円偏光板のポジティブＣプレート側がパネル側となるよう粘着剤を介して貼合し、表示装置を作製した。
表示装置に白表示、黒表示、画像表示をして、極角６０度から蛍光灯を映し込んだときの反射光を観察して、表示品位を下記の基準で評価した。
Ａ：黒浮きが全く視認されない（優良）。
Ｂ：黒浮きがごくわずかに視認されるが許容できる（許容）。
Ｃ：黒浮きが明確に視認できる。

表４に示す結果から、本発明の光学フィルム、特に、本発明の光学異方性膜を２層以上有し、少なくとも１層がポジティブＡプレートであり、少なくとも他の１層がポジティブＣプレートである光学フィルムを円偏光板に用いると、有機ＥＬ表示装置の表示機能が良好となることが分かった。

１０ 光学フィルム
１２ 光学異方性膜
１４ 配向膜
１６ 支持体
１８ ハードコート層

Claims (9)

1. 逆波長分散性の重合性液晶化合物と、芳香族ポリエーテル系化合物と、を含有し、
   前記芳香族ポリエーテル系化合物が、下記式（Ａ）および下記式（Ｂ）からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を含み、
   前記式（Ａ）で表される化合物が、下記式（Ｃ）または下記式（Ｄ）で表される化合物であり、
   前記式（Ｂ）で表される化合物が、下記式（Ｅ）または下記式（Ｆ）で表される化合物であり、
   前記重合性液晶化合物が、下記式（Ｉ）で表される液晶化合物であり、
   下記式（Ｉ）中のＡｒが表す下記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−５）で表される芳香環の形成に使用される化合物が、それぞれ、下記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−５）中の＊１および＊２が水酸基で表されるフェノール構造を含む化合物であり、かつ、ｐＫａが、５．８〜１０．０である、重合性液晶組成物。
   前記式（Ａ）中、Ｒ ^１Ａ およびＲ ^２Ａ はそれぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｒ ^３Ａ 、Ｒ ^４Ａ 、Ｒ ^５Ａ およびＲ ^６Ａ はそれぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表す。Ｒ ^１Ａ とＲ ^２Ａ 、Ｒ ^２Ａ とＲ ^３Ａ 、Ｒ ^３Ａ とＲ ^４Ａ 、Ｒ ^４Ａ とＲ ^５Ａ 、Ｒ ^５Ａ とＲ ^６Ａ 、または、Ｒ ^６Ａ とＲ ^１Ａ が結合して環を形成してもよい。
   前記式（Ｂ）中、Ｒ ^１Ｂ およびＲ ^４Ｂ はそれぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｒ ^２Ｂ 、Ｒ ^３Ｂ 、Ｒ ^５Ｂ およびＲ ^６Ｂ はそれぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表す。Ｒ ^１Ｂ とＲ ^２Ｂ 、Ｒ ^２Ｂ とＲ ^３Ｂ 、Ｒ ^３Ｂ とＲ ^４Ｂ 、Ｒ ^４Ｂ とＲ ^５Ｂ 、Ｒ ^５Ｂ とＲ ^６Ｂ 、または、Ｒ ^６Ｂ とＲ ^１Ｂ が結合して環を形成してもよい。
   前記式（Ｃ）中、Ｒ ^１Ｃ 、Ｒ ^２Ｃ 、Ｒ ^６Ｃ およびＲ ^７Ｃ はそれぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｒ ^３Ｃ 、Ｒ ^５Ｃ 、Ｒ ^８Ｃ およびＲ ^１１Ｃ はそれぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表し、Ｒ ^４Ｃ 、Ｒ ^９Ｃ およびＲ ^１０Ｃ はそれぞれ独立に水素原子または１価の有機基を表す。
   前記式（Ｄ）中、Ｒ ^１Ｄ は炭素数１〜３のアルキレン基を表し、Ｒ ^２Ｄ 、Ｒ ^３Ｄ 、Ｒ ^４Ｄ およびＲ ^５Ｄ はそれぞれ独立に、水素原子または１価の置換基を表す。Ｒ ^２Ｄ とＲ ^３Ｄ 、または、Ｒ ^３Ｄ とＲ ^４Ｄ が結合して環を形成してもよい。
   
   前記式（Ｅ）中、Ｒ ^１Ｅ 、Ｒ ^２Ｅ 、Ｒ ^３Ｅ 、Ｒ ^４Ｅ 、Ｒ ^５Ｅ およびＲ ^６Ｅ はそれぞれ独立に水素原子または１価の有機基を表し、Ｒ ^７Ｅ 、Ｒ ^９Ｅ およびＲ ^１０Ｅ はそれぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表し、Ｒ ^８Ｅ は１価の有機基を表す。Ｒ ^１Ｅ とＲ ^２Ｅ 、または、Ｒ ^３Ｅ とＲ ^４Ｅ は互いに結合して環を形成してもよい。
   前記式（Ｆ）中、Ｒ ^１Ｆ およびＲ ^４Ｆ はそれぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｒ ^２Ｆ 、Ｒ ^３Ｆ 、Ｒ ^５Ｆ およびＲ ^６Ｆ はそれぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表す。
   
   前記式（Ｉ）中、Ｄ ^１ 、Ｄ ^２ 、Ｄ ^３ およびＤ ^４ は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＣＲ ^１ Ｒ ^２ −、−ＣＲ ^１ Ｒ ^２ −ＣＲ ^３ Ｒ ^４ −、−Ｏ−ＣＲ ^１ Ｒ ^２ −、−ＣＲ ^１ Ｒ ^２ −Ｏ−ＣＲ ^３ Ｒ ^４ −、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ ^１ Ｒ ^２ −、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ ^１ Ｒ ^２ −、−ＣＲ ^１ Ｒ ^２ −Ｏ−ＣＯ−ＣＲ ^３ Ｒ ^４ −、−ＣＲ ^１ Ｒ ^２ −ＣＯ−Ｏ−ＣＲ ^３ Ｒ ^４ −、−ＮＲ ^１ −ＣＲ ^２ Ｒ ^３ −、または、−ＣＯ−ＮＲ ^１ −を表す。Ｒ ^１ 、Ｒ ^２ 、Ｒ ^３ およびＲ ^４ は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１〜４のアルキル基を表す。
   Ｇ ^１ およびＧ ^２ は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、前記脂環式炭化水素基を構成する−ＣＨ _２ −の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＨ−で置換されていてもよい。
   Ａ ^１ およびＡ ^２ は、それぞれ独立に、炭素数６以上の芳香環、または、炭素数６以上のシクロアルキレン環を表す。
   ＳＰ ^１ およびＳＰ ^２ は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する−ＣＨ _２ −の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（Ｑ）−、もしくは、−ＣＯ−に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
   Ｌ ^１ およびＬ ^２ は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｌ ^１ およびＬ ^２ の少なくとも一方は重合性基を表す。ただし、Ａｒが、下記式（Ａｒ−３）で表される芳香環である場合は、Ｌ ^１ およびＬ ^２ ならびに下記式（Ａｒ−３）中のＬ ^３ およびＬ ^４ の少なくとも１つが重合性基を表す。
   Ａｒは、下記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す。
   ここで、前記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−５）中、＊１は、Ｄ ^１ との結合位置を表し、＊２は、Ｄ ^２ との結合位置を表す。
   また、Ｑ ^１ は、ＮまたはＣＨを表す。
   また、Ｑ ^２ は、−Ｓ−、−Ｏ−、または、−Ｎ（Ｒ ^５ ）−を表し、Ｒ ^５ は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
   また、Ｙ ^１ は、置換基を有してもよい、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３〜１２の芳香族複素環基を表す。
   また、Ｚ ^１ 、Ｚ ^２ およびＺ ^３ は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ ^６ Ｒ ^７ 、または、−ＳＲ ^８ を表し、Ｒ ^６ 〜Ｒ ^８ は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｚ ^１ およびＺ ^２ は、互いに結合して芳香環を形成してもよい。
   また、Ａ ^３ およびＡ ^４ は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ ^９ ）−、−Ｓ−、および、−ＣＯ−からなる群から選択される基を表し、Ｒ ^９ は、水素原子または置換基を表す。
   また、Ｘは、水素原子または置換基が結合していてもよい第１４〜１６族の非金属原子を表す。
   また、Ｄ ^５ およびＤ ^６ は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＣＲ ^１ Ｒ ^２ −、−ＣＲ ^１ Ｒ ^２ −ＣＲ ^３ Ｒ ^４ −、−Ｏ−ＣＲ ^１ Ｒ ^２ −、−ＣＲ ^１ Ｒ ^２ −Ｏ−ＣＲ ^３ Ｒ ^４ −、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ ^１ Ｒ ^２ −、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ ^１ Ｒ ^２ −、−ＣＲ ^１ Ｒ ^２ −Ｏ−ＣＯ−ＣＲ ^３ Ｒ ^４ −、−ＣＲ ^１ Ｒ ^２ −ＣＯ−Ｏ−ＣＲ ^３ Ｒ ^４ −、−ＮＲ ^１ −ＣＲ ^２ Ｒ ^３ −、または、−ＣＯ−ＮＲ ^１ −を表す。Ｒ ^１ 、Ｒ ^２ 、Ｒ ^３ およびＲ ^４ は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１〜４のアルキル基を表す。
   また、ＳＰ ^３ およびＳＰ ^４ は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する−ＣＨ _２ −の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（Ｑ）−、もしくは、−ＣＯ−に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
   また、Ｌ ^３ およびＬ ^４ は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｌ ^３ およびＬ ^４ ならびに前記式（Ｉ）中のＬ ^１ およびＬ ^２ の少なくとも１つが重合性基を表す。
   また、Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
   また、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
   また、ＡｘおよびＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
   また、Ｑ ^３ は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
2. 前記芳香族ポリエーテル系化合物の含有量が、前記重合性液晶化合物１００質量部に対して０．１〜５０質量部である、請求項１に記載の重合性液晶組成物。
3. 請求項１または２に記載の重合性液晶組成物を重合して得られる、光学異方性膜。
4. 請求項３に記載の光学異方性膜を有する、光学フィルム。
5. 前記光学異方性膜が、ポジティブＡプレートまたはポジティブＣプレートである、請求項４に記載の光学フィルム。
6. 前記光学異方性膜を２層以上有し、少なくとも１層がポジティブＡプレートであり、少なくとも他の１層がポジティブＣプレートである、請求項４または５に記載の光学フィルム。
7. 請求項４〜６のいずれか１項に記載の光学フィルムと、偏光子とを有する、偏光板。
8. 請求項４〜６のいずれか１項に記載の光学フィルム、または、請求項７に記載の偏光板を有する、画像表示装置。
9. 有機エレクトロルミネッセンス表示パネルと、前記有機エレクトロルミネッセンス表示パネル上に配置された円偏光板と、を含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
   前記円偏光板が、偏光子と、請求項６に記載の光学フィルムとを含む、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。